JPH0728238A - 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法 - Google Patents

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法

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JPH0728238A
JPH0728238A JP17195793A JP17195793A JPH0728238A JP H0728238 A JPH0728238 A JP H0728238A JP 17195793 A JP17195793 A JP 17195793A JP 17195793 A JP17195793 A JP 17195793A JP H0728238 A JPH0728238 A JP H0728238A
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photosensitive resin
resin composition
film
polymer
acrylate
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JP17195793A
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Shigeo Tachiki
繁雄 立木
Masaru Sawabe
賢 沢辺
Mitsuyoshi Nakamura
三佳 中村
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Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 テンティング膜強度と基板の凹凸追従性の向
上した感光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 (a)アクリル酸及び/又はメタクリル酸
と、アルキルアクリレート又はアルキルメタクリレート
のポリマーの片末端に一つの重合性不飽和基を有するマ
クロモノマーとを必須成分として共重合した酸価20〜
300のグラフトポリマー、(b)光重合性不飽和基を
分子内に2個以上有するモノマー並びに(c)光開始剤
を含有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性
エレメント、レジストパターンの製造法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線板等に用
いられる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメ
ント及びレジストパターンの製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板を製造するに際しては、
まず基板上に通常、光硬化性の感光性樹脂組成物の膜を
形成し、ついで活性光線を画像状に照射し、未露光部を
現像除去し、レジストパターンを形成している。この工
程において、感光性樹脂組成物の膜の形成には、種々の
方法が採用されている。例えば、ディップコート、ロー
ルコート、カーテンコート等の方法で、感光性樹脂組成
物溶液(塗液)を直接基板に塗布し、溶剤を乾燥して得
る方法、支持体上に感光性樹脂組成物を積層した感光性
エレメント(感光性フィルム)を基板に積層する方法、
更には、感光性樹脂組成物を水に分散した浴の中に基板
を浸漬し、電着塗装という方法を用いて膜を形成する方
法などが知られている。
【0003】これらの方法のうち、感光性フィルムを積
層する方法は、簡便に均一な厚みの感光性樹脂組成物の
膜が形成できることから、現在主流の方法として採用さ
れている。レジストパターンを形成した後、テンティン
グ法の場合には、エッチング、レジスト剥離工程を経て
プリント配線板とし、また、めっき法の場合には、はん
だめっき、レジスト剥離、エッチング工程を経てプリン
ト配線板を得ている。
【0004】したがって、感光性樹脂組成物に要求され
る特性は、光感度などの感光特性が良好であることはも
ちろん、金属に対する密着性、基板表面の凹凸への追従
性、エッチング液やめっき液等の薬品に対する耐薬品
性、レジスト剥離性、更にはテンティング法の場合に
は、テンティング膜の強度などさまざまである。
【0005】中でも、基板表面の凹凸への追従性とテン
ティング膜の強度は重要な特性である。しかるにこの二
つの特性は、従来の材料技術では両立が難しく、どちら
かの特性を上げるともう一方の特性は低下するという問
題があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術の
問題点を解消し、基板表面の凹凸への追従性とテンティ
ング膜の強度の両立はもとより、感光特性も良好な感光
性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジ
ストパターンの製造法を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、特殊なマクロ
モノマーを共重合したグラフトポリマーを用いることに
よって、上記の問題点を解決したものである。
【0008】すなわち、本発明は、(a)アクリル酸及
び/又はメタクリル酸と、アルキルアクリレート又はア
