JPH072848A - モルホリンおよびチオモルホリン誘導体 - Google Patents
モルホリンおよびチオモルホリン誘導体Info
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- JPH072848A JPH072848A JP8121794A JP8121794A JPH072848A JP H072848 A JPH072848 A JP H072848A JP 8121794 A JP8121794 A JP 8121794A JP 8121794 A JP8121794 A JP 8121794A JP H072848 A JPH072848 A JP H072848A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】一般式(I)を有するモルホリンおよびチオモ
ルホリン誘導体またはその塩。 〔式中、R1,R2,R3,R4およびR5は水素原
子、ハロゲン原子、C1〜C5アルキル基、C1〜C5
アルコキシ基、OH,CF3を;R6は水素原子、C1
〜C5アルキル基を;AはO,Sを;Bは結合手、O,
Sを;XはO,CHを;YはNH,O,Sを;Zは水素
原子、基−(CH2)n−CO2R7を;R7は水素原
子、C1〜C5アルキル基を;nは1ないし5の整数
を;示す〕 【効果】高脂血症、高血糖症および肥満症、更に高血圧
症、骨粗鬆症の予防薬および/または治療薬として有用
な化合物である。
ルホリン誘導体またはその塩。 〔式中、R1,R2,R3,R4およびR5は水素原
子、ハロゲン原子、C1〜C5アルキル基、C1〜C5
アルコキシ基、OH,CF3を;R6は水素原子、C1
〜C5アルキル基を;AはO,Sを;Bは結合手、O,
Sを;XはO,CHを;YはNH,O,Sを;Zは水素
原子、基−(CH2)n−CO2R7を;R7は水素原
子、C1〜C5アルキル基を;nは1ないし5の整数
を;示す〕 【効果】高脂血症、高血糖症および肥満症、更に高血圧
症、骨粗鬆症の予防薬および/または治療薬として有用
な化合物である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高脂血症、高血糖症、肥
満症および耐糖能不全状態を改善し、更にアルドース還
元酵素阻害作用およびトロンボキサンA2 合成阻害作用
を有するモルホリンおよびチオモルホリン誘導体または
その塩に関し、高脂血症、高血糖症および肥満症、更に
高血圧症、骨粗鬆症および抗血栓症の予防薬および/ま
たは治療薬として有用な化合物を提供する。
満症および耐糖能不全状態を改善し、更にアルドース還
元酵素阻害作用およびトロンボキサンA2 合成阻害作用
を有するモルホリンおよびチオモルホリン誘導体または
その塩に関し、高脂血症、高血糖症および肥満症、更に
高血圧症、骨粗鬆症および抗血栓症の予防薬および/ま
たは治療薬として有用な化合物を提供する。
【0002】
1)一般式
【0003】
【化2】
【0004】(式中、R1 はアルキル基、シクロアルキ
ル基、フェニルアルキル基、フェニル基、窒素原子、酸
素原子、イオウ原子から選ばれたヘテロ原子を1個また
は2個有する5または6員の異項環基または
ル基、フェニルアルキル基、フェニル基、窒素原子、酸
素原子、イオウ原子から選ばれたヘテロ原子を1個また
は2個有する5または6員の異項環基または
【0005】
【化3】
【0006】(ただしR3 、R4 は同一または異って
低級アルキル基を示すか、またはR3とR4 が直接もし
くは窒素原子、酸素原子、イオウ原子から選ばれたヘテ
ロ原子を介して結合し、R3 、R4 に隣接する窒素原子
とともに5または6員環を形成してもよい)で表わされ
る基を示す。R2 は結合手または低級アルキレン基を示
す。R1 がアルキル基であるときL1 、L2 は同一また
は異って低級アルキル基を示すか、またはL1 とL2 が
結合してアルキレン基を形成してもよい。 またR1 が
アルキル基でないときはL1 、L2 は上記定義の他に水
素原子であってもよい。)で表わされるチアゾリジン誘
導体が血中脂質、糖低下作用を有することが知られてい
る(特開昭55−22636号)。
低級アルキル基を示すか、またはR3とR4 が直接もし
くは窒素原子、酸素原子、イオウ原子から選ばれたヘテ
ロ原子を介して結合し、R3 、R4 に隣接する窒素原子
とともに5または6員環を形成してもよい)で表わされ
る基を示す。R2 は結合手または低級アルキレン基を示
す。R1 がアルキル基であるときL1 、L2 は同一また
は異って低級アルキル基を示すか、またはL1 とL2 が
結合してアルキレン基を形成してもよい。 またR1 が
アルキル基でないときはL1 、L2 は上記定義の他に水
素原子であってもよい。)で表わされるチアゾリジン誘
導体が血中脂質、糖低下作用を有することが知られてい
る(特開昭55−22636号)。
【0007】2)次式
【0008】
【化4】
【0009】で示されるモルホリン化合物が血糖低下作
用および血中トリグリセライドを低下させるが、他方で
副作用を併せ持つことが知られている(Chem.Pharm.Bul
l., 30巻,3580頁(1982年))。そして、これらの化合物
が糖尿病合併症を惹起させるアルドース還元酵素に対し
阻害作用を示すこと、さらに血小板凝集を引き起こすト
ロンボキサンA2 の合成阻害作用を示すことは述べられ
ていない。
用および血中トリグリセライドを低下させるが、他方で
副作用を併せ持つことが知られている(Chem.Pharm.Bul
l., 30巻,3580頁(1982年))。そして、これらの化合物
が糖尿病合併症を惹起させるアルドース還元酵素に対し
阻害作用を示すこと、さらに血小板凝集を引き起こすト
ロンボキサンA2 の合成阻害作用を示すことは述べられ
ていない。
【0010】3)また、チアゾリジン−2、4−ジオン
誘導体のあるものが血糖低下作用を示すことが知られて
いるが(Chem.Pharm.Bull.、30巻、3580頁(1982 年) ;
J.Med.Chem.、32巻、 421頁 (1989 年) )、フェニル
置換モルホリン−チアゾリジン誘導体およびフェニル置
換チオモルホリン−チアゾリジン誘導体が血糖低下作
用、脂質低下作用、アルドース還元酵素阻害作用および
トロンボキサンA2 合成阻害作用を示すことは知られて
いない。
誘導体のあるものが血糖低下作用を示すことが知られて
いるが(Chem.Pharm.Bull.、30巻、3580頁(1982 年) ;
J.Med.Chem.、32巻、 421頁 (1989 年) )、フェニル
置換モルホリン−チアゾリジン誘導体およびフェニル置
換チオモルホリン−チアゾリジン誘導体が血糖低下作
用、脂質低下作用、アルドース還元酵素阻害作用および
トロンボキサンA2 合成阻害作用を示すことは知られて
いない。
【0011】4)さらに、オキサゾリジン−2、4−ジ
オン誘導体およびオキサジアゾリジン−2、4−ジオン
誘導体のあるものにも血糖低下作用のあることが知られ
ているが(J.Med.Chem.,34巻、1538頁(1991年)、WO 9
202520−A および WO 9203425-A )、フェニル置換モル
ホリン−オキサゾリジン−2、4−ジオン誘導体または
フェニル置換モルホリン−オキサジアゾリジン−2、4
−ジオン誘導体あるいはフェニル置換チオモルホリン−
オキサゾリジン−2、4−ジオン誘導体またはフェニル
置換チオモルホリン−オキサジアゾリジン−2、4−ジ
オン誘導体が血糖低下作用、脂質低下作用、アルドース
還元酵素阻害作用を示すことは知られていない。
オン誘導体およびオキサジアゾリジン−2、4−ジオン
誘導体のあるものにも血糖低下作用のあることが知られ
ているが(J.Med.Chem.,34巻、1538頁(1991年)、WO 9
202520−A および WO 9203425-A )、フェニル置換モル
ホリン−オキサゾリジン−2、4−ジオン誘導体または
フェニル置換モルホリン−オキサジアゾリジン−2、4
−ジオン誘導体あるいはフェニル置換チオモルホリン−
オキサゾリジン−2、4−ジオン誘導体またはフェニル
置換チオモルホリン−オキサジアゾリジン−2、4−ジ
オン誘導体が血糖低下作用、脂質低下作用、アルドース
還元酵素阻害作用を示すことは知られていない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは安全性の
高い抗高脂血症薬、抗糖尿病薬、抗肥満薬、耐糖能不全
改善薬および糖尿病合併症治療薬の開発を目的としてモ
ルホリンおよびチオモルホリン誘導体について鋭意研究
を行ない、本発明を完成した。
高い抗高脂血症薬、抗糖尿病薬、抗肥満薬、耐糖能不全
改善薬および糖尿病合併症治療薬の開発を目的としてモ
ルホリンおよびチオモルホリン誘導体について鋭意研究
を行ない、本発明を完成した。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式(I)
【0014】
【化5】
【0015】を有する新規なモルホリンおよびチオモル
ホリン誘導体またはその塩に関する。
ホリン誘導体またはその塩に関する。
【0016】上記式中、R1 、R2 、R3 、R4 および
R5 は同一または異なって、水素原子、炭素数1ないし
5個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、炭
素数1ないし5個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、またはトリ
フルオロメチル基を示す。R6 は水素原子または炭素数
1ないし5個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキ
ル基を示す。Aは酸素原子または硫黄原子を示す。Bは
結合手、酸素原子または硫黄原子を示す。mは1ないし
5の整数を示す。Xは窒素原子または基 >CH− を
示す。Yはイミノ基、酸素原子または硫黄原子を示す。
Zは水素原子または基 −(CH2 )n −CO2 R7
(式中、R7 は水素原子または炭素数1ないし5個を有
する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、nは
1ないし5の整数を示す。)を示す。
R5 は同一または異なって、水素原子、炭素数1ないし
5個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、炭
素数1ないし5個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、またはトリ
フルオロメチル基を示す。R6 は水素原子または炭素数
1ないし5個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキ
ル基を示す。Aは酸素原子または硫黄原子を示す。Bは
結合手、酸素原子または硫黄原子を示す。mは1ないし
5の整数を示す。Xは窒素原子または基 >CH− を
示す。Yはイミノ基、酸素原子または硫黄原子を示す。
Zは水素原子または基 −(CH2 )n −CO2 R7
(式中、R7 は水素原子または炭素数1ないし5個を有
する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、nは
1ないし5の整数を示す。)を示す。
【0017】ここに、R1 、R2 、R3 、R4 およびR
5 が同一または異なって炭素数1ないし5個を有する直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基である場合、それは
例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、イソプロピル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチ
ル、2−ペンチル、3−ペンチル、2−メチルブチル、
3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,2
−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロピルなどを
あげることができる。好適には炭素数1ないし4個を有
する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基である。最適
には炭素数1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルキル基である。
5 が同一または異なって炭素数1ないし5個を有する直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基である場合、それは
例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、イソプロピル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチ
ル、2−ペンチル、3−ペンチル、2−メチルブチル、
3−メチルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,2
−ジメチルプロピル、2,2−ジメチルプロピルなどを
あげることができる。好適には炭素数1ないし4個を有
する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基である。最適
には炭素数1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルキル基である。
【0018】R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 が同一
または異なって炭素数1ないし5個を有する直鎖状もし
くは分枝鎖状のアルコキシ基である場合、それは例え
ば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペン
トキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、t−ブトキシ
などをあげることができる。好適には炭素数1ないし3
個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ基であ
る。最適にはメトキシ基またはエトキシ基である。
または異なって炭素数1ないし5個を有する直鎖状もし
くは分枝鎖状のアルコキシ基である場合、それは例え
ば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペン
トキシ、イソプロポキシ、イソブトキシ、t−ブトキシ
などをあげることができる。好適には炭素数1ないし3
個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ基であ
る。最適にはメトキシ基またはエトキシ基である。
【0019】R6 が炭素数1ないし5個を有する直鎖状
もしくは分枝鎖状のアルキル基である場合、それは例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イ
ソプロピル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、2
−ペンチル、3−ペンチル、2−メチルブチル、3−メ
チルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメ
チルプロピル、2,2−ジメチルプロピルなどをあげる
ことができる。好適には炭素数1ないし4個を有する直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基である。最適には炭
素数1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキル基である。
もしくは分枝鎖状のアルキル基である場合、それは例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イ
ソプロピル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、2
−ペンチル、3−ペンチル、2−メチルブチル、3−メ
チルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメ
チルプロピル、2,2−ジメチルプロピルなどをあげる
ことができる。好適には炭素数1ないし4個を有する直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基である。最適には炭
素数1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキル基である。
【0020】mが1ないし5の整数である場合、好適に
は1ないし3の整数であり、最適には1または2の整数
である。
は1ないし3の整数であり、最適には1または2の整数
である。
【0021】Zが基 −(CH2 )n −CO2 R7 を示
す場合において、R7 が炭素数1ないし5個の直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキル基である場合、それは例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イ
ソプロピル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、2
−ペンチル、3−ペンチル、2−メチルブチル、3−メ
チルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメ
チルプロピル、2,2−ジメチルプロピルなどをあげる
ことができる。好適には炭素数1ないし4個を有する直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基である。最適には炭
素数1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキル基である。nが1ないし5の整数である場合、好
適には1ないし3の整数であり、最適には1または2の
整数である。
す場合において、R7 が炭素数1ないし5個の直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキル基である場合、それは例え
ば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、イ
ソプロピル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチル、2
−ペンチル、3−ペンチル、2−メチルブチル、3−メ
チルブチル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメ
チルプロピル、2,2−ジメチルプロピルなどをあげる
ことができる。好適には炭素数1ないし4個を有する直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基である。最適には炭
素数1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のア
ルキル基である。nが1ないし5の整数である場合、好
適には1ないし3の整数であり、最適には1または2の
整数である。
【0022】本発明の前記一般式(I)を有する化合物
は、常法にしたがって塩にすることができる。そのよう
な塩として例えばリチウム、ナトリウム、カリウムのよ
うなアルカリ金属の塩;カルシウム、バリウムのような
アルカリ土類金属の塩;マグネシウム塩;アルミニウム
塩;等の無機塩またはアンモニア、メチルアミン、ジメ
チルアミン、ジシクロヘキシルアミンのようなアミン
塩;リジン、アルギニンのような塩基性アミノ酸塩;等
の有機塩基塩をあげることができる。あるいはそのよう
な塩としては、例えば弗化水素酸、塩酸、臭化水素酸、
沃化水素酸のようなハロゲン化水素酸の塩;硝酸塩;過
塩素酸塩;硫酸塩;燐酸塩;等の無機酸塩またはメタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンス
ルホン酸のような低級アルカンスルホン酸の塩;ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のようなアリー
ルスルホン酸の塩;グルタミン酸、アスパラギン酸のよ
うなアミノ酸の塩;フマール酸、コハク酸、クエン酸、
酒石酸、蓚酸、マレイン酸のようなカルボン酸の塩;等
の有機酸塩を挙げることができる。好適には薬理上許容
しうる塩である。
は、常法にしたがって塩にすることができる。そのよう
な塩として例えばリチウム、ナトリウム、カリウムのよ
うなアルカリ金属の塩;カルシウム、バリウムのような
アルカリ土類金属の塩;マグネシウム塩;アルミニウム
塩;等の無機塩またはアンモニア、メチルアミン、ジメ
チルアミン、ジシクロヘキシルアミンのようなアミン
塩;リジン、アルギニンのような塩基性アミノ酸塩;等
の有機塩基塩をあげることができる。あるいはそのよう
な塩としては、例えば弗化水素酸、塩酸、臭化水素酸、
沃化水素酸のようなハロゲン化水素酸の塩;硝酸塩;過
塩素酸塩;硫酸塩;燐酸塩;等の無機酸塩またはメタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、エタンス
ルホン酸のような低級アルカンスルホン酸の塩;ベンゼ
ンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のようなアリー
ルスルホン酸の塩;グルタミン酸、アスパラギン酸のよ
うなアミノ酸の塩;フマール酸、コハク酸、クエン酸、
酒石酸、蓚酸、マレイン酸のようなカルボン酸の塩;等
の有機酸塩を挙げることができる。好適には薬理上許容
しうる塩である。
【0023】なお、前記一般式(I)を有する化合物
は、種々の異性体を有する。すなわち、式(A)
は、種々の異性体を有する。すなわち、式(A)
【0024】
【化6】
【0025】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、A、B、m、X、YおよびZは前述したものと同
意義を示す。)で示されるように、R6 が水素原子であ
り、Xが窒素原子である場合には不斉炭素原子を少なく
とも1個(*1 )有しており、R6 が水素原子であり、
Xが基 >CH− である場合には不斉炭素原子を少な
くとも2個(*1 および*3 )有しており、R6 がアル
キル基であり、Xが窒素原子である場合には不斉炭素原
子を少なくとも2個(*1 および*2 )有しており、さ
らにR6 がアルキル基であり、Xが基 >CH− であ
る場合には不斉炭素原子を少なくとも3個(*1 ,*2
および*3 )有している。
R6 、A、B、m、X、YおよびZは前述したものと同
意義を示す。)で示されるように、R6 が水素原子であ
り、Xが窒素原子である場合には不斉炭素原子を少なく
とも1個(*1 )有しており、R6 が水素原子であり、
Xが基 >CH− である場合には不斉炭素原子を少な
くとも2個(*1 および*3 )有しており、R6 がアル
キル基であり、Xが窒素原子である場合には不斉炭素原
子を少なくとも2個(*1 および*2 )有しており、さ
らにR6 がアルキル基であり、Xが基 >CH− であ
る場合には不斉炭素原子を少なくとも3個(*1 ,*2
および*3 )有している。
【0026】前記一般式(I)においては、これらに基
づく立体異性体およびこれらの異性体の等量および非等
量混合物がすべて単一の式で示されている。従って、本
発明においてはこれらの異性体およびこれらの異性体の
混合物をもすべて含むものである。
づく立体異性体およびこれらの異性体の等量および非等
量混合物がすべて単一の式で示されている。従って、本
発明においてはこれらの異性体およびこれらの異性体の
混合物をもすべて含むものである。
【0027】前記一般式(I)を有する化合物におい
て、 (1)好適には、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 が
同一または異なって、水素原子、炭素数1ないし4個を
有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、炭素数1
ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキ
シ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、またはトリフルオ
ロメチル基を示し、R6 が水素原子または炭素数1ない
し3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を
示し、Aが酸素原子または硫黄原子を示し、Bが結合
手、酸素原子または硫黄原子を示し、mが1ないし3の
整数を示し、Xが窒素原子または基 >CH− を示
し、Yがイミノ基、酸素原子または硫黄原子を示し、Z
が水素原子または基 −(CH2 )n −CO2 R7 (式
中、R7 は水素原子または炭素数1ないし4個を有する
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、nは1な
いし4の整数を示す。)を示す、化合物またはその塩で
ある。
て、 (1)好適には、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 が
同一または異なって、水素原子、炭素数1ないし4個を
有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、炭素数1
ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキ
シ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、またはトリフルオ
ロメチル基を示し、R6 が水素原子または炭素数1ない
し3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を
示し、Aが酸素原子または硫黄原子を示し、Bが結合
手、酸素原子または硫黄原子を示し、mが1ないし3の
整数を示し、Xが窒素原子または基 >CH− を示
し、Yがイミノ基、酸素原子または硫黄原子を示し、Z
が水素原子または基 −(CH2 )n −CO2 R7 (式
中、R7 は水素原子または炭素数1ないし4個を有する
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、nは1な
いし4の整数を示す。)を示す、化合物またはその塩で
ある。
【0028】(2)より好適には、R1 、R2 およびR
3 が同一または異なって水素原子、炭素数1ないし4個
を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、炭素数
1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基またはトリフルオ
ロメチル基を示し、R4 およびR5 が同一または異なっ
て水素原子、炭素数1ないし3個を有する直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルコキシ基、炭素数1ないし3個を有す
る直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ基、ハロゲン原
子、ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル基を示し、
R6 が水素原子または炭素数1ないし3個を有する直鎖
状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、Aが酸素原子
または硫黄原子を示し、Bが結合手、酸素原子または硫
黄原子を示し、mが1ないし3の整数を示し、Xが窒素
原子または基 >CH− を示し、Yが酸素原子または
硫黄原子を示し、Zが水素原子または基 −(CH2 )
n −CO2 R7 (式中、R7 は水素原子または炭素数1
ないし4個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル
基を示し、nは1ないし3の整数を示す。)を示す、化
合物またはその塩である。
3 が同一または異なって水素原子、炭素数1ないし4個
を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、炭素数
1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基またはトリフルオ
ロメチル基を示し、R4 およびR5 が同一または異なっ
て水素原子、炭素数1ないし3個を有する直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルコキシ基、炭素数1ないし3個を有す
る直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ基、ハロゲン原
子、ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル基を示し、
R6 が水素原子または炭素数1ないし3個を有する直鎖
状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、Aが酸素原子
または硫黄原子を示し、Bが結合手、酸素原子または硫
黄原子を示し、mが1ないし3の整数を示し、Xが窒素
原子または基 >CH− を示し、Yが酸素原子または
硫黄原子を示し、Zが水素原子または基 −(CH2 )
n −CO2 R7 (式中、R7 は水素原子または炭素数1
ないし4個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル
基を示し、nは1ないし3の整数を示す。)を示す、化
合物またはその塩である。
【0029】(3)さらに好適にはR1 、R2 およびR
3 が同一または異なって水素原子、炭素数1ないし4個
を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、炭素数
1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基またはトリフルオ
ロメチル基を示し、R4 およびR5 が同一または異なっ
て水素原子、炭素数1ないし2個を有するアルキル基、
炭素数1ないし2個を有するアルコキシ基、フッ素原
子、塩素原子、ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル
基を示し、R6 が水素原子または炭素数1ないし3個を
有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、A
が酸素原子または硫黄原子を示し、Bが結合手、酸素原
子または硫黄原子を示し、mが1ないし3の整数を示
し、Xは窒素原子または基 >CH− を示し、Yが酸
素原子または硫黄原子を示し、Zが水素原子または基
−(CH2 )n −CO2 R7 (式中、R7 は水素原子ま
たは炭素数1ないし4個を有する直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルキル基を示し、nは1ないし2の整数を示
す。)を示す、化合物またはその塩である。
3 が同一または異なって水素原子、炭素数1ないし4個
を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、炭素数
1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコ
キシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基またはトリフルオ
ロメチル基を示し、R4 およびR5 が同一または異なっ
て水素原子、炭素数1ないし2個を有するアルキル基、
炭素数1ないし2個を有するアルコキシ基、フッ素原
子、塩素原子、ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル
基を示し、R6 が水素原子または炭素数1ないし3個を
有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、A
が酸素原子または硫黄原子を示し、Bが結合手、酸素原
子または硫黄原子を示し、mが1ないし3の整数を示
し、Xは窒素原子または基 >CH− を示し、Yが酸
素原子または硫黄原子を示し、Zが水素原子または基
−(CH2 )n −CO2 R7 (式中、R7 は水素原子ま
たは炭素数1ないし4個を有する直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルキル基を示し、nは1ないし2の整数を示
す。)を示す、化合物またはその塩である。
【0030】(4)よりさらに好適には、R1 が水素原
子、炭素数1ないし4個を有する直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルキル基、炭素数1ないし2個を有するアルコキ
シ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基
またはトリフルオロメチル基を示し、R2 が水素原子、
炭素数1ないし2個を有するアルキル基、炭素数1ない
し2個を有するアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、
ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル基を示し、R3
が水素原子、炭素数1ないし4個を有する直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルキル基、炭素数1ないし2個を有する
アルコキシ基、フッ素原子または塩素原子を示し、R4
が水素原子、炭素数1ないし2個を有するアルキル基、
炭素数1ないし2個を有するアルコキシ基、ヒドロキシ
基、フッ素原子、塩素原子またはトリフルオロメチル基
を示し、R5 が水素原子、炭素数1ないし2個を有する
アルキル基、炭素数1ないし2個を有するアルコキシ
基、フッ素原子または塩素原子を示し、R6 が水素原子
または炭素数1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝
鎖状のアルキル基を示し、Aが酸素原子または硫黄原子
を示し、Bが結合手、酸素原子または硫黄原子を示し、
mが1ないし3の整数を示し、Xが窒素原子または基
>CH− を示し、Yが酸素原子または硫黄原子を示
し、Zが水素原子または基 −(CH2 )n −CO2 R
7 (式中、R7 は水素原子または炭素数1ないし4個を
有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、n
は1ないし2の整数を示す。)を示す、化合物またはそ
の塩である。
子、炭素数1ないし4個を有する直鎖状もしくは分枝鎖
状のアルキル基、炭素数1ないし2個を有するアルコキ
シ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基
またはトリフルオロメチル基を示し、R2 が水素原子、
炭素数1ないし2個を有するアルキル基、炭素数1ない
し2個を有するアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、
ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル基を示し、R3
が水素原子、炭素数1ないし4個を有する直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルキル基、炭素数1ないし2個を有する
アルコキシ基、フッ素原子または塩素原子を示し、R4
が水素原子、炭素数1ないし2個を有するアルキル基、
炭素数1ないし2個を有するアルコキシ基、ヒドロキシ
基、フッ素原子、塩素原子またはトリフルオロメチル基
を示し、R5 が水素原子、炭素数1ないし2個を有する
アルキル基、炭素数1ないし2個を有するアルコキシ
基、フッ素原子または塩素原子を示し、R6 が水素原子
または炭素数1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝
鎖状のアルキル基を示し、Aが酸素原子または硫黄原子
を示し、Bが結合手、酸素原子または硫黄原子を示し、
mが1ないし3の整数を示し、Xが窒素原子または基
>CH− を示し、Yが酸素原子または硫黄原子を示
し、Zが水素原子または基 −(CH2 )n −CO2 R
7 (式中、R7 は水素原子または炭素数1ないし4個を
有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、n
は1ないし2の整数を示す。)を示す、化合物またはそ
の塩である。
【0031】(5)最も好適にはR1 が水素原子、炭素
数1ないし4個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアル
キル基、メトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル基を示し、
R2 が水素原子、メチル基、メトキシ基、フッ素原子、
塩素原子、ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル基を
示し、R3 が水素原子、炭素数1ないし4個を有する直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、メトキシ基、フッ
素原子または塩素原子を示し、R4 が水素原子、メチル
基、メトキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子
またはトリフルオロメチル基を示し、R5 が水素原子ま
たはメチル基を示し、R6 が水素原子またはメチル基を
示し、Aが酸素原子または硫黄原子を示し、Bが結合手
または酸素原子を示し、mが1ないし2の整数を示し、
Xが基 >CH− を示し、Yが硫黄原子を示し、Zが
水素原子を示す、化合物またはその塩である。
数1ないし4個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアル
キル基、メトキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル基を示し、
R2 が水素原子、メチル基、メトキシ基、フッ素原子、
塩素原子、ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル基を
示し、R3 が水素原子、炭素数1ないし4個を有する直
鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、メトキシ基、フッ
素原子または塩素原子を示し、R4 が水素原子、メチル
基、メトキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子
またはトリフルオロメチル基を示し、R5 が水素原子ま
たはメチル基を示し、R6 が水素原子またはメチル基を
示し、Aが酸素原子または硫黄原子を示し、Bが結合手
または酸素原子を示し、mが1ないし2の整数を示し、
Xが基 >CH− を示し、Yが硫黄原子を示し、Zが
水素原子を示す、化合物またはその塩である。
【0032】本発明の前記一般式(I)を有する化合物
の具体例としては、例えば下記の表に記載する化合物を
あげることができる。
の具体例としては、例えば下記の表に記載する化合物を
あげることができる。
【0033】
【化7】
【0034】
【表1】
【0035】
【化8】
【0036】
【表2】
【0037】
【化9】
【0038】
【表3】
【0039】
【化10】
【0040】
【表4】 表中、Me=メチル、 Et=エチル、 Pr=プロピル、
iPr =イソプロピル、Bu=ブチル、 tBu =t −ブチ
ル、 Pn=ペンチル、MeO =メトキシ、 EtO =エトキ
シ、 BuO =ブトキシ、PnO =ペンチルオキシ、 CF3
=トリフルオロメチル、を示す。
iPr =イソプロピル、Bu=ブチル、 tBu =t −ブチ
ル、 Pn=ペンチル、MeO =メトキシ、 EtO =エトキ
シ、 BuO =ブトキシ、PnO =ペンチルオキシ、 CF3
=トリフルオロメチル、を示す。
【0041】本発明の前記一般式(I)を有する化合物
は以下に記載する方法によって製造することができる。
は以下に記載する方法によって製造することができる。
【0042】製造法1.
