JPH07281182A - 面状光学素子の製造方法 - Google Patents
面状光学素子の製造方法Info
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- JPH07281182A JPH07281182A JP6072240A JP7224094A JPH07281182A JP H07281182 A JPH07281182 A JP H07281182A JP 6072240 A JP6072240 A JP 6072240A JP 7224094 A JP7224094 A JP 7224094A JP H07281182 A JPH07281182 A JP H07281182A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】透明基板上に、求める面状光学素子形状に対応
した硬化エネルギー線透過性分布を有するA層を設け、
次いでこの上に硬化エネルギー線により硬化する感光性
樹脂からなるB層を塗布または積層し、該A層の硬化エ
ネルギー線透過性分布に対応した硬化パターンをB層に
形成した後、B層の未硬化部分を除去することを特徴と
する面状光学素子の製造方法において、少なくともA層
における最も硬化エネルギー線透過率の小さな部分は可
視光透過率も20%以下であることを特徴とする面状光
学素子の製造方法。 【効果】耐薬品性が優れ、ドーム断面状や三角プリズム
断面状等の微小な面状光学素子の製造が可能となるとい
う特長をもつ。このようにして製造された面状光学素子
は、液晶ディスプレイ、透過型スクリーンなどに好まし
く使用できる。
した硬化エネルギー線透過性分布を有するA層を設け、
次いでこの上に硬化エネルギー線により硬化する感光性
樹脂からなるB層を塗布または積層し、該A層の硬化エ
ネルギー線透過性分布に対応した硬化パターンをB層に
形成した後、B層の未硬化部分を除去することを特徴と
する面状光学素子の製造方法において、少なくともA層
における最も硬化エネルギー線透過率の小さな部分は可
視光透過率も20%以下であることを特徴とする面状光
学素子の製造方法。 【効果】耐薬品性が優れ、ドーム断面状や三角プリズム
断面状等の微小な面状光学素子の製造が可能となるとい
う特長をもつ。このようにして製造された面状光学素子
は、液晶ディスプレイ、透過型スクリーンなどに好まし
く使用できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、主に平面基板上に形成
された可視光の進行方向を制御するマイクロレンズアレ
イ、マイクロプリズムアレイ等の微小光学要素の配列帯
の製造方法に関するものである。
された可視光の進行方向を制御するマイクロレンズアレ
イ、マイクロプリズムアレイ等の微小光学要素の配列帯
の製造方法に関するものである。
【0002】詳しくは、液晶ディスプレイ、透過型スク
リーンなどに用いられる面状光学素子の製造方法に関す
るものである。
リーンなどに用いられる面状光学素子の製造方法に関す
るものである。
【0003】
【従来の技術】液晶ディスプレイ、透過型スクリーンに
使用されるマイクロレンズアレイ等の面状光学素子の製
造方法としては、あらかじめ求める形状が刻印された雌
金型を使用し、基板と金型の間に透明樹脂などを充填、
硬化させる方法が一般的に実用されている。
使用されるマイクロレンズアレイ等の面状光学素子の製
造方法としては、あらかじめ求める形状が刻印された雌
金型を使用し、基板と金型の間に透明樹脂などを充填、
硬化させる方法が一般的に実用されている。
【0004】求める面状光学素子の大きさが数10μm
以下の極めて微小な場合には、いわゆるポジ型フォトレ
ジスト、すなわち感光部分が分解し溶剤に対する溶解性
が向上するタイプの感光性樹脂をパターン露光、現像し
て円柱上などの立体形状を得た後、ポジ型ゆえの熱可塑
性を利用して加熱溶融し、溶融時の表面張力を利用して
ドーム状立体に成形する方法(例えば、Meas.Sc
i.Technol.1、No.8 p.759〜76
6(1990)に記載の方法など)が用いられる。
以下の極めて微小な場合には、いわゆるポジ型フォトレ
ジスト、すなわち感光部分が分解し溶剤に対する溶解性
が向上するタイプの感光性樹脂をパターン露光、現像し
て円柱上などの立体形状を得た後、ポジ型ゆえの熱可塑
性を利用して加熱溶融し、溶融時の表面張力を利用して
ドーム状立体に成形する方法(例えば、Meas.Sc
i.Technol.1、No.8 p.759〜76
6(1990)に記載の方法など)が用いられる。
【0005】また、電子ビームやレーザービームを用い
て部分毎にエッチング強度を変化させてマイクロレンズ
アレイ等の面状光学素子を得る方法(例えば、Opt.
Lett.6、p.613〜615(1981)に記載
の方法など)も提案されている。
て部分毎にエッチング強度を変化させてマイクロレンズ
アレイ等の面状光学素子を得る方法(例えば、Opt.
