JPH0728239A - 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法 - Google Patents

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法

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JPH0728239A
JPH0728239A JP17195893A JP17195893A JPH0728239A JP H0728239 A JPH0728239 A JP H0728239A JP 17195893 A JP17195893 A JP 17195893A JP 17195893 A JP17195893 A JP 17195893A JP H0728239 A JPH0728239 A JP H0728239A
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photosensitive resin
resin composition
film
photosensitive
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JP17195893A
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Shigeo Tachiki
繁雄 立木
Masaru Sawabe
賢 沢辺
Mitsuyoshi Nakamura
三佳 中村
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Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 金属に対する密着性とテンティング膜の強度
の共に向上した感光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 (a)アクリル酸及び/又はメタクリル酸
と、ポリスチレン又はポリスチレン共重合体の片末端に
一つの重合性不飽和基を有するマクロモノマーとを必須
成分として共重合した酸価20〜300のグラフトポリ
マー、(b)光重合性不飽和基を分子内に2個以上有す
るモノマー及び(c)光開始剤を含有してなる感光性樹
脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパ
ターンの製造法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線板等に用
いられる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメ
ント及びレジストパターンの製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板を製造するに際しては、
まず基板上に通常、光硬化性の感光性樹脂組成物の膜を
形成し、ついで活性光線を画像状に照射し、未露光部を
現像除去し、レジストパターンを形成している。この工
程において、感光性樹脂組成物の膜の形成には、種々の
方法が採用されている。例えば、ディップコート、ロー
ルコート、カーテンコート等の方法で、感光性樹脂組成
物溶液(塗液)を直接基板に塗布し、溶剤を乾燥して得
る方法、支持体上に、感光性樹脂組成物を積層した感光
性エレメント(感光性フィルム)を基板に積層する方
法、更には、感光性樹脂組成物を水に分散した浴の中
に、基板を浸漬し、電着塗装という方法を用いて膜を形
成する方法などが知られている。
【0003】これらの方法のうち、感光性フィルムを積
層する方法は、簡便に均一な厚みの感光性樹脂組成物の
膜が形成できることから、現在主流の方法として採用さ
れている。
【0004】レジストパターンを形成した後、テンティ
ング法の場合には、エッチング、レジスト剥離工程を経
てプリント配線板とし、また、めっき法の場合には、は
んだめっき、レジスト剥離、エッチング工程を経てプリ
ント配線板を得ている。
【0005】したがって、感光性樹脂組成物に要求され
る特性は、光感度などの感光特性が良好であることはも
ちろん、金属に対する密着性、基板表面の凹凸への追従
性、エッチング液やめっき液等の薬品に対する耐薬品
性、レジスト剥離性、更にはテンティング法の場合に
は、テンティング膜の強度などさまざまである。
【0006】中でも、金属に対する密着性とテンティン
グ膜の強度は重要な特性である。しかるにこの二つの特
性は、従来の材料技術では両立が難しく、どちらかの特
性を上げるともう一方の特性は低下するという問題があ
った。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術の
問題点を解消し、金属に対する密着性とテンティング膜
の強度の両立はもとより、感光特性も良好な感光性樹脂
組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパ
ターンの製造法を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、特殊なマクロ
モノマーを共重合したグラフトポリマーを用いることに
よって、上記の問題点を解決したものである。
【0009】すなわち、本発明は、(a)アクリル酸及
び/又はメタクリル酸と、ポリスチレン又はポリスチレ
ン共重合体の片末端に一つの重合性不飽和基を有するマ
クロモノマーを必須成分として共重合した酸価20〜3
00のグラフトポリマー、(b)光重合性不飽和基を分