ルキルメタクリレートの片末端に一つの重合性不飽和基
を有するマクロモノマーとを必須成分として共重合した
酸価20〜300のグラフトポリマー、(b)光重合性
不飽和基を分子内に2個以上有するモノマー並びに
(c)光開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物、これ
を用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造
法に関する。
【0009】以下、本発明について詳述する。(a)成
分であるポリマーは、アクリル酸及び/又はメタクリル
酸と、ポリアルキルアクリレート又はポリアルキルメタ
クリレートの片末端に一つの重合性不飽和基を有するマ
クロモノマーとを必須成分として共重合した酸価20〜
300のグラフトポリマーである。アクリル酸及びメタ
クリル酸は単独で用いてもよく、併用してもよい。その
使用量は、ポリマーの酸価が20〜300の範囲となる
ように適宜使用される。ポリマーの酸価が20未満で
は、感光性樹脂組成物のアルカリの水溶液による現像性
が低下し、また、酸価が300を越えると、光硬化後の
レジストの耐現像液性が低下する。
【0010】一方、アルキルアクリレート又はアルキル
メタクリレートのポリマーの片末端に一つの重合性不飽
和基を有するマクロモノマーとは、例えばメチルアクリ
レート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレー
ト、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレー
ト、t−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート、n−オクチルアクリレート、n−ドデシルア
クリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、n−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタ
クリレート、n−ブチルメタクリレート、t−ブチルメ
タクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、n
−オクチルメタクリレート、n−ドデシルメタクリレー
ト等のアルキル基(好ましくは、炭素数12以下)を有
するアルキルアクリレート又はアルキルメタクリレート
のポリマーの片末端に、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基等の重合性不飽和基を一つ有するポリマーである。
特に、メチルメタクリレート、n−ブチルアクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート等のポリマーの片
末端にメタクリル基を有するマクロモノマーが好適であ
る。マクロモノマーは単独で又は二種類以上を組み合わ
せて用いられる。
【0011】本発明に用いるマクロモノマーの数平均分
子量は、1,500〜200,000の範囲が好まし
く、3,000〜50,000の範囲がより好ましい。
マクロモノマーの数平均分子量が1,500未満では、
マクロモノマーを用いてグラフトポリマーとした効果が
不充分となる傾向があり、一方、分子量が200,00
0を越えると共重合性が低下する傾向がある。また、マ
クロモノマーの使用量は、グラフトポリマーを構成する
共重合モノマーの総量100重量部に対して、2〜50
重量部とすることが好ましく、5〜25重量部とするこ
とがより好ましい。マクロモノマーの使用量が2重量部
未満ではマクロモノマーを用いてグラフトポリマーとし
た効果が不充分となる傾向があり、一方、50重量部を
越えると均一なグラフトポリマーが得られにくくなる傾
向がある。このようなマクロモノマーは、特開昭61−
200548号公報等の記載に準じて容易に製造するこ
とができる。また、東亞合成化学工業(株)等から、A
A−6、AB−6(以上商品名)等として商業的に入手
可能である。
【0012】(a)成分のグラフトポリマーは、前記の
アクリル酸及び/又はメタクリル酸とマクロモノマーを
必須成分とし、必要に応じて、メタクリル酸メチル、メ
タクリル酸エチル、メタクリル酸−n−プロピル、メタ
クリル酸−n−ブチル、メタクリル酸−2−エチルヘキ
シル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸−n−プロピル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル
酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ヒドロ
キシエチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリロ
ニトリル、スチレン等の重合性モノマーを一種類以上用
い、共重合することにより得られる。
【0013】グラフトポリマーの合成は、前記のモノマ
ーを有機溶剤中でアゾビスイソブチロニトリル、アゾビ
スジメチルバレロニトリル、過酸化ベンゾイル等の重合
開始剤を用いて一般的な溶液重合により得ることができ
る。この場合、用いる有機溶剤は、トルエン、p−キシ
レン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノアセテート等が挙げられる。ただ
し、電着法で感光性樹脂組成物の膜を形成する場合に