【0043】
【化11】
【0044】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、A、m、XおよびYは前述したものと同意義を示
す。B1 は酸素原子または硫黄原子を示す。Z1 は基
−(CH2 )n −CO2 R7'(式中、R7'は炭素数1な
いし5個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基
を示す。nは前述したものと同意義を示す。)またはト
リチル基を示す。) 1)一般式(IV)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、A、B1 、m、X、YおよびZ1 は前述し
たものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般式
(II)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、Aおよびmは前述したものと同意義を示す。)を
有する化合物と一般式(III)(式中、B1 、X、Y
およびZ1 は前述したものと同意義を示す。)を有する
化合物とを反応させることによって得られる。
R6 、A、m、XおよびYは前述したものと同意義を示
す。B1 は酸素原子または硫黄原子を示す。Z1 は基
−(CH2 )n −CO2 R7'(式中、R7'は炭素数1な
いし5個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基
を示す。nは前述したものと同意義を示す。)またはト
リチル基を示す。) 1)一般式(IV)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、A、B1 、m、X、YおよびZ1 は前述し
たものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般式
(II)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、Aおよびmは前述したものと同意義を示す。)を
有する化合物と一般式(III)(式中、B1 、X、Y
およびZ1 は前述したものと同意義を示す。)を有する
化合物とを反応させることによって得られる。
【0045】反応は、通常の光延反応(O.Mitsunobu ;
シンセシス(Synthesis),1頁(1981年))に準じて行
なわれる。
シンセシス(Synthesis),1頁(1981年))に準じて行
なわれる。
【0046】即ち、反応は通常、溶剤の存在下で好適に
行われる。使用される溶剤としては反応に影響を与えな
ければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン
のような脂肪族炭化水素類;クロロホルム、塩化メチレ
ン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;エチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類;アセトニトリル、プロピオニトリルのような
ニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド
類;またはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。反応
は氷冷下ないし加温下で行なわれる。反応時間は反応試
薬、反応温度などによって異なるが、通常 1 時間ない
し数日間である。好適には溶剤の存在下、1時間ないし
1日間、氷冷下ないし 60℃で行なわれる。
行われる。使用される溶剤としては反応に影響を与えな
ければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタン
のような脂肪族炭化水素類;クロロホルム、塩化メチレ
ン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類;エチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類;アセトニトリル、プロピオニトリルのような
ニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド
類;またはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。反応
は氷冷下ないし加温下で行なわれる。反応時間は反応試
薬、反応温度などによって異なるが、通常 1 時間ない
し数日間である。好適には溶剤の存在下、1時間ないし
1日間、氷冷下ないし 60℃で行なわれる。
【0047】2)更に、一般式(V)(式中、R1 、R
2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、B1 、m、Xおよび
Yは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
は、一般式(IV)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、A、B1 、m、XおよびYは前述したもの
と同意義を示す。)を有する化合物において、Z1 がト
リチル基を有する化合物を脱トリチル化反応に付すこと
によって得られる。
2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、B1 、m、Xおよび
Yは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
は、一般式(IV)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、A、B1 、m、XおよびYは前述したもの
と同意義を示す。)を有する化合物において、Z1 がト
リチル基を有する化合物を脱トリチル化反応に付すこと
によって得られる。
【0048】反応は通常の方法、例えばT.W.Green ,プ
ロテクティブ グループス インオーガニック シンセ
シス(Protective Groups in Organic Synthesis),Jo
hnWiley & Sons ;J.F.W.McOmie,プロテクティブ グ
ループス イン オーガニック ケミストリー(Protec
tive Groups in Organic Chemistry),Plenum Press;
の記載に準じて行なわれる。
ロテクティブ グループス インオーガニック シンセ
シス(Protective Groups in Organic Synthesis),Jo
hnWiley & Sons ;J.F.W.McOmie,プロテクティブ グ
ループス イン オーガニック ケミストリー(Protec
tive Groups in Organic Chemistry),Plenum Press;
の記載に準じて行なわれる。
【0049】即ち、反応は通常、溶剤の存在下または非
存在下で塩酸のような無機酸、トリフルオロ酢酸のよう
な有機酸と反応させることにより行われる。使用される
溶剤としては、反応に影響を与えなければ特に限定はな
く例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族
炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水
素類;クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のよう
なハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン,ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン
酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド
のようなスルホキシド類;またはこれらの混合溶剤が好
適に用いられる。反応は氷冷下ないし加温下で行われ
る。反応時間は反応試薬、反応温度などによって異なる
が、通常、1 時間ないし数日間である。好適にはトリフ
ルオロ酢酸の存在下で、1時間ないし 1日間、氷冷下
ないし 60℃で行われる。
存在下で塩酸のような無機酸、トリフルオロ酢酸のよう
な有機酸と反応させることにより行われる。使用される
溶剤としては、反応に影響を与えなければ特に限定はな
く例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族
炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水
素類;クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のよう
なハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン,ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン
酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド
のようなスルホキシド類;またはこれらの混合溶剤が好
適に用いられる。反応は氷冷下ないし加温下で行われ
る。反応時間は反応試薬、反応温度などによって異なる
が、通常、1 時間ないし数日間である。好適にはトリフ
ルオロ酢酸の存在下で、1時間ないし 1日間、氷冷下
ないし 60℃で行われる。
【0050】製造法2.
【0051】
【化12】
【0052】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、A、B1 、m、X、YおよびZ1 は前述したもの
と同意義を示す。Suはメタンスルホニル、p−トルエ
ンスルホニルのようなスルホン酸残基を示す。Mはアル
カリ金属を示す。) 1)一般式(VI)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、A、mおよびSuは前述したものと同意義
を示す。)を有する化合物は、一般式(II)(式中、
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、Aおよびmは前
述したものと同意義を示す。)を有する化合物をスルホ
ン化することによって得られる。
R6 、A、B1 、m、X、YおよびZ1 は前述したもの
と同意義を示す。Suはメタンスルホニル、p−トルエ
ンスルホニルのようなスルホン酸残基を示す。Mはアル
カリ金属を示す。) 1)一般式(VI)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、A、mおよびSuは前述したものと同意義
を示す。)を有する化合物は、一般式(II)(式中、
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、Aおよびmは前
述したものと同意義を示す。)を有する化合物をスルホ
ン化することによって得られる。
【0053】スルホン化反応は通常のスルホン化反応に
準じて行なわれる。使用されるスルホン化剤としては例
えば、メタンスルホニルクロリドまたはp−トルエンス
ルホニルクロリドのようなスルホニルハライドなどがあ
げられる。反応は炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよう
なアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムのようなア
ルカリ金属炭酸水素塩;トリエチルアミンのような脂肪
族アミン類;ピリジンのような複素環化合物;などの脱
酸剤の存在下または非存在下で行なわれる。反応は通
常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶剤
としては、反応に影響を与えなければ特に限定はなく例
えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類;クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン,ジオキサンのようなエーテル類;アセトニトリ
ル、プロピオニトリルのようなニトリル類;ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン
酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド
のようなスルホキシド類;またはこれらの混合溶剤が好
適に用いられる。反応は氷冷下ないし加温下で行なわれ
る。反応時間は反応試薬、反応温度などによって異なる
が、通常 1時間ないし数日間である。好適にはトリエ
チルアミンの存在下、1時間ないし 1日間、氷冷下な
いし 60℃で行なわれる。
準じて行なわれる。使用されるスルホン化剤としては例
えば、メタンスルホニルクロリドまたはp−トルエンス
ルホニルクロリドのようなスルホニルハライドなどがあ
げられる。反応は炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよう
なアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムのようなア
ルカリ金属炭酸水素塩;トリエチルアミンのような脂肪
族アミン類;ピリジンのような複素環化合物;などの脱
酸剤の存在下または非存在下で行なわれる。反応は通
常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶剤
としては、反応に影響を与えなければ特に限定はなく例
えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類;クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン,ジオキサンのようなエーテル類;アセトニトリ
ル、プロピオニトリルのようなニトリル類;ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン
酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド
のようなスルホキシド類;またはこれらの混合溶剤が好
適に用いられる。反応は氷冷下ないし加温下で行なわれ
る。反応時間は反応試薬、反応温度などによって異なる
が、通常 1時間ないし数日間である。好適にはトリエ
チルアミンの存在下、1時間ないし 1日間、氷冷下な
いし 60℃で行なわれる。
【0054】2)次いで、一般式(IV)(式中、
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、B1 、m、
X、YおよびZ1 は前述したものと同意義を示す。)を
有する化合物は、一般式(VI)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 、A、mおよびSuは前述した
ものと同意義を示す。)を有するスルホン酸エステル
と、一般式(VII) (式中、B1 、X、Y、Z1 およ
びMは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
とを反応させることによって得られる。
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、B1 、m、
X、YおよびZ1 は前述したものと同意義を示す。)を
有する化合物は、一般式(VI)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 、A、mおよびSuは前述した
ものと同意義を示す。)を有するスルホン酸エステル
と、一般式(VII) (式中、B1 、X、Y、Z1 およ
びMは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
とを反応させることによって得られる。
【0055】反応は通常、溶剤の存在下で好適に行われ
る。使用される溶剤としては、反応に影響を与えなけれ
ば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのよ
うな脂肪族炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン,ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸
トリアミドのようなアミド類;またはこれらの混合溶剤
が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし加温下で行な
われる。反応時間は反応試薬、反応温度などによって異
なるが、通常1時間ないし数日間である。好適には溶剤
の存在下、 1時間ないし 1日間、氷冷下ないし 6
0℃で行なわれる。
る。使用される溶剤としては、反応に影響を与えなけれ
ば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのよ
うな脂肪族炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン,ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸
トリアミドのようなアミド類;またはこれらの混合溶剤
が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし加温下で行な
われる。反応時間は反応試薬、反応温度などによって異
なるが、通常1時間ないし数日間である。好適には溶剤
の存在下、 1時間ないし 1日間、氷冷下ないし 6
0℃で行なわれる。
【0056】製造法3.
【0057】
【化13】
【0058】1) 一般式(I)を有する化合物におい
て、Zが基−(CH2) n−CO2 R7(基中、nおよび
R7 は前述したものと同意義を示す。)である一般式
(IX)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、A、B、m、X、Y、R7 およびnは前述したも
のと同意義を示す。)を有する化合物は、一般式(VI
II)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、
A、B、m、XおよびYは前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物と、一般式 Halo1 −(CH
2)n −CO2 R7 (式中、R7 およびnは前述と同意
義を示す。Halo1 は塩素原子、臭素原子あるいはヨ
ウ素原子のようなハロゲン原子を示す。)を有する化合
物とを塩基の存在下で反応させることにより製造され
る。
て、Zが基−(CH2) n−CO2 R7(基中、nおよび
R7 は前述したものと同意義を示す。)である一般式
(IX)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、A、B、m、X、Y、R7 およびnは前述したも
のと同意義を示す。)を有する化合物は、一般式(VI
II)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、
A、B、m、XおよびYは前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物と、一般式 Halo1 −(CH
2)n −CO2 R7 (式中、R7 およびnは前述と同意
義を示す。Halo1 は塩素原子、臭素原子あるいはヨ
ウ素原子のようなハロゲン原子を示す。)を有する化合
物とを塩基の存在下で反応させることにより製造され
る。
【0059】反応は通常、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムの
ようなアルカリ金属炭酸水素塩;トリエチルアミンのよ
うな脂肪族アミン類;ピリジンのような複素環化合物;
カリウムt−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキ
シド類;などの脱酸剤の存在下で行なわれる。反応は通
常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶剤
としては、反応に影響を与えなければ特に限定はなく例
えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類;クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸
トリアミドのようなアミド類;アセトニトリル、プロピ
オニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチ
ルケトン、ジエチルケトンのようなケトン類;またはこ
れらの混合溶剤が好適に用いられる。反応は室温ないし
加温下で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度な
どによって異なるが、通常1時間ないし数日間である。
好適にはアミド類、ケトン類の溶剤中で 3時間ないし
3日間、室温ないし 60℃で行なわれる。
ムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムの
ようなアルカリ金属炭酸水素塩;トリエチルアミンのよ
うな脂肪族アミン類;ピリジンのような複素環化合物;
カリウムt−ブトキシドのようなアルカリ金属アルコキ
シド類;などの脱酸剤の存在下で行なわれる。反応は通
常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶剤
としては、反応に影響を与えなければ特に限定はなく例
えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素
類;クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸
トリアミドのようなアミド類;アセトニトリル、プロピ
オニトリルのようなニトリル類;アセトン、メチルエチ
ルケトン、ジエチルケトンのようなケトン類;またはこ
れらの混合溶剤が好適に用いられる。反応は室温ないし
加温下で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度な
どによって異なるが、通常1時間ないし数日間である。
好適にはアミド類、ケトン類の溶剤中で 3時間ないし
3日間、室温ないし 60℃で行なわれる。
【0060】また、上記反応において脱酸剤を用いる代
わりに、先ず水素化ナトリウムあるいは水素化カリウム
などのようなアルカリ金属水素化物で処理した後に上記
ハロゲン化物と反応させることによっても達成できる。
反応は通常、上記溶剤中、氷冷下ないし 60℃にて
1時間ないし 3日間、アルカリ金属水素化物と反応さ
せる。次いで上記ハロゲン化物と上記反応条件下に反応
させることによって行われる。
わりに、先ず水素化ナトリウムあるいは水素化カリウム
などのようなアルカリ金属水素化物で処理した後に上記
ハロゲン化物と反応させることによっても達成できる。
反応は通常、上記溶剤中、氷冷下ないし 60℃にて
1時間ないし 3日間、アルカリ金属水素化物と反応さ
せる。次いで上記ハロゲン化物と上記反応条件下に反応
させることによって行われる。
【0061】2)更に、一般式(I)を有する化合物に
おいて、Zが基−(CH2) n−CO2Hである一般式
(X)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、
A、B、m、X、Y、およびnは前述したものと同意義
を示す。)を有する化合物は、一般式(IX)(式中、
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、B、m、
X、Y、およびnは前述したものと同意義を示す。)を
有する化合物の中でR7 が低級アルキル基である化合物
をエステル加水分解することによって製造される。
おいて、Zが基−(CH2) n−CO2Hである一般式
(X)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、
A、B、m、X、Y、およびnは前述したものと同意義
を示す。)を有する化合物は、一般式(IX)(式中、
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、B、m、
X、Y、およびnは前述したものと同意義を示す。)を
有する化合物の中でR7 が低級アルキル基である化合物
をエステル加水分解することによって製造される。
【0062】反応は通常、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのようなアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水
素ナトリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;などの
塩基の存在下または塩化水素、硫酸、硝酸、リン酸、塩
酸などの無機酸の存在下で行なわれる。反応は通常、溶
剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶剤として
は、反応に影響を与えなければ特に限定はなく例えば、
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類;ク
ロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドのようなアミド類;メタノール、エタノール、イ
ソプロパノールのようなアルコール類;ジメチルスルホ
キシドのようなスルホキシド類;アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類;アセトニトリル、プロピオ
ニトリルのようなニトリル類;水またはこれらの混合溶
剤が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし加温下で行
なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度などによって
異なるが、通常 1時間ないし数日間である。好適には
アルコール類、アミド類、エーテル類、ケトン類または
これらと水との混合溶剤中で 3時間ないし 3日間、
室温ないし 60℃で行なわれる。
リウムのようなアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水
素ナトリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;などの
塩基の存在下または塩化水素、硫酸、硝酸、リン酸、塩
酸などの無機酸の存在下で行なわれる。反応は通常、溶
剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶剤として
は、反応に影響を与えなければ特に限定はなく例えば、
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類;ク
ロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドのようなアミド類;メタノール、エタノール、イ
ソプロパノールのようなアルコール類;ジメチルスルホ
キシドのようなスルホキシド類;アセトン、メチルエチ
ルケトンのようなケトン類;アセトニトリル、プロピオ
ニトリルのようなニトリル類;水またはこれらの混合溶
剤が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし加温下で行
なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度などによって
異なるが、通常 1時間ないし数日間である。好適には
アルコール類、アミド類、エーテル類、ケトン類または
これらと水との混合溶剤中で 3時間ないし 3日間、
室温ないし 60℃で行なわれる。
【0063】製造法4.一般式(II)を有する化合物
において、Aが酸素原子である化合物は以下の方法によ
り製造される。
において、Aが酸素原子である化合物は以下の方法によ
り製造される。
【0064】
【化14】
【0065】1)一般式(XIII)(式中、R1 、R
2 、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物は、一般式(XI)(式中、
R1 、R2、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同
意義を示す。)を有するアミノアルコール化合物(例え
ば、D.T.Collin,ジャーナル オブ メディシナル ケ
ミストリー(J.Med.Chem.)、第 13 巻、674 −680 頁(1
970 年) 、および特開平6−25118号参照)と一般
式(XII)(式中、Halo2 およびHalo3 は塩
素原子、臭素原子あるいはヨウ素原子のようなハロゲン
原子を示す。)を有するハロアセチルハライドとを反応
させることによって得られる。
2 、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物は、一般式(XI)(式中、
R1 、R2、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同
意義を示す。)を有するアミノアルコール化合物(例え
ば、D.T.Collin,ジャーナル オブ メディシナル ケ
ミストリー(J.Med.Chem.)、第 13 巻、674 −680 頁(1
970 年) 、および特開平6−25118号参照)と一般
式(XII)(式中、Halo2 およびHalo3 は塩
素原子、臭素原子あるいはヨウ素原子のようなハロゲン
原子を示す。)を有するハロアセチルハライドとを反応
させることによって得られる。
【0066】反応に使用されるハロアセチルハライドと
しては例えば、クロロアセチルクロリド、ブロモアセチ
ルクロリド、ブロモアセチルブロミドなどがあげられ
る。反応は通常、水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ようなアルカリ金属水素化物;トリエチルアミンのよう
な脂肪族アミン類;ピリジンのような複素環化合物;な
どの脱酸剤の存在下で好適に行われる。反応は通常、溶
剤の存在下で好適に行われる。使用される溶剤として
は、反応に影響を与えなければ特に限定はなく例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類;ク
ロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド類、ス
ルホランまたはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。
反応は氷冷下ないし加熱還流下で行なわれる。反応時間
は反応試薬、反応温度などによって異なるが、通常
0.5時間ないし 1日間である。好適にはエーテル
類、アミド類の溶剤中で 1時間ないし 10時間、氷
冷下ないし加熱還流下で行なわれる。
しては例えば、クロロアセチルクロリド、ブロモアセチ
ルクロリド、ブロモアセチルブロミドなどがあげられ
る。反応は通常、水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ようなアルカリ金属水素化物;トリエチルアミンのよう
な脂肪族アミン類;ピリジンのような複素環化合物;な
どの脱酸剤の存在下で好適に行われる。反応は通常、溶
剤の存在下で好適に行われる。使用される溶剤として
は、反応に影響を与えなければ特に限定はなく例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類;ク
ロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドのようなアミド類;ジメチルスルホキシド類、ス
ルホランまたはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。
反応は氷冷下ないし加熱還流下で行なわれる。反応時間
は反応試薬、反応温度などによって異なるが、通常
0.5時間ないし 1日間である。好適にはエーテル
類、アミド類の溶剤中で 1時間ないし 10時間、氷
冷下ないし加熱還流下で行なわれる。
【0067】2)次に、一般式(XIV)(式中、
R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同
意義を示す。)を有する化合物は、一般式(XIII)
(式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は前述した
ものと同意義を示す。)を有する化合物を還元すること
によって得られる。
R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同
意義を示す。)を有する化合物は、一般式(XIII)
(式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は前述した
ものと同意義を示す。)を有する化合物を還元すること
によって得られる。
【0068】反応は通常、還元剤の存在下で行なわれ
る。使用される還元剤としては例えば水素化ホウ素リチ
ウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチ
ルアルミニウムのような金属水素化物が用いられる。反
応は通常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用され
る溶剤としては、反応に影響を与えなければ特に限定は
なく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭
化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、
イソプロパノールのようなアルコール類;またはこれら
の混合溶剤が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし加
温下で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度など
によって異なるが、通常 0.5時間ないし数日間であ
る。好適にはアルコール溶剤中で水素化ホウ素リチウム
の存在下、 1時間ないし 10時間、室温ないし加熱
還流下に行なわれるか、エーテル類溶剤中で水素化アル
ミニウムリチウムの存在下、1時間ないし 1日間、氷
冷下ないし加熱還流下に行なわれる。
る。使用される還元剤としては例えば水素化ホウ素リチ
ウム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジイソブチ
ルアルミニウムのような金属水素化物が用いられる。反
応は通常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用され
る溶剤としては、反応に影響を与えなければ特に限定は
なく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭
化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、
イソプロパノールのようなアルコール類;またはこれら
の混合溶剤が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし加
温下で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度など
によって異なるが、通常 0.5時間ないし数日間であ
る。好適にはアルコール溶剤中で水素化ホウ素リチウム
の存在下、 1時間ないし 10時間、室温ないし加熱
還流下に行なわれるか、エーテル類溶剤中で水素化アル
ミニウムリチウムの存在下、1時間ないし 1日間、氷
冷下ないし加熱還流下に行なわれる。
【0069】3)次に、一般式(XVI)(式中、
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 およびmは前述し
たものと同意義を示す。R8 は炭素数1ないし5個を有
する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示す。)を
有する化合物は,一般式(XIV)(式中、R1 、
R2 、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同意義を
示す。)を有する化合物と一般式(XV)(式中、
R6 、R8 およびmは前述したものと同意義を示す。H
alo4 は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子のよう
なハロゲン原子を示す。)を有する化合物とを反応させ
ることによって得られる。
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 およびmは前述し
たものと同意義を示す。R8 は炭素数1ないし5個を有
する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示す。)を
有する化合物は,一般式(XIV)(式中、R1 、
R2 、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同意義を
示す。)を有する化合物と一般式(XV)(式中、
R6 、R8 およびmは前述したものと同意義を示す。H
alo4 は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子のよう
なハロゲン原子を示す。)を有する化合物とを反応させ
ることによって得られる。
【0070】反応は通常、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムの
ようなアルカリ金属炭酸水素塩;トリエチルアミンのよ
うな脂肪族アミン類;ピリジンのような複素環化合物;
などの脱酸剤の存在下または非存在下で行なわれる。反
応は通常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用され
る溶剤としては、反応に影響を与えなけば特に限定はな
く例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化
水素類;クロロホルム、塩化メチレン,四塩化炭素よう
なハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;アセトニト
リル、プロピオニトリルのようなニトリル類;アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類;ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン
酸トリアミドのようなアミド類;メタノール、エタノー
ル、イソプロパノールのようなアルコール類;ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類;またはこれらの
混合溶剤が好適に用いられる。反応は室温ないし加温下
で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度などによ
って異なるが、通常1時間ないし数日間である。好適に
は室温ないし 60℃で 1時間ないし 1日である。
ムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムの
ようなアルカリ金属炭酸水素塩;トリエチルアミンのよ
うな脂肪族アミン類;ピリジンのような複素環化合物;
などの脱酸剤の存在下または非存在下で行なわれる。反
応は通常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用され
る溶剤としては、反応に影響を与えなけば特に限定はな
く例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化
水素類;クロロホルム、塩化メチレン,四塩化炭素よう
なハロゲン化炭化水素類、エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;アセトニト
リル、プロピオニトリルのようなニトリル類;アセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類;ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン
酸トリアミドのようなアミド類;メタノール、エタノー
ル、イソプロパノールのようなアルコール類;ジメチル
スルホキシドのようなスルホキシド類;またはこれらの
混合溶剤が好適に用いられる。反応は室温ないし加温下
で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度などによ
って異なるが、通常1時間ないし数日間である。好適に
は室温ないし 60℃で 1時間ないし 1日である。
【0071】4)一般式(II)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 およびmは前述したものと同意
義を示す。但し、Aは酸素原子を示す。)を有する化合
物は一般式(XVI)(式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物を還元することによって得
られる。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じ
て行われる。
R3 、R4 、R5 、R6 およびmは前述したものと同意
義を示す。但し、Aは酸素原子を示す。)を有する化合
物は一般式(XVI)(式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物を還元することによって得
られる。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じ
て行われる。
【0072】5)また、一般式(XVII)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前
述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般
式(XIII)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 および
R5 は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
をアルカリ金属塩とした後、一般式(XV)(式中、R
6 、R8 、m、およびHalo4 は前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物と反応させることによって
得られる。
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前
述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般
式(XIII)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 および
R5 は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
をアルカリ金属塩とした後、一般式(XV)(式中、R
6 、R8 、m、およびHalo4 は前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物と反応させることによって
得られる。
【0073】一般式(XIII)を有する化合物をアル
カリ金属塩とする反応は通常、溶剤の存在下で好適に行
なわれる。使用される溶剤としては、反応に影響を与え
なければ特に限定はなく、例えばエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドのようなアミド類;またはこれらの
混合溶剤が好適に用いられる。アルキル金属塩を生成さ
せる試薬としては、ブチルリチウムのようなアルキル−
アルカリ金属化合物;リチウムジイソプロピルアミド、
リチウムアミド、ナトリウムアミドのようなアルカリ金
属アミド類;水素化ナトリウム、水素化カリウムのよう
なアルカリ金属水素化物;カリウムt−ブトキシドのよ
うなアルカリ金属アルコキシド類;などが用いられる。
反応は氷冷下ないし加温下で行なわれる。反応時間は反
応試薬、反応温度などによって異なるが、通常 1時間
ないし数日間である。好適にはアミド類の溶剤中で、水
素化ナトリウムを用い氷冷下ないし 50℃にて 1時
間ないし 10時間で行なわれる。
カリ金属塩とする反応は通常、溶剤の存在下で好適に行
なわれる。使用される溶剤としては、反応に影響を与え
なければ特に限定はなく、例えばエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドのようなアミド類;またはこれらの
混合溶剤が好適に用いられる。アルキル金属塩を生成さ
せる試薬としては、ブチルリチウムのようなアルキル−
アルカリ金属化合物;リチウムジイソプロピルアミド、
リチウムアミド、ナトリウムアミドのようなアルカリ金
属アミド類;水素化ナトリウム、水素化カリウムのよう
なアルカリ金属水素化物;カリウムt−ブトキシドのよ
うなアルカリ金属アルコキシド類;などが用いられる。
反応は氷冷下ないし加温下で行なわれる。反応時間は反
応試薬、反応温度などによって異なるが、通常 1時間
ないし数日間である。好適にはアミド類の溶剤中で、水
素化ナトリウムを用い氷冷下ないし 50℃にて 1時
間ないし 10時間で行なわれる。
【0074】次に、一般式(XIII)を有する化合物
のアルカリ金属塩と一般式(XV)を有する化合物との
反応は通常、溶剤の存在下に好適に行なわれる。使用さ
れる溶剤としては、通常、前記溶剤が特に限定なく使用
される。反応は溶剤中、氷冷下ないし加温下に行なわれ
る。反応時間は、反応試薬、反応温度などによって異な
るが、通常 1時間ないし数日間である。好適には氷冷
下ないし 60℃にて1時間ないし 1日である。
のアルカリ金属塩と一般式(XV)を有する化合物との
反応は通常、溶剤の存在下に好適に行なわれる。使用さ
れる溶剤としては、通常、前記溶剤が特に限定なく使用
される。反応は溶剤中、氷冷下ないし加温下に行なわれ
る。反応時間は、反応試薬、反応温度などによって異な
るが、通常 1時間ないし数日間である。好適には氷冷
下ないし 60℃にて1時間ないし 1日である。
【0075】6)一般式(II)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 およびmは前述したものと同意
義を示す。但し、Aは酸素原子を示す。)を有する化合
物は、一般式(XVII)(式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物を還元することによって得
られる。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じ
て行われる。
R3 、R4 、R5 、R6 およびmは前述したものと同意
義を示す。但し、Aは酸素原子を示す。)を有する化合
物は、一般式(XVII)(式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物を還元することによって得
られる。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じ
て行われる。
【0076】製造法5.一般式(II)を有する化合物
において、Aが硫黄原子である化合物は以下の方法によ
り製造される。
において、Aが硫黄原子である化合物は以下の方法によ
り製造される。
【0077】
【化15】
【0078】1)一般式(XIX)(式中、R1 、
R2 、R3 、R4 、R5 およびSuは前述したものと同
意義を示す。R9 は炭素数1ないし5個を有する直鎖状
または分枝鎖状のアルキル基を示す。)を有する化合物