子内に2個以上有するモノマー及び(c)光開始剤を含
有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレ
メント及びレジストパターンの製造法に関する。
【0010】以下、本発明について詳述する。(a)成
分であるポリマーは、アクリル酸及び/又はメタクリル
酸と、ポリスチレン又はポリスチレン共重合体の片末端
に一つの重合性不飽和基を有するマクロモノマーとを必
須成分として共重合した酸価20〜300のグラフトポ
リマーである。
【0011】アクリル酸及びメタクリル酸は単独で用い
てもよく、併用してもよい。その使用量は、中和前のポ
リマーの酸価が20〜300の範囲となるように適宜使
用される。ポリマーの酸価が20未満では、感光性樹脂
組成物のアルカリの水溶液による現像性が低下し、ま
た、酸価が300を越えると、光硬化後のレジストの耐
現像液性が低下する。
【0012】一方、ポリスチレン又はポリスチレン共重
合体の片末端に一つの重合性不飽和基を有するマクロモ
ノマーとは、例えば、スチレンのホモポリマー又はスチ
レンにエチルアクリレート、n−ブチルアクリレート、
t−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
n−プロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレー
ト、アクリロニトリル等の重合性モノマーを共重合モノ
マーの総量100重量部に対して60重量部以下で共重
合したポリスチレン共重合体などのポリマーの片末端
に、アクリロイル基、メタクリロイル基等の重合性不飽
和基を一つ有するポリマーである。マクロモノマーは単
独で又は二種類以上を組み合わせて用いられる。
【0013】本発明に用いるマクロモノマーの数平均分
子量は、1,500〜200,000の範囲が好まし
く、3,000〜50,000の範囲がより好ましい。
マクロモノマーの数平均分子量が1,500未満ではマ
クロモノマーを用いてグラフトポリマーとした効果が不
充分となる傾向があり、一方、分子量が200,000
を越えると共重合性が低下する傾向がある。
【0014】また、マクロモノマーの使用量は、グラフ
トポリマーを構成する共重合モノマーの総量100重量
部に対して、2〜50重量部とすることが好ましく、5
〜25重量部とすることがより好ましい。マクロモノマ
ーの使用量が2重量部未満では、マクロモノマーを用い
てグラフトポリマーとした効果が不充分となる傾向があ
り、一方、50重量部を越えると均一なグラフトポリマ
ーが得られにくくなる傾向がある。このようなマクロモ
ノマーは、特開昭61−200549号公報等の記載に
準じて容易に製造することができる。また、東亞合成化
学工業(株)等からAS−6、AN−6(以上商品名)
等として商業的に入手可能である。
【0015】(a)成分のグラフトポリマーは、前記の
アクリル酸及び/又はメタクリル酸とマクロモノマーを
必須成分とし、必要に応じて、メタクリル酸メチル、メ
タクリル酸エチル、メタクリル酸−n−プロピル、メタ
クリル酸−n−ブチル、メタクリル酸−2−エチルヘキ
シル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸−n−プロピル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル
酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ヒドロ
キシエチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリロ
ニトリル、スチレン等の重合性モノマーを一種類以上用
い、共重合することにより得られる。
【0016】グラフトポリマーの合成は、前記のモノマ
ーを有機溶剤中でアゾビスイソブチロニトリル、アゾビ
スジメチルバレロニトリル、過酸化ベンゾイル等の重合
開始剤を用いて一般的な溶液重合により得ることができ
る。この場合、用いる有機溶剤は、トルエン、p−キシ
レン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノアセテート等が挙げられる。ただ
し、電着法で感光性樹脂組成物の膜を形成する場合に
は、有機溶剤には親水性有機溶剤を用いることが好まし
い。
【0017】(a)成分のグラフトポリマーの重量平均
分子量(標準ポリスチレン換算)は、10,000〜4
00,000とすることが好ましい。重量平均分子量が
10,000未満では、レジストの機械的強度が弱くな
る傾向があり、一方、400,000を越えると、感光
性樹脂組成物の現像性が低下する傾向がある。
【0018】(a)成分のグラフトポリマーの使用量
は、(a)成分及び(b)成分の総量100重量部に対
して、50〜85重量部であることが好ましく、60〜
75重量部であることがより好ましい。使用量が50重
量部未満では、レジストの機械的強度が弱くなる傾向が
あり、一方、85重量部を越えると、(b)成分である
光重合性モノマーの割合が減って、光に対する感度が低
下する傾向がある。
【0019】(b)成分の光重合性不飽和基を分子内に
2個以上有するモノマーとしては、多価アルコールに
α,β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、
例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テ
トラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テト
ラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等、グ
リシジル基含有化合物にα,β−不飽和カルボン酸を付
加して得られる化合物、例えば、トリメチロールプロパ
ントリグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェ
ノールAグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート
等、多価カルボン酸、例えば、無水フタル酸等と水酸基
及びエチレン性不飽和基を有する化合物、例えばβ−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート等のエステル化合
物等が用いられ、更にはウレタン骨格をもったウレタン
ジアクリレート化合物等も用いることができ、いずれに
しても、光照射により硬化するものであればよい。
【0020】(b)成分のモノマーの使用量は、(a)
成分及び(b)成分の総量100重量部に対して、15
〜50重量部であることが好ましく、25〜40重量部
であることがより好ましい。使用量が15重量部未満で
は光に対する感度が低下する傾向があり、一方、50重
量部を越えるとレジストの機械的強度が弱くなる傾向が
ある。
【0021】(c)成分の光開始剤としては、従来から
通常使用されている光開始剤が特に制限なく使用でき
る。具体的には、ベンゾフェノン、N,N′−テトラメ
チル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキ
シ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−エチル
アントラキノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケト
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾ
イン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−
4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量
体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フェニ
ルイミダゾール二量体などが挙げられる。これらは単独
で又は二種類以上を組み合わせて用いられる。
【0022】(c)成分の光開始剤の使用量は、(a)
成分及び(b)成分の総量100重量部に対し、0.1
〜20重量部であることが好ましく、0.2〜10重量
部であることがより好ましい。使用量が0.1重量部未
満では感光性樹脂組成物の光感度が低くなる傾向があ
り、一方、20重量部を越えると露光の際、感光性樹脂
組成物の表面での光吸収が増加して、内部の光硬化が不
充分となる傾向がある。
【0023】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じて、(a)成分のグラフトポリマー以外の通常のアク
リル樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性の樹脂
を使用することができる。その使用量は、(a)成分及
び(b)成分の総量100重量部に対し、40重量部以
下とすることが好ましい。使用量が40重量部を越える
と(a)成分との相溶性や感光性樹脂組成物の光に対す
る感度が低下する傾向がある。
【0024】本発明の感光性樹脂組成物には、他の成
分、例えば、染料、顔料、フィラー、可塑剤、熱硬化
剤、難燃剤、重合禁止剤、密着性向上剤などを必要に応
じて適宜使用することができる。
【0025】次に、本発明の感光性樹脂組成物を含む膜
の形成法について述べる。基板の上に膜を形成する方法
としては特に制限はなく、例えば、既述した本発明の感
光性樹組成物を、アセトン、メチルエチルケトン、トル
エン、塩化メチレン、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル等の有機溶剤に溶解
し、この溶液をディップコート、ロールコート、カーテ
ンコート、スプレーコート、スピンコート等の方法で基
板に直接塗布し、その後、有機溶剤を乾燥して感光性樹
脂組成物の膜を形成できる。
【0026】また、本発明の感光性樹脂組成物に含まれ
る(a)成分のグラフトポリマー中のカルボキシル基を
トリエチルアミン、ジエチルアミン、トリエタノールア
ミン等の塩基で中和した後、感光性樹脂組成物を水に溶
解もしくは分散させ電着浴とし、この電着浴中に、導電
性の基板を陽極として浸漬し、対極との間に直流電圧を
印加して電着塗装する方法によっても感光性樹脂組成物
の膜を形成できる。
【0027】膜を形成する好ましい方法としては、いっ
たん、支持体フィルム上に前記感光性樹脂組成物の層を
形成した感光性エレメントとし、これを基板上にラミネ
ートすることにより基板上に膜を得る方法である。支持
フィルム上に感光性樹脂組成物の層を形成する方法とし
ては、例えば、感光性樹脂組成物を上述した有機溶剤に
溶解し、この溶液を支持体フィルム上にナイフコート、
ロールコート、スプレーコート、スピンコート等の方法
で塗布し、乾燥することにより行われる。感光性樹脂組
成物を含む層中の残存溶剤量は、特性保持等の観点から
2重量%以下に抑えることが好ましい。
【0028】本発明に用いられる支持体フィルムは、感
光性エレメントの製造時に必要な耐熱性、耐溶剤性を有
していることが好ましいが、テフロンフィルム、離型紙
等の離型性フィルムを一時的な支持体フィルムとし、こ