Lett.6、p.613〜615(1981)に記載
の方法など)も提案されている。
【0006】一方、硬化エネルギー線によって硬化する
樹脂組成物によって基板上に投影されたパターン状に該
樹脂組成物を選択的に硬化し、求める平面的パターンが
得られることは広く知られており、ネガ型フォトレジス
トなどで利用されている。
樹脂組成物によって基板上に投影されたパターン状に該
樹脂組成物を選択的に硬化し、求める平面的パターンが
得られることは広く知られており、ネガ型フォトレジス
トなどで利用されている。
【0007】また、このような面状光学素子を直視型の
液晶ディスプレイと組み合わせることにより、液晶ディ
スプレイの視野角が拡大されることが知られている。
液晶ディスプレイと組み合わせることにより、液晶ディ
スプレイの視野角が拡大されることが知られている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来の面
状光学素子の製造方法には次のような欠点があった。
状光学素子の製造方法には次のような欠点があった。
【0009】(1)雌金型を用いる方法では、求めるマ
イクロレンズ等の面状光学素子の大きさが数10μm以
下の極めて微小である場合は、精度良く金型を得ること
が難しく多くの工程を要するものであり、また金型の詰
まりなど金型の維持にも手間がかかる。
イクロレンズ等の面状光学素子の大きさが数10μm以
下の極めて微小である場合は、精度良く金型を得ること
が難しく多くの工程を要するものであり、また金型の詰
まりなど金型の維持にも手間がかかる。
【0010】(2)ポジ型フォトレジストを用いる方法
では、高精度な金型を必要としない点では優れている
が、加熱溶融時の表面張力を利用して成形するため、近
接あるいは連続した形状のマイクロレンズアレイ等の面
状光学素子を得ることが困難であった。さらに、得られ
た面状光学素子はポジ型フォトレジストで形成されてい
るため、耐薬品性に劣るものしか得ることができず、粘
着加工などの後加工条件に対する制限が多いものであっ
た。
では、高精度な金型を必要としない点では優れている
が、加熱溶融時の表面張力を利用して成形するため、近
接あるいは連続した形状のマイクロレンズアレイ等の面
状光学素子を得ることが困難であった。さらに、得られ
た面状光学素子はポジ型フォトレジストで形成されてい
るため、耐薬品性に劣るものしか得ることができず、粘
着加工などの後加工条件に対する制限が多いものであっ
た。
【0011】(3)エッチング強度の強弱によりマイク
ロレンズ等の面状光学素子を成形する方法では、真空環
境下で行う必要があったりエッチング強度の制御が難し
いなどの理由で大型かつ複雑な装置が必要であること
や、加工速度が遅く生産性に劣るなどの欠点があった。
ロレンズ等の面状光学素子を成形する方法では、真空環
境下で行う必要があったりエッチング強度の制御が難し
いなどの理由で大型かつ複雑な装置が必要であること
や、加工速度が遅く生産性に劣るなどの欠点があった。
【0012】(4)一般のネガ型フォトレジストや液状
紫外線硬化型樹脂などの硬化エネルギー線によって硬化
する感光性樹脂組成物によって、面状光学素子を得よう
としても、硬化エネルギー線が照射された部位は全て硬
化するので、平面的なパターンにおいては選択的に硬化
させることができるが、ドーム状や三角プリズム状など
の形状制御は事実上不可能であった。
紫外線硬化型樹脂などの硬化エネルギー線によって硬化
する感光性樹脂組成物によって、面状光学素子を得よう
としても、硬化エネルギー線が照射された部位は全て硬
化するので、平面的なパターンにおいては選択的に硬化
させることができるが、ドーム状や三角プリズム状など
の形状制御は事実上不可能であった。
【0013】また、近年では直視型の液晶ディスプレイ
の視野角を拡大するために、マイクロレンズアレイシー
トなどの面状光学素子を組み合わせることが提案されて
いる。液晶ディスプレイは、観察方向によって表示品位
が変化するという欠点をもっている。一般的には表示面
の法線方向から観察した時に最も良好な表示品位が得ら
れるように設定されているので、表示面の法線方向と観
察方向のなす角度が大きくなるほど表示品位が低下し、
ある角度を越えると観察者が容認できる範囲を越えてし
まうという欠点、すなわち「視野角が狭い」という欠点
がある。
の視野角を拡大するために、マイクロレンズアレイシー
トなどの面状光学素子を組み合わせることが提案されて
いる。液晶ディスプレイは、観察方向によって表示品位
が変化するという欠点をもっている。一般的には表示面
の法線方向から観察した時に最も良好な表示品位が得ら
れるように設定されているので、表示面の法線方向と観
察方向のなす角度が大きくなるほど表示品位が低下し、
ある角度を越えると観察者が容認できる範囲を越えてし
まうという欠点、すなわち「視野角が狭い」という欠点
がある。
【0014】この問題を解消するために前記方法(マイ
クロレンズアレイシートなどの面状光学素子との組み合
わせ)が提案されているが、実用性が乏しく視野角の問
題を解消するに至っていない。
クロレンズアレイシートなどの面状光学素子との組み合
わせ)が提案されているが、実用性が乏しく視野角の問
題を解消するに至っていない。
【0015】この理由は、本発明者らの検討によれば、
単に透明なマイクロレンズアレイシート、マイクロプリ
ズムアレイ等の面状光学素子を組み合わせる方法では、
液晶ディスプレイの視野角は拡大されるものの、外部
(使用環境下)から入射する光線を強く反射するので、
通常の室内照明などの外部からの入射光(外光)がある
場合には、画面全体が白っぽくなり、表示コントラスト
比が低下し表示が見にくくなるという欠点があるためで
あると考えられる。
単に透明なマイクロレンズアレイシート、マイクロプリ
ズムアレイ等の面状光学素子を組み合わせる方法では、
液晶ディスプレイの視野角は拡大されるものの、外部
(使用環境下)から入射する光線を強く反射するので、
通常の室内照明などの外部からの入射光(外光)がある
場合には、画面全体が白っぽくなり、表示コントラスト
比が低下し表示が見にくくなるという欠点があるためで
あると考えられる。
【0016】この問題に対し、各々のマイクロレンズと
正確に位置を適合させた遮光帯を組み合わせることが特