は、有機溶剤には親水性有機溶剤を用いることが好まし
い。
【0014】(a)成分のグラフトポリマーの重量平均
分子量(標準ポリスチレン換算)は、10,000〜4
00,000とすることが好ましい。重量平均分子量が
10,000未満では、レジストの機械的強度が弱くな
る傾向があり、一方、400,000を越えると、感光
性樹脂組成物の現像性が低下する傾向がある。(a)成
分のグラフトポリマーの使用量は、(a)成分及び
(b)成分の総量100重量部に対して、50〜85重
量部であることが好ましく、60〜75重量部であるこ
とがより好ましい。使用量が50重量部未満では、レジ
ストの機械的強度が弱くなる傾向があり、一方、85重
量部を越えると、(b)成分である光重合性モノマーの
割合が減って、光に対する感度が低下する傾向がある。
【0015】(b)成分の光重合性不飽和基を分子内に
2個以上有するモノマーとしては、多価アルコールに
α、β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、
例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テ
トラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テト
ラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等、グ
リシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を付
加して得られる化合物、例えば、トリメチメールプロパ
ントリグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェ
ノールAグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート
等、多価カルボン酸、例えば、無水フタル酸等と水酸基
及びエチレン性不飽和基を有する化合物、例えばβ−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート等のエステル化合
物等が用いられ、更にはウレタン骨格をもったウレタン
ジアクリレート化合物等も用いることができ、いずれに
しても、光照射により硬化するものであればよい。
【0016】(b)成分のモノマーの使用量は、(a)
成分及び(b)成分の総量100重量部に対して、15
〜50重量部であることが好ましく、25〜40重量部
であることがより好ましい。使用量が15重量部未満で
は光に対する感度が低下する傾向があり、一方、50重
量部を越えるとレジストの機械的強度が弱くなる傾向が
ある。
【0017】(c)成分の光開始剤としては、従来から
使用されている光開始剤が特に制限なく使用できる。具
体的には、ベンゾフェノン、N,N′−テトラメチル−
4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−
4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−エチルアン
トラキノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケトン、
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイ
ン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニル
イミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−
4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量
体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フェニ
ルイミダゾール二量体などが挙げられる。これらは単独
で又は二種類以上を組み合わせて用いられる。
【0018】(c)成分の光開始剤の使用量は、(a)
成分及び(b)成分の総量100重量部に対し、0.1
〜20重量部であることが好ましく、0.2〜10重量
部であることがより好ましい。使用量が0.1重量部未
満では感光性樹脂組成物の光感度が低くなる傾向があ
り、一方、20重量部を越えると露光の際感光性樹脂組
成物の表面での光吸収が増加して、内部の光硬化が不充
分となる傾向がある。
【0019】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じて、(a)成分のグラフトポリマー以外の通常のアク
リル樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性の樹脂
を使用することができる。その使用量は、(a)成分及
び(b)成分の総量100重量部に対し、40重量部以
下とすることが好ましい。使用量が40重量部を越える
と(a)成分との相溶性や感光性樹脂組成物の光に対す
る感度が低下する傾向がある。
【0020】本発明の感光性樹脂組成物には、他の成
分、例えば、染料、顔料、フィラー、可塑剤、熱硬化
剤、難燃剤、重合禁止剤、密着性向上剤などを必要に応
じて適宜使用することができる。
【0021】次に、本発明の感光性樹脂組成物を含む膜
の形成法について述べる。基板の上に膜を形成する方法
としては特に制限はなく、例えば、既述した本発明の感