の上に感光性樹脂組成物の層を形成した後、この層の上
に耐熱性あるいは耐溶剤性の低いフィルムをラミネート
し、前記した一時的な支持体フィルムを剥離して耐熱性
あるいは耐溶剤性の低い支持体フィルムを有する感光性
エレメントを製造することもできる。また、支持体フィ
ルムは、活性光に対して透明であっても不透明であって
もよい。使用しうる支持体フィルムの例として、ポリエ
ステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミ
ドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフ
ィルム等、公知のフィルムを挙げることができる。
【0029】長尺の感光性エレメントを製造する場合に
は、製造の最終段階で感光性エレメントをロール状に巻
き取る。この場合、感圧性粘着テープ等で公知の方法を
用い、背面処理した支持体フィルムを用いることによ
り、ロール状に巻き取ったときの感光性樹脂組成物の層
の支持体フィルム背面への転着を防ぐことができる。同
じ目的、さらに塵の付着を防ぐ目的で、該エレメントの
感光性樹脂組成物の層の上に剥離可能なカバーフィルム
を積層することが好ましい。
【0030】剥離可能なカバーフィルムとしては、例え
ば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、
テフロンフィルム、表面処理した紙等があり、カバーフ
ィルムを剥離するときに感光性樹脂組成物の層と支持体
フィルムとの接着力よりも感光性樹脂組成物の層とカバ
ーフィルムとの接着力がより小さいものであればよい。
【0031】以上に示した方法等で基板上に形成した感
光性樹脂組成物の膜の厚みは、通常5〜100μmとさ
れる。
【0032】次に本発明のレジストパターンの製造法に
ついて説明する。上述した方法等で基板上に形成した感
光性樹脂組成物の膜に、活性光線を画像状に照射し、露
光部の感光性樹脂組成物を光硬化させる。この際、感光
性エレメントの支持体フィルムが活性光に不透明である
場合には、支持体フィルムを剥離した後、露光する必要
がある。支持体フィルムが活性光に対して透明であれ
ば、露光時に支持体フィルムを剥離する必要はない。
【0033】なお、活性光線の光源としては、波長30
0〜450nmの光線を発するもの、例えば、水銀蒸気ア
ーク、カーボンアーク、キセノンアーク等が好ましく用
いられる。また、露光前後の50〜100℃での加熱処
理は、基板と感光性樹脂膜との密着性を向上するために
好ましい。
【0034】続いて現像工程、すなわち、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリの
水溶液を吹きつけるか、アルカリの水溶液に浸漬するな
どして未露光部を除去し、前記画像に対応した硬化膜を
基板表面に有するレジストパターンを作製する。この
際、支持体フィルムを付けたまま露光した場合には、支
持体フィルムを剥離した後、現像を行う。レジストパタ
ーンの形成後、前記の活性光線を再度照射すると、特
に、めっきレジストとして用いる場合には、耐薬品性が
向上して好ましい。
【0035】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明する。
【0036】グラフトポリマーの合成例1 撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロート及び窒素ガス
導入管を備えたフラスコに、メチルセロソルブ/トルエ
ン=2:3(重量比)の混合溶剤500gを加え、撹拌
し、窒素ガスを吹き込みながら90℃に加温した。温度
が85℃になったところで、メタクリル酸50.7g、
スチレン100g、メタクリル酸メチル40g、アクリ
ル酸エチル79.3g、スチレンのホモポリマーの片末
端がメタクリロイル基であるマクロモノマー(東亞合成
化学工業(株)製、商品名AS−6)30g及びアゾビ
スイソブチロニトリル2.7gを混合した液を2.5時
間かけてフラスコ内に滴下し、その後90℃で撹拌しな
がら3時間保温した。3時間後にアゾビスイソブチロニ
トリル1.2gをメチルセロソルブ30gに溶解した液
を10分かけてフラスコ内に滴下し、その後再び85℃
で撹拌しながら4時間保温した。
【0037】このようにして得られたグラフトポリマー
(a−1)の重量平均分子量は71,000、酸価は1
09であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分は
36.0重量%であった。
【0038】グラフトポリマーの合成例2 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコに、メチ
ルセロソルブ/トルエン=2:3(重量比)の混合溶剤
500gを加え、撹拌し、窒素ガスを吹きこみながら8
5℃に加温した。温度が85℃になったところで、メタ
クリル酸55.1g、スチレン60g、メタクリル酸−
n−ブチル32.9g、アクリル酸−n−ブチル92
g、スチレンのホモポリマーの片末端がメタクリロイル
基であるマクロモノマー(東亞合成化学工業(株)製、
商品名AS−6)60g及びアゾビスイソブチロニトリ
ル1.7gを混合した液を、2.5時間かけてフラスコ
内に滴下し、その後85℃で撹拌しながら3時間保温し
た。3時間後にアゾビスイソブチロニトリル0.6gを
メチルセロソルブ30gに溶解した液を10分かけてフ
ラスコ内に滴下し、その後再び85℃で撹拌しながら4
時間保温した。
【0039】このようにして得られたグラフトポリマー