開平6−274542で提案されているが、量産性に優
れる製造方法は得られていない。
正確に位置を適合させた遮光帯を組み合わせることが特
開平6−274542で提案されているが、量産性に優
れる製造方法は得られていない。
【0017】よって、本発明は上記欠点を解消し、耐薬
品性が高く、数10μm以下の微小なマイクロレンズア
レイ等の面状光学素子においても、特に複雑な製造装置
を必要とすることなく、精度よく遮光帯が組み合わされ
たマイクロレンズアレイ等の面状光学素子の製造方法を
提供し、さらに液晶ディスプレイと組み合わせることに
より、表示品位を低下させることなく、視野角を拡大で
きる面状光学素子の製造方法を提供することを目的とす
る。
品性が高く、数10μm以下の微小なマイクロレンズア
レイ等の面状光学素子においても、特に複雑な製造装置
を必要とすることなく、精度よく遮光帯が組み合わされ
たマイクロレンズアレイ等の面状光学素子の製造方法を
提供し、さらに液晶ディスプレイと組み合わせることに
より、表示品位を低下させることなく、視野角を拡大で
きる面状光学素子の製造方法を提供することを目的とす
る。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、透明基板上に、求める面状光学素子形状に
対応した硬化エネルギー線透過性分布を有するA層を設
け、次いでこの上に硬化エネルギー線により硬化する感
光性樹脂からなるB層を塗布または積層し、該A層の硬
化エネルギー線透過性分布に対応した硬化パターンをB
層に形成した後、B層の未硬化部分を除去することを特
徴とする面状光学素子の製造方法において、少なくとも
A層における最も硬化エネルギー線透過率の小さな部分
は可視光透過率も20%以下であることを特徴とする面
状光学素子の製造方法を要旨とするものである。
するために、透明基板上に、求める面状光学素子形状に
対応した硬化エネルギー線透過性分布を有するA層を設
け、次いでこの上に硬化エネルギー線により硬化する感
光性樹脂からなるB層を塗布または積層し、該A層の硬
化エネルギー線透過性分布に対応した硬化パターンをB
層に形成した後、B層の未硬化部分を除去することを特
徴とする面状光学素子の製造方法において、少なくとも
A層における最も硬化エネルギー線透過率の小さな部分
は可視光透過率も20%以下であることを特徴とする面
状光学素子の製造方法を要旨とするものである。
【0019】本発明において、透明基板とは少なくとも
可視光に透明な平板状の基板のことをいい、ガラス基
板、プラスチックシート、プラスチックフィルムなどが
挙げられ、さらに表面上に、形成されるマイクロレンズ
アレイとの接着性、密着性を向上させるため、プライマ
ーコート処理、コロナ放電処理、プラズマ放電処理など
のいわゆる易接着処理が施されていることも好ましい。
可視光に透明な平板状の基板のことをいい、ガラス基
板、プラスチックシート、プラスチックフィルムなどが
挙げられ、さらに表面上に、形成されるマイクロレンズ
アレイとの接着性、密着性を向上させるため、プライマ
ーコート処理、コロナ放電処理、プラズマ放電処理など
のいわゆる易接着処理が施されていることも好ましい。
【0020】本発明において、硬化エネルギー線透過性
に分布のあるA層とは、求める面状光学素子の形状によ
って、その形、組成は異なるが、例えばドーム(半円断
面状)断面状のマイクロレンズアレイを得る場合には図
2に示す形状、また三角柱(プリズム状)断面状のマイ
クロプリズムアレイを得る場合には図3に示す形状が選
択される。
に分布のあるA層とは、求める面状光学素子の形状によ
って、その形、組成は異なるが、例えばドーム(半円断
面状)断面状のマイクロレンズアレイを得る場合には図
2に示す形状、また三角柱(プリズム状)断面状のマイ
クロプリズムアレイを得る場合には図3に示す形状が選
択される。
【0021】さらに本発明を構成するA層に硬化エネル
ギー線透過性に分布を持たせる方法としては、硬化エネ
ルギー線吸収剤の各点における濃度の違いによって達成
する方法も適用できる。
ギー線透過性に分布を持たせる方法としては、硬化エネ
ルギー線吸収剤の各点における濃度の違いによって達成
する方法も適用できる。
【0022】上記2つの方法のいずれも、A層は硬化エ
ネルギー線を吸収する組成であり、その厚み(高さ)の
分布および硬化エネルギー線吸収剤の濃度分布が硬化エ
ネルギー線透過性の分布となるものである。
ネルギー線を吸収する組成であり、その厚み(高さ)の
分布および硬化エネルギー線吸収剤の濃度分布が硬化エ
ネルギー線透過性の分布となるものである。
【0023】このA層を構成する方法としては、雌金
型、フォトレジストの応用、印刷などの方法が適用でき
るが、微小なマイクロレンズアレイ等の面状光学素子を
形成させるためには、ネガ型の感光性樹脂(露光部分が
硬化)をパターン露光し、未硬化部分を除去する方法お
よび公知の印刷技術によって形成する方法が最も好まし
く適用される。
型、フォトレジストの応用、印刷などの方法が適用でき
るが、微小なマイクロレンズアレイ等の面状光学素子を
形成させるためには、ネガ型の感光性樹脂(露光部分が
硬化)をパターン露光し、未硬化部分を除去する方法お
よび公知の印刷技術によって形成する方法が最も好まし
く適用される。
【0024】ここでいう硬化エネルギー線によって硬化
する樹脂組成物(ネガ型の感光性樹脂)とは、ラジカル
の発生あるいはイオンの発生によって重合を開始するモ
ノマやプレポリマ(オリゴマ)を主たる成分とする樹脂
組成物である。
する樹脂組成物(ネガ型の感光性樹脂)とは、ラジカル
の発生あるいはイオンの発生によって重合を開始するモ
ノマやプレポリマ(オリゴマ)を主たる成分とする樹脂
組成物である。
【0025】該モノマ、プレポリマとしては、不飽和ポ
リエステル型、アクリル型、エン・チオール型、エポキ
シ型などがあるが、硬化速度や硬化物物性の選択範囲が
広いことからアクリル型のものが好ましく使用される。
リエステル型、アクリル型、エン・チオール型、エポキ
シ型などがあるが、硬化速度や硬化物物性の選択範囲が
広いことからアクリル型のものが好ましく使用される。
【0026】このアクリル型のモノマ、プレポリマとし
ては、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリ
レート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート
などがあり、求める特性から種々選択することができ
る。
ては、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリ
レート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート
などがあり、求める特性から種々選択することができ
る。
【0027】また本発明において硬化エネルギー線は、
作業性、コストなどの点から紫外線であることが好まし
い。この場合、前記硬化エネルギー線によって硬化する
樹脂組成物中には、紫外線の照射を受けることによって
ラジカルあるいはイオンが発生する光重合開始剤が添加
される(以下この組成物を紫外線硬化型樹脂という)。
作業性、コストなどの点から紫外線であることが好まし
い。この場合、前記硬化エネルギー線によって硬化する
樹脂組成物中には、紫外線の照射を受けることによって
ラジカルあるいはイオンが発生する光重合開始剤が添加
される(以下この組成物を紫外線硬化型樹脂という)。
【0028】さらに本発明を構成するA層は、前記した
ように硬化エネルギー線に吸収を有する組成であること
が必要である。このA層を硬化エネルギー線に吸収を有
する組成とする方法は、A層を紫外線硬化型樹脂により
形成する場合、前記光重合開始剤の紫外線吸収を利用す
る方法や、さらなる紫外線吸収性を付与するためには、
紫外線吸収剤を添加することが好ましい。
ように硬化エネルギー線に吸収を有する組成であること
が必要である。このA層を硬化エネルギー線に吸収を有
する組成とする方法は、A層を紫外線硬化型樹脂により
形成する場合、前記光重合開始剤の紫外線吸収を利用す
る方法や、さらなる紫外線吸収性を付与するためには、
紫外線吸収剤を添加することが好ましい。
【0029】本発明で好ましく使用される紫外線吸収剤
は、少なくとも300〜400nmの範囲内に吸光度が
0.7以上のピークを有し、450nm〜700nmの
範囲内の吸光度が0.2以下であるものが好ましい。
は、少なくとも300〜400nmの範囲内に吸光度が
0.7以上のピークを有し、450nm〜700nmの
範囲内の吸光度が0.2以下であるものが好ましい。
【0030】このような紫外線吸収剤としては、ベンゾ
トリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸エステ
ル系のいずれか一つを含むものが好ましい。
トリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸エステ
ル系のいずれか一つを含むものが好ましい。
【0031】本発明においてA層の硬化エネルギー線透
過率が最も小さな部分は、可視光の透過率も20%以下
になるように形成されている必要がある。このようなA
層を得るためには、A層を1つの層で形成する場合は、
印刷等の方法により可視光に吸収を有する物質、例えば
顔料や染料などの着色剤の濃度分布を利用する方法や、
着色剤含有層の厚み分布を利用する方法などがある。ま
たA層を2つ以上の層で形成する場合は、硬化エネルギ
線に吸収を有するA1層と、可視光に吸収を有するA2
層との積層などの方法がある。
過率が最も小さな部分は、可視光の透過率も20%以下
になるように形成されている必要がある。このようなA
層を得るためには、A層を1つの層で形成する場合は、
印刷等の方法により可視光に吸収を有する物質、例えば
顔料や染料などの着色剤の濃度分布を利用する方法や、
着色剤含有層の厚み分布を利用する方法などがある。ま
たA層を2つ以上の層で形成する場合は、硬化エネルギ
線に吸収を有するA1層と、可視光に吸収を有するA2
層との積層などの方法がある。
【0032】このような構成とすることにより従来のレ
ンチキュラーレンズ、マイクロレンズだけでは、液晶デ
ィスプレイの視野角を拡大しようとしても、外光の反射
によって画面全体が白っぽくなってしまうという欠点を
解消することができる。
ンチキュラーレンズ、マイクロレンズだけでは、液晶デ
ィスプレイの視野角を拡大しようとしても、外光の反射
によって画面全体が白っぽくなってしまうという欠点を
解消することができる。
【0033】本発明者らはこの反射する外光の大部分
が、観察面から入射した外光が、レンズとして機能する
物質の表面部分における臨界反射角以上の角度がある部
分において全反射をし、さらに反射した光線が同様の原
理で反射を繰り返すことによって、再度入射した面(観
察面)に出射されたものであることを究明した。
が、観察面から入射した外光が、レンズとして機能する
物質の表面部分における臨界反射角以上の角度がある部
分において全反射をし、さらに反射した光線が同様の原
理で反射を繰り返すことによって、再度入射した面(観
察面)に出射されたものであることを究明した。
【0034】この外光反射を抑える方法として数々検討
したところ、最適部位に可視光遮光性機能を有する被膜
を配列(遮光帯)することにより解決されることを見い
出した。すなわち、観察面から入射する外光のうち、レ
ンズ内で全反射する光線経路を遮断するよう前記遮光帯
を設けるものである。
したところ、最適部位に可視光遮光性機能を有する被膜
を配列(遮光帯)することにより解決されることを見い
出した。すなわち、観察面から入射する外光のうち、レ
ンズ内で全反射する光線経路を遮断するよう前記遮光帯
を設けるものである。
【0035】この遮光帯の形成方法としては、前述A層
と同時に硬化エネルギー線をパターン露光し形成せしめ
る方法が均一性、精度の点から最も好ましい。すなわ
ち、透明基板上にA1層を構成する感光性樹脂A1を積
層または塗布し、次いでこの上にA2層を構成する感光
性樹脂A2と積層または塗布し、感光性樹脂A1および
A2をフォトマスクを介してパターン露光し現像する方
法である。このような方法により形成されるA1/A2
層複合体の例を模式的に示すと図4および図5のように
なる。
と同時に硬化エネルギー線をパターン露光し形成せしめ
る方法が均一性、精度の点から最も好ましい。すなわ
ち、透明基板上にA1層を構成する感光性樹脂A1を積
層または塗布し、次いでこの上にA2層を構成する感光
性樹脂A2と積層または塗布し、感光性樹脂A1および
