JPH0728239A - 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法 - Google Patents
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法Info
- Publication number
- JPH0728239A JPH0728239A JP17195893A JP17195893A JPH0728239A JP H0728239 A JPH0728239 A JP H0728239A JP 17195893 A JP17195893 A JP 17195893A JP 17195893 A JP17195893 A JP 17195893A JP H0728239 A JPH0728239 A JP H0728239A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- resin composition
- film
- photosensitive
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 54
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 37
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims abstract description 13
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 69
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 23
- 239000013039 cover film Substances 0.000 claims description 5
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 5
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 25
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 15
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 14
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 5
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007934 α,β-unsaturated carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethylphenyl)-2-hydroxy-2-phenylethanone Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 LMGYOBQJBQAZKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDKSQNHUHMMKPP-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(4-methoxyphenyl)-4-phenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC(OC)=CC=2)N1 MDKSQNHUHMMKPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class ClC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(2-methylphenyl)-2-phenylethanone Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 VZMLJEYQUZKERO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBSIRLKTSZSLSD-UHFFFAOYSA-N 4,5-bis(3-methoxyphenyl)-1H-imidazole Chemical class COC=1C=C(C=CC=1)C=1N=CNC=1C1=CC(=CC=C1)OC BBSIRLKTSZSLSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 DGUJJOYLOCXENZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARNIZPSLPHFDED-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-(4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ARNIZPSLPHFDED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N butyronitrile Chemical compound CCCC#N KVNRLNFWIYMESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属に対する密着性とテンティング膜の強度
の共に向上した感光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 (a)アクリル酸及び/又はメタクリル酸
と、ポリスチレン又はポリスチレン共重合体の片末端に
一つの重合性不飽和基を有するマクロモノマーとを必須
成分として共重合した酸価20〜300のグラフトポリ
マー、(b)光重合性不飽和基を分子内に2個以上有す
るモノマー及び(c)光開始剤を含有してなる感光性樹
脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパ
ターンの製造法。
の共に向上した感光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 (a)アクリル酸及び/又はメタクリル酸
と、ポリスチレン又はポリスチレン共重合体の片末端に
一つの重合性不飽和基を有するマクロモノマーとを必須
成分として共重合した酸価20〜300のグラフトポリ
マー、(b)光重合性不飽和基を分子内に2個以上有す
るモノマー及び(c)光開始剤を含有してなる感光性樹
脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパ
ターンの製造法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線板等に用
いられる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメ
ント及びレジストパターンの製造法に関する。
いられる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメ
ント及びレジストパターンの製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板を製造するに際しては、
まず基板上に通常、光硬化性の感光性樹脂組成物の膜を
形成し、ついで活性光線を画像状に照射し、未露光部を
現像除去し、レジストパターンを形成している。この工
程において、感光性樹脂組成物の膜の形成には、種々の
方法が採用されている。例えば、ディップコート、ロー
ルコート、カーテンコート等の方法で、感光性樹脂組成
物溶液(塗液)を直接基板に塗布し、溶剤を乾燥して得
る方法、支持体上に、感光性樹脂組成物を積層した感光
性エレメント(感光性フィルム)を基板に積層する方
法、更には、感光性樹脂組成物を水に分散した浴の中
に、基板を浸漬し、電着塗装という方法を用いて膜を形
成する方法などが知られている。
まず基板上に通常、光硬化性の感光性樹脂組成物の膜を
形成し、ついで活性光線を画像状に照射し、未露光部を
現像除去し、レジストパターンを形成している。この工
程において、感光性樹脂組成物の膜の形成には、種々の
方法が採用されている。例えば、ディップコート、ロー
ルコート、カーテンコート等の方法で、感光性樹脂組成