は、一般式(XVIII)(式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 およびR9 は前述したものと同意義を示
す。)を有するマンデル酸エステルとスルホニルハライ
ドとを反応させることによって得られる。反応に使用さ
れるスルホニルハライドとしては例えば、メタンスルホ
ニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリドなどを
あげることができる。反応は通常、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナト
リウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;トリエチルア
ミンのような脂肪族アミン類;ピリジンのような複素環
化合物;などの脱酸剤の存在下で好適に行なわれる。反
応は通常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用され
る溶剤としては、反応に影響を与えなければ特に限定は
なく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭
化水素類;クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素の
ようなハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;アセト
ニトリル、プロピオニトリルのようなニトリル類;ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホ
キシドのようなスルホキシド類;またはこれらの混合溶
剤が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし加温下で行
なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度などによって
異なるが、通常 1時間ないし 1日間である。好適に
は氷冷下ないし 60℃で 1時間ないし 10時間で
ある。
R2 、R3 、R4 、R5 およびSuは前述したものと同
意義を示す。R9 は炭素数1ないし5個を有する直鎖状
または分枝鎖状のアルキル基を示す。)を有する化合物
は、一般式(XVIII)(式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 およびR9 は前述したものと同意義を示
す。)を有するマンデル酸エステルとスルホニルハライ
ドとを反応させることによって得られる。反応に使用さ
れるスルホニルハライドとしては例えば、メタンスルホ
ニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリドなどを
あげることができる。反応は通常、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナト
リウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;トリエチルア
ミンのような脂肪族アミン類;ピリジンのような複素環
化合物;などの脱酸剤の存在下で好適に行なわれる。反
応は通常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用され
る溶剤としては、反応に影響を与えなければ特に限定は
なく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳
香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭
化水素類;クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素の
ようなハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;アセト
ニトリル、プロピオニトリルのようなニトリル類;ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドのようなアミド類;ジメチルスルホ
キシドのようなスルホキシド類;またはこれらの混合溶
剤が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし加温下で行
なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度などによって
異なるが、通常 1時間ないし 1日間である。好適に
は氷冷下ないし 60℃で 1時間ないし 10時間で
ある。
【0079】2)一般式(XX)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 およびR5 は前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物は、一般式(XIX)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 およびR9 は前述したもの
と同意義を示す。)を有する化合物と2−アミノエチル
メルカプタンまたはそのアルカリ金属塩とを反応させる
ことによって得られる。
R3 、R4 およびR5 は前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物は、一般式(XIX)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 およびR9 は前述したもの
と同意義を示す。)を有する化合物と2−アミノエチル
メルカプタンまたはそのアルカリ金属塩とを反応させる
ことによって得られる。
【0080】反応は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムのよう
なアルカリ金属炭酸水素塩;トリエチルアミンのような
脂肪族アミン類;ピリジンのような複素環化合物;など
の脱酸剤の存在下または非存在下で行なわれる。反応は
通常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶
剤としては、反応に影響を与えなければ特に限定はな
く、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化
水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのよ
うなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキ
シド類;またはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。
反応は氷冷下ないし加温下に行なわれる。反応時間は反
応試薬、反応温度などによって異なるが、通常 1時間
ないし数日間である。好適には氷冷下ないし 80℃で
1時間ないし 1日間である。
ようなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムのよう
なアルカリ金属炭酸水素塩;トリエチルアミンのような
脂肪族アミン類;ピリジンのような複素環化合物;など
の脱酸剤の存在下または非存在下で行なわれる。反応は
通常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶
剤としては、反応に影響を与えなければ特に限定はな
く、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化
水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのよ
うなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなスルホキ
シド類;またはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。
反応は氷冷下ないし加温下に行なわれる。反応時間は反
応試薬、反応温度などによって異なるが、通常 1時間
ないし数日間である。好適には氷冷下ないし 80℃で
1時間ないし 1日間である。
【0081】3)一般式(XXI)(式中、R1 、
R2 、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同意義を
示す。)を有する化合物は、一般式(XX)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物を還元することによって得
られる。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じ
て行われる。
R2 、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同意義を
示す。)を有する化合物は、一般式(XX)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物を還元することによって得
られる。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じ
て行われる。
【0082】4)次に、一般式(XXII)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前
述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般
式(XXI)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびR
5 は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物と
一般式(XV)(式中、R6 、R8 、mおよびHalo
4 は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物と
を反応させることによって得られる。反応は前述した製
造法4.の3)の記載に準じて行われる。
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前
述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般
式(XXI)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびR
5 は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物と
一般式(XV)(式中、R6 、R8 、mおよびHalo
4 は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物と
を反応させることによって得られる。反応は前述した製
造法4.の3)の記載に準じて行われる。
【0083】5)一般式(II)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 およびmは前述したものと同意
義を示す。但し、Aは硫黄原子を示す。)を有する化合
物は一般式(XXII)(式中、R1 、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 、R8 およびmは前述したものと同意義
を示す。)を有する化合物を還元することによって得ら
れる。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じて
行われる。
R3 、R4 、R5 、R6 およびmは前述したものと同意
義を示す。但し、Aは硫黄原子を示す。)を有する化合
物は一般式(XXII)(式中、R1 、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 、R8 およびmは前述したものと同意義
を示す。)を有する化合物を還元することによって得ら
れる。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じて
行われる。
【0084】6)また、一般式(XXIII)(式中、
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6、R8 およびmは
前述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一
般式(XX)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびR
5 は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物を
アルカリ金属塩とした後、一般式(XV)(式中、R6、
R8 、mおよびHalo4 は前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物と反応させることによって得られ
る。反応は前述した製造法4.の5)の記載に準じて行
われる。
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6、R8 およびmは
前述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一
般式(XX)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびR
5 は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物を
アルカリ金属塩とした後、一般式(XV)(式中、R6、
R8 、mおよびHalo4 は前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物と反応させることによって得られ
る。反応は前述した製造法4.の5)の記載に準じて行
われる。
【0085】7)一般式(II)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 およびmは前述したものと同意
義を示す。但し、Aは硫黄原子を示す。)を有する化合
物は一般式(XXIII)(式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物を還元することによって得
られる。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じ
て行われる。
R3 、R4 、R5 、R6 およびmは前述したものと同意
義を示す。但し、Aは硫黄原子を示す。)を有する化合
物は一般式(XXIII)(式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物を還元することによって得
られる。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じ
て行われる。
【0086】製造法6.一般式(XXVIII)および
一般式(XXX) (但し、一般式(I)の中、Aが酸素
原子である化合物)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、B、m、X、YおよびZ1 は前述したもの
とと同意義を示す。)を有する化合物は以下の方法によ
っても製造される。
一般式(XXX) (但し、一般式(I)の中、Aが酸素
原子である化合物)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、B、m、X、YおよびZ1 は前述したもの
とと同意義を示す。)を有する化合物は以下の方法によ
っても製造される。
【0087】
【化16】
【0088】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、B、m、X、Y、Z1 、Halo2 およびHal
o3 は前述したものと同意義を示す。R9 は炭素数1な
いし5個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基
を示す。) 1)一般式(XXV)(式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、B、mおよびR9 は前述したものと
同意義を示す。)を有する化合物は、一般式(XXI
V)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、
B、mおよびR9 は前述したものと同意義を示す。)を
有するアミノアルコール化合物(特開昭55−9085
号)とクロロアセチルクロリド、ブロモアセチルクロリ
ドまたはブロモアセチルブロミドのような一般式(XI
I)(式中、Halo2 およびHalo3 は前述したも
のと同意義を示す。)を有するハロアセチルハライドと
を反応させることによって得られる。反応は前述した製
造法4.の1)の記載に準じて行われる。
R6 、B、m、X、Y、Z1 、Halo2 およびHal
o3 は前述したものと同意義を示す。R9 は炭素数1な
いし5個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基
を示す。) 1)一般式(XXV)(式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、B、mおよびR9 は前述したものと
同意義を示す。)を有する化合物は、一般式(XXI
V)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、
B、mおよびR9 は前述したものと同意義を示す。)を
有するアミノアルコール化合物(特開昭55−9085
号)とクロロアセチルクロリド、ブロモアセチルクロリ
ドまたはブロモアセチルブロミドのような一般式(XI
I)(式中、Halo2 およびHalo3 は前述したも
のと同意義を示す。)を有するハロアセチルハライドと
を反応させることによって得られる。反応は前述した製
造法4.の1)の記載に準じて行われる。
【0089】2)次に、一般式(XXVI)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、Bおよびmは前述
したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般式
(XXV)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 、B、mおよびR9 は前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物を還元することによって得られ
る。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じて行
われる。
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、Bおよびmは前述
したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般式
(XXV)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
6 、B、mおよびR9 は前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物を還元することによって得られ
る。反応は前述した製造法4.の2)の記載に準じて行
われる。
【0090】3)次に、一般式(XXVII) (式中、
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6、Bおよびmは前
述したものと同意義を示す。Qはメタンスルホニルオキ
シ、p−トルエンスルホニルオキシのようなスルホニル
オキシ基または塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のよう
なハロゲン原子を示す。)を有する化合物は、一般式
(XXVI)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、Bおよびmは前述したものと同意義を示す。)を
有する化合物をメタンスルホニルクロリドまたはp−ト
ルエンスルホニルクロリドのようなスルホン化剤と処理
するか、または塩化水素、チオニルクロリド、三塩化リ
ン、五塩化リン、チオニルブロミド、三臭化リンのよう
なハロゲン化剤と処理することによって得られる。スル
ホン化の反応は前述した製造法5.の1)の記載に準じ
て行われる。
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6、Bおよびmは前
述したものと同意義を示す。Qはメタンスルホニルオキ
シ、p−トルエンスルホニルオキシのようなスルホニル
オキシ基または塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子のよう
なハロゲン原子を示す。)を有する化合物は、一般式
(XXVI)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、Bおよびmは前述したものと同意義を示す。)を
有する化合物をメタンスルホニルクロリドまたはp−ト
ルエンスルホニルクロリドのようなスルホン化剤と処理
するか、または塩化水素、チオニルクロリド、三塩化リ
ン、五塩化リン、チオニルブロミド、三臭化リンのよう
なハロゲン化剤と処理することによって得られる。スル
ホン化の反応は前述した製造法5.の1)の記載に準じ
て行われる。
【0091】ハロゲン化は通常の方法、例えば、L.F.Fi
eser & M.Fieser リエージェンツフォー オルガニック
シンセシス(Reagents for Qrganie Synthesis),John
Wiley and Sons , Inc .の記載に準じて行なわれる。
即ち、反応は通常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。
使用される溶剤としては反応に影響を与えなければ特に
限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂
肪族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化
炭素のようなハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルリン酸トリアミドのようなアミド類;またはこれ
らの混合溶剤が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし
加温下で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度な
どによって異なるが、通常1時間ないし数日間である。
好適には溶剤の存在下、1時間ないし 1日間、氷冷下
ないし 60℃で行なわれる。
eser & M.Fieser リエージェンツフォー オルガニック
シンセシス(Reagents for Qrganie Synthesis),John
Wiley and Sons , Inc .の記載に準じて行なわれる。
即ち、反応は通常、溶剤の存在下で好適に行なわれる。
使用される溶剤としては反応に影響を与えなければ特に
限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂
肪族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化
炭素のようなハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルリン酸トリアミドのようなアミド類;またはこれ
らの混合溶剤が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし
加温下で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度な
どによって異なるが、通常1時間ないし数日間である。
好適には溶剤の存在下、1時間ないし 1日間、氷冷下
ないし 60℃で行なわれる。
【0092】4) 一般式(XXVIII)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、B、m、X、Yお
よびZ1 は前述したものと同意義を示す。)を有する化
合物は、一般式(XXVII)(式中、R1 、R2 、R
3 、R4 、R5 、R6 、B、mおよびQは前述したもの
と同意義を示す。)を示す化合物と一般式(XXIX)
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、B、m、X、Yお
よびZ1 は前述したものと同意義を示す。)を有する化
合物は、一般式(XXVII)(式中、R1 、R2 、R
3 、R4 、R5 、R6 、B、mおよびQは前述したもの
と同意義を示す。)を示す化合物と一般式(XXIX)
【0093】
【化17】
【0094】(式中、X、YおよびZ1 は前述したもの
と同意義を示す。Mはリチウム、ナトリウムまたはカリ
ウムのようなアルカリ金属原子を示す。)を有する化合
物とを反応させることによって得られる。
と同意義を示す。Mはリチウム、ナトリウムまたはカリ
ウムのようなアルカリ金属原子を示す。)を有する化合
物とを反応させることによって得られる。
【0095】反応は通常、溶剤の存在下で好適に行なわ
れる。使用される溶剤としては反応に影響を与えなけれ
ば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのよ
うな脂肪族炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸
トリアミドのようなアミド類;またはこれらの混合溶剤
が好適に用いられる。反応温度は−76 ℃ないし加温下
で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度などによ
って異なるが、通常 1時間ないし数日間である。好適
には溶剤の存在下、不活性ガス中、1時間ないし 1日
間、−76℃ないし室温で行なわれる。
れる。使用される溶剤としては反応に影響を与えなけれ
ば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのよ
うな脂肪族炭化水素類;エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類;ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸
トリアミドのようなアミド類;またはこれらの混合溶剤
が好適に用いられる。反応温度は−76 ℃ないし加温下
で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度などによ
って異なるが、通常 1時間ないし数日間である。好適
には溶剤の存在下、不活性ガス中、1時間ないし 1日
間、−76℃ないし室温で行なわれる。
【0096】ここに、一般式(XXIX)を有する化合
物は、一般式(XXIX)1
物は、一般式(XXIX)1
【0097】
【化18】
【0098】(式中、X、YおよびZ1 は前述したもの
と同意義を示す。)を有する化合物とブチルリチウムの
ようなアルキル−アルカリ金属化合物;リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムアミド、ナトリウムアミドの
ようなアルカリ金属アミド類;水素化ナトリウム、水素
化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;リチウムヘ
キサメチルシラザンのようなアルカリ金属シラザン化合
物;などの塩基と処理することによって得られる。
と同意義を示す。)を有する化合物とブチルリチウムの
ようなアルキル−アルカリ金属化合物;リチウムジイソ
プロピルアミド、リチウムアミド、ナトリウムアミドの
ようなアルカリ金属アミド類;水素化ナトリウム、水素
化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;リチウムヘ
キサメチルシラザンのようなアルカリ金属シラザン化合
物;などの塩基と処理することによって得られる。
【0099】反応は通常、溶剤の存在下、不活性ガス中
で行なわれる。使用される溶剤としては反応に影響を与
えなければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘ
プタンのような脂肪族炭化水素類;エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミドのようなアミド類;またはこれら
の混合溶剤が好適に用いられる。反応温度は−76℃な
いし加温下である。反応時間は反応試薬、反応温度など
によって異なるが、通常 0.5時間ないし数日間であ
る。好適には溶剤の存在下、不活性ガス中、 1時間な
いし 1日間、−76℃ないし室温で行なわれる。また
生成した一般式(XXIX)を有する化合物は単離する
ことなく、次の反応に用いることが出来る。
で行なわれる。使用される溶剤としては反応に影響を与
えなければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘ
プタンのような脂肪族炭化水素類;エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミドのようなアミド類;またはこれら
の混合溶剤が好適に用いられる。反応温度は−76℃な
いし加温下である。反応時間は反応試薬、反応温度など
によって異なるが、通常 0.5時間ないし数日間であ
る。好適には溶剤の存在下、不活性ガス中、 1時間な
いし 1日間、−76℃ないし室温で行なわれる。また
生成した一般式(XXIX)を有する化合物は単離する
ことなく、次の反応に用いることが出来る。
【0100】5)次に、一般式(XXX)(式中、
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、B、m、Xおよ
びYは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
は、一般式(XXVIII)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 、B、m、XおよびYは前述し
たものと同意義を示す。)を有する化合物において、Z
1 がトリチル基を有する化合物を脱トリチル化反応に付
すことによって得られる。反応は前述した製造法1.の
2)の記載に準じて行われる。
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、B、m、Xおよ
びYは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
は、一般式(XXVIII)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 、B、m、XおよびYは前述し
たものと同意義を示す。)を有する化合物において、Z
1 がトリチル基を有する化合物を脱トリチル化反応に付
すことによって得られる。反応は前述した製造法1.の
2)の記載に準じて行われる。
【0101】製造法7.あるいは、一般式(XXXII
I)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、
B、mおよびYは前述したものと同意義を示す。)を有
する化合物は以下の方法によっても製造される。
I)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、
B、mおよびYは前述したものと同意義を示す。)を有
する化合物は以下の方法によっても製造される。
【0102】
【化19】
【0103】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、
R6 、B、m、YおよびQは前述したものと同意義を示
す。) 1)一般式(XXXI) (式中、R1 、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 、B、mおよびYは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物は、一般式(XXVII)
(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、B、m
およびQは前述したものと同意義を示す。)を有する化
合物と一般式 M−N(Boc)−Y−Boc (式中、Yは前述したものと同意義を示す。Bocはt
−ブトキシカルボニル基を示す。Mはリチウム、ナトリ
ウムまたはカリウムのようなアルカリ金属原子を示
す。)を有する化合物とを反応させることによって得ら
れる。反応は前述した製造法6.の4)の記載に準じて
行われる。
R6 、B、m、YおよびQは前述したものと同意義を示
す。) 1)一般式(XXXI) (式中、R1 、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 、B、mおよびYは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物は、一般式(XXVII)
(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、B、m
およびQは前述したものと同意義を示す。)を有する化
合物と一般式 M−N(Boc)−Y−Boc (式中、Yは前述したものと同意義を示す。Bocはt
−ブトキシカルボニル基を示す。Mはリチウム、ナトリ
ウムまたはカリウムのようなアルカリ金属原子を示
す。)を有する化合物とを反応させることによって得ら
れる。反応は前述した製造法6.の4)の記載に準じて
行われる。
【0104】なお、一般式 M−N(Boc)−Y−Boc (式中、Y、BocおよびMは前述したものと同意義を
示す。)を有する化合物は、一般式 H−N(Boc)−Y−Boc (式中、YおよびBocは前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物とブチルリチウムのようなアルキ
ル−アルカリ金属化合物;リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウムアミド、ナトリウムアミドのようなアルカ
リ金属アミド類;水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ようなアルカリ金属水素化物;リチウムヘキサメチルシ
ラザンのようなアルカリ金属シラザン化合物;などの塩
基と処理することによって得られる。反応は前述した製
造法6.の4)の記載に準じて行われる。
示す。)を有する化合物は、一般式 H−N(Boc)−Y−Boc (式中、YおよびBocは前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物とブチルリチウムのようなアルキ
ル−アルカリ金属化合物;リチウムジイソプロピルアミ
ド、リチウムアミド、ナトリウムアミドのようなアルカ
リ金属アミド類;水素化ナトリウム、水素化カリウムの
ようなアルカリ金属水素化物;リチウムヘキサメチルシ
ラザンのようなアルカリ金属シラザン化合物;などの塩
基と処理することによって得られる。反応は前述した製
造法6.の4)の記載に準じて行われる。
【0105】2)次に、一般式(XXXII)(式中、
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6、B、mおよびY
は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、
一般式(XXXI) (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、B、mおよびYは前述したものと同意義を
示す。)を有する化合物を脱Boc化反応に付すことに
よって得られる。反応は通常の方法、例えばT.W.Green
,プロテクティブ グループス インオーガニック
シンセシス(Protecfive Groups in Organic Synthesi
s),JohnWiley & Sons ;J.F.W.McOmie,プロテクティ
ブ グループス イン オーガニック ケミストリー
(Protecfive Groups in Organic Chemistry),Plenum P
ressの記載に準じて行なわれる。
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6、B、mおよびY
は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、
一般式(XXXI) (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、B、mおよびYは前述したものと同意義を
示す。)を有する化合物を脱Boc化反応に付すことに
よって得られる。反応は通常の方法、例えばT.W.Green
,プロテクティブ グループス インオーガニック
シンセシス(Protecfive Groups in Organic Synthesi
s),JohnWiley & Sons ;J.F.W.McOmie,プロテクティ
ブ グループス イン オーガニック ケミストリー
(Protecfive Groups in Organic Chemistry),Plenum P
ressの記載に準じて行なわれる。
【0106】即ち、反応は通常、溶剤の存在下または非
存在下で酸と接触させることによって行われる。使用さ
れる酸としては、例えば塩酸のような無機酸、トリフル
オロ酢酸のような有機酸などをあげることができる。使
用される溶剤としては反応に影響を与えなければ特に限
定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素のようなハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミドのようなアミド類;またはこれら
の混合溶剤が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし加
温下で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度など
によって異なるが、通常 1 時間ないし数日間である。
好適には溶剤の存在下、1時間ないし 1日間、氷冷下
ないし 60℃で行なわれる。
存在下で酸と接触させることによって行われる。使用さ
れる酸としては、例えば塩酸のような無機酸、トリフル
オロ酢酸のような有機酸などをあげることができる。使
用される溶剤としては反応に影響を与えなければ特に限
定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪
族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素のようなハロゲン化炭化水素類;エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミドのようなアミド類;またはこれら
の混合溶剤が好適に用いられる。反応は氷冷下ないし加
温下で行なわれる。反応時間は反応試薬、反応温度など
によって異なるが、通常 1 時間ないし数日間である。
好適には溶剤の存在下、1時間ないし 1日間、氷冷下
ないし 60℃で行なわれる。
【0107】3)次に、一般式(XXXIII)(式
中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、B、mおよ
びYは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
は、一般式(XXXII) (式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、B、mおよびYは前述したものと同
意義を示す。)を有する化合物とクロルカルボニルイソ
シアネートとを反応させることによって得られる。
中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、B、mおよ
びYは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
は、一般式(XXXII) (式中、R1 、R2 、R3 、
R4 、R5 、R6 、B、mおよびYは前述したものと同
意義を示す。)を有する化合物とクロルカルボニルイソ
シアネートとを反応させることによって得られる。
【0108】反応は通常、脱酸剤の存在下または非存在
下、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される脱酸
剤としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムのようなアルカ
リ金属炭酸水素塩;トリエチルアミンのような脂肪族ア
ミン類;ピリジンのような複素環化合物;などの塩基類
があげられる。使用される溶剤としては反応に影響を与
えなければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘ
プタンのような脂肪族炭化水素類;エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;ク
ロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類;アセトニトリル、プロピオニトリルの
ようなニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなア
ミド類;またはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。
反応は氷冷下ないし加温下で行なわれる。反応時間は反
応試薬、反応温度などによって異なるが、通常 1時間
ないし数日間である。好適には溶剤の存在下、1時間な
いし 1日間、氷冷下ないし 60℃で行なわれる。
下、溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される脱酸
剤としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウムのようなアルカ
リ金属炭酸水素塩;トリエチルアミンのような脂肪族ア
ミン類;ピリジンのような複素環化合物;などの塩基類
があげられる。使用される溶剤としては反応に影響を与
えなければ特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサン、ヘ
プタンのような脂肪族炭化水素類;エチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;ク
ロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類;アセトニトリル、プロピオニトリルの
ようなニトリル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなア
ミド類;またはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。
反応は氷冷下ないし加温下で行なわれる。反応時間は反
応試薬、反応温度などによって異なるが、通常 1時間
ないし数日間である。好適には溶剤の存在下、1時間な
いし 1日間、氷冷下ないし 60℃で行なわれる。
【0109】製造法8.
【0110】
【化20】
【0111】また、一般式(XXXI) (式中、R1 、
R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、B、mおよびYは前述
したものと同意義を示す。)を有する化合物は以下の方
法によっても製造される。
R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、B、mおよびYは前述
したものと同意義を示す。)を有する化合物は以下の方
法によっても製造される。
【0112】1)一般式(XXXV)(式中、B,Yお
よびBocは前述したものと同意義を示す。)を有する
化合物は、一般式(XXXIV)(式中、Bは前述した
ものと同意義を示す。)を有する化合物と一般式 M−
N(Boc)−Y−Boc(式中、M,YおよびBoc
は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物とを
反応させることによって得られる。反応は前述した製造
法6.の4)の記載に準じて行われる。
よびBocは前述したものと同意義を示す。)を有する
化合物は、一般式(XXXIV)(式中、Bは前述した
ものと同意義を示す。)を有する化合物と一般式 M−
N(Boc)−Y−Boc(式中、M,YおよびBoc
は前述したものと同意義を示す。)を有する化合物とを
反応させることによって得られる。反応は前述した製造
法6.の4)の記載に準じて行われる。
【0113】2)次に、一般式(XXXVI)(式中、
B、YおよびBocは前述したものと同意義を示す。)
を有する化合物は、一般式(XXXV)(式中、B、Y
およびBocは前述したものと同意義を示す。)を有す
る化合物を脱ベンジル化反応に付すことによって得られ
る。反応は通常の方法、例えば T. W. Green, プロテク
ティブ グループス インオーガニック シンセシス
(Protective Groups in Organic Synthesis ), John Wi
ley & Sons ; J. F. W. McOmie,プロテクティブ グル
ープス イン オーガニック ケミストリー(Protecti
ve Groups in Organic Chemistry ), PlenumPressの記
載に準じて行われる。
B、YおよびBocは前述したものと同意義を示す。)
を有する化合物は、一般式(XXXV)(式中、B、Y
およびBocは前述したものと同意義を示す。)を有す
る化合物を脱ベンジル化反応に付すことによって得られ
る。反応は通常の方法、例えば T. W. Green, プロテク
ティブ グループス インオーガニック シンセシス
(Protective Groups in Organic Synthesis ), John Wi
ley & Sons ; J. F. W. McOmie,プロテクティブ グル
ープス イン オーガニック ケミストリー(Protecti
ve Groups in Organic Chemistry ), PlenumPressの記
載に準じて行われる。
【0114】3)次に、一般式(XXXI)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、B、m、Yお
よびBocは前述したものと同意義を示す。)を有する
化合物は、一般式(XXXVI)(式中、B、Yおよび
Bocは前述したものと同意義を示す。)を有する化合
物と一般式(II)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、Aおよびmは前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物とを、通常の光延反応(O.Mitsun
obu ; シンセシス (Synthesis), 1頁(1981年))に付
すことによって得られる。反応は前述した製造法1.の
1)の記載に準じて行われる。
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、B、m、Yお
よびBocは前述したものと同意義を示す。)を有する
化合物は、一般式(XXXVI)(式中、B、Yおよび
Bocは前述したものと同意義を示す。)を有する化合
物と一般式(II)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、Aおよびmは前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物とを、通常の光延反応(O.Mitsun
obu ; シンセシス (Synthesis), 1頁(1981年))に付
すことによって得られる。反応は前述した製造法1.の
1)の記載に準じて行われる。
【0115】製造法9.