A2をフォトマスクを介してパターン露光し現像する方
法である。このような方法により形成されるA1/A2
層複合体の例を模式的に示すと図4および図5のように
なる。
【0036】さらに本発明においてA層を前記A1層と
A2層の2層によって構成する場合には、作業性を良好
化する目的で、A1層はタックフリーな状態にすること
が好ましい。このタックフリーな状態とするには、A1
層を構成する感光性樹脂(紫外線硬化型樹脂)中にポリ
マを含有させ、透明基板上にA1層を設けた後、加熱処
理する方法が最も好ましく適用される。ここで使用する
ポリマとしては特に限定されるものではないが、前記プ
レポリマ、モノマとの相溶性が良好なものを使用するこ
とが、均一性、外観等の点から好ましい。
A2層の2層によって構成する場合には、作業性を良好
化する目的で、A1層はタックフリーな状態にすること
が好ましい。このタックフリーな状態とするには、A1
層を構成する感光性樹脂(紫外線硬化型樹脂)中にポリ
マを含有させ、透明基板上にA1層を設けた後、加熱処
理する方法が最も好ましく適用される。ここで使用する
ポリマとしては特に限定されるものではないが、前記プ
レポリマ、モノマとの相溶性が良好なものを使用するこ
とが、均一性、外観等の点から好ましい。
【0037】ここで使用する感光性樹脂A2とは、A1
層で使用するものと同様の樹脂組成物を使用でき、これ
に可視光遮光性を付与する。この可視光遮光性を付与す
る方法としては、顔料および/または染料からなる着色
剤を前記樹脂組成物に分散または溶解させたものを使用
することが均一性の点から好ましい。
層で使用するものと同様の樹脂組成物を使用でき、これ
に可視光遮光性を付与する。この可視光遮光性を付与す
る方法としては、顔料および/または染料からなる着色
剤を前記樹脂組成物に分散または溶解させたものを使用
することが均一性の点から好ましい。
【0038】また、この場合感光性樹脂A1と感光性樹
脂A2は、同一または限りなく近い露光感度を有してい
ることが両者を均一に形成させるために好ましく、両者
の添加剤例えば光重合開始剤、紫外線吸収剤の量を調節
して達成させる。
脂A2は、同一または限りなく近い露光感度を有してい
ることが両者を均一に形成させるために好ましく、両者
の添加剤例えば光重合開始剤、紫外線吸収剤の量を調節
して達成させる。
【0039】またこの場合、A1層およびA2層の目的
とする形状は、フォトマスクのパターン(開口部幅/遮
光部幅)や紫外線吸収剤、光重合開始剤の添加量や、紫
外線の照射時間を調節することにより調整される。
とする形状は、フォトマスクのパターン(開口部幅/遮
光部幅)や紫外線吸収剤、光重合開始剤の添加量や、紫
外線の照射時間を調節することにより調整される。
【0040】上記ごとく硬化エネルギー線を照射した
後、樹脂組成物層内の未硬化部分を適切な溶媒で溶解除
去(現像)するなどして、目的とするA1/A2層複合
体が得られる。
後、樹脂組成物層内の未硬化部分を適切な溶媒で溶解除
去(現像)するなどして、目的とするA1/A2層複合
体が得られる。
【0041】さらに本発明においては、A層に紫外線吸
収性および可視光遮光性を付与し、これ単独をパターン
露光し、未硬化部分を除去する方法も適用できる。具体
的には、A層を構成する感光性樹脂Aに適量の光開始
剤、紫外線吸収剤、着色剤から選ばれる少なくとも1種
の紫外線を吸収する物質を含有せしめ、さらに可視光遮
光性を付与させるため適量の顔料および/または染料か
らなる着色剤を含有せしめ、A層単独で前記A1/A2
複合体と同一手法により紫外線をパターン露光する方法
である。この場合、フォトマスクの開口部、遮光部のピ
ッチ、露光条件等を調節して露光エネルギー線透過分布
および可視光遮光性を調整する。こうして得られたA層
は立体断面形状が形成され、A層の最高部が最も紫外線
および可視光吸収性(遮光性)が高いものであり、なお
かつ適度な紫外線透過分布を有する被膜となる。こうし
て得られたA層の断面形態を模式的に示すと図6のよう
になる。
収性および可視光遮光性を付与し、これ単独をパターン
露光し、未硬化部分を除去する方法も適用できる。具体
的には、A層を構成する感光性樹脂Aに適量の光開始
剤、紫外線吸収剤、着色剤から選ばれる少なくとも1種
の紫外線を吸収する物質を含有せしめ、さらに可視光遮
光性を付与させるため適量の顔料および/または染料か
らなる着色剤を含有せしめ、A層単独で前記A1/A2
複合体と同一手法により紫外線をパターン露光する方法
である。この場合、フォトマスクの開口部、遮光部のピ
ッチ、露光条件等を調節して露光エネルギー線透過分布
および可視光遮光性を調整する。こうして得られたA層
は立体断面形状が形成され、A層の最高部が最も紫外線
および可視光吸収性(遮光性)が高いものであり、なお
かつ適度な紫外線透過分布を有する被膜となる。こうし
て得られたA層の断面形態を模式的に示すと図6のよう
になる。
【0042】またこのA層は公知の印刷技術によって硬
化エネルギー線吸収剤の濃度分布を付与することも可能
である。この場合印刷塗料は硬化エネルギー線を吸収す
る物質を含有し、その濃度の違った塗料をパターン印刷
することにより硬化エネルギー線透過性に分布を有する
A層を形成させる。この印刷技術は特に限定されるもの
ではないが、代表例を挙げるなら平版印刷、凹版、凸版
印刷などの技術がある。
化エネルギー線吸収剤の濃度分布を付与することも可能
である。この場合印刷塗料は硬化エネルギー線を吸収す
る物質を含有し、その濃度の違った塗料をパターン印刷
することにより硬化エネルギー線透過性に分布を有する
A層を形成させる。この印刷技術は特に限定されるもの
ではないが、代表例を挙げるなら平版印刷、凹版、凸版
印刷などの技術がある。
【0043】上記方法によりA層が形成された後、硬化
エネルギー線によって硬化する樹脂組成物被膜B層を塗
布または積層する。
エネルギー線によって硬化する樹脂組成物被膜B層を塗
布または積層する。
【0044】このB層を構成する樹脂組成物は、A層と
の接着性、密着性を考慮し、同素材のプレポリマ、モノ
マを使用することが好ましいが、得られるマイクロレン
ズアレイシート等の面状光学素子の目的とする特性を得
るために他の素材(例えば屈折率の調整、柔軟性の付
与、表面硬度化の付与等)を使用してもよい。