物溶液(塗液)を直接基板に塗布し、溶剤を乾燥して得
る方法、支持体上に、感光性樹脂組成物を積層した感光
性エレメント(感光性フィルム)を基板に積層する方
法、更には、感光性樹脂組成物を水に分散した浴の中
に、基板を浸漬し、電着塗装という方法を用いて膜を形
成する方法などが知られている。
【0003】これらの方法のうち、感光性フィルムを積
層する方法は、簡便に均一な厚みの感光性樹脂組成物の
膜が形成できることから、現在主流の方法として採用さ
れている。
層する方法は、簡便に均一な厚みの感光性樹脂組成物の
膜が形成できることから、現在主流の方法として採用さ
れている。
【0004】レジストパターンを形成した後、テンティ
ング法の場合には、エッチング、レジスト剥離工程を経
てプリント配線板とし、また、めっき法の場合には、は
んだめっき、レジスト剥離、エッチング工程を経てプリ
ント配線板を得ている。
ング法の場合には、エッチング、レジスト剥離工程を経
てプリント配線板とし、また、めっき法の場合には、は
んだめっき、レジスト剥離、エッチング工程を経てプリ
ント配線板を得ている。
【0005】したがって、感光性樹脂組成物に要求され
る特性は、光感度などの感光特性が良好であることはも
ちろん、金属に対する密着性、基板表面の凹凸への追従
性、エッチング液やめっき液等の薬品に対する耐薬品
性、レジスト剥離性、更にはテンティング法の場合に
は、テンティング膜の強度などさまざまである。
る特性は、光感度などの感光特性が良好であることはも
ちろん、金属に対する密着性、基板表面の凹凸への追従
性、エッチング液やめっき液等の薬品に対する耐薬品
性、レジスト剥離性、更にはテンティング法の場合に
は、テンティング膜の強度などさまざまである。
【0006】中でも、金属に対する密着性とテンティン
グ膜の強度は重要な特性である。しかるにこの二つの特
性は、従来の材料技術では両立が難しく、どちらかの特
性を上げるともう一方の特性は低下するという問題があ
った。
グ膜の強度は重要な特性である。しかるにこの二つの特
性は、従来の材料技術では両立が難しく、どちらかの特
性を上げるともう一方の特性は低下するという問題があ
った。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術の
問題点を解消し、金属に対する密着性とテンティング膜
の強度の両立はもとより、感光特性も良好な感光性樹脂
組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパ
ターンの製造法を提供するものである。
問題点を解消し、金属に対する密着性とテンティング膜
の強度の両立はもとより、感光特性も良好な感光性樹脂
組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパ
ターンの製造法を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、特殊なマクロ
モノマーを共重合したグラフトポリマーを用いることに
よって、上記の問題点を解決したものである。
モノマーを共重合したグラフトポリマーを用いることに
よって、上記の問題点を解決したものである。
【0009】すなわち、本発明は、(a)アクリル酸及
び/又はメタクリル酸と、ポリスチレン又はポリスチレ
ン共重合体の片末端に一つの重合性不飽和基を有するマ
クロモノマーを必須成分として共重合した酸価20〜3
00のグラフトポリマー、(b)光重合性不飽和基を分
子内に2個以上有するモノマー及び(c)光開始剤を含
有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレ
メント及びレジストパターンの製造法に関する。
び/又はメタクリル酸と、ポリスチレン又はポリスチレ
ン共重合体の片末端に一つの重合性不飽和基を有するマ
クロモノマーを必須成分として共重合した酸価20〜3
00のグラフトポリマー、(b)光重合性不飽和基を分
子内に2個以上有するモノマー及び(c)光開始剤を含
有してなる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレ
メント及びレジストパターンの製造法に関する。
【0010】以下、本発明について詳述する。(a)成
分であるポリマーは、アクリル酸及び/又はメタクリル
酸と、ポリスチレン又はポリスチレン共重合体の片末端
に一つの重合性不飽和基を有するマクロモノマーとを必
須成分として共重合した酸価20〜300のグラフトポ
リマーである。
分であるポリマーは、アクリル酸及び/又はメタクリル
酸と、ポリスチレン又はポリスチレン共重合体の片末端
に一つの重合性不飽和基を有するマクロモノマーとを必
須成分として共重合した酸価20〜300のグラフトポ
リマーである。
【0011】アクリル酸及びメタクリル酸は単独で用い
てもよく、併用してもよい。その使用量は、中和前のポ
リマーの酸価が20〜300の範囲となるように適宜使
用される。ポリマーの酸価が20未満では、感光性樹脂
組成物のアルカリの水溶液による現像性が低下し、ま
た、酸価が300を越えると、光硬化後のレジストの耐
現像液性が低下する。
てもよく、併用してもよい。その使用量は、中和前のポ
リマーの酸価が20〜300の範囲となるように適宜使
用される。ポリマーの酸価が20未満では、感光性樹脂
組成物のアルカリの水溶液による現像性が低下し、ま
た、酸価が300を越えると、光硬化後のレジストの耐
現像液性が低下する。
【0012】一方、ポリスチレン又はポリスチレン共重
合体の片末端に一つの重合性不飽和基を有するマクロモ
ノマーとは、例えば、スチレンのホモポリマー又はスチ
レンにエチルアクリレート、n−ブチルアクリレート、
t−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
n−プロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレー
ト、アクリロニトリル等の重合性モノマーを共重合モノ
マーの総量100重量部に対して60重量部以下で共重
合したポリスチレン共重合体などのポリマーの片末端
に、アクリロイル基、メタクリロイル基等の重合性不飽
和基を一つ有するポリマーである。マクロモノマーは単
独で又は二種類以上を組み合わせて用いられる。
合体の片末端に一つの重合性不飽和基を有するマクロモ
ノマーとは、例えば、スチレンのホモポリマー又はスチ
レンにエチルアクリレート、n−ブチルアクリレート、
t−ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレ
ート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
n−プロピルメタクリレート、n−ブチルメタクリレー
ト、アクリロニトリル等の重合性モノマーを共重合モノ
マーの総量100重量部に対して60重量部以下で共重
合したポリスチレン共重合体などのポリマーの片末端
に、アクリロイル基、メタクリロイル基等の重合性不飽
和基を一つ有するポリマーである。マクロモノマーは単
独で又は二種類以上を組み合わせて用いられる。
【0013】本発明に用いるマクロモノマーの数平均分
子量は、1,500〜200,000の範囲が好まし
く、3,000〜50,000の範囲がより好ましい。
マクロモノマーの数平均分子量が1,500未満ではマ
クロモノマーを用いてグラフトポリマーとした効果が不
充分となる傾向があり、一方、分子量が200,000
を越えると共重合性が低下する傾向がある。
子量は、1,500〜200,000の範囲が好まし
く、3,000〜50,000の範囲がより好ましい。
マクロモノマーの数平均分子量が1,500未満ではマ
クロモノマーを用いてグラフトポリマーとした効果が不
充分となる傾向があり、一方、分子量が200,000
を越えると共重合性が低下する傾向がある。
【0014】また、マクロモノマーの使用量は、グラフ
トポリマーを構成する共重合モノマーの総量100重量
部に対して、2〜50重量部とすることが好ましく、5
〜25重量部とすることがより好ましい。マクロモノマ
ーの使用量が2重量部未満では、マクロモノマーを用い
てグラフトポリマーとした効果が不充分となる傾向があ
り、一方、50重量部を越えると均一なグラフトポリマ
ーが得られにくくなる傾向がある。このようなマクロモ
ノマーは、特開昭61−200549号公報等の記載に