光性樹脂組成物をアセトン、メチルエチルケトン、トル
エン、塩化メチレン、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル等の有機溶剤に溶解
し、この溶液をディップコート、ロールコート、カーテ
ンコート、スプレーコート、スピンコート等の方法で基
板に直接塗布し、その後、有機溶剤を乾燥して感光性樹
脂組成物の膜を形成できる。
【0022】また、本発明の感光性樹脂組成物に含まれ
る(a)成分のグラフトポリマー中のカルボキシル基を
トリエチルアミン、ジエチルアミン、トリエタノールア
ミン等の塩基で中和した後、感光性樹脂組成物を水に溶
解もしくは分散させ電着浴とし、この電着浴中に、導電
性の基板を陽極として浸漬し、対極との間に直流電圧を
印加して電着塗装する方法によっても感光性樹脂組成物
の膜を形成できる。
【0023】膜を形成する好ましい方法としては、いっ
たん、支持体フィルム上に前記感光性樹脂組成物の層を
形成した感光性エレメントとし、これを基板上にラミネ
ートすることにより基板上に膜を得る方法である。支持
フィルム上に感光性樹脂組成物の層を形成する方法とし
ては、例えば、感光性樹脂組成物を上述した有機溶剤に
溶解し、この溶液を支持体フィルム上にナイフコート、
ロールコート、スプレーコート、スピンコート等の方法
で塗布し、乾燥することにより行われる。感光性樹脂組
成物を含む層中の残存溶剤量は、特性保持等の観点から
2重量%以下に抑えることが好ましい。
【0024】本発明に用いられる支持体フィルムは、感
光性エレメントの製造時に必要な耐熱性、耐溶剤性を有
していることが好ましいが、テフロンフィルム、離型紙
等の離型性フィルムを一時的な支持体フィルムとし、こ
の上に感光性樹脂組成物の層を形成した後、この層の上
に耐熱性あるいは耐溶剤性の低いフィルムをラミネート
し、前記した一時的な支持体フィルムを剥離して耐熱性
あるいは耐溶剤性の低い支持体フィルムを有する感光性
エレメントを製造することもできる。また、支持体フィ
ルムは、活性光に対して透明であっても不透明であって
もよい。使用しうる支持体フィルムの例として、ポリエ
ステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミ
ドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフ
ィルム等、公知のフィルムを挙げることができる。
【0025】長尺の感光性エレメントを製造する場合に
は、製造の最終段階で感光性エレメントをロール状に巻
き取る。この場合、感圧性粘着テープ等で公知の方法を
用い、背面処理した支持体フィルムを用いることによ
り、ロール状に巻き取ったときの感光性樹脂組成物の層
の支持体フィルム背面への転着を防ぐことができる。同
じ目的、さらに塵の付着を防ぐ目的で、該エレメントの
感光性樹脂組成物の層の上に剥離可能なカバーフィルム
を積層することが好ましい。
【0026】剥離可能なカバーフィルムとしては、例え
ば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、
テフロンフィルム、表面処理した紙等があり、カバーフ
ィルムを剥離するときに感光性樹脂組成物の層と支持体
フィルムとの接着力よりも感光性樹脂組成物の層とカバ
ーフィルムとの接着力がより小さいものであればよい。
【0027】以上に示した方法等で基板上に形成した感
光性樹脂組成物の膜の厚みは、通常5〜100μmとさ
れる。
【0028】次に本発明のレジストパターンの製造法に
ついて説明する。上述した方法等で基板上に形成した感
光性樹脂組成物の膜に、活性光線を画像状に照射し、露
光部の感光性樹脂組成物を光硬化させる。この際、感光
性エレメントの支持体フィルムが活性光に不透明である
場合には、支持体フィルムを剥離した後、露光する必要
がある。支持体フィルムが活性光に対して透明であれ
ば、露光時に支持体フィルムを剥離する必要はない。
【0029】なお、活性光線の光源としては、波長30
0〜450nmの光線を発するもの、例えば、水銀蒸気ア
ーク、カーボンアーク、キセノンアーク等が好ましく用
いられる。また、露光前後の50〜100℃での加熱処
理は、基板と感光性樹脂膜との密着性を向上するために
好ましい。
【0030】続いて現像工程、すなわち、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリの
水溶液を吹きつけるか、アルカリの水溶液に浸漬するな
どして未露光部を除去し、前記画像に対応した硬化膜を
基板表面に有するレジストパターンを作製する。この
際、支持体フィルムを付けたまま露光した場合には、支
持体フィルムを剥離した後、現像を行う。レジストパタ
ーンの形成後、前記の活性光線を再度照射すると、特
に、めっきレジストとして用いる場合には、耐薬品性が
向上して好ましい。
【0031】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明する。
【0032】グラフトポリマーの合成例1 撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロート及び窒素ガス
導入管を備えたフラスコに、メチルセロソルブ/トルエ
ン=3:2(重量比)の混合溶剤500gを加え、撹拌
し、窒素ガスを吹き込みながら85℃に加温した。温度
が85℃になったところで、メタクリル酸50.7g、
メタクリル酸メチル150g、アクリル酸エチル69.