の接着性、密着性を考慮し、同素材のプレポリマ、モノ
マを使用することが好ましいが、得られるマイクロレン
ズアレイシート等の面状光学素子の目的とする特性を得
るために他の素材(例えば屈折率の調整、柔軟性の付
与、表面硬度化の付与等)を使用してもよい。
【0045】次いで該B層は、硬化エネルギー線透過性
に分布を有するA層を介して硬化エネルギー線が照射さ
れ部分的に硬化する。すなわち、透明基板側から硬化エ
ネルギー線を照射し、A層の硬化エネルギー線透過性の
分布およびA層の遮光性を利用して露光することにより
目的とする形状部分が硬化する。ここで形成されるもの
を模式的に示すと、図4のごとく形成されたA1/A2
層およびA層上には図1のようなドーム(半円)断面状
のマイクロレンズアレイが、図5のごとく形成されたA
1/A2層上には図7のようなプリズム(三角)断面上
のマイクロレンズアレイが形成される。
に分布を有するA層を介して硬化エネルギー線が照射さ
れ部分的に硬化する。すなわち、透明基板側から硬化エ
ネルギー線を照射し、A層の硬化エネルギー線透過性の
分布およびA層の遮光性を利用して露光することにより
目的とする形状部分が硬化する。ここで形成されるもの
を模式的に示すと、図4のごとく形成されたA1/A2
層およびA層上には図1のようなドーム(半円)断面状
のマイクロレンズアレイが、図5のごとく形成されたA
1/A2層上には図7のようなプリズム(三角)断面上
のマイクロレンズアレイが形成される。
【0046】上記露光工程後、A層と同様の方法により
現像することにより、面状光学素子が完成する。
現像することにより、面状光学素子が完成する。
【0047】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0048】実施例1 [A1層塗材]オリゴマとしてポリエステルアクリレー
ト“KAYARAD”HX−220(日本化薬(株)
製)50重量部、モノマとしてアクリルモノマ“ライト
アクリレート”DCP−A(共栄社油脂(株)製)50
重量部、光重合開始剤としてベンゾフェノン系光重合開
始剤“イルガキュアー”184(チバガイギー社製)1
0重量部、からなる紫外線硬化型樹脂に、ベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤“TINUVIN”PS(チバガ
イギー社製)3重量部、アクリルポリマ“コータック
ス”LK−730(東レ(株)製)5重量部を添加し
て、固形分が溶解するまで撹拌しA1層塗材を得た。
ト“KAYARAD”HX−220(日本化薬(株)
製)50重量部、モノマとしてアクリルモノマ“ライト
アクリレート”DCP−A(共栄社油脂(株)製)50
重量部、光重合開始剤としてベンゾフェノン系光重合開
始剤“イルガキュアー”184(チバガイギー社製)1
0重量部、からなる紫外線硬化型樹脂に、ベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤“TINUVIN”PS(チバガ
イギー社製)3重量部、アクリルポリマ“コータック
ス”LK−730(東レ(株)製)5重量部を添加し
て、固形分が溶解するまで撹拌しA1層塗材を得た。
【0049】[B層塗材]オリゴマとしてウレタンアク
リレート“KAYARAD”UX−4101(日本化薬
(株)製)50重量部、モノマとしてアクリルモノマ
“KAYARAD”HDDA(日本化薬(株)製)50
重量部、光開始剤として“イルガキュアー”184(チ
バガイギー社製)20重量部からなる紫外線硬化型樹脂
をB層塗材とした。
リレート“KAYARAD”UX−4101(日本化薬
(株)製)50重量部、モノマとしてアクリルモノマ
“KAYARAD”HDDA(日本化薬(株)製)50
重量部、光開始剤として“イルガキュアー”184(チ
バガイギー社製)20重量部からなる紫外線硬化型樹脂
をB層塗材とした。
【0050】[A2層塗材]オリゴマとしてポリエステ
ルアクリレート“KAYARAD”HX−220(日本
化薬(株)製)50重量部、モノマとしてアクリルモノ
マ“ライトアクリレート”DCP−A(共栄社油脂
(株)製)50重量部、光重合開始剤としてリン化合物
“ルシリン”TPO(BASF社製)10重量部からな
る紫外線硬化型樹脂に、油溶性染料“サンコスモ”ブラ
ック9011(ミハラ化工(株)製)10重量部のメチ
ルエチルケトン30重量%溶液を混合しA2層塗材を得
た。
ルアクリレート“KAYARAD”HX−220(日本
化薬(株)製)50重量部、モノマとしてアクリルモノ
マ“ライトアクリレート”DCP−A(共栄社油脂
(株)製)50重量部、光重合開始剤としてリン化合物
“ルシリン”TPO(BASF社製)10重量部からな
る紫外線硬化型樹脂に、油溶性染料“サンコスモ”ブラ
ック9011(ミハラ化工(株)製)10重量部のメチ
ルエチルケトン30重量%溶液を混合しA2層塗材を得
た。
【0051】透明基板としてポリエチレンテレフタレー
トフィルム“ルミラー”プライマーコート品(東レ
(株)製)上に、上記A1層塗材をメタリングバーによ
り10μm塗布し、次いでこれをパーフェクトオーブン
120度5分間加熱処理し、タックフリーな状態とし
た。この上に、上記A2層塗材をメタリングバーにより
15μm塗布した。
トフィルム“ルミラー”プライマーコート品(東レ
(株)製)上に、上記A1層塗材をメタリングバーによ
り10μm塗布し、次いでこれをパーフェクトオーブン
120度5分間加熱処理し、タックフリーな状態とし
た。この上に、上記A2層塗材をメタリングバーにより
15μm塗布した。
【0052】次いで反塗布面に開口部が50μm、遮光
部が5μmピッチであるストライプ状のフォトマスクを
のせフォトマスクの上から露光強度10mJ/cm2 ・
秒の紫外線を2分間照射した後、メチルイソブチルケト
ンにて未硬化部分を溶解除去しA1/A2層複合体を得
た。なおこのA1/A2層複合体の断面形状を光学顕微
鏡にて観察したところ図4に近似した形状であった。
部が5μmピッチであるストライプ状のフォトマスクを
のせフォトマスクの上から露光強度10mJ/cm2 ・
秒の紫外線を2分間照射した後、メチルイソブチルケト
ンにて未硬化部分を溶解除去しA1/A2層複合体を得
た。なおこのA1/A2層複合体の断面形状を光学顕微