準じて容易に製造することができる。また、東亞合成化
学工業(株)等からAS−6、AN−6(以上商品名)
等として商業的に入手可能である。
トポリマーを構成する共重合モノマーの総量100重量
部に対して、2〜50重量部とすることが好ましく、5
〜25重量部とすることがより好ましい。マクロモノマ
ーの使用量が2重量部未満では、マクロモノマーを用い
てグラフトポリマーとした効果が不充分となる傾向があ
り、一方、50重量部を越えると均一なグラフトポリマ
ーが得られにくくなる傾向がある。このようなマクロモ
ノマーは、特開昭61−200549号公報等の記載に
準じて容易に製造することができる。また、東亞合成化
学工業(株)等からAS−6、AN−6(以上商品名)
等として商業的に入手可能である。
【0015】(a)成分のグラフトポリマーは、前記の
アクリル酸及び/又はメタクリル酸とマクロモノマーを
必須成分とし、必要に応じて、メタクリル酸メチル、メ
タクリル酸エチル、メタクリル酸−n−プロピル、メタ
クリル酸−n−ブチル、メタクリル酸−2−エチルヘキ
シル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸−n−プロピル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル
酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ヒドロ
キシエチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリロ
ニトリル、スチレン等の重合性モノマーを一種類以上用
い、共重合することにより得られる。
アクリル酸及び/又はメタクリル酸とマクロモノマーを
必須成分とし、必要に応じて、メタクリル酸メチル、メ
タクリル酸エチル、メタクリル酸−n−プロピル、メタ
クリル酸−n−ブチル、メタクリル酸−2−エチルヘキ
シル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸−n−プロピル、アクリル酸−n−ブチル、アクリル
酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ヒドロ
キシエチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリロ
ニトリル、スチレン等の重合性モノマーを一種類以上用
い、共重合することにより得られる。
【0016】グラフトポリマーの合成は、前記のモノマ
ーを有機溶剤中でアゾビスイソブチロニトリル、アゾビ
スジメチルバレロニトリル、過酸化ベンゾイル等の重合
開始剤を用いて一般的な溶液重合により得ることができ
る。この場合、用いる有機溶剤は、トルエン、p−キシ
レン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノアセテート等が挙げられる。ただ
し、電着法で感光性樹脂組成物の膜を形成する場合に
は、有機溶剤には親水性有機溶剤を用いることが好まし
い。
ーを有機溶剤中でアゾビスイソブチロニトリル、アゾビ
スジメチルバレロニトリル、過酸化ベンゾイル等の重合
開始剤を用いて一般的な溶液重合により得ることができ
る。この場合、用いる有機溶剤は、トルエン、p−キシ
レン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノアセテート等が挙げられる。ただ
し、電着法で感光性樹脂組成物の膜を形成する場合に
は、有機溶剤には親水性有機溶剤を用いることが好まし
い。
【0017】(a)成分のグラフトポリマーの重量平均
分子量(標準ポリスチレン換算)は、10,000〜4
00,000とすることが好ましい。重量平均分子量が
10,000未満では、レジストの機械的強度が弱くな
る傾向があり、一方、400,000を越えると、感光
性樹脂組成物の現像性が低下する傾向がある。
分子量(標準ポリスチレン換算)は、10,000〜4
00,000とすることが好ましい。重量平均分子量が
10,000未満では、レジストの機械的強度が弱くな
る傾向があり、一方、400,000を越えると、感光
性樹脂組成物の現像性が低下する傾向がある。
【0018】(a)成分のグラフトポリマーの使用量
は、(a)成分及び(b)成分の総量100重量部に対
して、50〜85重量部であることが好ましく、60〜
75重量部であることがより好ましい。使用量が50重
量部未満では、レジストの機械的強度が弱くなる傾向が
あり、一方、85重量部を越えると、(b)成分である
光重合性モノマーの割合が減って、光に対する感度が低
下する傾向がある。
は、(a)成分及び(b)成分の総量100重量部に対
して、50〜85重量部であることが好ましく、60〜
75重量部であることがより好ましい。使用量が50重
量部未満では、レジストの機械的強度が弱くなる傾向が
あり、一方、85重量部を越えると、(b)成分である
光重合性モノマーの割合が減って、光に対する感度が低
下する傾向がある。
【0019】(b)成分の光重合性不飽和基を分子内に
2個以上有するモノマーとしては、多価アルコールに
α,β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、
例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テ
トラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テト
ラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等、グ
リシジル基含有化合物にα,β−不飽和カルボン酸を付
加して得られる化合物、例えば、トリメチロールプロパ
ントリグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェ
ノールAグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート
等、多価カルボン酸、例えば、無水フタル酸等と水酸基
及びエチレン性不飽和基を有する化合物、例えばβ−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート等のエステル化合
物等が用いられ、更にはウレタン骨格をもったウレタン
ジアクリレート化合物等も用いることができ、いずれに
しても、光照射により硬化するものであればよい。
2個以上有するモノマーとしては、多価アルコールに
α,β−不飽和カルボン酸を付加して得られる化合物、
例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テ
トラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テト
ラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等、グ
リシジル基含有化合物にα,β−不飽和カルボン酸を付
加して得られる化合物、例えば、トリメチロールプロパ
ントリグリシジルエーテルトリアクリレート、ビスフェ
ノールAグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート
等、多価カルボン酸、例えば、無水フタル酸等と水酸基
及びエチレン性不飽和基を有する化合物、例えばβ−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート等のエステル化合
物等が用いられ、更にはウレタン骨格をもったウレタン
ジアクリレート化合物等も用いることができ、いずれに
しても、光照射により硬化するものであればよい。
【0020】(b)成分のモノマーの使用量は、(a)
成分及び(b)成分の総量100重量部に対して、15
〜50重量部であることが好ましく、25〜40重量部
であることがより好ましい。使用量が15重量部未満で
は光に対する感度が低下する傾向があり、一方、50重
量部を越えるとレジストの機械的強度が弱くなる傾向が
ある。
成分及び(b)成分の総量100重量部に対して、15
〜50重量部であることが好ましく、25〜40重量部
であることがより好ましい。使用量が15重量部未満で
は光に対する感度が低下する傾向があり、一方、50重
量部を越えるとレジストの機械的強度が弱くなる傾向が
ある。
【0021】(c)成分の光開始剤としては、従来から