【0116】
【化21】
【0117】更に、一般式(XXXXII)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6、A、B、Yおよび
mは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物は
以下の方法によっても製造される。
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6、A、B、Yおよび
mは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物は
以下の方法によっても製造される。
【0118】1)一般式(XXXVIII)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、Bおよびmは
前述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一
般式(XXXVII)(式中、R1 、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 、A、Bおよびmは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物とトリフルオロ−4−ニト
ロベンゼンとを塩基の存在下で反応させることによって
得られる。
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、Bおよびmは
前述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一
般式(XXXVII)(式中、R1 、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 、A、Bおよびmは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物とトリフルオロ−4−ニト
ロベンゼンとを塩基の存在下で反応させることによって
得られる。
【0119】反応は通常、溶剤の存在下で好適に行われ
る。使用される溶剤としては、反応に影響を与えなけれ
ば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル,テト
ラヒドロフラン,ジオキサンのようなエーテル類;ジメ
チルホルムアミド,ジメチルアセトアミド,ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドのようなアミド類;またはこれらの
混合溶剤が好適に用いられる。使用される塩基としては
反応に影響を与えなければ特に限定はなく、水素化ナト
リウム,水素化カリウム,水酸化ナトリウム,水酸化カ
リウム,ブチルリチウム,リチウムジイソプロピルアミ
ドなどである。反応は氷冷下ないし加温下で行われる。
反応時間は溶剤、反応試薬、反応濃度などによって異な
るが、通常 1時間ないし数日間である。
る。使用される溶剤としては、反応に影響を与えなけれ
ば特に限定はなく、例えばベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル,テト
ラヒドロフラン,ジオキサンのようなエーテル類;ジメ
チルホルムアミド,ジメチルアセトアミド,ヘキサメチ
ルリン酸トリアミドのようなアミド類;またはこれらの
混合溶剤が好適に用いられる。使用される塩基としては
反応に影響を与えなければ特に限定はなく、水素化ナト
リウム,水素化カリウム,水酸化ナトリウム,水酸化カ
リウム,ブチルリチウム,リチウムジイソプロピルアミ
ドなどである。反応は氷冷下ないし加温下で行われる。
反応時間は溶剤、反応試薬、反応濃度などによって異な
るが、通常 1時間ないし数日間である。
【0120】2)一般式(XXXIX)(式中、R1 、
R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、Bおよびmは前述
したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般式
(XXXVIII)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、A、Bおよびmは前述したものと同意義を
示す。)を有する化合物を還元することによって得られ
る。反応は通常の接触水素添加反応、および一般的な還
元法である亜鉛−酢酸またはスズ−塩酸を用いることに
よって達成される。
R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、Bおよびmは前述
したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般式
(XXXVIII)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、
R5 、R6 、A、Bおよびmは前述したものと同意義を
示す。)を有する化合物を還元することによって得られ
る。反応は通常の接触水素添加反応、および一般的な還
元法である亜鉛−酢酸またはスズ−塩酸を用いることに
よって達成される。
【0121】3)一般式(XXXX)(式中、R1 、R
2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、Bおよびmは前述し
たものと同意義を示し、Halo5 は塩素、臭素のよう
なハロゲン原子を示し、R10は炭素数1ないし5の直鎖
状または分枝鎖状のアルキル基を示す。)を有する化合
物は、一般式(XXXIX)(式中、R1 、R2 、
R3、R4 、R5 、R6 、A、Bおよびmは前述したも
のと同意義を示す。)を有する化合物に Meerwe
in Arylation 反応を行うことによって得
られる。反応は通常、特開昭55−22657号および
S. Oae らの方法(Bull. Chem, Soc.Jpn., 53巻 1065
頁 (1980年))に準じて行われる。
2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、Bおよびmは前述し
たものと同意義を示し、Halo5 は塩素、臭素のよう
なハロゲン原子を示し、R10は炭素数1ないし5の直鎖
状または分枝鎖状のアルキル基を示す。)を有する化合
物は、一般式(XXXIX)(式中、R1 、R2 、
R3、R4 、R5 、R6 、A、Bおよびmは前述したも
のと同意義を示す。)を有する化合物に Meerwe
in Arylation 反応を行うことによって得
られる。反応は通常、特開昭55−22657号および
S. Oae らの方法(Bull. Chem, Soc.Jpn., 53巻 1065
頁 (1980年))に準じて行われる。
【0122】4)一般式(XXXXII)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、B、Yおよび
mは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
は、一般式(XXXX)(式中、R1 、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 、A、B、Halo5 およびR10は前述
したものと同意義を示す。)を有する化合物と一般式
H2 N−C(=Y)−NH2 (式中、Yは前述したもの
と同意義を示す。)を有する化合物とを反応させ、一般
式(XXXXI)(式中、R1 、R2 、R3、R4 、R5
、R6 、A、B、Yおよびmは前述したものと同意義
を示す。)を有する化合物(該化合物は単離してもよ
く、単離することなく次の反応に付すことができる。)
とした後、酸触媒加水分解反応に付すことによって達成
される。反応は通常、特開昭55−22657号に記載
の方法に準じて行われる。
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、A、B、Yおよび
mは前述したものと同意義を示す。)を有する化合物
は、一般式(XXXX)(式中、R1 、R2 、R3 、R
4 、R5 、R6 、A、B、Halo5 およびR10は前述
したものと同意義を示す。)を有する化合物と一般式
H2 N−C(=Y)−NH2 (式中、Yは前述したもの
と同意義を示す。)を有する化合物とを反応させ、一般
式(XXXXI)(式中、R1 、R2 、R3、R4 、R5
、R6 、A、B、Yおよびmは前述したものと同意義
を示す。)を有する化合物(該化合物は単離してもよ
く、単離することなく次の反応に付すことができる。)
とした後、酸触媒加水分解反応に付すことによって達成
される。反応は通常、特開昭55−22657号に記載
の方法に準じて行われる。
【0123】製造法10.
【0124】
【化22】
【0125】前記製造法4.で述べた一般式(XVI
I)(式中、R1 、R2 、R3 、R4、R5 、R6 、R8
およびmは前述したものと同意義を示す。)を有する
化合物は、次のような別途製法により合成することもで
きる。
I)(式中、R1 、R2 、R3 、R4、R5 、R6 、R8
およびmは前述したものと同意義を示す。)を有する
化合物は、次のような別途製法により合成することもで
きる。
【0126】1)一般式(XXXXV)(式中、R1 、
R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8およびmは前述し
たものと同意義を示し、Si<+ はt−ブチルジメチ
ルシリル基を示す。該化合物は特開平6−25118号
に記載の方法に準じて合成される。)を有する化合物
は、一般式(XXXXIII)(式中、R1 、R2 、R
3、R4 、R5 および Si<+ は前述したものと同
意義を示す。)を有する化合物と一般式(XXXXI
V)(式中、R6 、R8 およびmは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物とを還元的アミノ化反応に
付すことのよって得られる。反応は通常行われる還元的
アミノ化反応であり、例えば特開平6−25118号に
記載の方法に準じて行われる。
R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8およびmは前述し
たものと同意義を示し、Si<+ はt−ブチルジメチ
ルシリル基を示す。該化合物は特開平6−25118号
に記載の方法に準じて合成される。)を有する化合物
は、一般式(XXXXIII)(式中、R1 、R2 、R
3、R4 、R5 および Si<+ は前述したものと同
意義を示す。)を有する化合物と一般式(XXXXI
V)(式中、R6 、R8 およびmは前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物とを還元的アミノ化反応に
付すことのよって得られる。反応は通常行われる還元的
アミノ化反応であり、例えば特開平6−25118号に
記載の方法に準じて行われる。
【0127】2)一般式(XXXXVI)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前
述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般
式(XXXXV)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R
5 、R6 、R8 およびmは前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物を脱保護反応(脱シリル化反応)
に付すことによって得られる。反応は通常の方法、例え
ば T. W. Green, プロテクティブ グループス インオ
ーガニック シンセシス(Protective Groups in Organ
ic Synthesis), JohnWiley & Sons ; J. F. W. McOmie,
プロテクティブ グループス イン オーガニック
ケミストリー(Protective Groups in Organic Chemist
ry),Plenum Press; の記載に準じて行われる。
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前
述したものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般
式(XXXXV)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R
5 、R6 、R8 およびmは前述したものと同意義を示
す。)を有する化合物を脱保護反応(脱シリル化反応)
に付すことによって得られる。反応は通常の方法、例え
ば T. W. Green, プロテクティブ グループス インオ
ーガニック シンセシス(Protective Groups in Organ
ic Synthesis), JohnWiley & Sons ; J. F. W. McOmie,
プロテクティブ グループス イン オーガニック
ケミストリー(Protective Groups in Organic Chemist
ry),Plenum Press; の記載に準じて行われる。
【0128】3)一般式(XXXXVII)(式中、R
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 、mおよびH
alo2 は前述したものと同意義を示す。)を有する化
合物は、一般式(XXXXVI)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 、R8およびmは前述したもの
と同意義を示す。)を有する化合物と一般式Halo2
−CH2 CO−Halo3 (式中、Halo2 およびH
alo3 は前述したものと同意義を示す。)を有する化
合物とを反応させることによって得られる。反応に使用
されるハロアセチルハライドとしては例えば、クロロア
セチルクロリド、ブロモアセチルクロリド、ブロモアセ
チルブロミドなどがあげられる。反応は通常、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物;トリエチルアミンのような脂肪族アミン類;ピリジ
ンのような複素環化合物;などの脱酸剤の存在下あるい
は非存在下で好適に行われる。反応は通常、溶剤の存在
下で好適に行われる。使用される溶剤としては、反応に
影響を与えなければ特に限定はなく例えばベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサ
ン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類;クロロホル
ム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化
水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのよ
うなアミド類;ジメチルスルホキシド類 、スルホラン
またはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。反応は氷
冷下ないし加熱還流下で行われる。反応時間は反応試
薬、反応温度などによって異なるが、通常0.5時間な
いし1日間である。好適にはエーテル類、アミド類に溶
剤中で1時間ないし10時間、氷冷下ないし加熱還流下
で行われる。
1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 、mおよびH
alo2 は前述したものと同意義を示す。)を有する化
合物は、一般式(XXXXVI)(式中、R1 、R2 、
R3 、R4 、R5 、R6 、R8およびmは前述したもの
と同意義を示す。)を有する化合物と一般式Halo2
−CH2 CO−Halo3 (式中、Halo2 およびH
alo3 は前述したものと同意義を示す。)を有する化
合物とを反応させることによって得られる。反応に使用
されるハロアセチルハライドとしては例えば、クロロア
セチルクロリド、ブロモアセチルクロリド、ブロモアセ
チルブロミドなどがあげられる。反応は通常、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物;トリエチルアミンのような脂肪族アミン類;ピリジ
ンのような複素環化合物;などの脱酸剤の存在下あるい
は非存在下で好適に行われる。反応は通常、溶剤の存在
下で好適に行われる。使用される溶剤としては、反応に
影響を与えなければ特に限定はなく例えばベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ヘキサ
ン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類;クロロホル
ム、塩化メチレン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化
水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのよ
うなアミド類;ジメチルスルホキシド類 、スルホラン
またはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。反応は氷
冷下ないし加熱還流下で行われる。反応時間は反応試
薬、反応温度などによって異なるが、通常0.5時間な
いし1日間である。好適にはエーテル類、アミド類に溶
剤中で1時間ないし10時間、氷冷下ないし加熱還流下
で行われる。
【0129】4)一般式(XVII)(式中、R1 、R
2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前述した
ものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般式(X
XXXVII)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R
5 、R6 、R8 、mおよびHalo2 は前述したものと
同意義を示す。)を有する化合物に塩基を作用させるこ
とによって得られる。反応は通常、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;トリエ
チルアミンのような脂肪族アミン類;ピリジンのような
複素環化合物;などの塩基の存在下で好適に行われる。
反応は通常、溶剤の存在下で好適に行われる。使用され
る溶剤としては、反応に影響を与えなければ特に限定は
なく例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化
水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのよ
うなアミド類;ジメチルスルホキシド類、スルホランま
たはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。反応は氷冷
下ないし加熱還流下で行われる。反応時間は反応試薬、
反応温度などによって異なるが、通常0.5時間ないし
1日間である。好適にはアミド類の溶剤中で1時間ない
し10時間、室温下ないし加熱還流下で行われる。
2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 およびmは前述した
ものと同意義を示す。)を有する化合物は、一般式(X
XXXVII)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R
5 、R6 、R8 、mおよびHalo2 は前述したものと
同意義を示す。)を有する化合物に塩基を作用させるこ
とによって得られる。反応は通常、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物;トリエ
チルアミンのような脂肪族アミン類;ピリジンのような
複素環化合物;などの塩基の存在下で好適に行われる。
反応は通常、溶剤の存在下で好適に行われる。使用され
る溶剤としては、反応に影響を与えなければ特に限定は
なく例えばベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類;ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化
水素類;エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのよ
うなアミド類;ジメチルスルホキシド類、スルホランま
たはこれらの混合溶剤が好適に用いられる。反応は氷冷
下ないし加熱還流下で行われる。反応時間は反応試薬、
反応温度などによって異なるが、通常0.5時間ないし
1日間である。好適にはアミド類の溶剤中で1時間ない
し10時間、室温下ないし加熱還流下で行われる。
【0130】前記製造法1.ないし10.によって得ら
れた各化合物は、反応終了後、必要に応じて常法、例え
ばカラムクロマトグラフィ−、再結晶法、再沈殿法など
によって精製することができる。例えば、反応混合物に
溶剤を加えて抽出し、抽出液より溶剤を留去する。得ら
れた残渣をシリカゲル等を用いたカラムクロマトグラフ
ィ−に付すことによって精製し、目的化合物の純品を得
ることができる。
れた各化合物は、反応終了後、必要に応じて常法、例え
ばカラムクロマトグラフィ−、再結晶法、再沈殿法など
によって精製することができる。例えば、反応混合物に
溶剤を加えて抽出し、抽出液より溶剤を留去する。得ら
れた残渣をシリカゲル等を用いたカラムクロマトグラフ
ィ−に付すことによって精製し、目的化合物の純品を得
ることができる。
【0131】
【作用】本発明の前記一般式(I)を有する化合物また
はその塩は、血糖低下作用、肥満改善作用、耐糖能不全
改善作用、肝臓での糖新生抑制作用、脂質低下作用、ア
ルドース還元酵素阻害作用、トロンボキサンA2 合成阻
害作用を有し、高血糖症、肥満症、高脂血症、糖尿病合
併症たとえば網膜症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾
患、動脈硬化症、更に肥満性高血圧症、骨粗鬆症および
血栓症などの予防薬および/または治療薬として有用で
ある。さらに本発明の前記一般式(I)を有する化合物
またはその塩は極めて低毒性であることから上記疾患の
予防薬および/または治療薬として有用である。
はその塩は、血糖低下作用、肥満改善作用、耐糖能不全
改善作用、肝臓での糖新生抑制作用、脂質低下作用、ア
ルドース還元酵素阻害作用、トロンボキサンA2 合成阻
害作用を有し、高血糖症、肥満症、高脂血症、糖尿病合
併症たとえば網膜症、腎症、神経症、白内障、冠動脈疾
患、動脈硬化症、更に肥満性高血圧症、骨粗鬆症および
血栓症などの予防薬および/または治療薬として有用で
ある。さらに本発明の前記一般式(I)を有する化合物
またはその塩は極めて低毒性であることから上記疾患の
予防薬および/または治療薬として有用である。
【0132】本発明の前記一般式(I)を有する化合物
は種々の形態で投与される。その投与形態としては例え
ば錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、シロップ剤等によ
る経口投与または注射剤(静脈内、筋肉内、皮下)、点
滴剤、座剤等による非経口投与をあげることができる。
これらの各種製剤は、常法に従って主薬に賦形剤、結合
剤、崩壊剤、滑沢剤、矯味矯臭剤、溶解補助剤、懸濁
剤、コーティング剤などの医薬の製剤技術分野において
通常使用しうる既知の補助剤を用いて製剤化することが
できる。その投与量は症状、年令、体重、投与方法およ
び剤型等によって異なるが、通常は成人に対して1日
0.01mg乃至 2000mgを投与することができ
る。
は種々の形態で投与される。その投与形態としては例え
ば錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、シロップ剤等によ
る経口投与または注射剤(静脈内、筋肉内、皮下)、点
滴剤、座剤等による非経口投与をあげることができる。
これらの各種製剤は、常法に従って主薬に賦形剤、結合
剤、崩壊剤、滑沢剤、矯味矯臭剤、溶解補助剤、懸濁
剤、コーティング剤などの医薬の製剤技術分野において
通常使用しうる既知の補助剤を用いて製剤化することが
できる。その投与量は症状、年令、体重、投与方法およ
び剤型等によって異なるが、通常は成人に対して1日
0.01mg乃至 2000mgを投与することができ
る。
【0133】
【実施例】次に実施例および参考例をあげて本発明を更
に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
【0134】実施例1.5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−27) 5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2、4−ジオン 0.89gに氷冷下
でトリフルオロ酢酸 5mlを加え、室温で 4.5時
間攪拌した。反応終了後、反応混合物よりトリフルオロ
酢酸を減圧下で留去し、得られた残渣に炭酸カリウム水
溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた抽出液を
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液より酢
酸エチルを留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)に
付して精製すると、Rf値=0.16(シリカゲル薄層
クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:1)
を有する目的化合物 0.35gが得られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−27) 5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2、4−ジオン 0.89gに氷冷下
でトリフルオロ酢酸 5mlを加え、室温で 4.5時
間攪拌した。反応終了後、反応混合物よりトリフルオロ
酢酸を減圧下で留去し、得られた残渣に炭酸カリウム水
溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた抽出液を
水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液より酢
酸エチルを留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)に
付して精製すると、Rf値=0.16(シリカゲル薄層
クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:1)
を有する目的化合物 0.35gが得られた。
【0135】実施例2.5−{4−[2−(2−フェニルチオモルホリノ)プロ
ポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例
示化合物番号 3−5) 5−{4−[2−(2−フェニルチオモルホリノ)プロ
ポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリ
ジン−2、4−ジオン 0.9gおよびトリフルオロ酢
酸 6mlを用い、実施例1.に準じて反応および処理
を行ない、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)に付し
て精製すると、Rf値=0.59(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=2:1)を有
する目的化合物 0.58gが得られた。
ポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例
示化合物番号 3−5) 5−{4−[2−(2−フェニルチオモルホリノ)プロ
ポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリ
ジン−2、4−ジオン 0.9gおよびトリフルオロ酢
酸 6mlを用い、実施例1.に準じて反応および処理
を行ない、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)に付し
て精製すると、Rf値=0.59(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=2:1)を有
する目的化合物 0.58gが得られた。
【0136】実施例3.5−{4−[2−(2−フェニルチオモルホリノ)エト
キシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示
化合物番号 3−1) 5−{4−[2−(2−フェニルチオモルホリノ)エト
キシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジ
ン−2、4−ジオン 530mgおよびトリフルオロ酢
酸 5mlを用い、実施例1.に準じて反応および後処
理を行うと、軟化点 70〜75℃を有する目的化合物
320mgが得られた。
キシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示
化合物番号 3−1) 5−{4−[2−(2−フェニルチオモルホリノ)エト
キシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジ
ン−2、4−ジオン 530mgおよびトリフルオロ酢
酸 5mlを用い、実施例1.に準じて反応および後処
理を行うと、軟化点 70〜75℃を有する目的化合物
320mgが得られた。
【0137】実施例4.5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)ブトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン(例示化合物番号 1−77) および5−{4−
[2−(2−フェニルモルホリノ)ブトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化合物番号
1−312) 参考例15.で得られた5−{4−[2−(2−(3−
クロロフェニル)モルホリノ)ブトキシ]ベンジル}−
3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
と5−{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)ブトキ
シ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2、4−ジオンの混合物 2.1gおよびトリフルオ
ロ酢酸 10mlを用い、実施例1.に準じて反応およ
び後処理を行ない、さらに逆相クロマトグラフィー(ア
セトニトリル:水=7:3)に付して精製すると、Rf
=0.53(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキ
サン:酢酸エチル=1:1)を有する5−{4−[2−
(2−(3−クロロフェニル)モルホリノ)ブトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン0.31gお
よびRf値=0.49(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する5−
{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)ブトキシ]ベ
ンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン 171mgが
得られた。
リノ)ブトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン(例示化合物番号 1−77) および5−{4−
[2−(2−フェニルモルホリノ)ブトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化合物番号
1−312) 参考例15.で得られた5−{4−[2−(2−(3−
クロロフェニル)モルホリノ)ブトキシ]ベンジル}−
3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
と5−{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)ブトキ
シ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2、4−ジオンの混合物 2.1gおよびトリフルオ
ロ酢酸 10mlを用い、実施例1.に準じて反応およ
び後処理を行ない、さらに逆相クロマトグラフィー(ア
セトニトリル:水=7:3)に付して精製すると、Rf
=0.53(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキ
サン:酢酸エチル=1:1)を有する5−{4−[2−
(2−(3−クロロフェニル)モルホリノ)ブトキシ]
ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン0.31gお
よびRf値=0.49(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する5−
{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)ブトキシ]ベ
ンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン 171mgが
得られた。
【0138】実施例5.3−t−ブトキシカルボニルメチル−5−{4−[2−
(2−(3−クロロフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号 1−30) 水素化ナトリウム(55重量%) 0.27gをヘキサ
ンで洗浄し、ジメチルホルムアミド 30mlに懸濁さ
せた後、5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニ
ル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2、4−ジオン2.6gのジメチルホルムアミド 1
0ml溶液を滴下した。反応混合物に超音波を 1時間
照射した後、α−ブロモ酢酸t−ブチル 1.1mlの
ジメチルホルムアミド 10ml溶液を滴下し、17時
間室温で撹拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチル
で抽出し、抽出液を食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。抽出液より酢酸エチルを留去し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキ
サン:酢酸エチル=2:1→1:1)に付して精製する
と、Rf値=0.29(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ヘキサン:酢酸エチル=2:1)を有する目的化
合物 1.03gが得られた。
(2−(3−クロロフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号 1−30) 水素化ナトリウム(55重量%) 0.27gをヘキサ
ンで洗浄し、ジメチルホルムアミド 30mlに懸濁さ
せた後、5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニ
ル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン
−2、4−ジオン2.6gのジメチルホルムアミド 1
0ml溶液を滴下した。反応混合物に超音波を 1時間
照射した後、α−ブロモ酢酸t−ブチル 1.1mlの
ジメチルホルムアミド 10ml溶液を滴下し、17時
間室温で撹拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチル
で抽出し、抽出液を食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。抽出液より酢酸エチルを留去し、得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキ
サン:酢酸エチル=2:1→1:1)に付して精製する
と、Rf値=0.29(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ヘキサン:酢酸エチル=2:1)を有する目的化
合物 1.03gが得られた。
【0139】実施例6.5−{4−[2−(2−(2,5−ジメトキシ−3,
4,6−トリメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号 1−307) 5−{4−[2−(2−(2、5−ジメトキシ−3、
4、6−トリメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2、4−ジオン 2.0gおよびトリフルオロ酢酸
10mlを用い、実施例1.に準じて反応および後処理
を行うと、融点 95〜99℃を有する目的化合物 4
80mgが得られた。
4,6−トリメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号 1−307) 5−{4−[2−(2−(2、5−ジメトキシ−3、
4、6−トリメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2、4−ジオン 2.0gおよびトリフルオロ酢酸
10mlを用い、実施例1.に準じて反応および後処理
を行うと、融点 95〜99℃を有する目的化合物 4
80mgが得られた。
【0140】実施例7.5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)ペントキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−114) および5−{4
−[2−(2−フェニルモルホリノ)ペントキシ]ベン
ジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化合物番号
1−313) 参考例22.で得られた5−{4−[2−(2−(3−
クロロフェニル)モルホリノ)ペントキシ]ベンジル}
−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオ
ンと5−{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)ペン
トキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリ
ジン−2、4−ジオンの混合物2.75gおよびトリフ
ルオロ酢酸 10mlを用い、実施例1.に準じて反応
および後処理を行い、実施例4.に準じて精製すると、
Rf値=0.20(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;ヘキサン:酢酸エチル=2:1)を有する5−{4
−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホリノ)ペ
ントキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
529mgおよびRf値=0.15(同上)を有する5
−{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)ペントキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン 186
mgが得られた。
リノ)ペントキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−114) および5−{4
−[2−(2−フェニルモルホリノ)ペントキシ]ベン
ジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化合物番号
1−313) 参考例22.で得られた5−{4−[2−(2−(3−
クロロフェニル)モルホリノ)ペントキシ]ベンジル}
−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオ
ンと5−{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)ペン
トキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリ
ジン−2、4−ジオンの混合物2.75gおよびトリフ
ルオロ酢酸 10mlを用い、実施例1.に準じて反応
および後処理を行い、実施例4.に準じて精製すると、
Rf値=0.20(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;ヘキサン:酢酸エチル=2:1)を有する5−{4
−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホリノ)ペ
ントキシ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン
529mgおよびRf値=0.15(同上)を有する5
−{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)ペントキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン 186
mgが得られた。
【0141】実施例8.5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)エトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン(例示化合物番号 1−10) および5−{4−
[2−(2−フェニルモルホリノ)エトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化合物番号
1−1) 参考例25.で得られた5−{4−[2−(2−(3−
クロロフェニル)モルホリノ)エトキシ]ベンジル}−
3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
と5−{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)エトキ
シ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2、4−ジオンの混合物 2.6gおよびトリフルオ
ロ酢酸 10mlを用い、実施例1.に準じて反応およ
び後処理を行い、実施例4.に準じて精製すると、Rf
値=0.22(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘ
キサン:酢酸エチル=1:1)を有する5−{4−[2
−(2−(3−クロロフェニル)モルホリノ)エトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン 798
mgおよびRf値=0.16(同上)を有する5−{4
−[2−(2−フェニルモルホリノ)エトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2、4−ジオン 86mgが得られ
た。
リノ)エトキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジ
オン(例示化合物番号 1−10) および5−{4−
[2−(2−フェニルモルホリノ)エトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化合物番号
1−1) 参考例25.で得られた5−{4−[2−(2−(3−
クロロフェニル)モルホリノ)エトキシ]ベンジル}−
3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
と5−{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)エトキ
シ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2、4−ジオンの混合物 2.6gおよびトリフルオ
ロ酢酸 10mlを用い、実施例1.に準じて反応およ
び後処理を行い、実施例4.に準じて精製すると、Rf
値=0.22(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘ
キサン:酢酸エチル=1:1)を有する5−{4−[2
−(2−(3−クロロフェニル)モルホリノ)エトキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2、4−ジオン 798
mgおよびRf値=0.16(同上)を有する5−{4
−[2−(2−フェニルモルホリノ)エトキシ]ベンジ
ル}チアゾリジン−2、4−ジオン 86mgが得られ
た。
【0142】実施例9.5−{4−[3−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−11) 5−{4−[3−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2、4−ジオン 2.7g、ジクロル
メタン 30mlおよびトリフルオロ酢酸 3mlを用
い、実施例1.に準じて反応および後処理を行い、実施
例4.に準じて精製すると、融点 54〜59℃および
Rf値=0.32(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル:ヘキサン=1:1)を有する目的化合
物 1.3gが得られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−11) 5−{4−[3−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2、4−ジオン 2.7g、ジクロル
メタン 30mlおよびトリフルオロ酢酸 3mlを用
い、実施例1.に準じて反応および後処理を行い、実施
例4.に準じて精製すると、融点 54〜59℃および
Rf値=0.32(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル:ヘキサン=1:1)を有する目的化合
物 1.3gが得られた。
【0143】実施例10.5−{4−[2−(2−(3,5−ジクロロフェニル)
モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2,4−ジオン(例示化合物番号 1−250) 5−{4−[2−(2−(3、5−ジクロロフェニル)
モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニ
ルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン750mgおよ
びトリフルオロ酢酸 4mlを用い、実施例1.に準じ
て反応および後処理を行い、実施例4.に準じて精製す
ると、融点 75〜79℃を有する目的化合物 125
mgが得られた。
モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−
2,4−ジオン(例示化合物番号 1−250) 5−{4−[2−(2−(3、5−ジクロロフェニル)
モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニ
ルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン750mgおよ
びトリフルオロ酢酸 4mlを用い、実施例1.に準じ
て反応および後処理を行い、実施例4.に準じて精製す
ると、融点 75〜79℃を有する目的化合物 125
mgが得られた。
【0144】実施例11.5−{4−[2−(2−(3−メチルフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−222) 5−{4−[2−(2−(3−メチルフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2、4−ジオン 1.04gおよびト
リフルオロ酢酸 6mlを用い、実施例1.に準じて反
応および後処理を行い、実施例4.に準じて精製する
と、融点 69.5〜71℃およびRf値=0.10
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ベンゼン:酢酸
エチル=4:1)を有する目的化合物 196mgが得
られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−222) 5−{4−[2−(2−(3−メチルフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2、4−ジオン 1.04gおよびト
リフルオロ酢酸 6mlを用い、実施例1.に準じて反
応および後処理を行い、実施例4.に準じて精製する
と、融点 69.5〜71℃およびRf値=0.10
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ベンゼン:酢酸
エチル=4:1)を有する目的化合物 196mgが得
られた。
【0145】実施例12.5−{4−[2−(2−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベン
ジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化合物番号
1−266) 5−{4−[2−(2−(3、5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベン
ジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4
−ジオン 1.0gおよびトリフルオロ酢酸 5mlを
用い、実施例1.に準じて反応および後処理を行い、実
施例4.に準じて精製すると、融点103〜108℃を
有する目的化合物 500mgが得られた。
−ヒドロキシフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベン
ジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化合物番号
1−266) 5−{4−[2−(2−(3、5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベン
ジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4
−ジオン 1.0gおよびトリフルオロ酢酸 5mlを
用い、実施例1.に準じて反応および後処理を行い、実
施例4.に準じて精製すると、融点103〜108℃を
有する目的化合物 500mgが得られた。
【0146】実施例13.5−{4−[2−(2−(3−ブロモフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−209) 5−{4−[2−(2−(3−ブロモフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2、4−ジオン 1.0gおよびトリ
フルオロ酢酸 5mlを用い、実施例1.に準じて反応
および後処理を行い、実施例4.に準じて精製すると、
融点 65〜70℃を有する目的化合物350mgが得
られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−209) 5−{4−[2−(2−(3−ブロモフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2、4−ジオン 1.0gおよびトリ
フルオロ酢酸 5mlを用い、実施例1.に準じて反応
および後処理を行い、実施例4.に準じて精製すると、
融点 65〜70℃を有する目的化合物350mgが得
られた。
【0147】実施例14.5−{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号 1−5) (A)参考例48.で得られた5−{4−[2−(2−
フェニルモルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−ト
リフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
[(A)Polar] 1.99gおよびトリフルオロ
酢酸 5.0mlを用い、実施例1.に準じて反応およ
び後処理を行い、実施例4.に準じて精製すると、融点
69℃を有する目的化合物[(A)Polar] 0.