鏡にて観察したところ図4に近似した形状であった。
【0053】次にこの上に上記B層塗材をメタリングバ
ーにて20μm塗布し、反塗布面側から前記露光強度の
紫外線を10秒間照射し、メチルイソブチルケトンによ
り未硬化部分を溶解除去して面状光学素子を得た。
ーにて20μm塗布し、反塗布面側から前記露光強度の
紫外線を10秒間照射し、メチルイソブチルケトンによ
り未硬化部分を溶解除去して面状光学素子を得た。
【0054】かくして得られた面状光学素子の断面形状
を観察したところ、表1に示す通り、図1に近似した形
状すなわちドーム断面状のものであり、各々のマイクロ
レンズ6に対し、遮光帯7が正確な位置に形成されたも
のであった。
を観察したところ、表1に示す通り、図1に近似した形
状すなわちドーム断面状のものであり、各々のマイクロ
レンズ6に対し、遮光帯7が正確な位置に形成されたも
のであった。
【0055】比較例1 上記A2層単独を、実施例1と同一の透明基板上にメタ
リングバーにより20μm塗布し、実施例1と同一のフ
ォトマスク、露光強度により露光し、未硬化部分を除去
することにより面状光学素子を得た。かくして得られた
面状光学素子の断面形状を観察したところ、表1に示す
通り頂部が平坦である台形断面状のものであった。また
この場合いうまでもなく遮光帯は形成されていない。
リングバーにより20μm塗布し、実施例1と同一のフ
ォトマスク、露光強度により露光し、未硬化部分を除去
することにより面状光学素子を得た。かくして得られた
面状光学素子の断面形状を観察したところ、表1に示す
通り頂部が平坦である台形断面状のものであった。また
この場合いうまでもなく遮光帯は形成されていない。
【0056】実施例2 [A層塗材]オリゴマとしてポリエステルアクリレート
“KAYARAD”HX−220(日本化薬(株)製)
50重量部、モノマとしてアクリルモノマ“ライトアク
リレート”DCP−A(共栄社油脂(株)製)、光重合
開始剤としてリン化合物“ルシリン”TPO(BASF
社製)10重量部からなる紫外線硬化型樹脂に、油溶性
染料“サンコスモ”ブラック9011(ミハラ化工
(株)製)5重量部のメチルエチルケトン30重量%溶
液およびベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤“TINU
VIN”PS(チバガイギー社製)3重量部、を混合し
A層塗材を得た。
“KAYARAD”HX−220(日本化薬(株)製)
50重量部、モノマとしてアクリルモノマ“ライトアク
リレート”DCP−A(共栄社油脂(株)製)、光重合
開始剤としてリン化合物“ルシリン”TPO(BASF
社製)10重量部からなる紫外線硬化型樹脂に、油溶性
染料“サンコスモ”ブラック9011(ミハラ化工
(株)製)5重量部のメチルエチルケトン30重量%溶
液およびベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤“TINU
VIN”PS(チバガイギー社製)3重量部、を混合し
A層塗材を得た。
【0057】透明基板としてポリエチレンテレフタレー
トフィルム“ルミラー”プライマーコート品(東レ
(株)製)上に、上記A層塗材をメタリングバーにより
25μm塗布した。
トフィルム“ルミラー”プライマーコート品(東レ
(株)製)上に、上記A層塗材をメタリングバーにより
25μm塗布した。
【0058】次いで反塗布面に開口部が40μm、遮光
部が10μmピッチであるストライプ状のフォトマスク
をのせフォトマスクの上から露光強度10mJ/cm2
・秒の紫外線を2.5分間照射した後、メチルイソブチ
ルケトンにて未硬化部分を溶解除去しA層を得た。なお
この時の断面形状を光学顕微鏡にて観察したところ図6
に近似した形状であった。
部が10μmピッチであるストライプ状のフォトマスク
をのせフォトマスクの上から露光強度10mJ/cm2
・秒の紫外線を2.5分間照射した後、メチルイソブチ
ルケトンにて未硬化部分を溶解除去しA層を得た。なお
この時の断面形状を光学顕微鏡にて観察したところ図6
に近似した形状であった。
【0059】次にこの上に実施例1B層塗材をメタリン
グバーにて20μm塗布し、反塗布面側から前記露光強
度の紫外線を10秒間照射し、メチルイソブチルケトン
により未硬化部分を溶解除去して面状光学素子を得た。
グバーにて20μm塗布し、反塗布面側から前記露光強
度の紫外線を10秒間照射し、メチルイソブチルケトン
により未硬化部分を溶解除去して面状光学素子を得た。
【0060】かくして得られた面状光学素子の断面形状
を観察したところ、表1に示す通り図8に近似した形状
すなわちドーム断面状のものであり、各々のマイクロレ
ンズ6に対し遮光帯7が正確な位置に形成されたもので
あった。
を観察したところ、表1に示す通り図8に近似した形状
すなわちドーム断面状のものであり、各々のマイクロレ
ンズ6に対し遮光帯7が正確な位置に形成されたもので
あった。
【0061】また、本発明で製造された面状光学素子
は、その硬化部分がメチルイソブチルケトンにて溶解ま
たは分解しないことから耐薬品性が高いことは立証され
ている。
は、その硬化部分がメチルイソブチルケトンにて溶解ま
たは分解しないことから耐薬品性が高いことは立証され
ている。
【0062】さらに上記方法によって得られた面状光学
素子を液晶ディスプレイ(PC−98note NS/
R NEC(株)製)に装着し、その視野角拡大効果を
観察した結果を表1に示す。表1より本発明により製造
された面状光学素子は外光反射等の表示品位の低下を発
生することなく良好な視野角拡大効果があることがわか
る。
素子を液晶ディスプレイ(PC−98note NS/
R NEC(株)製)に装着し、その視野角拡大効果を
観察した結果を表1に示す。表1より本発明により製造
された面状光学素子は外光反射等の表示品位の低下を発
生することなく良好な視野角拡大効果があることがわか
る。
【0063】
【表1】
【0064】
【発明の効果】本発明の面状光学素子の製造方法によ
り、耐薬品性が優れ、ドーム断面状や三角プリズム断面
状等の微小な面状光学素子の製造が可能となる。
り、耐薬品性が優れ、ドーム断面状や三角プリズム断面
状等の微小な面状光学素子の製造が可能となる。
【0065】このようにして製造された面状光学素子