3g、メチルメタクリレートのポリマーの片末端がメタ
クリロイル基であるマクロモノマー(東亞合成化学工業
(株)製、商品名AA−6)30g及びアゾビスイソブ
チロニトリル2.7gを混合した液を2.5時間かけて
フラスコ内に滴下し、その後85℃で撹拌しながら3時
間保温した。3時間後にアゾビスイソブチロニトリル
1.2gをメチルセロソルブ30gに溶解した液を10
分かけてフラスコ内に滴下し、その後再び85℃で撹拌
しながら4時間保温した。
【0033】このようにして得られたグラフトポリマー
(a−1)の重量平均分子量は87,000、酸価は1
08であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分は
36.2重量%であった。
【0034】グラフトポリマーの合成例2 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコに、メチ
ルセロソルブ/トルエン=3:2(重量比)の混合溶剤
500gを加え、撹拌し、窒素ガスを吹きこみながら8
5℃に加温した。温度が85℃になったところで、メタ
クリル酸55.1g、メタクリル酸メチル102g、メ
タクリル酸−n−ブチル32.9g、アクリル酸−n−
ブチル50g、n−ブチルアクリレートのポリマーの片
末端がメタクリロイル基であるマクロモノマー(東亞合
成化学工業(株)製、商品名AB−6)60g及びアゾ
ビスイソブチロニトリル1.8gを混合した液を、2.
5時間かけてフラスコ内に滴下し、その後85℃で撹拌
しながら3時間保温した。3時間後にアゾビスイソブチ
ロニトリル0.8gをメチルセロソルブ30gに溶解し
た液を10分かけてフラスコ内に滴下し、その後再び8
5℃で撹拌しながら4時間保温した。
【0035】このようにして得られたグラフトポリマー
(a−2)の重量平均分子量は112,000、酸価は
117であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分
は35.9重量%であった。
【0036】グラフトポリマーの合成例3 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコに、メチ
ルセロソルブ/トルエン=3:2(重量比)の混合溶剤
500g及び2−エチルヘキシルアクリレートのポリマ
ーの片末端がメタクリロイル基であるマクロモノマー溶
液(東亞合成化学工業(株)製、商品名AH−6SX)
50g(固形分30g)を加え、撹拌し、窒素ガスを吹
きこみながら90℃に加温した。温度が90℃になった
ところで、メタクリル酸58.2g、メタクリル酸メチ
ル114g、アクリル酸エチル50.8g、アクリル酸
−2−エチルヘキシル47g及びアゾビスイソブチロニ
トリル2.1gを混合した液を、2.5時間かけてフラ
スコ内に滴下し、その後90℃で撹拌しながら3時間保
温した。3時間後にアゾビスイソブチロニトリル1.0
gをメチルセロソルブ30gに溶解した液を10分かけ
てフラスコ内に滴下し、その後再び90℃で撹拌しなが
ら4時間保温した。
【0037】このようにして得られたグラフトポリマー
(a−3)の重量平均分子量は95,000、酸価は1
24であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分は
36.1重量%であった。
【0038】ランダムポリマーの合成1 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコを用い
て、メチルメタクリレートのポリマーの片末端がメタク
リロイル基であるマクロモノマー30gを用いる替り
に、メタクリル酸メチルの使用量を150gから180
gに増量した以外はグラフトポリマーの合成例1と同様
な条件及び方法でランダムポリマー(x−1)を合成し
た。得られたランダムポリマー(x−1)の重量平均分
子量は92,000、酸価は108であった。また、ラ
ンダムポリマー溶液の固形分は36.1重量%であっ
た。
【0039】ランダムポリマーの合成2 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコを用い