76gが得られた。
シ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化
合物番号 1−5) (A)参考例48.で得られた5−{4−[2−(2−
フェニルモルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−ト
リフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
[(A)Polar] 1.99gおよびトリフルオロ
酢酸 5.0mlを用い、実施例1.に準じて反応およ
び後処理を行い、実施例4.に準じて精製すると、融点
69℃を有する目的化合物[(A)Polar] 0.
76gが得られた。
【0148】(B)5−{4−[2−(2−フェニルモ
ルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニル
メチルチアゾリジン−2、4−ジオン[(B)Less
Polar] 0.65gおよびトリフルオロ酢酸 5
mlを用いて、上記と同様に処理すると、融点 69〜
71.5℃を有する目的化合物[(B)LessPol
ar] 200mgが得られた。
ルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニル
メチルチアゾリジン−2、4−ジオン[(B)Less
Polar] 0.65gおよびトリフルオロ酢酸 5
mlを用いて、上記と同様に処理すると、融点 69〜
71.5℃を有する目的化合物[(B)LessPol
ar] 200mgが得られた。
【0149】実施例15.5−{4−[2−(2−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}
チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化合物番号 1−
278) 5−{4−[2−(2−(4−ベンジルオキシ−3、5
−ジメチルフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジ
ル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−
ジオン 2.57gおよびトリフルオロ酢酸 20ml
を用い、実施例1.に準じて反応および後処理を行い、
さらに実施例4.に準じて精製すると、融点 86〜9
6℃を有する目的化合物 154mgが得られた。
メチルフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}
チアゾリジン−2,4−ジオン(例示化合物番号 1−
278) 5−{4−[2−(2−(4−ベンジルオキシ−3、5
−ジメチルフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジ
ル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−
ジオン 2.57gおよびトリフルオロ酢酸 20ml
を用い、実施例1.に準じて反応および後処理を行い、
さらに実施例4.に準じて精製すると、融点 86〜9
6℃を有する目的化合物 154mgが得られた。
【0150】実施例16.5−{4−[2−(2−(3−フルオロフェニル)モル
ホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4
−ジオン(例示化合物番号 1−182) 5−{4−[2−(2−(3−フルオロフェニル)モル
ホリノ)プロポキシ]ベンジル}−2−イミノチアゾリ
ジン−4−オン 2.81g(参考例59.で得た粗生
成物)、35%塩酸 25mlおよび水 25mlの混
合物を6時間加熱還流した。反応混合物を重炭酸ナトリ
ウム水溶液中にあけ酢酸エチルで抽出した。抽出液を食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出
液より酢酸エチルを留去した。得られた残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2
→1:1)に付して精製すると、融点 72.1〜7
3.0℃を有する目的化合物 1.12gが得られた。
ホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4
−ジオン(例示化合物番号 1−182) 5−{4−[2−(2−(3−フルオロフェニル)モル
ホリノ)プロポキシ]ベンジル}−2−イミノチアゾリ
ジン−4−オン 2.81g(参考例59.で得た粗生
成物)、35%塩酸 25mlおよび水 25mlの混
合物を6時間加熱還流した。反応混合物を重炭酸ナトリ
ウム水溶液中にあけ酢酸エチルで抽出した。抽出液を食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出
液より酢酸エチルを留去した。得られた残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2
→1:1)に付して精製すると、融点 72.1〜7
3.0℃を有する目的化合物 1.12gが得られた。
【0151】実施例17.5−{4−[2−(2−(4−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−241) 参考例66.で得られた5−{4−[2−(2−(4−
クロロフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}
−2−イミノチアゾリジン−4−オン[(A)Pola
r] 2.34g、35%塩酸 25mlおよび水 2
5mlを用い、実施例16.に準じて反応および後処理
を行うと、融点 74.1〜76.0℃を有する目的化
合物[(A)Polar] 0.71gが得られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジン−2,4−
ジオン(例示化合物番号 1−241) 参考例66.で得られた5−{4−[2−(2−(4−
クロロフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}
−2−イミノチアゾリジン−4−オン[(A)Pola
r] 2.34g、35%塩酸 25mlおよび水 2
5mlを用い、実施例16.に準じて反応および後処理
を行うと、融点 74.1〜76.0℃を有する目的化
合物[(A)Polar] 0.71gが得られた。
【0152】上記と同様に5−{4−[2−(2−(4
−クロロフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジ
ル}−2−イミノチアゾリジン−4−オン[(B)Le
ssPolar] 2.40g、35%塩酸 25ml
および水 25mlを用いて処理すると、融点 76.
9〜78.0℃を有する目的化合物[(B)LessP
olar] 1.41gが得られた。
−クロロフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジ
ル}−2−イミノチアゾリジン−4−オン[(B)Le
ssPolar] 2.40g、35%塩酸 25ml
および水 25mlを用いて処理すると、融点 76.
9〜78.0℃を有する目的化合物[(B)LessP
olar] 1.41gが得られた。
【0153】(A)Polarと(B)Less Po
larは互いにジアステレオマーであった。
larは互いにジアステレオマーであった。
【0154】実施例18.5−{4−[2−(2−(3−トリフルオロメチルフェ
ニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジ
ン−2,4−ジオン[(A)ジアステレオ混合物、
(B)Polarおよび(C)Less Polar]
(例示化合物番号1−228) 参考例73.で得られた5−{4−[2−(2−(3−
トリフルオロメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジン−4−オン
[(A)ジアステレオ混合物] 130mg、35%塩
酸 1.2mlおよび水0.8mlを用い、実施例1
6.に準じて反応および後処理を行うと、融点58〜5
9℃を有する目的化合物[(A)ジアステレオ混合物]
120mgが得られた。
ニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリジ
ン−2,4−ジオン[(A)ジアステレオ混合物、
(B)Polarおよび(C)Less Polar]
(例示化合物番号1−228) 参考例73.で得られた5−{4−[2−(2−(3−
トリフルオロメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジン−4−オン
[(A)ジアステレオ混合物] 130mg、35%塩
酸 1.2mlおよび水0.8mlを用い、実施例1
6.に準じて反応および後処理を行うと、融点58〜5
9℃を有する目的化合物[(A)ジアステレオ混合物]
120mgが得られた。
【0155】上記と同様に5−{4−[2−(2−(3
−トリフルオロメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジン−4−オン
[(B)Polar] 310mg、35%塩酸 1.
8mlおよび水 1.2mlを用いて処理すると、融点
48〜50℃を有する目的化合物[(B)Pola
r] 210mgが得られた。
−トリフルオロメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジン−4−オン
[(B)Polar] 310mg、35%塩酸 1.
8mlおよび水 1.2mlを用いて処理すると、融点
48〜50℃を有する目的化合物[(B)Pola
r] 210mgが得られた。
【0156】また、同様に5−{4−[2−(2−(3
−トリフルオロメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジン−4−オン
[(C)Less Polar] 500mg、35%
塩酸 1.8mlおよび水1.2mlを用いて処理する
と、融点 51〜52.5℃を有する目的化合物
[(C)Less Polar] 150mgが得られ
た。
−トリフルオロメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジン−4−オン
[(C)Less Polar] 500mg、35%
塩酸 1.8mlおよび水1.2mlを用いて処理する
と、融点 51〜52.5℃を有する目的化合物
[(C)Less Polar] 150mgが得られ
た。
【0157】実施例19.5−{4−[2−(2−(3−クロロ−4−フルオロフ
ェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリ
ジン−2,4−ジオン[(A)Polarおよび(B)
Less Polar](例示化合物番号 1−25
5) 参考例80.で得られた5−{4−[2−(2−(3−
クロロ−4−フルオロフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジン−4−オン
[(A)Polar] 1.31g、35%塩酸 15
mlおよび水15mlを用い、実施例16.に準じて反
応および後処理を行うと、融点68.0〜69.8℃を
有する目的化合物[(A)Polar] 190mgが
得られた。
ェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾリ
ジン−2,4−ジオン[(A)Polarおよび(B)
Less Polar](例示化合物番号 1−25
5) 参考例80.で得られた5−{4−[2−(2−(3−
クロロ−4−フルオロフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジン−4−オン
[(A)Polar] 1.31g、35%塩酸 15
mlおよび水15mlを用い、実施例16.に準じて反
応および後処理を行うと、融点68.0〜69.8℃を
有する目的化合物[(A)Polar] 190mgが
得られた。
【0158】上記と同様に、5−{4−[2−(2−
(3−クロロ−4−フルオロフェニル)モルホリノ)プ
ロポキシ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジン−4−
オン[(B)Less Polar] 1.45g、3
5%塩酸 15mlおよび水15mlを用いて処理する
と、融点 68.0〜69.2℃を有する目的化合物
[(B)Less Polar] 175mgが得られ
た。
(3−クロロ−4−フルオロフェニル)モルホリノ)プ
ロポキシ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジン−4−
オン[(B)Less Polar] 1.45g、3
5%塩酸 15mlおよび水15mlを用いて処理する
と、融点 68.0〜69.2℃を有する目的化合物
[(B)Less Polar] 175mgが得られ
た。
【0159】実施例20.2−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}オキサジアゾリジン−
3,5−ジオン(例示化合物番号 2−9) N−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}ヒドロキシルアミン
1.2gの塩化メチレン 20ml溶液に、氷冷下でク
ロロカルボニルイソシアネート 0.37gを滴下し
た。反応混合物を同温で1.5時間撹拌した後、反応混
合物より溶剤を留去し、得られた残渣に水を加え、酢酸
エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾
燥した。抽出液より酢酸エチルを留去し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)
に付して精製すると、融点 57〜68℃を有する目的
化合物62mgが得られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}オキサジアゾリジン−
3,5−ジオン(例示化合物番号 2−9) N−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}ヒドロキシルアミン
1.2gの塩化メチレン 20ml溶液に、氷冷下でク
ロロカルボニルイソシアネート 0.37gを滴下し
た。反応混合物を同温で1.5時間撹拌した後、反応混
合物より溶剤を留去し、得られた残渣に水を加え、酢酸
エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾
燥した。抽出液より酢酸エチルを留去し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル)
に付して精製すると、融点 57〜68℃を有する目的
化合物62mgが得られた。
【0160】実施例21.5−{4−[2−(R)−(2−(R)−(3−クロロ
フェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾ
リジン−2,4−ジオン(例示化合物番号 1−27) 5−{4−[2−(R)−(2−(R)−(3−クロロ
フェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−
トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
1.5g、トリフルオロ酢酸 10mlおよび塩化メチ
レン 10mlを用い、実施例1.に準じて反応および
後処理を行うと、[α]D 24 +7.8°(C=1.0
00,CHCl3 )およびRf値=0.3(シリカゲル
TLC;酢酸エチル:ヘキサン=3:2)を有する目的
化合物 840mgが得られた。
フェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}チアゾ
リジン−2,4−ジオン(例示化合物番号 1−27) 5−{4−[2−(R)−(2−(R)−(3−クロロ
フェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−
トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
1.5g、トリフルオロ酢酸 10mlおよび塩化メチ
レン 10mlを用い、実施例1.に準じて反応および
後処理を行うと、[α]D 24 +7.8°(C=1.0
00,CHCl3 )およびRf値=0.3(シリカゲル
TLC;酢酸エチル:ヘキサン=3:2)を有する目的
化合物 840mgが得られた。
【0161】参考例1.2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン 2−アミノ−1−(3−クロロフェニル)エタノール
15.5gを含むテトラヒドロフラン 300mlに氷
冷下で、塩化クロロアセチル 10.2gを含むテトラ
ヒドロフラン 30mlを滴下した。次いで、これにト
リエチルアミン22.77gを加えて室温で一夜放置し
た。反応終了後、反応混合物よりテトラヒドロフランを
留去し、得られた残渣に酢酸エチルと水を加えた。酢酸
エチル層を分液し、水洗した。得られた酢酸エチル溶液
を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)に付して精製す
ると、Rf値=0.34(シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有するN−
[2−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチ
ル]クロロアセトアミド 15gが得られた。次いで、
得られたN−[2−(3−クロロフェニル)−2−ヒド
ロキシエチル]クロロアセトアミド 15gをN、N−
ジメチルホルムアミド 300mlに溶解し、水素化ナ
トリウム 3.9gを加え、 2時間攪拌した後、超音
波を照射した。反応終了後、反応混合物より溶剤を減圧
下で留去し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。抽
出液を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液
より酢酸エチルを留去し、得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(酢酸エチル、次いで酢酸エチ
ル:エタノール=5:1)に付し、次いで酢酸エチルと
ヘキサンの混合溶剤を用いて再結晶すると、融点118
〜120℃を有する目的化合物 7.8gが得られた。
15.5gを含むテトラヒドロフラン 300mlに氷
冷下で、塩化クロロアセチル 10.2gを含むテトラ
ヒドロフラン 30mlを滴下した。次いで、これにト
リエチルアミン22.77gを加えて室温で一夜放置し
た。反応終了後、反応混合物よりテトラヒドロフランを
留去し、得られた残渣に酢酸エチルと水を加えた。酢酸
エチル層を分液し、水洗した。得られた酢酸エチル溶液
を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、酢酸エチルを留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)に付して精製す
ると、Rf値=0.34(シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有するN−
[2−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチ
ル]クロロアセトアミド 15gが得られた。次いで、
得られたN−[2−(3−クロロフェニル)−2−ヒド
ロキシエチル]クロロアセトアミド 15gをN、N−
ジメチルホルムアミド 300mlに溶解し、水素化ナ
トリウム 3.9gを加え、 2時間攪拌した後、超音
波を照射した。反応終了後、反応混合物より溶剤を減圧
下で留去し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。抽
出液を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液
より酢酸エチルを留去し、得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(酢酸エチル、次いで酢酸エチ
ル:エタノール=5:1)に付し、次いで酢酸エチルと
ヘキサンの混合溶剤を用いて再結晶すると、融点118
〜120℃を有する目的化合物 7.8gが得られた。
【0162】参考例2.2−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン
2.48gを含むN、N−ジメチルホルムアミド 50
mlに氷冷下で水素化ナトリウム 0.513gを加
え、室温で 3.5時間攪拌した。次いで、反応混合物
にα−ブロモプロピオン酸エチル 2.56gを含む
N、N−ジメチルホルムアミド 10mlを滴下し、室
温で一夜放置した。反応終了後、反応混合物より溶剤を
減圧下で留去し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
抽出液より酢酸エチルを留去した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサ
ン=1:1)に付して精製すると、Rf値=0.69
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル;ヘ
キサン=5:1)を有する目的化合物 3gが得られ
た。
リノ]プロピオン酸エチル 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン
2.48gを含むN、N−ジメチルホルムアミド 50
mlに氷冷下で水素化ナトリウム 0.513gを加
え、室温で 3.5時間攪拌した。次いで、反応混合物
にα−ブロモプロピオン酸エチル 2.56gを含む
N、N−ジメチルホルムアミド 10mlを滴下し、室
温で一夜放置した。反応終了後、反応混合物より溶剤を
減圧下で留去し、得られた残渣を酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
抽出液より酢酸エチルを留去した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサ
ン=1:1)に付して精製すると、Rf値=0.69
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル;ヘ
キサン=5:1)を有する目的化合物 3gが得られ
た。
【0163】参考例3.2−(3−クロロフェニル)−4−(2−ヒドロキシ−
1−メチルエチル)モルホリン 2−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 2gを含むテトラヒドロフ
ラン 20mlを、氷−食塩水浴で冷却した水素化アル
ミニウムリチウム 0.73gとテトラヒドロフラン
80mlの混合物中へ滴下した。反応混合物を室温で
3.5時間攪拌した。反応終了後、反応混合物に硫酸ナ
トリウム・10水和物を過剰に加え十分攪拌した。次い
で反応混合物をセライトを用いてろ過した。ろ液よりテ
トラヒドロフランを留去し、得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
5:1)に付して精製すると、Rf値=0.27(シリ
カゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン
=5:1)を有する目的化合物 1.2gが得られた。
1−メチルエチル)モルホリン 2−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 2gを含むテトラヒドロフ
ラン 20mlを、氷−食塩水浴で冷却した水素化アル
ミニウムリチウム 0.73gとテトラヒドロフラン
80mlの混合物中へ滴下した。反応混合物を室温で
3.5時間攪拌した。反応終了後、反応混合物に硫酸ナ
トリウム・10水和物を過剰に加え十分攪拌した。次い
で反応混合物をセライトを用いてろ過した。ろ液よりテ
トラヒドロフランを留去し、得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
5:1)に付して精製すると、Rf値=0.27(シリ
カゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン
=5:1)を有する目的化合物 1.2gが得られた。
【0164】参考例4.5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2,4−ジオン トリフェニルホスフィン 1.24gを含むベンゼン
30mlに冷却下、アゾジカルボン酸ジエチル 0.8
2gを加え、室温で 0.5時間攪拌した。次いで、こ
れに5−(4−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニ
ルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン 2.2gを加
えた。反応混合物を室温で 1.5時間攪拌した後、2
−(3−クロロフェニル)−4−(2−ヒドロキシ−1
−メチルエチル)モルホリン 1.2gを加え、 5時
間攪拌し、次いで一夜放置した。反応終了後、反応混合
物より溶剤を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)に
付して精製すると、Rf値=0.77(シリカゲル薄層
クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=4:1)
を有する目的化合物 約 0.9gが得られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2,4−ジオン トリフェニルホスフィン 1.24gを含むベンゼン
30mlに冷却下、アゾジカルボン酸ジエチル 0.8
2gを加え、室温で 0.5時間攪拌した。次いで、こ
れに5−(4−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニ
ルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン 2.2gを加
えた。反応混合物を室温で 1.5時間攪拌した後、2
−(3−クロロフェニル)−4−(2−ヒドロキシ−1
−メチルエチル)モルホリン 1.2gを加え、 5時
間攪拌し、次いで一夜放置した。反応終了後、反応混合
物より溶剤を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)に
付して精製すると、Rf値=0.77(シリカゲル薄層
クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=4:1)
を有する目的化合物 約 0.9gが得られた。
【0165】参考例5.α−メタンスルホキシフェニル酢酸エチル マンデル酸エチル 25gを含むテトラヒドロフラン
500mlを氷−食塩水浴で冷却しながら、塩化メタン
スルホニル 24g、次いでトリエチルアミン22gを
加え、同温で 2時間、次いで室温で 2時間攪拌し
た。反応終了後、反応混合物より溶剤を留去し、得られ
た残渣に氷、希塩酸を加え酢酸エチルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
抽出液より酢酸エチルを減圧下で留去すると、Rf値=
0.25(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エ
チル:ヘキサン=1:5)を有する目的粗生成物 3
8.2gが得られた。
500mlを氷−食塩水浴で冷却しながら、塩化メタン
スルホニル 24g、次いでトリエチルアミン22gを
加え、同温で 2時間、次いで室温で 2時間攪拌し
た。反応終了後、反応混合物より溶剤を留去し、得られ
た残渣に氷、希塩酸を加え酢酸エチルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
抽出液より酢酸エチルを減圧下で留去すると、Rf値=
0.25(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エ
チル:ヘキサン=1:5)を有する目的粗生成物 3
8.2gが得られた。
【0166】参考例6.3−オキソ−2−フェニルチオモルホリン 水素化ナトリウム(55重量%) 15gをベンゼン、
次いでヘキサンで洗浄し、N、N−ジメチルホルムアミ
ド 500mlを加え、氷−食塩水浴で冷却下に2−ア
ミノエタンチオール・塩酸塩 20gを含むN、N−ジ
メチルホルムアミド 200mlを滴下した。滴下終了
後、同温で 1時間攪拌した。次いで、これにα−メタ
ンスルホキシフェニル酢酸エチル 9gを含むN、N−
ジメチルホルムアミド 30mlを加え、室温で 1時
間攪拌した後、 2日間放置した。反応終了後、反応混
合物より減圧下で溶剤を留去し、得られた残渣に水を加
え酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液より酢酸エチルを
留去し、得られた粗生成物 23gを酢酸エチルとヘキ
サンの混合溶剤を用いて再結晶すると、融点 160〜
163℃ を有する目的化合物 8.4gが得られた。
次いでヘキサンで洗浄し、N、N−ジメチルホルムアミ
ド 500mlを加え、氷−食塩水浴で冷却下に2−ア
ミノエタンチオール・塩酸塩 20gを含むN、N−ジ
メチルホルムアミド 200mlを滴下した。滴下終了
後、同温で 1時間攪拌した。次いで、これにα−メタ
ンスルホキシフェニル酢酸エチル 9gを含むN、N−
ジメチルホルムアミド 30mlを加え、室温で 1時
間攪拌した後、 2日間放置した。反応終了後、反応混
合物より減圧下で溶剤を留去し、得られた残渣に水を加
え酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液より酢酸エチルを
留去し、得られた粗生成物 23gを酢酸エチルとヘキ
サンの混合溶剤を用いて再結晶すると、融点 160〜
163℃ を有する目的化合物 8.4gが得られた。
【0167】参考例7.2−(3−オキソ−2−フェニルチオモルホリノ)プロ
ピオン酸エチル 3−オキソ−2−フェニルチオモルホリン 4gを含む
N、N−ジメチルホルムアミド 100mlを氷−食塩
水浴で冷却し、水素化ナトリウム(55重量%) 0.
9gを加え、室温で 2.5時間攪拌した。次いで、こ
れにα−ブロモプロピオン酸エチル 3.8gを含むテ
トラヒドロフラン 5mlを滴下し、3時間攪拌した
後、室温で 2日間放置した。反応終了後、反応混合物
より減圧下で溶剤を留去し、得られた残渣に食塩水を加
え酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液より溶剤を留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)に付して精製する
と、Rf値=0.64(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:1)を有する目的化
合物 3.7gが得られた。
ピオン酸エチル 3−オキソ−2−フェニルチオモルホリン 4gを含む
N、N−ジメチルホルムアミド 100mlを氷−食塩
水浴で冷却し、水素化ナトリウム(55重量%) 0.