は、液晶ディスプレイ、透過型スクリーンなどに好まし
く使用できる。
は、液晶ディスプレイ、透過型スクリーンなどに好まし
く使用できる。
【図1】本発明の製造方法によって得られる面状光学素
子の断面の一例を示した概略図である。
子の断面の一例を示した概略図である。
【図2】本発明の製造方法に用いられるA層断面の一例
を示した概略図である。
を示した概略図である。
【図3】本発明の製造方法に用いられるA層断面の一例
を示した概略図である。
を示した概略図である。
【図4】本発明の製造方法に用いられるA1/A2層断
面の一例を示した概略図である。
面の一例を示した概略図である。
【図5】本発明の製造方法に用いられるA1/A2層断
面の一例を示した概略図である。
面の一例を示した概略図である。
【図6】本発明の製造方法に用いられるA層断面の一例
を示した概略図である。
を示した概略図である。
【図7】本発明の製造方法によって得られる面状光学素
子の断面の一例を示した概略図である。
子の断面の一例を示した概略図である。
【図8】本発明の製造方法によって得られる面状光学素
子の断面の一例を示した概略図である。
子の断面の一例を示した概略図である。
1:透明基板 2:A層 3:A1層 4:A2層 5:B層 6:ドーム断面状のマイクロレンズ 7:遮光帯 8:プリズム断面状のマイクロレンズ
Claims (8)
- 【請求項1】 透明基板上に、求める面状光学素子形状
に対応した硬化エネルギー線透過性分布を有するA層を
設け、次いでこの上に硬化エネルギー線により硬化する
感光性樹脂からなるB層を塗布または積層し、該A層の
硬化エネルギー線透過性分布に対応した硬化パターンを
B層に形成した後、B層の未硬化部分を除去することを
特徴とする面状光学素子の製造方法において、少なくと
もA層における最も硬化エネルギー線透過率の小さな部
分は可視光透過率も20%以下であることを特徴とする
面状光学素子の製造方法。 - 【請求項2】 A層の硬化エネルギー線透過性分布が、
A層の各点における厚みの違いによって得られることを
特徴とする請求項1に記載の面状光学素子の製造方法。 - 【請求項3】 A層の硬化エネルギー線透過性分布が、
A層に添加された硬化エネルギー線吸収剤の各点におけ
る濃度の違いによって得られることを特徴とする請求項
1に記載の面状光学素子の製造方法。 - 【請求項4】 A層が、可視光に透明であるA1層と、
A1層上に形成された可視光に対し実質的に黒色である
A2層からなることを特徴とする請求項1〜請求項3の
いずれかに記載の面状光学素子の製造方法。 - 【請求項5】 A層が、可視光に透明で紫外光に吸収を
有する感光性樹脂A1からなるA1層上に、可視光に吸
収を有する感光性樹脂A2からなるA2層を塗布または
積層し、次いでA1、A2同時にフォトマスクを介して
パターン露光、未硬化部分を除去することによって得ら
れることを特徴とする請求項4に記載の面状光学素子の
製造方法。 - 【請求項6】 A2層が、染料および/または顔料から
なる着色剤を含有する感光性樹脂からなることを特徴と
する請求項4または請求項5に記載の面状光学素子の製
造方法。 - 【請求項7】 A層が、染料および/または顔料からな
る着色剤を含有する感光性樹脂からなることを特徴とす
る請求項1〜請求項6のいずれかに記載の面状光学素子
の製造方法。 - 【請求項8】 A層が、少なくとも300〜400nm
の範囲内に吸光度が0.7以上のピークを有し、450
nm〜700nmの範囲内の吸光度が0.2以下である
紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項1〜請
求項7のいずれかに記載の面状光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6072240A JPH07281182A (ja) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | 面状光学素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6072240A JPH07281182A (ja) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | 面状光学素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07281182A true JPH07281182A (ja) | 1995-10-27 |
Family
ID=13483574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6072240A Pending JPH07281182A (ja) | 1994-04-11 | 1994-04-11 | 面状光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07281182A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002283360A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズアレイ及びその製造方法並びに光学装置 |
| JP2002283362A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズアレイ及びその製造方法並びに光学装置 |
-
1994
- 1994-04-11 JP JP6072240A patent/JPH07281182A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002283360A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズアレイ及びその製造方法並びに光学装置 |
| JP2002283362A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Seiko Epson Corp | マイクロレンズアレイ及びその製造方法並びに光学装置 |
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