通常使用されている光開始剤が特に制限なく使用でき
る。具体的には、ベンゾフェノン、N,N′−テトラメ
チル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキ
シ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−エチル
アントラキノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケト
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾ
イン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−
4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量
体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フェニ
ルイミダゾール二量体などが挙げられる。これらは単独
で又は二種類以上を組み合わせて用いられる。
通常使用されている光開始剤が特に制限なく使用でき
る。具体的には、ベンゾフェノン、N,N′−テトラメ
チル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキ
シ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−エチル
アントラキノン、フェナントレンキノン等の芳香族ケト
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾ
イン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−
4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量
体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フェニ
ルイミダゾール二量体などが挙げられる。これらは単独
で又は二種類以上を組み合わせて用いられる。
【0022】(c)成分の光開始剤の使用量は、(a)
成分及び(b)成分の総量100重量部に対し、0.1
〜20重量部であることが好ましく、0.2〜10重量
部であることがより好ましい。使用量が0.1重量部未
満では感光性樹脂組成物の光感度が低くなる傾向があ
り、一方、20重量部を越えると露光の際、感光性樹脂
組成物の表面での光吸収が増加して、内部の光硬化が不
充分となる傾向がある。
成分及び(b)成分の総量100重量部に対し、0.1
〜20重量部であることが好ましく、0.2〜10重量
部であることがより好ましい。使用量が0.1重量部未
満では感光性樹脂組成物の光感度が低くなる傾向があ
り、一方、20重量部を越えると露光の際、感光性樹脂
組成物の表面での光吸収が増加して、内部の光硬化が不
充分となる傾向がある。
【0023】本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応
じて、(a)成分のグラフトポリマー以外の通常のアク
リル樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性の樹脂
を使用することができる。その使用量は、(a)成分及
び(b)成分の総量100重量部に対し、40重量部以
下とすることが好ましい。使用量が40重量部を越える
と(a)成分との相溶性や感光性樹脂組成物の光に対す
る感度が低下する傾向がある。
じて、(a)成分のグラフトポリマー以外の通常のアク
リル樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性の樹脂
を使用することができる。その使用量は、(a)成分及
び(b)成分の総量100重量部に対し、40重量部以
下とすることが好ましい。使用量が40重量部を越える
と(a)成分との相溶性や感光性樹脂組成物の光に対す
る感度が低下する傾向がある。
【0024】本発明の感光性樹脂組成物には、他の成
分、例えば、染料、顔料、フィラー、可塑剤、熱硬化
剤、難燃剤、重合禁止剤、密着性向上剤などを必要に応
じて適宜使用することができる。
分、例えば、染料、顔料、フィラー、可塑剤、熱硬化
剤、難燃剤、重合禁止剤、密着性向上剤などを必要に応
じて適宜使用することができる。
【0025】次に、本発明の感光性樹脂組成物を含む膜
の形成法について述べる。基板の上に膜を形成する方法
としては特に制限はなく、例えば、既述した本発明の感
光性樹組成物を、アセトン、メチルエチルケトン、トル
エン、塩化メチレン、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル等の有機溶剤に溶解
し、この溶液をディップコート、ロールコート、カーテ
ンコート、スプレーコート、スピンコート等の方法で基
板に直接塗布し、その後、有機溶剤を乾燥して感光性樹
脂組成物の膜を形成できる。
の形成法について述べる。基板の上に膜を形成する方法
としては特に制限はなく、例えば、既述した本発明の感
光性樹組成物を、アセトン、メチルエチルケトン、トル
エン、塩化メチレン、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル等の有機溶剤に溶解
し、この溶液をディップコート、ロールコート、カーテ
ンコート、スプレーコート、スピンコート等の方法で基
板に直接塗布し、その後、有機溶剤を乾燥して感光性樹
脂組成物の膜を形成できる。
【0026】また、本発明の感光性樹脂組成物に含まれ
る(a)成分のグラフトポリマー中のカルボキシル基を
トリエチルアミン、ジエチルアミン、トリエタノールア
ミン等の塩基で中和した後、感光性樹脂組成物を水に溶
解もしくは分散させ電着浴とし、この電着浴中に、導電
性の基板を陽極として浸漬し、対極との間に直流電圧を
印加して電着塗装する方法によっても感光性樹脂組成物
の膜を形成できる。
る(a)成分のグラフトポリマー中のカルボキシル基を
トリエチルアミン、ジエチルアミン、トリエタノールア
ミン等の塩基で中和した後、感光性樹脂組成物を水に溶
解もしくは分散させ電着浴とし、この電着浴中に、導電
性の基板を陽極として浸漬し、対極との間に直流電圧を
印加して電着塗装する方法によっても感光性樹脂組成物
の膜を形成できる。
【0027】膜を形成する好ましい方法としては、いっ
たん、支持体フィルム上に前記感光性樹脂組成物の層を
形成した感光性エレメントとし、これを基板上にラミネ
ートすることにより基板上に膜を得る方法である。支持
フィルム上に感光性樹脂組成物の層を形成する方法とし
ては、例えば、感光性樹脂組成物を上述した有機溶剤に
溶解し、この溶液を支持体フィルム上にナイフコート、
ロールコート、スプレーコート、スピンコート等の方法
で塗布し、乾燥することにより行われる。感光性樹脂組
成物を含む層中の残存溶剤量は、特性保持等の観点から
2重量%以下に抑えることが好ましい。
たん、支持体フィルム上に前記感光性樹脂組成物の層を
形成した感光性エレメントとし、これを基板上にラミネ
ートすることにより基板上に膜を得る方法である。支持
フィルム上に感光性樹脂組成物の層を形成する方法とし
ては、例えば、感光性樹脂組成物を上述した有機溶剤に
溶解し、この溶液を支持体フィルム上にナイフコート、
ロールコート、スプレーコート、スピンコート等の方法
で塗布し、乾燥することにより行われる。感光性樹脂組
成物を含む層中の残存溶剤量は、特性保持等の観点から
2重量%以下に抑えることが好ましい。
【0028】本発明に用いられる支持体フィルムは、感
光性エレメントの製造時に必要な耐熱性、耐溶剤性を有
していることが好ましいが、テフロンフィルム、離型紙
等の離型性フィルムを一時的な支持体フィルムとし、こ
の上に感光性樹脂組成物の層を形成した後、この層の上
に耐熱性あるいは耐溶剤性の低いフィルムをラミネート
し、前記した一時的な支持体フィルムを剥離して耐熱性
あるいは耐溶剤性の低い支持体フィルムを有する感光性
エレメントを製造することもできる。また、支持体フィ
ルムは、活性光に対して透明であっても不透明であって
もよい。使用しうる支持体フィルムの例として、ポリエ
ステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミ
ドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフ
ィルム等、公知のフィルムを挙げることができる。
光性エレメントの製造時に必要な耐熱性、耐溶剤性を有
していることが好ましいが、テフロンフィルム、離型紙
等の離型性フィルムを一時的な支持体フィルムとし、こ
の上に感光性樹脂組成物の層を形成した後、この層の上
に耐熱性あるいは耐溶剤性の低いフィルムをラミネート
し、前記した一時的な支持体フィルムを剥離して耐熱性
あるいは耐溶剤性の低い支持体フィルムを有する感光性
エレメントを製造することもできる。また、支持体フィ
ルムは、活性光に対して透明であっても不透明であって
もよい。使用しうる支持体フィルムの例として、ポリエ
ステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリアミドイミ
ドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフ
ィルム等、公知のフィルムを挙げることができる。
【0029】長尺の感光性エレメントを製造する場合に
は、製造の最終段階で感光性エレメントをロール状に巻
き取る。この場合、感圧性粘着テープ等で公知の方法を
用い、背面処理した支持体フィルムを用いることによ
り、ロール状に巻き取ったときの感光性樹脂組成物の層
の支持体フィルム背面への転着を防ぐことができる。同
じ目的、さらに塵の付着を防ぐ目的で、該エレメントの
感光性樹脂組成物の層の上に剥離可能なカバーフィルム
を積層することが好ましい。
は、製造の最終段階で感光性エレメントをロール状に巻
き取る。この場合、感圧性粘着テープ等で公知の方法を
用い、背面処理した支持体フィルムを用いることによ
り、ロール状に巻き取ったときの感光性樹脂組成物の層
の支持体フィルム背面への転着を防ぐことができる。同
じ目的、さらに塵の付着を防ぐ目的で、該エレメントの
感光性樹脂組成物の層の上に剥離可能なカバーフィルム
を積層することが好ましい。
【0030】剥離可能なカバーフィルムとしては、例え
ば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、
テフロンフィルム、表面処理した紙等があり、カバーフ
ィルムを剥離するときに感光性樹脂組成物の層と支持体
フィルムとの接着力よりも感光性樹脂組成物の層とカバ
ーフィルムとの接着力がより小さいものであればよい。
ば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、
テフロンフィルム、表面処理した紙等があり、カバーフ
ィルムを剥離するときに感光性樹脂組成物の層と支持体
フィルムとの接着力よりも感光性樹脂組成物の層とカバ
ーフィルムとの接着力がより小さいものであればよい。
【0031】以上に示した方法等で基板上に形成した感
光性樹脂組成物の膜の厚みは、通常5〜100μmとさ
れる。
光性樹脂組成物の膜の厚みは、通常5〜100μmとさ
れる。
【0032】次に本発明のレジストパターンの製造法に
ついて説明する。上述した方法等で基板上に形成した感
光性樹脂組成物の膜に、活性光線を画像状に照射し、露
光部の感光性樹脂組成物を光硬化させる。この際、感光
性エレメントの支持体フィルムが活性光に不透明である
場合には、支持体フィルムを剥離した後、露光する必要
がある。支持体フィルムが活性光に対して透明であれ
ば、露光時に支持体フィルムを剥離する必要はない。
ついて説明する。上述した方法等で基板上に形成した感
光性樹脂組成物の膜に、活性光線を画像状に照射し、露
光部の感光性樹脂組成物を光硬化させる。この際、感光
性エレメントの支持体フィルムが活性光に不透明である
場合には、支持体フィルムを剥離した後、露光する必要
がある。支持体フィルムが活性光に対して透明であれ
ば、露光時に支持体フィルムを剥離する必要はない。
【0033】なお、活性光線の光源としては、波長30
0〜450nmの光線を発するもの、例えば、水銀蒸気ア
ーク、カーボンアーク、キセノンアーク等が好ましく用
いられる。また、露光前後の50〜100℃での加熱処
理は、基板と感光性樹脂膜との密着性を向上するために
好ましい。
0〜450nmの光線を発するもの、例えば、水銀蒸気ア
ーク、カーボンアーク、キセノンアーク等が好ましく用
いられる。また、露光前後の50〜100℃での加熱処
理は、基板と感光性樹脂膜との密着性を向上するために
好ましい。
【0034】続いて現像工程、すなわち、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリの
水溶液を吹きつけるか、アルカリの水溶液に浸漬するな
どして未露光部を除去し、前記画像に対応した硬化膜を
基板表面に有するレジストパターンを作製する。この
際、支持体フィルムを付けたまま露光した場合には、支
持体フィルムを剥離した後、現像を行う。レジストパタ
ーンの形成後、前記の活性光線を再度照射すると、特
に、めっきレジストとして用いる場合には、耐薬品性が
向上して好ましい。
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリの
水溶液を吹きつけるか、アルカリの水溶液に浸漬するな
どして未露光部を除去し、前記画像に対応した硬化膜を
基板表面に有するレジストパターンを作製する。この
際、支持体フィルムを付けたまま露光した場合には、支
持体フィルムを剥離した後、現像を行う。レジストパタ
ーンの形成後、前記の活性光線を再度照射すると、特
に、めっきレジストとして用いる場合には、耐薬品性が
向上して好ましい。
【0035】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明する。
明する。
【0036】グラフトポリマーの合成例1 撹拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロート及び窒素ガス
導入管を備えたフラスコに、メチルセロソルブ/トルエ
ン=2:3(重量比)の混合溶剤500gを加え、撹拌
し、窒素ガスを吹き込みながら90℃に加温した。温度
が85℃になったところで、メタクリル酸50.7g、
スチレン100g、メタクリル酸メチル40g、アクリ
ル酸エチル79.3g、スチレンのホモポリマーの片末
端がメタクリロイル基であるマクロモノマー(東亞合成
化学工業(株)製、商品名AS−6)30g及びアゾビ
スイソブチロニトリル2.7gを混合した液を2.5時
間かけてフラスコ内に滴下し、その後90℃で撹拌しな
がら3時間保温した。3時間後にアゾビスイソブチロニ
トリル1.2gをメチルセロソルブ30gに溶解した液
を10分かけてフラスコ内に滴下し、その後再び85℃
で撹拌しながら4時間保温した。
導入管を備えたフラスコに、メチルセロソルブ/トルエ
ン=2:3(重量比)の混合溶剤500gを加え、撹拌
し、窒素ガスを吹き込みながら90℃に加温した。温度
が85℃になったところで、メタクリル酸50.7g、
スチレン100g、メタクリル酸メチル40g、アクリ
ル酸エチル79.3g、スチレンのホモポリマーの片末
端がメタクリロイル基であるマクロモノマー(東亞合成
化学工業(株)製、商品名AS−6)30g及びアゾビ
スイソブチロニトリル2.7gを混合した液を2.5時
間かけてフラスコ内に滴下し、その後90℃で撹拌しな
がら3時間保温した。3時間後にアゾビスイソブチロニ
トリル1.2gをメチルセロソルブ30gに溶解した液
を10分かけてフラスコ内に滴下し、その後再び85℃
で撹拌しながら4時間保温した。
【0037】このようにして得られたグラフトポリマー
(a−1)の重量平均分子量は71,000、酸価は1
09であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分は
36.0重量%であった。
(a−1)の重量平均分子量は71,000、酸価は1
09であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分は
36.0重量%であった。
【0038】グラフトポリマーの合成例2 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコに、メチ
ルセロソルブ/トルエン=2:3(重量比)の混合溶剤
500gを加え、撹拌し、窒素ガスを吹きこみながら8
5℃に加温した。温度が85℃になったところで、メタ
クリル酸55.1g、スチレン60g、メタクリル酸−