9gを加え、室温で 2.5時間攪拌した。次いで、こ
れにα−ブロモプロピオン酸エチル 3.8gを含むテ
トラヒドロフラン 5mlを滴下し、3時間攪拌した
後、室温で 2日間放置した。反応終了後、反応混合物
より減圧下で溶剤を留去し、得られた残渣に食塩水を加
え酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。抽出液より溶剤を留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)に付して精製する
と、Rf値=0.64(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:1)を有する目的化
合物 3.7gが得られた。
【0168】参考例8.4−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−フェ
ニルチオモルホリン 水素化アルミニウムリチウム 1.5gを含むテトラヒ
ドロフラン 100mlに、氷冷下で2−(3−オキソ
−2−フェニルチオモルホリノ)プロピオン酸エチル
3.6gを含むテトラヒドロフラン 15mlを滴下し
た。反応混合物を同温で 3時間攪拌した後、室温で
3日間放置した。反応混合物に水素化アルミニウムリチ
ウム 1.0gを追加し、室温で 1日放置した後、
3時間加熱還流した。反応混合物に冷却下、水 2.5
ml、次いで 15%水酸化ナトリウム水溶液 2.5
ml、更に水 8mlを加え、不溶物をろ別した。ろ液
を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル)に付して精製すると、Rf値=
0.44(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エ
チル)を有する目的化合物 1.1gが得られた。
ニルチオモルホリン 水素化アルミニウムリチウム 1.5gを含むテトラヒ
ドロフラン 100mlに、氷冷下で2−(3−オキソ
−2−フェニルチオモルホリノ)プロピオン酸エチル
3.6gを含むテトラヒドロフラン 15mlを滴下し
た。反応混合物を同温で 3時間攪拌した後、室温で
3日間放置した。反応混合物に水素化アルミニウムリチ
ウム 1.0gを追加し、室温で 1日放置した後、
3時間加熱還流した。反応混合物に冷却下、水 2.5
ml、次いで 15%水酸化ナトリウム水溶液 2.5
ml、更に水 8mlを加え、不溶物をろ別した。ろ液
を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(酢酸エチル)に付して精製すると、Rf値=
0.44(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エ
チル)を有する目的化合物 1.1gが得られた。
【0169】参考例9.5−{4−[2−(2−フェニルチオモルホリノ)プロ
ポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリ
ジン−2、4−ジオン 4−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−フェ
ニルチオモルホリン1.1g、トリフェニルホスフィン
1.1g、アゾジカルボン酸ジエチル0.88g、5
−(4−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2、4−ジオン 2.1gおよびベン
ゼン 50mlを用い、参考例4.に準じて反応および
処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)に付
して精製すると、Rf=0.33(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:2)を有
する目的化合物 約 2.5gが得られた。
ポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリ
ジン−2、4−ジオン 4−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−フェ
ニルチオモルホリン1.1g、トリフェニルホスフィン
1.1g、アゾジカルボン酸ジエチル0.88g、5
−(4−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2、4−ジオン 2.1gおよびベン
ゼン 50mlを用い、参考例4.に準じて反応および
処理を行い、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)に付
して精製すると、Rf=0.33(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:2)を有
する目的化合物 約 2.5gが得られた。
【0170】参考例10.3−オキソ−2−フェニルチオモルホリノ酢酸エチル 3−オキソ−2−フェニルチオモルホリン 4g、水素
化ナトリウム 0.9g、ジメチルホルムアミド 10
0ml、α−ブロモ酢酸エチル 3.5gおよびテトラ
ヒドロフラン 5mlを用い、参考例7.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.48(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:
1)を有する目的化合物 3.6gが得られた。
化ナトリウム 0.9g、ジメチルホルムアミド 10
0ml、α−ブロモ酢酸エチル 3.5gおよびテトラ
ヒドロフラン 5mlを用い、参考例7.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.48(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:
1)を有する目的化合物 3.6gが得られた。
【0171】参考例11.4−(2−ヒドロキシエチル)−2−フェニルチオモル
ホリン 3−オキソ−2−フェニルチオモルホリノ酢酸エチル
3.5g、水素化アルミニウムリチウム 2.5gおよ
びテトラヒドロフラン 115mlを用い、参考例8.
に準じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.22
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル)を
有する目的化合物 690mgが得られた。
ホリン 3−オキソ−2−フェニルチオモルホリノ酢酸エチル
3.5g、水素化アルミニウムリチウム 2.5gおよ
びテトラヒドロフラン 115mlを用い、参考例8.
に準じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.22
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル)を
有する目的化合物 690mgが得られた。
【0172】参考例12.5−{4−[2−(2−フェニルチオモルホリノ)エト
キシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジ
ン−2,4−ジオン 4−(ヒドロキシエチル)−2−フェニルチオモルホリ
ン 690mg、トリフェニルホスフィン 945m
g、アゾジカルボン酸ジエチル 0.57mg、5−
(4−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニルメチル
チアゾリジン−2、4−ジオン 1.2gおよびベンゼ
ン 30mlを用い、参考例4.に準じて反応および後
処理を行うと、Rf値=0.35(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:1)を有
する目的化合物 580mgが得られた。
キシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジ
ン−2,4−ジオン 4−(ヒドロキシエチル)−2−フェニルチオモルホリ
ン 690mg、トリフェニルホスフィン 945m
g、アゾジカルボン酸ジエチル 0.57mg、5−
(4−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニルメチル
チアゾリジン−2、4−ジオン 1.2gおよびベンゼ
ン 30mlを用い、参考例4.に準じて反応および後
処理を行うと、Rf値=0.35(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:1)を有
する目的化合物 580mgが得られた。
【0173】参考例13.2−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]酪酸エチル 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン
5.58g、水素化ナトリウム 1.27g、α−ブロ
モ酪酸エチル 5.1mlおよびジメチルホルムアミド
100mlを用い、参考例2.に準じて反応および後
処理を行うと、Rf値=0.41(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=2:1)を有
する目的化合物 6.41gが得られた。
リノ]酪酸エチル 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン
5.58g、水素化ナトリウム 1.27g、α−ブロ
モ酪酸エチル 5.1mlおよびジメチルホルムアミド
100mlを用い、参考例2.に準じて反応および後
処理を行うと、Rf値=0.41(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=2:1)を有
する目的化合物 6.41gが得られた。
【0174】参考例14.4−(1−ヒドロキシメチルプロピル)−2−(3−ク
ロロフェニル)モルホリンおよび4−(1−ヒドロキシ
メチルプロピル)−2−フェニルモルホリンの混合物 2−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リン]酪酸エチル6.35g、水素化アルミニウムリチ
ウム 2.22gおよびテトラヒドロフラン 150m
lを用い、参考例8.に準じて反応および後処理を行う
と、Rf値=0.51(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 3.79gが
得られた。
ロロフェニル)モルホリンおよび4−(1−ヒドロキシ
メチルプロピル)−2−フェニルモルホリンの混合物 2−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リン]酪酸エチル6.35g、水素化アルミニウムリチ
ウム 2.22gおよびテトラヒドロフラン 150m
lを用い、参考例8.に準じて反応および後処理を行う
と、Rf値=0.51(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 3.79gが
得られた。
【0175】参考例15.5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)ブトキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチル
チアゾリジン−2,4−ジオンおよび5−{4−[2−
(2−フェニルモルホリノ)ブトキシ]ベンジル}−3
−トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−ジオンの
混合物 参考例14.で得られた4−(1−ヒドロキシメチルプ
ロピル)−2−(3−クロロフェニル)モルホリンと4
−(1−ヒドロキシメチルプロピル)−2−フェニルモ
ルホリンの混合物 1.5g、5−(4−ヒドロキシベ
ンジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、
4−ジオン 2.59g、トリブチルホスフィン 1.
46g、アゾジカルボニルジピペリジン 1.68gお
よびベンゼン 50mlを用い、参考例4.に準じて反
応および後処理を行うと、Rf値=0.44(シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=
2:1)を有する表記混合物 2.1gが得られた。
リノ)ブトキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチル
チアゾリジン−2,4−ジオンおよび5−{4−[2−
(2−フェニルモルホリノ)ブトキシ]ベンジル}−3
−トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−ジオンの
混合物 参考例14.で得られた4−(1−ヒドロキシメチルプ
ロピル)−2−(3−クロロフェニル)モルホリンと4
−(1−ヒドロキシメチルプロピル)−2−フェニルモ
ルホリンの混合物 1.5g、5−(4−ヒドロキシベ
ンジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、
4−ジオン 2.59g、トリブチルホスフィン 1.
46g、アゾジカルボニルジピペリジン 1.68gお
よびベンゼン 50mlを用い、参考例4.に準じて反
応および後処理を行うと、Rf値=0.44(シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=
2:1)を有する表記混合物 2.1gが得られた。
【0176】参考例16.2−(2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリメチルフ
ェニル)−5−オキソモルホリン 参考例1.に準じ、先ず2−アミノ−1−(2、5−ジ
メトキシ−3、4、6−トリメチルフェニル)エタノー
ル 26.2g、塩化クロロアセチル14.9g、トリ
エチルアミン 13.36gおよびテトラヒドロフラン
500mlを用いて、反応および後処理を行うと、融点
139〜141℃を有するN−[2−(2、5−ジメ
トキシ−3、4、6−トリメチルフェニル)−2−ヒド
ロキシエチル]クロロアセトアミド 16.7gが得ら
れた。次いで上記で得られた生成物と水素化ナトリウム
11.56gおよびジメチルホルムアミド 500m
lを用いて反応および後処理を行うと、融点 143〜
145℃を有する目的化合物 8.2gが得られた。
ェニル)−5−オキソモルホリン 参考例1.に準じ、先ず2−アミノ−1−(2、5−ジ
メトキシ−3、4、6−トリメチルフェニル)エタノー
ル 26.2g、塩化クロロアセチル14.9g、トリ
エチルアミン 13.36gおよびテトラヒドロフラン
500mlを用いて、反応および後処理を行うと、融点
139〜141℃を有するN−[2−(2、5−ジメ
トキシ−3、4、6−トリメチルフェニル)−2−ヒド
ロキシエチル]クロロアセトアミド 16.7gが得ら
れた。次いで上記で得られた生成物と水素化ナトリウム
11.56gおよびジメチルホルムアミド 500m
lを用いて反応および後処理を行うと、融点 143〜
145℃を有する目的化合物 8.2gが得られた。
【0177】参考例17.2−[2−(2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリメ
チルフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸
エチル 2−(2、5−ジメトキシ−3、4、6−トリメチルフ
ェニル)−5−オキソモルホリン 8.1g、水素化ナ
トリウム 1.27gおよびα−ブロモプロピオン酸エ
チル 6.3gを用い、参考例2.に準じて反応および
後処理を行うと、Rf値=0.43(シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を
有する目的化合物 7.71gが得られた。
チルフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸
エチル 2−(2、5−ジメトキシ−3、4、6−トリメチルフ
ェニル)−5−オキソモルホリン 8.1g、水素化ナ
トリウム 1.27gおよびα−ブロモプロピオン酸エ
チル 6.3gを用い、参考例2.に準じて反応および
後処理を行うと、Rf値=0.43(シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を
有する目的化合物 7.71gが得られた。
【0178】参考例18.2−(2,5−ジメトキシ−3,4,6−トリメチルフ
ェニル)−4−(2−ドロキシ−1−メチルエチル)モ
ルホリン 2−[2−(2、5−ジメトキシ−3、4、6−トリメ
チルフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸
エチル 7.6g、水素化アルミニウムリチウム 2.
28gおよびテトラヒドロフラン 300mlを用い、
参考例8.に準じて反応および後処理を行うと、Rf値
=0.10(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸
エチル:ヘキサン=5:1)を有する目的化合物 5.
0gが得られた。
ェニル)−4−(2−ドロキシ−1−メチルエチル)モ
ルホリン 2−[2−(2、5−ジメトキシ−3、4、6−トリメ
チルフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸
エチル 7.6g、水素化アルミニウムリチウム 2.
28gおよびテトラヒドロフラン 300mlを用い、
参考例8.に準じて反応および後処理を行うと、Rf値
=0.10(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸
エチル:ヘキサン=5:1)を有する目的化合物 5.
0gが得られた。
【0179】参考例19.5−{4−[2−(2−(2,5−ジメトキシ−3,
4,6−トリメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2,4−ジオン 2−(2、5−ジメトキシ−3、4、6−トリメチルフ
ェニル)−4−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)
モルホリン 2.5g、5−(4−ヒドロキシベンジ
ル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−
ジオン 3.6g、トリブチルホスフィン 1.72
g、アゾジカルボニルジピペリジン1.95gおよび無
水ベンゼン 50mlを用い、参考例4.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.64(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=3:
1)を有する目的化合物 2.0gが得られた。
4,6−トリメチルフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2,4−ジオン 2−(2、5−ジメトキシ−3、4、6−トリメチルフ
ェニル)−4−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)
モルホリン 2.5g、5−(4−ヒドロキシベンジ
ル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−
ジオン 3.6g、トリブチルホスフィン 1.72
g、アゾジカルボニルジピペリジン1.95gおよび無
水ベンゼン 50mlを用い、参考例4.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.64(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=3:
1)を有する目的化合物 2.0gが得られた。
【0180】参考例20.α−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]吉草酸エチル 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン
5.52g、水素化ナトリウム(55重量%) 1.2
5g、α−ブロモ吉草酸エチル 5.8mlおよびジメ
チルホルムアミド 100mlを用い、参考例2.に準
じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.49(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチ
ル=2:1)を有する目的化合物 7.97gが得られ
た。
リノ]吉草酸エチル 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン
5.52g、水素化ナトリウム(55重量%) 1.2
5g、α−ブロモ吉草酸エチル 5.8mlおよびジメ
チルホルムアミド 100mlを用い、参考例2.に準
じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.49(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチ
ル=2:1)を有する目的化合物 7.97gが得られ
た。
【0181】参考例21.4−(1−ヒドロキシメチルブチル)−2−(3−クロ
ロフェニル)モルホリンおよび4−(1−ヒドロキシメ
チルブチル)−2−フェニルモルホリンの混合物 2−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]吉草酸エチル7.78g、水素化アルミニウムリ
チウム 2.6gおよびテトラヒドロフラン150ml
を用い、参考例8.に準じて反応および後処理を行う
と、Rf値=0.58(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;酢酸エチル)を有する表記混合物 5.0gが得
られた。
ロフェニル)モルホリンおよび4−(1−ヒドロキシメ
チルブチル)−2−フェニルモルホリンの混合物 2−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]吉草酸エチル7.78g、水素化アルミニウムリ
チウム 2.6gおよびテトラヒドロフラン150ml
を用い、参考例8.に準じて反応および後処理を行う
と、Rf値=0.58(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;酢酸エチル)を有する表記混合物 5.0gが得
られた。
【0182】参考例22.5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)ペントキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2,4−ジオンおよび5−{4−[2
−(2−フェニルモルホリノ)ペントキシ]ベンジル}
−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−ジオ
ンの混合物 参考例21.で得られた4−(1−ヒドロキシメチルブ
チル)−2−(3−クロロフェニル)モルホリンと4−
(1−ヒドロキシメチルブチル)−2−フェニルモルホ
リンの混合物 1.69g、5−(4−ヒドロキシベン
ジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4
−ジオン 2.77g、トリブチルホスフィン 1.5
6g、アゾジカルボニルジピペリジン 1.80gおよ
びベンゼン 50mlを用い、参考例4.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.52(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)を有する表記混合物 3.1gが得られた。
リノ)ペントキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2,4−ジオンおよび5−{4−[2
−(2−フェニルモルホリノ)ペントキシ]ベンジル}
−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−ジオ
ンの混合物 参考例21.で得られた4−(1−ヒドロキシメチルブ
チル)−2−(3−クロロフェニル)モルホリンと4−
(1−ヒドロキシメチルブチル)−2−フェニルモルホ
リンの混合物 1.69g、5−(4−ヒドロキシベン
ジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4
−ジオン 2.77g、トリブチルホスフィン 1.5
6g、アゾジカルボニルジピペリジン 1.80gおよ
びベンゼン 50mlを用い、参考例4.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.52(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=2:
1)を有する表記混合物 3.1gが得られた。
【0183】参考例23.2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリノ酢
酸メチル 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン
3.43g、水素化ナトリウム 0.78g、ブロモ酢
酸メチル 2.0mlおよびジメチルホルムアミド 7
0mlを用い、参考例2.に準じて反応および後処理を
行うと、Rf値=0.45(シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する目
的化合物 3.47gが得られた。
酸メチル 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン
3.43g、水素化ナトリウム 0.78g、ブロモ酢
酸メチル 2.0mlおよびジメチルホルムアミド 7
0mlを用い、参考例2.に準じて反応および後処理を
行うと、Rf値=0.45(シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する目
的化合物 3.47gが得られた。
【0184】参考例24.2−[2−(3−クロロフェニル)モルホリノ]エタノ
ールおよび2−(2−フェニルモルホリノ)エタノール
の混合物 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリノ酢
酸メチル 3.3g、水素化アルミニウムリチウム
1.32gおよびテトラヒドロフラン 80mlを用
い、参考例8.に準じて反応および後処理を行うと、R
f値=0.19(酢酸エチル)を有する表記混合物
1.31gが得られた。
ールおよび2−(2−フェニルモルホリノ)エタノール
の混合物 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリノ酢
酸メチル 3.3g、水素化アルミニウムリチウム
1.32gおよびテトラヒドロフラン 80mlを用
い、参考例8.に準じて反応および後処理を行うと、R
f値=0.19(酢酸エチル)を有する表記混合物
1.31gが得られた。
【0185】参考例25.5−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)エトキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチル
チアゾリジン−2,4−ジオンおよび5−{4−[2−
(2−フェニルモルホリノ)エトキシ]ベンジル}−3
−トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−ジオンの
混合物 参考例24.で得られた2−[2−(3−クロロフェニ
ル)モルホリノ]エタノールと2−(2−フェニルモル
ホリノ)エタノールの混合物 1.3g、5−(4−ヒ
ドロキシベンジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリ
ジン−2、4−ジオン 2.5g、トリブチルホスフィ
ン 1.4g、アゾジカルボニルジピペリジン 1.6
3gおよびベンゼン 40mlを用い、参考例4.に準
じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.34(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチ
ル=1:1)を有する表記混合物 2.9gが得られ
た。
リノ)エトキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチル
チアゾリジン−2,4−ジオンおよび5−{4−[2−
(2−フェニルモルホリノ)エトキシ]ベンジル}−3
−トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−ジオンの
混合物 参考例24.で得られた2−[2−(3−クロロフェニ
ル)モルホリノ]エタノールと2−(2−フェニルモル
ホリノ)エタノールの混合物 1.3g、5−(4−ヒ
ドロキシベンジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリ
ジン−2、4−ジオン 2.5g、トリブチルホスフィ
ン 1.4g、アゾジカルボニルジピペリジン 1.6
3gおよびベンゼン 40mlを用い、参考例4.に準
じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.34(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチ
ル=1:1)を有する表記混合物 2.9gが得られ
た。
【0186】参考例26.3−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン
6.2g、水素化ナトリウム(55重量%) 1.28
g、3−ブロモプロピオン酸エチル 6.3gおよびジ
メチルホルムアミド 180mlを用い、参考例2.に
準じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.31
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸
エチル=1:1)を有する目的化合物 5.95gが得
られた。
リノ]プロピオン酸エチル 2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホリン
6.2g、水素化ナトリウム(55重量%) 1.28
g、3−ブロモプロピオン酸エチル 6.3gおよびジ
メチルホルムアミド 180mlを用い、参考例2.に
準じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.31
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸
エチル=1:1)を有する目的化合物 5.95gが得
られた。
【0187】参考例27.3−[2−(3−クロロフェニル)モルホリノ]プロパ
ノール 3−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 5.8g、水素化アルミニ
ウムリチウム 2.12gおよびテトラヒドロフラン
250mlを用い、参考例8.に準じて反応および後処
理を行うと、Rf値=0.16(シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 2.
1gが得られた。
ノール 3−[2−(3−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 5.8g、水素化アルミニ
ウムリチウム 2.12gおよびテトラヒドロフラン
250mlを用い、参考例8.に準じて反応および後処
理を行うと、Rf値=0.16(シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 2.
1gが得られた。
【0188】参考例28.5−{4−[3−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2,4−ジオン 3−[2−(3−クロロフェニル)モルホリノ]プロパ
ノール 2.1g、5−(4−ヒドロキシベンジル)−
3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
4.2g、トリブチルホスフィン 1.83g、アゾ
ジカルボニルジピペリジン 2.07gおよびベンゼン
60mlを用い、参考例4.に準じて反応および後処
理を行うと、Rf値=0.77(シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=2:1)を有す
る目的化合物 2.7gが得られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2,4−ジオン 3−[2−(3−クロロフェニル)モルホリノ]プロパ
ノール 2.1g、5−(4−ヒドロキシベンジル)−
3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
4.2g、トリブチルホスフィン 1.83g、アゾ
ジカルボニルジピペリジン 2.07gおよびベンゼン
60mlを用い、参考例4.に準じて反応および後処
理を行うと、Rf値=0.77(シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=2:1)を有す
る目的化合物 2.7gが得られた。
【0189】参考例29.α−(3,5−ジクロロフェニル)−5−オキソモルホ
リン 2−アミノ−1−(3、5−ジクロロフェニル)エタノ
ール 5.0g、テトラヒドロフラン 55ml、塩化
クロロアセチル 2.1mlおよびトリエチルアミン
3.7mlを用い、参考例1.に準じて反応および後処
理を行うと、融点 68〜70℃を有するN−[2−
(3、5−ジクロロフェニル)−2−ヒドロキシエチ
ル]クロロアセトアミド 3.38gが得られた。更に
上記生成物1.44g、水素化ナトリウム(55重量
%) 1.2gおよびジメチルホルムアミド 72ml
を用い、参考例1.に準じて反応および後処理を行う
と、融点145〜148℃を有する目的化合物 780
mgが得られた。
リン 2−アミノ−1−(3、5−ジクロロフェニル)エタノ
ール 5.0g、テトラヒドロフラン 55ml、塩化
クロロアセチル 2.1mlおよびトリエチルアミン
3.7mlを用い、参考例1.に準じて反応および後処
理を行うと、融点 68〜70℃を有するN−[2−
(3、5−ジクロロフェニル)−2−ヒドロキシエチ
ル]クロロアセトアミド 3.38gが得られた。更に
上記生成物1.44g、水素化ナトリウム(55重量
%) 1.2gおよびジメチルホルムアミド 72ml
を用い、参考例1.に準じて反応および後処理を行う
と、融点145〜148℃を有する目的化合物 780
mgが得られた。
【0190】参考例30.2−[2−(3,5−ジクロロフェニル)−5−オキソ
モルホリノ]プロピオン酸エチル 2−(3、5−ジクロロフェニル)−5−オキソモルホ
リン 1.1g、水素化ナトリウム(55重量%)
0.2g、α−ブロモプロピオン酸エチル0.6mlお
よびジメチルホルムアミド 20mlを用い、参考例
2.に準じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.
80(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチ
ル)を有する目的化合物 1.33gが得られた。
モルホリノ]プロピオン酸エチル 2−(3、5−ジクロロフェニル)−5−オキソモルホ
リン 1.1g、水素化ナトリウム(55重量%)
0.2g、α−ブロモプロピオン酸エチル0.6mlお
よびジメチルホルムアミド 20mlを用い、参考例
2.に準じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.
80(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチ
ル)を有する目的化合物 1.33gが得られた。
【0191】参考例31.4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3,5−
ジクロロフェニル)モルホリン 2−[2−(3、5−ジクロロフェニル)−5−オキソ
モルホリノ]プロピオン酸エチル 1.26g、水素化
アルミニウムリチウム(1M テトラヒドロフラン溶
液) 7.3mlおよびテトラヒドロフラン 15ml
を用い、参考例8.に準じて反応および後処理を行う
と、Rf値=0.31(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 937mgが
得られた。
ジクロロフェニル)モルホリン 2−[2−(3、5−ジクロロフェニル)−5−オキソ
モルホリノ]プロピオン酸エチル 1.26g、水素化
アルミニウムリチウム(1M テトラヒドロフラン溶
液) 7.3mlおよびテトラヒドロフラン 15ml
を用い、参考例8.に準じて反応および後処理を行う
と、Rf値=0.31(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 937mgが
得られた。
【0192】参考例32.5−{4−[2−(2−(3,5−ジクロロフェニル)
モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニ
ルメチルチアゾリジン−2,4−ジオン 4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3、5−
ジクロロフェニル)モルホリン 915mg、5−(4
−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニルメチルチア
ゾリジン−2、4−ジオン 1.0g、トリブチルホス
フィン0.54ml、アゾジカルボニルジピペリジン
0.55gおよびベンゼン37mlを用い、参考例4.
に準じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.27
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸
エチル=2:1)を有する目的化合物 750mgが得
られた。
モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニ
ルメチルチアゾリジン−2,4−ジオン 4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3、5−
ジクロロフェニル)モルホリン 915mg、5−(4
−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニルメチルチア
ゾリジン−2、4−ジオン 1.0g、トリブチルホス
フィン0.54ml、アゾジカルボニルジピペリジン
0.55gおよびベンゼン37mlを用い、参考例4.