(a−2)の重量平均分子量は119,000、酸価は
116であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分
は35.8重量%であった。
【0040】グラフトポリマーの合成例3 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコに、メチ
ルセロソルブ/トルエン=2:3(重量比)の混合溶剤
500g及びスチレンとアクリロニトリルの共重合体の
片末端がメタクリロイル基であるマクロモノマー(東亞
合成化学工業(株)製、商品名AN−6)30gを加
え、撹拌し、窒素ガスを吹きこみながら90℃に加温し
た。温度が90℃になったところで、メタクリル酸5
8.2g、メタクリル酸メチル70g、アクリル酸エチ
ル50.8g、アクリル酸−2−エチルヘキシル91g
及びアゾビスイソブチロニトリル2.4gを混合した液
を、2.5時間かけてフラスコ内に滴下し、その後90
℃で撹拌しながら3時間保温した。3時間後にアゾビス
イソブチロニトリル1.2gをメチルセロソルブ30g
に溶解した液を10分かけてフラスコ内に滴下し、その
後再び90℃で撹拌しながら4時間保温した。
【0041】このようにして得られたグラフトポリマー
(a−3)の重量平均分子量は91,000、酸価は1
23であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分は
36.1重量%であった。
【0042】ランダムポリマーの合成1 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコを用い
て、スチレンのホモポリマーの片末端がメタクリロイル
基であるマクロモノマー30gを用いる替りに、スチレ
ンの使用量を100gから130gに増量した以外はグ
ラフトポリマーの合成例1と同様な条件及び方法でラン
ダムポリマー(x−1)を合成した。得られたランダム
ポリマー(x−1)の重量平均分子量は73,000、
酸価は108であった。また、ランダムポリマー溶液の
固形分は36.1重量%であった。
【0043】ランダムポリマーの合成2 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコを用い
て、スチレンのホモポリマーの片末端がメタクリロイル
基であるマクロモノマー60gを用いる替りに、スチレ
ンの使用量を60gから120gに増量した以外はグラ
フトポリマーの合成例2と同様な条件及び方法でランダ
ムポリマー(x−2)を合成した。得られたランダムポ
リマー(x−2)の重量平均分子量は119,000、
酸価は116であった。また、ランダムポリマー溶液の
固形分は35.8重量%であった。
【0044】ランダムポリマーの合成3 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコ内に、溶
剤と共にスチレンとアクリロニトリルの共重合体の片末
端がメタクリロイル基であるマクロモノマー30gを用
いる替りに、スチレンを30g加える以外は、グラフト
ポリマーの合成例3と同様な条件及び方法でランダムポ
リマー(x−3)を合成した。得られたランダムポリマ
ー(x−3)の重量平均分子量は94,000、酸価は
124であった。また、ランダムポリマー溶液の固形分
は36.0重量%であった。
【0045】実施例1〜6及び比較例1〜3 表1に示す配合(単位は重量部)で感光性樹脂組成物溶
液を調製し、各々の溶液を23μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルム(東レ(株)製、ルミラー)に乾燥
後の膜厚が35μmとなるように塗工し、乾燥後、厚さ
35μmのポリエチレンフィルムで被覆して感光性エレ
メントを得た。得られた各感光性エレメントを、試験基
板の上にラミネートした。ラミネート条件は、基板温度
25℃、ラミネート温度110℃、ラミネート圧力(ラ
ミネーターのエアシリンダー圧力)3.5kgf/cm2、ラ
ミネート速度1.5m/minの条件で行った。
【0046】
【表1】
【0047】(1)感光特性 試験基板にガラスエポキシ銅張積層板(日立化成工業
(株)製、MCL−E−61)を用い、この基板に実施
例1〜6及び比較例1〜3の感光性樹脂組成物の膜を上
記の方法で形成した。この膜に、ネガマスクを介して3
kWの超高圧水銀灯により、60mJ/cm2の光量で画像状に
露光した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥
離し、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像を行い、
40μmのレジストパターンを得た。各感光性樹脂組成
物の光感度とレジスト形状の評価結果を表2に示した。
【0048】(2)テンティング膜の強度 試験基板として、直径6mmの銅めっきされたスルーホー
ルを1000穴有する基板を用い、この基板に実施例1
〜6及び比較例1〜3の感光性樹脂組成物の膜を上記の
方法で形成した。この膜全面に、3kWの超高圧水銀灯
で、各樹脂組成物のST(ステップタブレット)段数が
それぞれ8段となるように、露光量を調節して露光を行
った。その後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを
剥離し、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像を行っ
た。スルーホール上のテンティング膜の破壊状態を目視
で観察し、破壊した膜の比率を調べ、結果を表2に示し
た。