て、n−ブチルアクリレートのポリマーの片末端がメタ
クリロイル基であるマクロモノマー60gを用いる替り
に、アクリル酸−n−ブチルの使用量を50gから11
0gに増量した以外はグラフトポリマーの合成例2と同
様な条件及び方法でランダムポリマー(x−2)を合成
した。得られたランダムポリマー(x−2)の重量平均
分子量は119,000、酸価は116であった。ま
た、ランダムポリマー溶液の固形分は35.8重量%で
あった。
【0040】ランダムポリマーの合成3 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコ内に、溶
剤と共に2−エチルヘキシルアクリレートのポリマーの
片末端がメタクリロイル基であるマクロモノマー30g
を用いる替りに、アクリル酸−2−エチルヘキシルを3
0g加える以外は、グラフトポリマーの合成例3と同様
な条件及び方法でランダムポリマー(x−3)を合成し
た。得られたランダムポリマー(x−3)の重量平均分
子量は96,000、酸価は123であった。また、ラ
ンダムポリマー溶液の固形分は36.0重量%であっ
た。
【0041】実施例1〜6及び比較例1〜3 表1に示す配合(単位は重量部)で感光性樹脂組成物溶
液を調製し、各々の溶液を23μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルム(東レ(株)製、ルミラー)に乾燥
後の膜厚が35μmとなるように塗工し、乾燥後、厚さ
35μmのポリエチレンフィルムで被覆して感光性エレ
メントを得た。得られた各感光性エレメントを、試験基
板の上にラミネートした。ラミネート条件は、基板温度
25℃、ラミネート温度110℃、ラミネート圧力(ラ
ミネーターのエアシリンダー圧力)3.5kgf/cm2、ラ
ミネート速度1.5m/minの条件で行った。
【0042】
【表1】
【0043】(1)感光特性 試験基板にガラスエポキシ銅張積層板(日立化成工業
(株)製、MCL−E−61)を用い、この基板に実施
例1〜6及び比較例1〜3の感光性樹脂組成物の膜を上
記の方法で形成した。この膜に、ネガマスクを介して3
kWの超高圧水銀灯により、60mJ/cm2の光量で画像
状に露光した後、ポリエチレンテレフタレートフィルム
を剥離し、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像を行
い、40μmのレジストパターンを得た。各感光性樹脂
組成物の光感度とレジスト形状の評価結果を表2に示し
た。
【0044】(2)テンティング膜の強度 試験基板として、直径6mmの銅めっきされたスルーホー
ルを1000穴有する基板を用い、この基板に実施例1
〜6及び比較例1〜3の感光性樹脂組成物の膜を上記の
方法で形成した。この膜全面に、3kWの超高圧水銀灯
で、各樹脂組成物のST(ステップタブレット)段数が
それぞれ8段となるように、露光量を調節して露光を行
った。その後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを
剥離し、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像を行っ
た。スルーホール上のテンティング膜の破壊状態を目視
で観察し、破壊した膜の比率を調べ、結果を表2に示し
た。
【0045】(3)基板の凹凸追従性 試験基板として、ガラスエポキシ銅張積層板の表面に、
幅100μm、深さ8μmの溝を100μm間隔で10
本形成した基板を用い、この基板に実施例1〜6及び比
較例1〜3の感光性エレメントを、溝と垂直の方向にラ
ミネートして、感光性樹脂組成物の膜を形成した。溝の
断面を走査型電子顕微鏡で観察することにより、基板表
面の溝に対する感光性樹脂組成物の埋まり具合を評価
し、結果を表2に示した。
【0046】
【表2】
【0047】グラフトポリマー(a−1)とランダムポ
リマー(x−1)とは、ポリマーを構成するモノマーの
組成比率は同等であるが、メタクリル酸メチルの一部が