n−ブチル32.9g、アクリル酸−n−ブチル92
g、スチレンのホモポリマーの片末端がメタクリロイル
基であるマクロモノマー(東亞合成化学工業(株)製、
商品名AS−6)60g及びアゾビスイソブチロニトリ
ル1.7gを混合した液を、2.5時間かけてフラスコ
内に滴下し、その後85℃で撹拌しながら3時間保温し
た。3時間後にアゾビスイソブチロニトリル0.6gを
メチルセロソルブ30gに溶解した液を10分かけてフ
ラスコ内に滴下し、その後再び85℃で撹拌しながら4
時間保温した。
ルセロソルブ/トルエン=2:3(重量比)の混合溶剤
500gを加え、撹拌し、窒素ガスを吹きこみながら8
5℃に加温した。温度が85℃になったところで、メタ
クリル酸55.1g、スチレン60g、メタクリル酸−
n−ブチル32.9g、アクリル酸−n−ブチル92
g、スチレンのホモポリマーの片末端がメタクリロイル
基であるマクロモノマー(東亞合成化学工業(株)製、
商品名AS−6)60g及びアゾビスイソブチロニトリ
ル1.7gを混合した液を、2.5時間かけてフラスコ
内に滴下し、その後85℃で撹拌しながら3時間保温し
た。3時間後にアゾビスイソブチロニトリル0.6gを
メチルセロソルブ30gに溶解した液を10分かけてフ
ラスコ内に滴下し、その後再び85℃で撹拌しながら4
時間保温した。
【0039】このようにして得られたグラフトポリマー
(a−2)の重量平均分子量は119,000、酸価は
116であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分
は35.8重量%であった。
(a−2)の重量平均分子量は119,000、酸価は
116であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分
は35.8重量%であった。
【0040】グラフトポリマーの合成例3 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコに、メチ
ルセロソルブ/トルエン=2:3(重量比)の混合溶剤
500g及びスチレンとアクリロニトリルの共重合体の
片末端がメタクリロイル基であるマクロモノマー(東亞
合成化学工業(株)製、商品名AN−6)30gを加
え、撹拌し、窒素ガスを吹きこみながら90℃に加温し
た。温度が90℃になったところで、メタクリル酸5
8.2g、メタクリル酸メチル70g、アクリル酸エチ
ル50.8g、アクリル酸−2−エチルヘキシル91g
及びアゾビスイソブチロニトリル2.4gを混合した液
を、2.5時間かけてフラスコ内に滴下し、その後90
℃で撹拌しながら3時間保温した。3時間後にアゾビス
イソブチロニトリル1.2gをメチルセロソルブ30g
に溶解した液を10分かけてフラスコ内に滴下し、その
後再び90℃で撹拌しながら4時間保温した。
ルセロソルブ/トルエン=2:3(重量比)の混合溶剤
500g及びスチレンとアクリロニトリルの共重合体の
片末端がメタクリロイル基であるマクロモノマー(東亞
合成化学工業(株)製、商品名AN−6)30gを加
え、撹拌し、窒素ガスを吹きこみながら90℃に加温し
た。温度が90℃になったところで、メタクリル酸5
8.2g、メタクリル酸メチル70g、アクリル酸エチ
ル50.8g、アクリル酸−2−エチルヘキシル91g
及びアゾビスイソブチロニトリル2.4gを混合した液
を、2.5時間かけてフラスコ内に滴下し、その後90
℃で撹拌しながら3時間保温した。3時間後にアゾビス
イソブチロニトリル1.2gをメチルセロソルブ30g
に溶解した液を10分かけてフラスコ内に滴下し、その
後再び90℃で撹拌しながら4時間保温した。
【0041】このようにして得られたグラフトポリマー
(a−3)の重量平均分子量は91,000、酸価は1
23であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分は
36.1重量%であった。
(a−3)の重量平均分子量は91,000、酸価は1
23であった。また、グラフトポリマー溶液の固形分は
36.1重量%であった。
【0042】ランダムポリマーの合成1 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコを用い
て、スチレンのホモポリマーの片末端がメタクリロイル
基であるマクロモノマー30gを用いる替りに、スチレ
ンの使用量を100gから130gに増量した以外はグ
ラフトポリマーの合成例1と同様な条件及び方法でラン
ダムポリマー(x−1)を合成した。得られたランダム
ポリマー(x−1)の重量平均分子量は73,000、
酸価は108であった。また、ランダムポリマー溶液の
固形分は36.1重量%であった。
て、スチレンのホモポリマーの片末端がメタクリロイル
基であるマクロモノマー30gを用いる替りに、スチレ
ンの使用量を100gから130gに増量した以外はグ
ラフトポリマーの合成例1と同様な条件及び方法でラン
ダムポリマー(x−1)を合成した。得られたランダム
ポリマー(x−1)の重量平均分子量は73,000、
酸価は108であった。また、ランダムポリマー溶液の
固形分は36.1重量%であった。
【0043】ランダムポリマーの合成2 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコを用い
て、スチレンのホモポリマーの片末端がメタクリロイル
基であるマクロモノマー60gを用いる替りに、スチレ
ンの使用量を60gから120gに増量した以外はグラ
フトポリマーの合成例2と同様な条件及び方法でランダ
ムポリマー(x−2)を合成した。得られたランダムポ
リマー(x−2)の重量平均分子量は119,000、
酸価は116であった。また、ランダムポリマー溶液の
固形分は35.8重量%であった。
て、スチレンのホモポリマーの片末端がメタクリロイル
基であるマクロモノマー60gを用いる替りに、スチレ
ンの使用量を60gから120gに増量した以外はグラ
フトポリマーの合成例2と同様な条件及び方法でランダ
ムポリマー(x−2)を合成した。得られたランダムポ
リマー(x−2)の重量平均分子量は119,000、
酸価は116であった。また、ランダムポリマー溶液の
固形分は35.8重量%であった。
【0044】ランダムポリマーの合成3 グラフトポリマーの合成例1と同様なフラスコ内に、溶
剤と共にスチレンとアクリロニトリルの共重合体の片末
端がメタクリロイル基であるマクロモノマー30gを用
いる替りに、スチレンを30g加える以外は、グラフト
ポリマーの合成例3と同様な条件及び方法でランダムポ
リマー(x−3)を合成した。得られたランダムポリマ
ー(x−3)の重量平均分子量は94,000、酸価は
124であった。また、ランダムポリマー溶液の固形分
は36.0重量%であった。
剤と共にスチレンとアクリロニトリルの共重合体の片末
端がメタクリロイル基であるマクロモノマー30gを用
いる替りに、スチレンを30g加える以外は、グラフト
ポリマーの合成例3と同様な条件及び方法でランダムポ
リマー(x−3)を合成した。得られたランダムポリマ
ー(x−3)の重量平均分子量は94,000、酸価は
124であった。また、ランダムポリマー溶液の固形分
は36.0重量%であった。
【0045】実施例1〜6及び比較例1〜3 表1に示す配合(単位は重量部)で感光性樹脂組成物溶
液を調製し、各々の溶液を23μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルム(東レ(株)製、ルミラー)に乾燥
後の膜厚が35μmとなるように塗工し、乾燥後、厚さ
35μmのポリエチレンフィルムで被覆して感光性エレ
メントを得た。得られた各感光性エレメントを、試験基
板の上にラミネートした。ラミネート条件は、基板温度
25℃、ラミネート温度110℃、ラミネート圧力(ラ
ミネーターのエアシリンダー圧力)3.5kgf/cm2、ラ
ミネート速度1.5m/minの条件で行った。
液を調製し、各々の溶液を23μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルム(東レ(株)製、ルミラー)に乾燥
後の膜厚が35μmとなるように塗工し、乾燥後、厚さ
35μmのポリエチレンフィルムで被覆して感光性エレ
メントを得た。得られた各感光性エレメントを、試験基
板の上にラミネートした。ラミネート条件は、基板温度
25℃、ラミネート温度110℃、ラミネート圧力(ラ