に準じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.27
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸
エチル=2:1)を有する目的化合物 750mgが得
られた。
【0193】参考例33.N−[2−(3−メチルフェニル)−2−ヒドロキシエ
チル]クロロアセトアミド 2−アミノ−1−(3−メチルフェニル)エタノール
100mg、塩化クロロアセチル 75mg、テトラヒ
ドロフラン 4mlおよびトリエチルアミン67mgを
用い、参考例1.に準じて反応および後処理を行うと、
Rf値=0.46(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル:ヘキサン=2:1)を有する目的化合
物 80mgが得られた。
チル]クロロアセトアミド 2−アミノ−1−(3−メチルフェニル)エタノール
100mg、塩化クロロアセチル 75mg、テトラヒ
ドロフラン 4mlおよびトリエチルアミン67mgを
用い、参考例1.に準じて反応および後処理を行うと、
Rf値=0.46(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル:ヘキサン=2:1)を有する目的化合
物 80mgが得られた。
【0194】参考例34.α−[2−(3−メチルフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル N−[2−(3−メチルフェニル)−2−ヒドロキシエ
チル]クロロアセトアミド 5.0gのジメチルホルム
アミド 60ml溶液を水素化ナトリウム(55重量
%) 2.9gとジメチルホルムアミド 200mlの
混合物中へ滴下した(反応温度55〜60℃)。反応混
合物を室温で60分間撹拌した後、氷冷下でα−ブロモ
プロピオン酸エチル 4.3mlを滴下し、更に室温で
90分間撹拌した。反応終了後、反応混合物に氷冷下
で、水 10mlを加え、更に過剰の水を加えた後、ベ
ンゼンで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾
燥した後、ベンゼンを留去して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:2)に付して精製すると、Rf値=0.13(シリ
カゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン
=1:4)を有する目的化合物 5.1gが得られた。
リノ]プロピオン酸エチル N−[2−(3−メチルフェニル)−2−ヒドロキシエ
チル]クロロアセトアミド 5.0gのジメチルホルム
アミド 60ml溶液を水素化ナトリウム(55重量
%) 2.9gとジメチルホルムアミド 200mlの
混合物中へ滴下した(反応温度55〜60℃)。反応混
合物を室温で60分間撹拌した後、氷冷下でα−ブロモ
プロピオン酸エチル 4.3mlを滴下し、更に室温で
90分間撹拌した。反応終了後、反応混合物に氷冷下
で、水 10mlを加え、更に過剰の水を加えた後、ベ
ンゼンで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾
燥した後、ベンゼンを留去して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:2)に付して精製すると、Rf値=0.13(シリ
カゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン
=1:4)を有する目的化合物 5.1gが得られた。
【0195】参考例35.4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3−メチ
ルフェニル)モルホリン 2−[2−(3−メチルフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 5.1g、水素化アルミニ
ウムリチウム 2.1gおよびテトラヒドロフラン 1
10mlを用い、参考例8.に準じて反応および後処理
を行うと、Rf値=0.19(シリカゲル薄層クロマト
グラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 2.9
gが得られた。
ルフェニル)モルホリン 2−[2−(3−メチルフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 5.1g、水素化アルミニ
ウムリチウム 2.1gおよびテトラヒドロフラン 1
10mlを用い、参考例8.に準じて反応および後処理
を行うと、Rf値=0.19(シリカゲル薄層クロマト
グラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 2.9
gが得られた。
【0196】参考例36.5−{4−[2−(2−(3−メチルフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2,4−ジオン 4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3−メチ
ルフェニル)モルホリン 1.0g、5−(4−ヒドロ
キシベンジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2、4−ジオン 1.65g、トリブチルホスフィン
0.86g、アゾジカルボニルジピペリジン 1.0
7gおよびベンゼン 60mlを用い、参考例4.に準
じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.27(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサ
ン=1:2)を有する目的化合物1.04gが得られ
た。
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2,4−ジオン 4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3−メチ
ルフェニル)モルホリン 1.0g、5−(4−ヒドロ
キシベンジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2、4−ジオン 1.65g、トリブチルホスフィン
0.86g、アゾジカルボニルジピペリジン 1.0
7gおよびベンゼン 60mlを用い、参考例4.に準
じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.27(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサ
ン=1:2)を有する目的化合物1.04gが得られ
た。
【0197】参考例37.N−[2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−2−ヒドロキシエチル]クロロアセトアミ
ド 2−アミノ−1−(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)エタノール 5.5g、塩化クロロア
セチル 2.3g、トリエチルアミン 2.1gおよび
テトラヒドロフラン 50mlを用い、参考例1.に準
じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.22(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;ベンゼン:酢酸エチ
ル=4:1)を有する目的化合物 3.1gが得られ
た。
フェニル)−2−ヒドロキシエチル]クロロアセトアミ
ド 2−アミノ−1−(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)エタノール 5.5g、塩化クロロア
セチル 2.3g、トリエチルアミン 2.1gおよび
テトラヒドロフラン 50mlを用い、参考例1.に準
じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.22(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;ベンゼン:酢酸エチ
ル=4:1)を有する目的化合物 3.1gが得られ
た。
【0198】実施例38.2−[2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチ
ル N−[2−(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−2−ヒドロキシエチル]クロロアセトアミ
ド 1.86g、水素化ナトリウム(55重量%)
1.0g、ジメチルホルムアミド 200mlおよびα
−ブロモプロピオン酸エチル 1.5gを用い、参考例
34.に準じて反応および後処理を行うと、Rf値=
0.39(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ベンゼ
ン:酢酸エチル=4:1)を有する目的化合物 1.6
gが得られた。
フェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチ
ル N−[2−(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−2−ヒドロキシエチル]クロロアセトアミ
ド 1.86g、水素化ナトリウム(55重量%)
1.0g、ジメチルホルムアミド 200mlおよびα
−ブロモプロピオン酸エチル 1.5gを用い、参考例
34.に準じて反応および後処理を行うと、Rf値=
0.39(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ベンゼ
ン:酢酸エチル=4:1)を有する目的化合物 1.6
gが得られた。
【0199】参考例39.4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)モルホリン 2−[2−(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチ
ル 1.6g、水素化アルミニウムリチウム0.45g
およびテトラヒドロフラン 30mlを用い、参考例
8.に準じて反応および後処理を行うと、融点 125
〜127℃を有する目的化合物 0.9gが得られた。
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)モルホリン 2−[2−(3、5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチ
ル 1.6g、水素化アルミニウムリチウム0.45g
およびテトラヒドロフラン 30mlを用い、参考例
8.に準じて反応および後処理を行うと、融点 125
〜127℃を有する目的化合物 0.9gが得られた。
【0200】参考例40.5−{4−[2−(2−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベン
ジル}−3−トリメチルフェニルチアゾリジン−2,4
−ジオン 4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3、5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)モルホリン
0.8g、5−(4−ヒドロキシベンジル)−3−ト
リフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン 0.
9g、トリブチルホスフィン 0.85g、アゾジカル
ボニルジピペリジン 1.1gおよびベンゼン 70m
lを用い、参考例4.に準じて反応および後処理を行う
と、Rf値=0.57(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ベンゼン:酢酸エチル=4:1)を有する目的化
合物 1.1gが得られた。
−ヒドロキシフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベン
ジル}−3−トリメチルフェニルチアゾリジン−2,4
−ジオン 4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3、5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)モルホリン
0.8g、5−(4−ヒドロキシベンジル)−3−ト
リフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン 0.
9g、トリブチルホスフィン 0.85g、アゾジカル
ボニルジピペリジン 1.1gおよびベンゼン 70m
lを用い、参考例4.に準じて反応および後処理を行う
と、Rf値=0.57(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ベンゼン:酢酸エチル=4:1)を有する目的化
合物 1.1gが得られた。
【0201】参考例41.2−(3−ブロモフェニル)−5−オキソモルホリン 2−アミノ−1−(3−ブロモフェニル)エタノール
12g、テトラヒドロフラン 100ml、塩化クロロ
アセチル 6.9gおよびトリエチルアミン6.2gを
用い、参考例1.に準じて反応および後処理を行うと、
Rf値=0.43(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;ベンゼン:酢酸エチル=1:1)を有するN−[2
−(3−ブロモフェニル)−2−ヒドロキシエチル]ク
ロロアセトアミド 13gが得られた。更に上記生成物
12g、水素化ナトリウム(55重量%) 9gおよ
びジメチルホルムアミド 600mlを用い、参考例
1.に準じて反応および後処理を行うと、融点 143
〜145℃を有する目的化合物 7.2gが得られた。
12g、テトラヒドロフラン 100ml、塩化クロロ
アセチル 6.9gおよびトリエチルアミン6.2gを
用い、参考例1.に準じて反応および後処理を行うと、
Rf値=0.43(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;ベンゼン:酢酸エチル=1:1)を有するN−[2
−(3−ブロモフェニル)−2−ヒドロキシエチル]ク
ロロアセトアミド 13gが得られた。更に上記生成物
12g、水素化ナトリウム(55重量%) 9gおよ
びジメチルホルムアミド 600mlを用い、参考例
1.に準じて反応および後処理を行うと、融点 143
〜145℃を有する目的化合物 7.2gが得られた。
【0202】参考例42.2−[2−(3−ブロモフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 2−(3−ブロモフェニル)−5−オキソモルホリン
500mg、水素化ナトリウム(55重量%) 94m
g、α−ブロモプロピオン酸エチル0.28mlおよび
ジメチルホルムアミド 5mlを用い、参考例2.に準
じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.33(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;ベンゼン:酢酸エチ
ル=4:1)を有する目的化合物 580mgが得られ
た。
リノ]プロピオン酸エチル 2−(3−ブロモフェニル)−5−オキソモルホリン
500mg、水素化ナトリウム(55重量%) 94m
g、α−ブロモプロピオン酸エチル0.28mlおよび
ジメチルホルムアミド 5mlを用い、参考例2.に準
じて反応および後処理を行うと、Rf値=0.33(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;ベンゼン:酢酸エチ
ル=4:1)を有する目的化合物 580mgが得られ
た。
【0203】参考例43.4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3−ブロ
モフェニル)モルホリン 2−[2−(3−ブロモフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 4.2g、水素化アルミニ
ウムリチウム 1.3gおよびテトラヒドロフラン 6
0mlを用い、参考例8.に準じて反応および後処理を
行うと、Rf値=0.29(シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 3.3g
が得られた。
モフェニル)モルホリン 2−[2−(3−ブロモフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル 4.2g、水素化アルミニ
ウムリチウム 1.3gおよびテトラヒドロフラン 6
0mlを用い、参考例8.に準じて反応および後処理を
行うと、Rf値=0.29(シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 3.3g
が得られた。
【0204】参考例44.5−{4−[2−(2−(3−ブロモフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2,4−ジオン 4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3−ブロ
モフェニル)モルホリン 3.3g、5−(4−ヒドロ
キシベンジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2、4−ジオン 4.3g、トリブチルホスフィン
2.2g、アゾジカルボニルジピペリジン 2.8gお
よびベンゼン 200mlを用い、参考例4.に準じて
反応および後処理を行うと、Rf値=0.66(シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー;ベンゼン:酢酸エチル=
4:1)を有する目的化合物1.0gが得られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}−3−トリフェニルメチ
ルチアゾリジン−2,4−ジオン 4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3−ブロ
モフェニル)モルホリン 3.3g、5−(4−ヒドロ
キシベンジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2、4−ジオン 4.3g、トリブチルホスフィン
2.2g、アゾジカルボニルジピペリジン 2.8gお
よびベンゼン 200mlを用い、参考例4.に準じて
反応および後処理を行うと、Rf値=0.66(シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー;ベンゼン:酢酸エチル=
4:1)を有する目的化合物1.0gが得られた。
【0205】参考例45.N−(2−ヒドロキシ−2−フェニルエチル)クロロア
セトアミド α−アミノ−1−フェニルエタノール 7.0g、塩化
クロロアセチル5.65g、テトラヒドロフラン 90
mlおよびトリエチルアミン 5.11gを用い、参考
例1.に準じて反応および後処理を行うと、融点 11
1〜112℃を有する目的化合物 8.28gが得られ
た。
セトアミド α−アミノ−1−フェニルエタノール 7.0g、塩化
クロロアセチル5.65g、テトラヒドロフラン 90
mlおよびトリエチルアミン 5.11gを用い、参考
例1.に準じて反応および後処理を行うと、融点 11
1〜112℃を有する目的化合物 8.28gが得られ
た。
【0206】参考例46.2−(2−フェニル−5−オキソモルホリノ)プロピオ
ン酸エチル[ジアステレオマー分離;(A)Polar
および(B)Less Polar] N−(2−ヒドロキシ−2−フェニルエチル)クロロア
セトアミド 6.23g、水素化ナトリウム(55重量
%) 3.80g、ジメチルホルムアミド300mlお
よびα−ブロモプロピオン酸エチル 7.97gを用
い、参考例34.に準じて反応および後処理を行うと、
Rf値=0.25(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル:ヘキサン=1:2)を有する目的化合
物[(A)Polar] 2.73gおよびRf値=
0.28(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エ
チル:ヘキサン=1:2)を有する目的化合物[(B)
Less Polar] 3.17gが得られた。
ン酸エチル[ジアステレオマー分離;(A)Polar
および(B)Less Polar] N−(2−ヒドロキシ−2−フェニルエチル)クロロア
セトアミド 6.23g、水素化ナトリウム(55重量
%) 3.80g、ジメチルホルムアミド300mlお
よびα−ブロモプロピオン酸エチル 7.97gを用
い、参考例34.に準じて反応および後処理を行うと、
Rf値=0.25(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル:ヘキサン=1:2)を有する目的化合
物[(A)Polar] 2.73gおよびRf値=
0.28(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エ
チル:ヘキサン=1:2)を有する目的化合物[(B)
Less Polar] 3.17gが得られた。
【0207】参考例47.4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−フェニルモ
ルホリン[(A)Polarおよび (B)Less
Polar] (A)参考例46.で得られた2−(2−フェニル−5
−オキソモルホリノ)プロピオン酸エチル[(A)Po
lar] 1.96g、水素化アルミニウムリチウム
0.77gおよびテトラヒドロフラン 25mlを用
い、参考例8.に準じて反応および後処理を行うと、R
f値=0.26(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;
酢酸エチル:テトラヒドロフラン=10:1)を有する
目的化合物[(A)Polar] 1.25gが得られ
た。
ルホリン[(A)Polarおよび (B)Less
Polar] (A)参考例46.で得られた2−(2−フェニル−5
−オキソモルホリノ)プロピオン酸エチル[(A)Po
lar] 1.96g、水素化アルミニウムリチウム
0.77gおよびテトラヒドロフラン 25mlを用
い、参考例8.に準じて反応および後処理を行うと、R
f値=0.26(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;
酢酸エチル:テトラヒドロフラン=10:1)を有する
目的化合物[(A)Polar] 1.25gが得られ
た。
【0208】(B)上記と同様に2−(2−フェニル−
5−オキソモルホリノ)プロピオン酸エチル[(B)L
ess Polar] 2.34g、水酸化アルミニウ
ムリチウム 0.91gおよびテトラヒドロフラン 3
1mlを用いて処理すると、Rf値=0.30(シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:テトラヒド
ロフラン=10:1)を有する目的化合物[(B)Le
ss Polar]1.10gが得られた。
5−オキソモルホリノ)プロピオン酸エチル[(B)L
ess Polar] 2.34g、水酸化アルミニウ
ムリチウム 0.91gおよびテトラヒドロフラン 3
1mlを用いて処理すると、Rf値=0.30(シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:テトラヒド
ロフラン=10:1)を有する目的化合物[(B)Le
ss Polar]1.10gが得られた。
【0209】参考例48.5−{4−[2−(2−フェニルモルホリノ)プロポキ
シ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2,4−ジオン[(A)Polarおよび(B)Le
ss Polar] (A)参考例47.で得られた4−(1−ヒドロキシメ
チルエチル)−2−フェニルモルホリン[(A)Pol
ar] 1.52g、5−(4−ヒドロキシベンジル)
−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオ
ン 4.84g、トリブチルホスフィン 2.10g、
アゾジカルボニルピペリジン 2.62gおよびベンゼ
ン 100mlを用い、参考例4.に準じて反応および
後処理を行うと、融点 75〜78℃を有する目的化合
物[(A)Polar]2.53gが得られた。
シ]ベンジル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン
−2,4−ジオン[(A)Polarおよび(B)Le
ss Polar] (A)参考例47.で得られた4−(1−ヒドロキシメ
チルエチル)−2−フェニルモルホリン[(A)Pol
ar] 1.52g、5−(4−ヒドロキシベンジル)
−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオ
ン 4.84g、トリブチルホスフィン 2.10g、
アゾジカルボニルピペリジン 2.62gおよびベンゼ
ン 100mlを用い、参考例4.に準じて反応および
後処理を行うと、融点 75〜78℃を有する目的化合
物[(A)Polar]2.53gが得られた。
【0210】(B)上記と同様に4−(1−ヒドロキシ
メチルエチル)−2−フェニルモルホリン[(B)Le
ss Polar] 1.08g、5−(4−ヒドロキ
シベンジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−
2、4−ジオン 1.86g、トリブチルホスフィン
1.00g、アゾジカルボニルジピペリジン1.24g
およびベンゼン 45mlを用いて処理すると、Rf値
=0.29(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸
エチル:ベンゼン=1:6)を有する目的化合物
[(B)Less Polar] 0.65gが得られ
た。
メチルエチル)−2−フェニルモルホリン[(B)Le
ss Polar] 1.08g、5−(4−ヒドロキ
シベンジル)−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−
2、4−ジオン 1.86g、トリブチルホスフィン
1.00g、アゾジカルボニルジピペリジン1.24g
およびベンゼン 45mlを用いて処理すると、Rf値
=0.29(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸
エチル:ベンゼン=1:6)を有する目的化合物
[(B)Less Polar] 0.65gが得られ
た。
【0211】参考例49.2−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)−5−オキソモルホリン 2−アミノ−1−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメ
チルフェニル)エタノール 1.87g、塩化クロロア
セチル 0.94g、テトラヒドロフラン30mlおよ
びトリエチルアミン 0.84gを用い、参考例1.に
準じて反応および後処理を行うと、融点 117〜11
8℃を有するN−[2−(4−ベンジルオキシ−3、5
−ジメチルフェニル)−2−ヒドロキシエチル]クロロ
アセトアミド1.26gが得られた。
ル)−5−オキソモルホリン 2−アミノ−1−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメ
チルフェニル)エタノール 1.87g、塩化クロロア
セチル 0.94g、テトラヒドロフラン30mlおよ
びトリエチルアミン 0.84gを用い、参考例1.に
準じて反応および後処理を行うと、融点 117〜11
8℃を有するN−[2−(4−ベンジルオキシ−3、5
−ジメチルフェニル)−2−ヒドロキシエチル]クロロ
アセトアミド1.26gが得られた。
【0212】更に上記生成物 1.04g、水素化ナト
リウム(55重量%) 0.65gおよびジメチルホル
ムアミド 50mlを用い、参考例1.に準じて反応お
よび後処理を行うと、融点 158〜160℃を有する
目的化合物 0.56gが得られた。
リウム(55重量%) 0.65gおよびジメチルホル
ムアミド 50mlを用い、参考例1.に準じて反応お
よび後処理を行うと、融点 158〜160℃を有する
目的化合物 0.56gが得られた。
【0213】参考例50.2−[2−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチルフ
ェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル 2−(4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルフェニ
ル)−5−オキソモルホリン 0.55g、水素化ナト
リウム(55重量%) 93mg、α−ブロモプロピオ
ン酸エチル 0.38gおよびジメチルホルムアミド
10mlを用い、参考例2.に準じて反応および後処理
を行うと、Rf値=0.26(シリカゲル薄層クロマト
グラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:2)を有
する目的化合物(ジアステレオ混合物) 0.50gが
得られた。
ェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル 2−(4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルフェニ
ル)−5−オキソモルホリン 0.55g、水素化ナト
リウム(55重量%) 93mg、α−ブロモプロピオ
ン酸エチル 0.38gおよびジメチルホルムアミド
10mlを用い、参考例2.に準じて反応および後処理
を行うと、Rf値=0.26(シリカゲル薄層クロマト
グラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:2)を有
する目的化合物(ジアステレオ混合物) 0.50gが
得られた。
【0214】参考例51.2−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)−4−(1−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン 2−[2−(4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルフ
ェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル
0.50g、水素化アルミニウムリチウム(1Mテト
ラヒドロフラン溶液) 3.6mlおよびテトラヒドロ
フラン10mlを用い、参考例8.に準じて反応および
後処理を行うと、Rf値=0.18(シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=3:
2)を有する目的化合物 0.27gが得られた。
ル)−4−(1−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン 2−[2−(4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルフ
ェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル
0.50g、水素化アルミニウムリチウム(1Mテト
ラヒドロフラン溶液) 3.6mlおよびテトラヒドロ
フラン10mlを用い、参考例8.に準じて反応および
後処理を行うと、Rf値=0.18(シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=3:
2)を有する目的化合物 0.27gが得られた。
【0215】参考例52.5−{4−[2−(2−(4−ベンジルオキシ−3,5
−ジメチルフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジ
ル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−
ジオン 2−(4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルフェニ
ル)−4−(1−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン
0.25g、5−(4−ヒドロキシベンジル)−3−
トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
0.39g、トリブチルホスフィン 0.17g、アゾ
ジカルボニルジピペリジン 0.21gおよびベンゼン
20mlを用い、参考例4.に準じて反応および後処
理を行うと、Rf値=0.41(シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=2:3)を
有する目的化合物 0.35gが得られた。
−ジメチルフェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジ
ル}−3−トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−
ジオン 2−(4−ベンジルオキシ−3、5−ジメチルフェニ
ル)−4−(1−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン
0.25g、5−(4−ヒドロキシベンジル)−3−
トリフェニルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン
0.39g、トリブチルホスフィン 0.17g、アゾ
ジカルボニルジピペリジン 0.21gおよびベンゼン
20mlを用い、参考例4.に準じて反応および後処
理を行うと、Rf値=0.41(シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=2:3)を
有する目的化合物 0.35gが得られた。
【0216】参考例53.N−[2−(3−フルオロフェニル)−2−ヒドロキシ
エチル]クロロアセトアミド 2−アミノ−1−(3−フルオロフェニル)エタノール
11.0g、塩化クロロアセチル 6.7ml、テト
ラヒドロフラン 230mlおよびトリエチルアミン
11.9mlを用い、参考例1.に準じて反応および後
処理を行うと、Rf値=0.50(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有
する目的化合物 13.7gが得られた。
エチル]クロロアセトアミド 2−アミノ−1−(3−フルオロフェニル)エタノール
11.0g、塩化クロロアセチル 6.7ml、テト
ラヒドロフラン 230mlおよびトリエチルアミン
11.9mlを用い、参考例1.に準じて反応および後
処理を行うと、Rf値=0.50(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有
する目的化合物 13.7gが得られた。
【0217】参考例54.2−[2−(3−フルオロフェニル)−5−オキソモル
ホリノ]プロピオン酸エチル N−[2−(3−フルオロフェニル)−2−ヒドロキシ
エチル]クロロアセトアミド 13.4g、水素化ナト
リウム(55重量%) 7.6g、ジメチルホルムアミ
ド 700mlおよびα−ブロモプロピオン酸エチル
11.4mlを用い、参考例34.に準じて反応および
後処理を行うと、Rf値=0.74(シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:2)を
有する目的物 8.02gが得られた。
ホリノ]プロピオン酸エチル N−[2−(3−フルオロフェニル)−2−ヒドロキシ
エチル]クロロアセトアミド 13.4g、水素化ナト
リウム(55重量%) 7.6g、ジメチルホルムアミ
ド 700mlおよびα−ブロモプロピオン酸エチル
11.4mlを用い、参考例34.に準じて反応および
後処理を行うと、Rf値=0.74(シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:2)を
有する目的物 8.02gが得られた。
【0218】参考例55.2−(3−フルオロフェニル)−4−(1−ヒドロキシ
メチルエチル)モルホリン 2−[2−(3−フルオロフェニル)−5−オキソモル
ホリノ]プロピオン酸エチル 7.42g、水素化アル
ミニウムリチウム 2.86gおよびテトラヒドロフラ
ン 100mlを用い、参考例8.に準じて反応および
後処理を行うと、Rf値=0.37(シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物
3.68gが得られた。
メチルエチル)モルホリン 2−[2−(3−フルオロフェニル)−5−オキソモル
ホリノ]プロピオン酸エチル 7.42g、水素化アル
ミニウムリチウム 2.86gおよびテトラヒドロフラ
ン 100mlを用い、参考例8.に準じて反応および
後処理を行うと、Rf値=0.37(シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物
3.68gが得られた。
【0219】参考例56.2−(3−フルオロフェニル)−4−[1−メチル−2
−(4−ニトロフェノキシ)エチル]モルホリン 2−(3−フルオロフェニル)−4−(1−ヒドロキシ
メチルエチル)モルホリン 3.10g、1−フルオロ
−4−ニトロベンゼン 1.45mlのジメチルホルム
アミド 40ml溶液中へ氷冷下で水素化ナトリウム
(55重量%)0.65gを加え、同温で30分間撹拌
した。次いで、室温で2時間撹拌した後、反応混合物を
水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液より酢
酸エチルを留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)に付し
て精製すると、Rf値=0.65(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有
する目的化合物 4.62gが得られた。
−(4−ニトロフェノキシ)エチル]モルホリン 2−(3−フルオロフェニル)−4−(1−ヒドロキシ
メチルエチル)モルホリン 3.10g、1−フルオロ
−4−ニトロベンゼン 1.45mlのジメチルホルム
アミド 40ml溶液中へ氷冷下で水素化ナトリウム
(55重量%)0.65gを加え、同温で30分間撹拌
した。次いで、室温で2時間撹拌した後、反応混合物を
水にあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液より酢
酸エチルを留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)に付し
て精製すると、Rf値=0.65(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有
する目的化合物 4.62gが得られた。
【0220】参考例57.4−[2−(4−アミノフェノキシ)−1−メチルエチ
ル]−2−(3−フルオロフェニル)モルホリン 2−(3−フルオロフェニル)−4−[1−メチル−2
−(4−ニトロフェノキシ)エチル]モルホリン 4.
50g、メチルアルコール 120ml、亜鉛13.4
gおよび酢酸 3mlの混合物を2時間還流加熱した。
反応終了後、不溶物をセライトを用いて除去し、酢酸エ
チルでセライトを洗浄した。得られた有機層を重炭酸ナ
トリウム水溶液、次いで食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥した。有機層より溶剤を留去し、得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル)に付して精製すると、Rf値=0.27(ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化合物 3.8
1gが得られた。
ル]−2−(3−フルオロフェニル)モルホリン 2−(3−フルオロフェニル)−4−[1−メチル−2
−(4−ニトロフェノキシ)エチル]モルホリン 4.
50g、メチルアルコール 120ml、亜鉛13.4
gおよび酢酸 3mlの混合物を2時間還流加熱した。
反応終了後、不溶物をセライトを用いて除去し、酢酸エ
チルでセライトを洗浄した。得られた有機層を重炭酸ナ
トリウム水溶液、次いで食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウム上で乾燥した。有機層より溶剤を留去し、得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エ
チル)に付して精製すると、Rf値=0.27(ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化合物 3.8
1gが得られた。
【0221】参考例58.2−ブロモ−3−{4−[2−(2−(3−フルオロフ
ェニル)モルホリノ)プロポキシ]フェニル}プロピオ
ン酸ブチル 4−[2−(4−アミノフェノキシ)−1−メチルエチ
ル]−2−(3−フルオロフェニル)モルホリン 3.
60g、アセトン 80mlおよび臭化水素酸4.4m
lの混合物へ氷冷下で亜硝酸ナトリウム 0.83gの
水 3.5ml溶液を10分間で滴下し、同温で10分
間撹拌した。反応混合物にアクリル酸ブチル 15.6
mlを加え、20℃までゆっくりと温度を上げ、酸化第
一銅(Cu2 O) 0.31gを少量づつ加えた。次い
で、反応混合物を室温で3時間撹拌した後、重炭酸ナト
リウム水溶液中へあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。
抽出液より酢酸エチルを留去し、得られた残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1)に付して精製すると、Rf値=0.79(シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=
1:1)を有する目的化合物 3.03gが得られた。
ェニル)モルホリノ)プロポキシ]フェニル}プロピオ
ン酸ブチル 4−[2−(4−アミノフェノキシ)−1−メチルエチ
ル]−2−(3−フルオロフェニル)モルホリン 3.