【0049】(3)銅に対する密着性 試験基板として、ガラスエポキシ銅張積層板の表面に、
実施例1〜6及び比較例1〜3の感光性エレメントをラ
ミネートして、感光性樹脂組成物の膜を形成した。この
膜全面に、3kWの超高圧水銀灯で、各樹脂組成物のST
段数がそれぞれ8段となるように、露光量を調節して露
光を行った。その後、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥離後、JIS−K5400の方法でクロスカッ
ト性を評価し、結果を表2に示した。
【0050】
【表2】
【0051】グラフトポリマー(a−1)とランダムポ
リマー(x−1)とは、ポリマーを構成するモノマーの
組成比率は同等であるが、スチレンの一部がグラフト化
されているという点に、グラフトポリマー(a−1)の
特徴がある。グラフトポリマー(a−2)とランダムポ
リマー(x−2)との関係も、また、グラフトポリマー
(a−3)とランダムポリマー(x−3)との関係も同
様で、それぞれ、スチレン、スチレンとアクリロニトリ
ルがグラフト化されている点に特徴がある。このグラフ
トポリマーとランダムポリマーとの差異が、表2に示す
各特性の違いとなって表われている。
【0052】光感度及びレジスト形状に代表される感光
特性は、すべて実施例1〜6の感光性樹脂組成物の方
が、比較例1〜3の感光性樹脂組成物を上回っている。
【0053】また、比較例1の感光性樹脂組成物は、比
較例2及び3の感光性樹脂組成物と比べて、ランダムポ
リマー中のスチレンの共重合量が多いため、テンティン
グ膜の強度が強く、現像後の膜の破壊率は少ないが、銅
に対する密着性が悪いという問題を有している。その反
対に、比較例2及び3の感光性樹脂組成物は、それぞれ
アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキ
シルといったポリマーのガラス転移温度を下げるモノマ
ーを比較的多く共重合しているため、銅に対する密着性
は向上するが、テンティング膜の強度が低く、現像後の
膜の破壊率は85%以上と、大半が破壊されていること
を示している。
【0054】これに対して、本発明になるグラフトポリ
マーを用いた実施例1〜6の感光性樹脂組成物は、テン
ティング膜の強度が強く、現像後でも膜は全く破壊され
ず、それでいて銅に対する密着性も十分に高いことを示
している。このように本発明になる感光性樹脂組成物
は、通常では相反する特性を両立させるという特長を有
している。
【0055】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性エレメントは感光特性が良好で、テンティン
グ膜の強度が高く、また、基板の金属に対する密着性が
良好である。これにより、良好なレジストパターンを製
造することができ、高密度、高精度なプリント配線板の
製造が可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/30 7124−2H H05K 3/00 F 6921−4E

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)アクリル酸及び/又はメタクリル
    酸と、ポリスチレン又はポリスチレン共重合体の片末端
    に一つの重合性不飽和基を有するマクロモノマーとを必
    須成分として共重合した酸価20〜300のグラフトポ
    リマー、(b)光重合性不飽和基を分子内に2個以上有
    するモノマー及び(c)光開始剤を含有してなる感光性
    樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の感光性樹脂組成物の層と
    支持体フィルムを有する感光性エレメント。
  3. 【請求項3】 はく離可能なカバーフィルムを感光性樹
    脂組成物の層上に積層してなる請求項2記載の感光性エ
    レメント。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の感光性樹脂組成物を基板
    上に膜として形成し、活性光線を画像状に照射し、露光
    部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを
    特徴とするレジストパターンの製造法。
JP17195893A 1993-07-13 1993-07-13 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法 Pending JPH0728239A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002293833A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Takashi Sawaguchi (メタ)アクリル酸オリゴスチレン・エステルと(メタ)アクリル酸メチルとの共重合体及びその製造方法
JP2010524042A (ja) * 2007-04-11 2010-07-15 エルジー・ケム・リミテッド マクロモノマーを用いて製造した高分子をアルカリ可溶性樹脂として含む感光性樹脂組成物
JP2013037038A (ja) * 2011-08-03 2013-02-21 Asahi Kasei E-Materials Corp 光重合性樹脂組成物、光重合性樹脂積層体、レジストパターンの形成方法、並びに回路基板、リードフレーム及び半導体パッケージの製造方法

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