ミネーターのエアシリンダー圧力)3.5kgf/cm2、ラ
ミネート速度1.5m/minの条件で行った。
【0046】
【表1】
【0047】(1)感光特性 試験基板にガラスエポキシ銅張積層板(日立化成工業
(株)製、MCL−E−61)を用い、この基板に実施
例1〜6及び比較例1〜3の感光性樹脂組成物の膜を上
記の方法で形成した。この膜に、ネガマスクを介して3
kWの超高圧水銀灯により、60mJ/cm2の光量で画像状に
露光した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥
離し、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像を行い、
40μmのレジストパターンを得た。各感光性樹脂組成
物の光感度とレジスト形状の評価結果を表2に示した。
(株)製、MCL−E−61)を用い、この基板に実施
例1〜6及び比較例1〜3の感光性樹脂組成物の膜を上
記の方法で形成した。この膜に、ネガマスクを介して3
kWの超高圧水銀灯により、60mJ/cm2の光量で画像状に
露光した後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥
離し、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像を行い、
40μmのレジストパターンを得た。各感光性樹脂組成
物の光感度とレジスト形状の評価結果を表2に示した。
【0048】(2)テンティング膜の強度 試験基板として、直径6mmの銅めっきされたスルーホー
ルを1000穴有する基板を用い、この基板に実施例1
〜6及び比較例1〜3の感光性樹脂組成物の膜を上記の
方法で形成した。この膜全面に、3kWの超高圧水銀灯
で、各樹脂組成物のST(ステップタブレット)段数が
それぞれ8段となるように、露光量を調節して露光を行
った。その後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを
剥離し、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像を行っ
た。スルーホール上のテンティング膜の破壊状態を目視
で観察し、破壊した膜の比率を調べ、結果を表2に示し
た。
ルを1000穴有する基板を用い、この基板に実施例1
〜6及び比較例1〜3の感光性樹脂組成物の膜を上記の
方法で形成した。この膜全面に、3kWの超高圧水銀灯
で、各樹脂組成物のST(ステップタブレット)段数が
それぞれ8段となるように、露光量を調節して露光を行
った。その後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを
剥離し、1重量%の炭酸ナトリウム水溶液で現像を行っ
た。スルーホール上のテンティング膜の破壊状態を目視
で観察し、破壊した膜の比率を調べ、結果を表2に示し
た。
【0049】(3)銅に対する密着性 試験基板として、ガラスエポキシ銅張積層板の表面に、
実施例1〜6及び比較例1〜3の感光性エレメントをラ
ミネートして、感光性樹脂組成物の膜を形成した。この
膜全面に、3kWの超高圧水銀灯で、各樹脂組成物のST
段数がそれぞれ8段となるように、露光量を調節して露
光を行った。その後、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥離後、JIS−K5400の方法でクロスカッ
ト性を評価し、結果を表2に示した。
実施例1〜6及び比較例1〜3の感光性エレメントをラ
ミネートして、感光性樹脂組成物の膜を形成した。この
膜全面に、3kWの超高圧水銀灯で、各樹脂組成物のST
段数がそれぞれ8段となるように、露光量を調節して露
光を行った。その後、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥離後、JIS−K5400の方法でクロスカッ
ト性を評価し、結果を表2に示した。
【0050】
【表2】
【0051】グラフトポリマー(a−1)とランダムポ
リマー(x−1)とは、ポリマーを構成するモノマーの
組成比率は同等であるが、スチレンの一部がグラフト化
されているという点に、グラフトポリマー(a−1)の
特徴がある。グラフトポリマー(a−2)とランダムポ
リマー(x−2)との関係も、また、グラフトポリマー
(a−3)とランダムポリマー(x−3)との関係も同
様で、それぞれ、スチレン、スチレンとアクリロニトリ
ルがグラフト化されている点に特徴がある。このグラフ
トポリマーとランダムポリマーとの差異が、表2に示す
各特性の違いとなって表われている。
リマー(x−1)とは、ポリマーを構成するモノマーの
組成比率は同等であるが、スチレンの一部がグラフト化
されているという点に、グラフトポリマー(a−1)の
特徴がある。グラフトポリマー(a−2)とランダムポ
リマー(x−2)との関係も、また、グラフトポリマー
(a−3)とランダムポリマー(x−3)との関係も同
様で、それぞれ、スチレン、スチレンとアクリロニトリ
ルがグラフト化されている点に特徴がある。このグラフ
トポリマーとランダムポリマーとの差異が、表2に示す
各特性の違いとなって表われている。
【0052】光感度及びレジスト形状に代表される感光
特性は、すべて実施例1〜6の感光性樹脂組成物の方
が、比較例1〜3の感光性樹脂組成物を上回っている。
特性は、すべて実施例1〜6の感光性樹脂組成物の方
が、比較例1〜3の感光性樹脂組成物を上回っている。
【0053】また、比較例1の感光性樹脂組成物は、比
較例2及び3の感光性樹脂組成物と比べて、ランダムポ
リマー中のスチレンの共重合量が多いため、テンティン
グ膜の強度が強く、現像後の膜の破壊率は少ないが、銅
に対する密着性が悪いという問題を有している。その反
対に、比較例2及び3の感光性樹脂組成物は、それぞれ
アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキ
シルといったポリマーのガラス転移温度を下げるモノマ
ーを比較的多く共重合しているため、銅に対する密着性
は向上するが、テンティング膜の強度が低く、現像後の
膜の破壊率は85%以上と、大半が破壊されていること
を示している。
較例2及び3の感光性樹脂組成物と比べて、ランダムポ
リマー中のスチレンの共重合量が多いため、テンティン
グ膜の強度が強く、現像後の膜の破壊率は少ないが、銅
に対する密着性が悪いという問題を有している。その反
対に、比較例2及び3の感光性樹脂組成物は、それぞれ
アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキ
シルといったポリマーのガラス転移温度を下げるモノマ
ーを比較的多く共重合しているため、銅に対する密着性
は向上するが、テンティング膜の強度が低く、現像後の
膜の破壊率は85%以上と、大半が破壊されていること
を示している。
【0054】これに対して、本発明になるグラフトポリ
マーを用いた実施例1〜6の感光性樹脂組成物は、テン
ティング膜の強度が強く、現像後でも膜は全く破壊され
ず、それでいて銅に対する密着性も十分に高いことを示
している。このように本発明になる感光性樹脂組成物
は、通常では相反する特性を両立させるという特長を有
している。
マーを用いた実施例1〜6の感光性樹脂組成物は、テン
ティング膜の強度が強く、現像後でも膜は全く破壊され
ず、それでいて銅に対する密着性も十分に高いことを示
している。このように本発明になる感光性樹脂組成物
は、通常では相反する特性を両立させるという特長を有
している。
【0055】
【発明の効果】本発明の感光性樹脂組成物及びこれを用
いた感光性エレメントは感光特性が良好で、テンティン
グ膜の強度が高く、また、基板の金属に対する密着性が
良好である。これにより、良好なレジストパターンを製
造することができ、高密度、高精度なプリント配線板の
製造が可能となる。
いた感光性エレメントは感光特性が良好で、テンティン
グ膜の強度が高く、また、基板の金属に対する密着性が
良好である。これにより、良好なレジストパターンを製
造することができ、高密度、高精度なプリント配線板の
製造が可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/30 7124−2H H05K 3/00 F 6921−4E
Claims (4)
- 【請求項1】 (a)アクリル酸及び/又はメタクリル
酸と、ポリスチレン又はポリスチレン共重合体の片末端