グラフト化されているという点に、グラフトポリマー
(a−1)の特徴がある。グラフトポリマー(a−2)
とランダムポリマー(x−2)との関係も、また、グラ
フトポリマー(a−3)とランダムポリマー(x−3)
との関係も同様で、それぞれ、アクリル酸−n−ブチ
ル、アクリル酸−2−エチルヘキシルの一部がグラフト
化されている点に特徴がある。このグラフトポリマーと
ランダムポリマーとの差異が、表2に示す各特性の違い
となって表われている。
【0048】光感度及びレジスト形状に代表される感光
特性は、すべて実施例1〜6の感光性樹脂組成物の方
が、比較例1〜3の感光性樹脂組成物を上回っている。
【0049】また、比較例1の感光性樹脂組成物は、比
較例2及び3の感光性樹脂組成物と比べて、ランダムポ
リマー中のメタクリル酸メチルの共重合量が多いため、
テンティング膜の強度が強く、現像後の膜の破壊率は少
ないが、流動性に欠けるため基板の溝への追従性が悪い
という問題を有している。その反対に、比較例2及び3
の感光性樹脂組成物は、それぞれアクリル酸−n−ブチ
ル、アクリル酸−2−エチルヘキシルといったポリマー
のガラス転移温度を下げるモノマーを比較的多く共重合
しているため、基板の溝への追従性は良好であるが、テ
ンティング膜の強度が低く、現像後の膜の破壊率は90
%以上と、大半が破壊されていることを示している。
【0050】これに対して、本発明になるグラフトポリ
マーを用いた実施例1〜6の感光性樹脂組成物は、テン
ティング膜の強度が強く、現像後でも膜は全く破壊され
ず、それでいて加熱下でのラミネート時には流動性があ
り、基板上の溝を十分に埋めこむことを示している。こ
のように本発明になる感光性樹樹脂組成物は、通常では
相反する特性を両立させるという特徴を有している。
【0051】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性エレメントは感光特性が良好で、テンティン
グ膜の強度が高く、また、基板の凹凸に対する追従性が
良好である。これにより、良好なレジストパターンを製
造することができ、高密度、高精度なプリント配線板の
製造が可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/30 7124−2H H05K 3/00 F 6921−4E

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)アクリル酸及び/又はメタクリル
    酸と、アルキルアクリレート又はアルキルメタクリレー
    トのポリマーの片末端に一つの重合性不飽和基を有する
    マクロモノマーとを必須成分として共重合した酸価20
    〜300のグラフトポリマー、(b)光重合性不飽和基
    を分子内に2個以上有するモノマー並びに(c)光開始
    剤を含有してなる感光性樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 (a)成分のグラフトポリマーに用いる
    マクロモノマーが、メチルメタクリレート、n−ブチル
    アクリレート又は2−エチルヘキシルアクリレートのポ
    リマーの片末端に重合性不飽和基を一つ有するマクロモ
    ノマーから選ばれた一つである請求項1記載の感光性樹
    脂組成物。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の感光性樹脂組成物
    の層及び支持体フィルムを有する感光性エレメント。
  4. 【請求項4】 さらに、はく離可能なカバーフィルムを
    感光性樹脂組成物の層上に積層してなる請求項3記載の
    感光性エレメント。
  5. 【請求項5】 請求項1又は2記載の感光性樹脂組成物
    を基板上に膜として形成し、活性光線を画像状に照射
    し、露光部を光硬化させ、未露光部を現像により除去す
    ることを特徴とするレジストパターンの製造法。
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