に一つの重合性不飽和基を有するマクロモノマーとを必
須成分として共重合した酸価20〜300のグラフトポ
リマー、(b)光重合性不飽和基を分子内に2個以上有
するモノマー及び(c)光開始剤を含有してなる感光性
樹脂組成物。 - 【請求項2】 請求項1記載の感光性樹脂組成物の層と
支持体フィルムを有する感光性エレメント。 - 【請求項3】 はく離可能なカバーフィルムを感光性樹
脂組成物の層上に積層してなる請求項2記載の感光性エ
レメント。 - 【請求項4】 請求項1記載の感光性樹脂組成物を基板
上に膜として形成し、活性光線を画像状に照射し、露光
部を光硬化させ、未露光部を現像により除去することを
特徴とするレジストパターンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17195893A JPH0728239A (ja) | 1993-07-13 | 1993-07-13 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17195893A JPH0728239A (ja) | 1993-07-13 | 1993-07-13 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0728239A true JPH0728239A (ja) | 1995-01-31 |
Family
ID=15932928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17195893A Pending JPH0728239A (ja) | 1993-07-13 | 1993-07-13 | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0728239A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002293833A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Takashi Sawaguchi | (メタ)アクリル酸オリゴスチレン・エステルと(メタ)アクリル酸メチルとの共重合体及びその製造方法 |
| JP2010524042A (ja) * | 2007-04-11 | 2010-07-15 | エルジー・ケム・リミテッド | マクロモノマーを用いて製造した高分子をアルカリ可溶性樹脂として含む感光性樹脂組成物 |
| JP2013037038A (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-21 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 光重合性樹脂組成物、光重合性樹脂積層体、レジストパターンの形成方法、並びに回路基板、リードフレーム及び半導体パッケージの製造方法 |
-
1993
- 1993-07-13 JP JP17195893A patent/JPH0728239A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002293833A (ja) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Takashi Sawaguchi | (メタ)アクリル酸オリゴスチレン・エステルと(メタ)アクリル酸メチルとの共重合体及びその製造方法 |
| JP2010524042A (ja) * | 2007-04-11 | 2010-07-15 | エルジー・ケム・リミテッド | マクロモノマーを用いて製造した高分子をアルカリ可溶性樹脂として含む感光性樹脂組成物 |
| US8357483B2 (en) | 2007-04-11 | 2013-01-22 | Lg Chem, Ltd. | Photosensitive resin composition comprising a polymer prepared by using macromonomer as alkali soluble resin |
| JP2013037038A (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-21 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 光重合性樹脂組成物、光重合性樹脂積層体、レジストパターンの形成方法、並びに回路基板、リードフレーム及び半導体パッケージの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6228560B1 (en) | Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same | |
| JP3406544B2 (ja) | 感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法及びリードフレームの製造法 | |
| WO2009154194A1 (ja) | 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法 | |
| JPH0614185B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体 | |
| JP3415928B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム | |
| JP2898143B2 (ja) | 感光液組成物、感光性フィルム及び積層板 | |
| US4980266A (en) | Photosensitive resin composition | |
| JP3199600B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
| JPH0756338A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法 | |
| JPH0728239A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法 | |
| JP3736654B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
| JP2788921B2 (ja) | 放射重合可能な組成物および感放射線性記録材料 | |
| JP3487294B2 (ja) | 感光性樹脂組成物とその利用 | |
| JPH04153276A (ja) | ネガ型感光性電着塗料樹脂組成物及びこれを用いた電着塗装浴 | |
| JPH06242603A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
| JP3437179B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
| JPH0756334A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
| JP3945864B2 (ja) | 新規な感光性樹脂積層体 | |
| JP3859934B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
| JPH07140650A (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム | |
| JP4055224B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
| JP3111641B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルム | |
| JPH0728238A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びレジストパターンの製造法 | |
| JP3173191B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント | |
| JP2001042516A (ja) | 積層フィルム及びプリント配線板の製造法 |