60g、アセトン 80mlおよび臭化水素酸4.4m
lの混合物へ氷冷下で亜硝酸ナトリウム 0.83gの
水 3.5ml溶液を10分間で滴下し、同温で10分
間撹拌した。反応混合物にアクリル酸ブチル 15.6
mlを加え、20℃までゆっくりと温度を上げ、酸化第
一銅(Cu2 O) 0.31gを少量づつ加えた。次い
で、反応混合物を室温で3時間撹拌した後、重炭酸ナト
リウム水溶液中へあけ、酢酸エチルで抽出した。抽出液
を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。
抽出液より酢酸エチルを留去し、得られた残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:
1)に付して精製すると、Rf値=0.79(シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=
1:1)を有する目的化合物 3.03gが得られた。
【0222】参考例59.5−{4−[2−(2−(3−フルオロフェニル)モル
ホリノ)プロポキシ]ベンジル}−2−イミノチアゾリ
ジン−4−オン 2−ブロモ−3−{4−[2−(2−(3−フルオロフ
ェニル)モルホリノ)プロポキシ]フェニル}プロピオ
ン酸ブチル 1.79g、チオ尿素 800mg、酢酸
ナトリウム 600mgおよびエタノール 50mlの
混合物を6時間加熱還流した。反応終了後、反応混合物
を重炭酸ナトリウム水溶液中へ注ぎ、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上
で乾燥した。抽出液より酢酸エチルを留去すると、Rf
値=0.08(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢
酸エチル)を有する目的粗生成物 2.81gが得られ
た。
ホリノ)プロポキシ]ベンジル}−2−イミノチアゾリ
ジン−4−オン 2−ブロモ−3−{4−[2−(2−(3−フルオロフ
ェニル)モルホリノ)プロポキシ]フェニル}プロピオ
ン酸ブチル 1.79g、チオ尿素 800mg、酢酸
ナトリウム 600mgおよびエタノール 50mlの
混合物を6時間加熱還流した。反応終了後、反応混合物
を重炭酸ナトリウム水溶液中へ注ぎ、酢酸エチルで抽出
した。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上
で乾燥した。抽出液より酢酸エチルを留去すると、Rf
値=0.08(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢
酸エチル)を有する目的粗生成物 2.81gが得られ
た。
【0223】参考例60.N−[2−(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエ
チル]クロロアセトアミド α−アミノ−1−(4−クロロフェニル)エタノール
29.2g、塩化クロロアセチル 16.4ml、テト
ラヒドロフラン 600mlおよびトリエチルアミン
28.8mlを用い、参考例1.に準じて反応および後
処理を行うと、融点 76.7〜78.8℃を有する目
的化合物 22.6gが得られた。
チル]クロロアセトアミド α−アミノ−1−(4−クロロフェニル)エタノール
29.2g、塩化クロロアセチル 16.4ml、テト
ラヒドロフラン 600mlおよびトリエチルアミン
28.8mlを用い、参考例1.に準じて反応および後
処理を行うと、融点 76.7〜78.8℃を有する目
的化合物 22.6gが得られた。
【0224】参考例61.2−[2−(4−クロロフェニル)−5−オキソモルホ
リノ]プロピオン酸エチル N−[2−(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエ
チル]クロロアセトアミド 22.6g、水素化ナトリ
ウム(55重量%) 12.6g、ジメチルホルムアミ
ド 1300mlおよびα−ブロモプロピオン酸エチル
17.7mlを用い、参考例34.に準じて反応およ
び後処理を行うと、Rf値=0.52(シリカゲル薄層
クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)
を有する目的化合物[(A)Polar] 6.46g
およびRf値=0.58(シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する目的
化合物[(B)Less Polar] 8.71gが
得られた。
リノ]プロピオン酸エチル N−[2−(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエ
チル]クロロアセトアミド 22.6g、水素化ナトリ
ウム(55重量%) 12.6g、ジメチルホルムアミ
ド 1300mlおよびα−ブロモプロピオン酸エチル
17.7mlを用い、参考例34.に準じて反応およ
び後処理を行うと、Rf値=0.52(シリカゲル薄層
クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)
を有する目的化合物[(A)Polar] 6.46g
およびRf値=0.58(シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する目的
化合物[(B)Less Polar] 8.71gが
得られた。
【0225】化合物(A)Polarと化合物(B)L
ess Polarとは互いにジアステレオマーであっ
た。
ess Polarとは互いにジアステレオマーであっ
た。
【0226】参考例62.2−(4−クロロフェニル)−4−(1−ヒドロキシメ
チルエチル)モルホリン[(A)Polarおよび
(B)Less Polar] 参考例61.で得られた2−[2−(4−クロロフェニ
ル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル
[(A)Polar] 6.00g、水素化アルミニウ
ムリチウム 2.30gおよびテトラヒドロフラン 1
50mlを用い、参考例8.に準じて反応および後処理
を行うと、Rf値=0.15(シリカゲル薄層クロマト
グラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する
目的化合物[(A)Polar] 4.91gが得られ
た。
チルエチル)モルホリン[(A)Polarおよび
(B)Less Polar] 参考例61.で得られた2−[2−(4−クロロフェニ
ル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル
[(A)Polar] 6.00g、水素化アルミニウ
ムリチウム 2.30gおよびテトラヒドロフラン 1
50mlを用い、参考例8.に準じて反応および後処理
を行うと、Rf値=0.15(シリカゲル薄層クロマト
グラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する
目的化合物[(A)Polar] 4.91gが得られ
た。
【0227】上記と同様に2−[2−(4−クロロフェ
ニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル
[(B)Less Polar] 8.47g、水素化
アルミニウムリチウム 3.20gおよびテトラヒドロ
フラン 160mlを用いて処理すると、Rf値=0.
15(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:
酢酸エチル=1:1)を有する目的化合物[(B)Le
ss Polar]4.87gが得られた。
ニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル
[(B)Less Polar] 8.47g、水素化
アルミニウムリチウム 3.20gおよびテトラヒドロ
フラン 160mlを用いて処理すると、Rf値=0.
15(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:
酢酸エチル=1:1)を有する目的化合物[(B)Le
ss Polar]4.87gが得られた。
【0228】参考例63.2−(4−クロロフェニル)−4−[1−メチル−2−
(4−ニトロフェノキシ)エチル]モルホリン[(A)
Polarおよび(B)Less Polar] 参考例62.で得られた2−(4−クロロフェニル)−
4−(1−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン
[(A)Polar] 3.87g、1−フルオロ−4
−ニトロベンゼン 1.64ml、水素化ナトリウム
(55重量%) 730mgおよびジメチルホルムアミ
ド 60mlを用い、参考例56.に準じて反応および
後処理を行うと、融点 103.3〜105.9℃を有
する目的化合物[(A)Polar] 5.60gが得
られた。
(4−ニトロフェノキシ)エチル]モルホリン[(A)
Polarおよび(B)Less Polar] 参考例62.で得られた2−(4−クロロフェニル)−
4−(1−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン
[(A)Polar] 3.87g、1−フルオロ−4
−ニトロベンゼン 1.64ml、水素化ナトリウム
(55重量%) 730mgおよびジメチルホルムアミ
ド 60mlを用い、参考例56.に準じて反応および
後処理を行うと、融点 103.3〜105.9℃を有
する目的化合物[(A)Polar] 5.60gが得
られた。
【0229】上記と同様に2−(4−クロロフェニル)
−4−(1−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン
[(B)Less Polar] 3.87g、1−フ
ルオロ−4−ニトロベンゼン 1.64ml、水素化ナ
トリウム(55重量%) 730mgおよびジメチルホ
ルムアミド 60mlを用いて処理すると、Rf値=
0.47(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化合物[(B)
Less Polar] 5.65gが得られた。
−4−(1−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン
[(B)Less Polar] 3.87g、1−フ
ルオロ−4−ニトロベンゼン 1.64ml、水素化ナ
トリウム(55重量%) 730mgおよびジメチルホ
ルムアミド 60mlを用いて処理すると、Rf値=
0.47(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化合物[(B)
Less Polar] 5.65gが得られた。
【0230】参考例64.4−[2−(4−アミノフェノキシ)−1−メチルエチ
ル]−2−(4−クロロフェニル)モルホリン[(A)
Polarおよび(B)Less Polar] 参考例63.で得られた2−(4−クロロフェニル)−
4−[1−メチル−2−(4−ニトロフェノキシ)エチ
ル]モルホリン[(A)Polar]5.35g、亜鉛
15.0g、メタノール 230mlおよび酢酸
6.0mlを用い、参考例57.に準じて反応および後
処理を行うと、融点 92〜94℃を有する目的化合物
[(A)Polar] 4.60gが得られた。
ル]−2−(4−クロロフェニル)モルホリン[(A)
Polarおよび(B)Less Polar] 参考例63.で得られた2−(4−クロロフェニル)−
4−[1−メチル−2−(4−ニトロフェノキシ)エチ
ル]モルホリン[(A)Polar]5.35g、亜鉛
15.0g、メタノール 230mlおよび酢酸
6.0mlを用い、参考例57.に準じて反応および後
処理を行うと、融点 92〜94℃を有する目的化合物
[(A)Polar] 4.60gが得られた。
【0231】上記と同様に2−(4−クロロフェニル)
−4−[1−メチル−2−(4−ニトロフェノキシ)エ
チル]モルホリン[(B)Less Polar]5.
42g、亜鉛 15.3g、メタノール 230mlお
よび酢酸 5.5mlを用いて処理すると、Rf値=
0.24(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化合物[(B)
Less Polar]4.70gが得られた。
−4−[1−メチル−2−(4−ニトロフェノキシ)エ
チル]モルホリン[(B)Less Polar]5.
42g、亜鉛 15.3g、メタノール 230mlお
よび酢酸 5.5mlを用いて処理すると、Rf値=
0.24(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサ
ン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化合物[(B)
Less Polar]4.70gが得られた。
【0232】参考例65.2−ブロモ−3−{4−[2−(2−(4−クロロフェ
ニル)モルホリノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン
酸ブチル[(A)Polarおよび(B)Less P
olar] 参考例64.で得られた4−[2−(4−アミノフェノ
キシ)−1−メチルエチル]−2−(4−クロロフェニ
ル)モルホリン[(A)Polar]4.15g、アセ
トン 80ml、臭化水素酸 5.6ml、亜硝酸ナト
リウム908mgおよび水 7ml、さらにアクリル酸
ブチル 17.2mlおよび酸化第一銅 342mgを
用い、参考例58.に準じて反応および後処理を行う
と、Rf値=0.76(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化
合物[(A)Polar] 3.29gが得られた。
ニル)モルホリノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン
酸ブチル[(A)Polarおよび(B)Less P
olar] 参考例64.で得られた4−[2−(4−アミノフェノ
キシ)−1−メチルエチル]−2−(4−クロロフェニ
ル)モルホリン[(A)Polar]4.15g、アセ
トン 80ml、臭化水素酸 5.6ml、亜硝酸ナト
リウム908mgおよび水 7ml、さらにアクリル酸
ブチル 17.2mlおよび酸化第一銅 342mgを
用い、参考例58.に準じて反応および後処理を行う
と、Rf値=0.76(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化
合物[(A)Polar] 3.29gが得られた。
【0233】上記と同様に、4−[2−(4−アミノフ
ェノキシ)−1−メチルエチル]−2−(4−クロロフ
ェニル)モルホリン[(B)Less Polar]
3.03g、アセトン 60ml、臭化水素酸 4.0
6ml、亜硝酸ナトリウム 663mgおよび水 5m
l、更にアクリル酸ブチル 12.5mlおよび酸化第
一銅 250mgを用いて処理すると、Rf値=0.6
1(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢
酸エチル=1:1)を有する目的化合物[(B)Les
s Polar] 2.98gが得られた。
ェノキシ)−1−メチルエチル]−2−(4−クロロフ
ェニル)モルホリン[(B)Less Polar]
3.03g、アセトン 60ml、臭化水素酸 4.0
6ml、亜硝酸ナトリウム 663mgおよび水 5m
l、更にアクリル酸ブチル 12.5mlおよび酸化第
一銅 250mgを用いて処理すると、Rf値=0.6
1(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢
酸エチル=1:1)を有する目的化合物[(B)Les
s Polar] 2.98gが得られた。
【0234】参考例66.5−{4−[2−(2−(4−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジ
ン−4−オン[(A)Polarおよび(B)Less
Polar] 参考例56.で得られた2−ブロモ−3−{4−[2−
(2−(4−クロロフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]フェニル}プロピオン酸ブチル[(A)Pola
r] 2.77g、チオ尿素 1.96g、酢酸ナトリ
ウム 1.41gおよびエタノール 100mlを用
い、参考例59.に準じて反応および後処理を行うと、
Rf値=0.25(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル)を有する目的粗生成物[(A)Pol
ar] 2.52gが得られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}−2−イミノチアゾリジ
ン−4−オン[(A)Polarおよび(B)Less
Polar] 参考例56.で得られた2−ブロモ−3−{4−[2−
(2−(4−クロロフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]フェニル}プロピオン酸ブチル[(A)Pola
r] 2.77g、チオ尿素 1.96g、酢酸ナトリ
ウム 1.41gおよびエタノール 100mlを用
い、参考例59.に準じて反応および後処理を行うと、
Rf値=0.25(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル)を有する目的粗生成物[(A)Pol
ar] 2.52gが得られた。
【0235】上記と同様に2−ブロモ−3−{4−[2
−(2−(4−クロロフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]フェニル}プロピオン酸ブチル[(B)Less
Polar] 2.90g、チオ尿素 1.70g、酢
酸ナトリウム 1.22gおよびエタノール 60ml
を用いて処理すると、Rf値=0.25(シリカゲル薄
層クロマトグラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合
物[(B)LessPolar] 2.43gが得られ
た。
−(2−(4−クロロフェニル)モルホリノ)プロポキ
シ]フェニル}プロピオン酸ブチル[(B)Less
Polar] 2.90g、チオ尿素 1.70g、酢
酸ナトリウム 1.22gおよびエタノール 60ml
を用いて処理すると、Rf値=0.25(シリカゲル薄
層クロマトグラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合
物[(B)LessPolar] 2.43gが得られ
た。
【0236】参考例67.N−[2−ヒドロキシ−2−(3−トリフルオロフェニ
ル)エチル]クロロアセトアミド 2−アミノ−1−(3−トリフルオロフェニル)エタノ
ール 12.0g、塩化クロロアセチル 4.6ml、
テトラヒドロフラン 160mlおよびトリエチルアミ
ン 8.2mlを用い、参考例1.に準じて反応および
後処理を行うと、融点 68〜69℃を有する目的化合
物 15.44gが得られた。
ル)エチル]クロロアセトアミド 2−アミノ−1−(3−トリフルオロフェニル)エタノ
ール 12.0g、塩化クロロアセチル 4.6ml、
テトラヒドロフラン 160mlおよびトリエチルアミ
ン 8.2mlを用い、参考例1.に準じて反応および
後処理を行うと、融点 68〜69℃を有する目的化合
物 15.44gが得られた。
【0237】参考例68.2−[2−(3−トリフルオロメチルフェニル)−5−
オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル[(A)ジアス
テレオ混合物、(B)Polarおよび(C)Less
Polar] N−[2−ヒドロキシ−2−(3−トリフルオロメチル
フェニル)エチル]クロロアセトアミド 3.11g、
水素化ナトリウム(55重量%) 1.44g、ジメチ
ルホルムアミド 160mlおよびα−ブロモプロピオ
ン酸エチル3.08gを用い、参考例34.に準じて反
応および後処理を行うと、Rf値=0.43(シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン
=2:3)を有する目的化合物[(A)ジアステレオ混
合物] 2.70gが得られた。
オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル[(A)ジアス
テレオ混合物、(B)Polarおよび(C)Less
Polar] N−[2−ヒドロキシ−2−(3−トリフルオロメチル
フェニル)エチル]クロロアセトアミド 3.11g、
水素化ナトリウム(55重量%) 1.44g、ジメチ
ルホルムアミド 160mlおよびα−ブロモプロピオ
ン酸エチル3.08gを用い、参考例34.に準じて反
応および後処理を行うと、Rf値=0.43(シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン
=2:3)を有する目的化合物[(A)ジアステレオ混
合物] 2.70gが得られた。
【0238】上記と同様にN−[2−ヒドロキシ−2−
(3−トリフルオロメチルフェニル)エチル]クロロア
セトアミド 10.00gから得られた粗生成物11.
80gをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル=3:1)に付して精製すると、Rf値
=0.53(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸
エチル:n−ヘキサン=1:1)を有する目的化合物
[(B)Polar] 4.10gおよびRf値=0.
60(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチ
ル:n−ヘキサン=1:1)を有する目的化合物
[(C)Less Polar] 3.15gが得られ
た。
(3−トリフルオロメチルフェニル)エチル]クロロア
セトアミド 10.00gから得られた粗生成物11.
80gをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサ
ン:酢酸エチル=3:1)に付して精製すると、Rf値
=0.53(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸
エチル:n−ヘキサン=1:1)を有する目的化合物
[(B)Polar] 4.10gおよびRf値=0.
60(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチ
ル:n−ヘキサン=1:1)を有する目的化合物
[(C)Less Polar] 3.15gが得られ
た。
【0239】化合物(B)Polarと化合物(C)L
ess Polarとは互いにジアステレオマーであっ
た。
ess Polarとは互いにジアステレオマーであっ
た。
【0240】参考例69.4−(1−ヒドロキシメチルエチル)−2−(3−トリ
フルオロメチルフェニル)モルホリン[(A)ジアステ
レオ混合物、(B)Polarおよび(C)Less
Polar] 参考例68.で得られた2−[2−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン
酸エチル[(A)ジアステレオ混合物]2.70g、水
素化アルミニウムリチウム 0.95gおよびテトラヒ
ドロフラン 30mlを用い、参考例8.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.18(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=
4:1)を有する目的化合物[(A)ジアステレオ混合
物] 1.65gが得られた。
フルオロメチルフェニル)モルホリン[(A)ジアステ
レオ混合物、(B)Polarおよび(C)Less
Polar] 参考例68.で得られた2−[2−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオン
酸エチル[(A)ジアステレオ混合物]2.70g、水
素化アルミニウムリチウム 0.95gおよびテトラヒ
ドロフラン 30mlを用い、参考例8.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.18(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=
4:1)を有する目的化合物[(A)ジアステレオ混合
物] 1.65gが得られた。
【0241】上記と同様に2−[2−(3−トリフルオ
ロメチルフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオ
ン酸エチル[(B)Polar] 4.10g、水素化
アルミニウムリチウム 1.37gおよびテトラヒドロ
フラン 45mlを用いて処理すると、Rf値=0.2
2(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:
n−ヘキサン=4:1)を有する目的化合物[(B)P
olar] 2.31gが得られた。
ロメチルフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオ
ン酸エチル[(B)Polar] 4.10g、水素化
アルミニウムリチウム 1.37gおよびテトラヒドロ
フラン 45mlを用いて処理すると、Rf値=0.2
2(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:
n−ヘキサン=4:1)を有する目的化合物[(B)P
olar] 2.31gが得られた。
【0242】また、上記と同様に2−[2−(3−トリ
フルオロメチルフェニル)−5−オキソモルホリノ]プ
ロピオン酸エチル[(C)Less Polar]3.
15g、水素化アルミニウムリチウム 1.04gおよ
びテトラヒドロフラン 30mlを用いて処理すると、
Rf値=0.30(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル:n−ヘキサン=4:1)を有する目的
化合物[(C)Less Polar] 1.99gが
得られた。
フルオロメチルフェニル)−5−オキソモルホリノ]プ
ロピオン酸エチル[(C)Less Polar]3.
15g、水素化アルミニウムリチウム 1.04gおよ
びテトラヒドロフラン 30mlを用いて処理すると、
Rf値=0.30(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル:n−ヘキサン=4:1)を有する目的
化合物[(C)Less Polar] 1.99gが
得られた。
【0243】参考例70.4−[1−メチル−2−(4−ニトロフェノキシ)エチ
ル]−2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モルホ
リン[(A)ジアステレオ混合物、(B)Polarお
よび(C)Less Polar] 参考例69.で得られた4−(1−ヒドロキシメチルエ
チル)−2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モル
ホリン[(A)ジアステレオ混合物]1.65g、1−
フルオロ−4−ニトロベンゼン 0.80g、水素化ナ
トリウム(55重量%) 0.31gおよびジメチルホ
ルムアミド 25mlを用い、参考例63.に準じて反
応および後処理を行うと、Rf値=0.21(シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン
=2:3)を有する目的化合物[(A)ジアステレオ混
合物] 1.98gが得られた。
ル]−2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モルホ
リン[(A)ジアステレオ混合物、(B)Polarお
よび(C)Less Polar] 参考例69.で得られた4−(1−ヒドロキシメチルエ
チル)−2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モル
ホリン[(A)ジアステレオ混合物]1.65g、1−
フルオロ−4−ニトロベンゼン 0.80g、水素化ナ
トリウム(55重量%) 0.31gおよびジメチルホ
ルムアミド 25mlを用い、参考例63.に準じて反
応および後処理を行うと、Rf値=0.21(シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン
=2:3)を有する目的化合物[(A)ジアステレオ混
合物] 1.98gが得られた。
【0244】上記と同様に4−(1−ヒドロキシメチル
エチル)−2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モ
ルホリン[(B)Polar] 2.00g、1−フル
オロ−4−ニトロベンゼン 1.20g、水素化ナトリ
ウム(55重量%)0.36gおよびジメチルホルムア
ミド 25mlを用いて処理すると、Rf値=0.31
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n
−ヘキサン=2:3)を有する目的化合物[(B)Po
lar] 2.50gが得られた。
エチル)−2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モ
ルホリン[(B)Polar] 2.00g、1−フル
オロ−4−ニトロベンゼン 1.20g、水素化ナトリ
ウム(55重量%)0.36gおよびジメチルホルムア
ミド 25mlを用いて処理すると、Rf値=0.31
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n
−ヘキサン=2:3)を有する目的化合物[(B)Po
lar] 2.50gが得られた。
【0245】また、上記と同様に4−(1−ヒドロキシ
メチルエチル)−2−(3−トリフルオロメチルフェニ
ル)モルホリン[(C)Less Polar] 1.
99g、1−フルオロ−4−ニトロベンゼン 1.20
g、水素化ナトリウム0.36gおよびジメチルホルム
アミド 25mlを用いて処理すると、Rf値=0.3
4(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:
n−ヘキサン=1:1)を有する目的化合物[(C)L
ess Polar] 2.19gが得られた。
メチルエチル)−2−(3−トリフルオロメチルフェニ
ル)モルホリン[(C)Less Polar] 1.
99g、1−フルオロ−4−ニトロベンゼン 1.20
g、水素化ナトリウム0.36gおよびジメチルホルム
アミド 25mlを用いて処理すると、Rf値=0.3
4(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:
n−ヘキサン=1:1)を有する目的化合物[(C)L
ess Polar] 2.19gが得られた。
【0246】参考例71.4−[2−(4−アミノフェノキシ)−1−メチルエチ
ル]−2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モルホ
リン[(A)ジアステレオ混合物、(B)Polarお
よび(C)Less Polar] 参考例70.で得られた4−[1−メチル−2−(4−
ニトロフェノキシ)エチル]−2−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)モルホリン[(A)ジアステレオ混合
物] 1.98g、10%パラジウム−炭素 0.40
gおよびエタノール 20ml中へ水素を5時間通じ
た。パラジウム−炭素をろ別し、ろ液を濃縮して、得ら
れた残渣をカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘ
キサン=1:1)に付して精製すると、Rf値=0.1
8(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:
n−ヘキサン=1:1)を有する目的化合物[(A)ジ
アステレオ混合物] 1.03gが得られた。
ル]−2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モルホ
リン[(A)ジアステレオ混合物、(B)Polarお
よび(C)Less Polar] 参考例70.で得られた4−[1−メチル−2−(4−
ニトロフェノキシ)エチル]−2−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)モルホリン[(A)ジアステレオ混合
物] 1.98g、10%パラジウム−炭素 0.40
gおよびエタノール 20ml中へ水素を5時間通じ
た。パラジウム−炭素をろ別し、ろ液を濃縮して、得ら
れた残渣をカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘ
キサン=1:1)に付して精製すると、Rf値=0.1
8(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:
n−ヘキサン=1:1)を有する目的化合物[(A)ジ
アステレオ混合物] 1.03gが得られた。
【0247】上記と同様に4−[1−メチル−2−(4
−ニトロフェノキシ)エチル]−2−(3−トリフルオ
ロメチルフェニル)モルホリン[(B)Polar]
2.44g、10%パラジウム−炭素 0.5gおよび
エタノール 20mlを用いて処理すると、Rf値=
0.25(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エ
チル:n−ヘキサン=1:1)を有する目的化合物
[(B)Polar]1.58gが得られた。
−ニトロフェノキシ)エチル]−2−(3−トリフルオ
ロメチルフェニル)モルホリン[(B)Polar]
2.44g、10%パラジウム−炭素 0.5gおよび
エタノール 20mlを用いて処理すると、Rf値=
0.25(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エ
チル:n−ヘキサン=1:1)を有する目的化合物
[(B)Polar]1.58gが得られた。
【0248】また、上記と同様に4−[1−メチル−2
−(4−ニトロフェノキシ)エチル]−2−(3−トリ
フルオロメチルフェニル)モルホリン[(C)Less
Polar] 0.47g、10%パラジウム−炭素
0.10gおよびエタノール 4mlを用いて処理す
ると、Rf値=0.25(シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1)を有する
目的化合物[(C)Less Polar] 0.31
gが得られた。
−(4−ニトロフェノキシ)エチル]−2−(3−トリ
フルオロメチルフェニル)モルホリン[(C)Less
Polar] 0.47g、10%パラジウム−炭素
0.10gおよびエタノール 4mlを用いて処理す
ると、Rf値=0.25(シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=1:1)を有する
目的化合物[(C)Less Polar] 0.31
gが得られた。
【0249】参考例72.2−ブロモ−3−{4−[2−(2−(3−トリフルオ
ロメチルフェニル)モルホリノ)プロポキシ]フェニ
ル}プロピオン酸ブチル[(A)ジアステレオ混合物、
(B)Polarおよび(C)Less Polar] 参考例71.で得られた4−[2−(4−アミノフェノ
キシ)−1−メチルエチル]−2−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)モルホリン[(A)ジアステレオ混合
物] 830mg、アセトン 8ml、臭化水素酸
1.89g、亜硝酸ナトリウム 179mgおよび水
1ml、さらにアクリル酸ブチル 3.2mlおよび酸
化第一銅 63mgを用い、参考例58.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.25(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=
1:3)を有する目的化合物[(A)ジアステレオ混合
物]1.02gが得られた。
ロメチルフェニル)モルホリノ)プロポキシ]フェニ
ル}プロピオン酸ブチル[(A)ジアステレオ混合物、
(B)Polarおよび(C)Less Polar] 参考例71.で得られた4−[2−(4−アミノフェノ
キシ)−1−メチルエチル]−2−(3−トリフルオロ
メチルフェニル)モルホリン[(A)ジアステレオ混合
物] 830mg、アセトン 8ml、臭化水素酸
1.89g、亜硝酸ナトリウム 179mgおよび水
1ml、さらにアクリル酸ブチル 3.2mlおよび酸
化第一銅 63mgを用い、参考例58.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.25(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘキサン=
1:3)を有する目的化合物[(A)ジアステレオ混合
物]1.02gが得られた。
【0250】上記と同様に4−[2−(4−アミノフェ
ノキシ)−1−メチルエチル]−2−(3−トリフルオ
ロメチルフェニル)モルホリン[(B)Polar]
1.58g、アセトン 10ml、臭化水素酸 3.6
1g、亜硝酸ナトリウム348mgおよび水 1ml、
更にアクリル酸ブチル 6.0mlおよび酸化第一銅
120mgを用いて処理すると、Rf値=0.27(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘ
キサン=1:3)を有する目的化合物[(B)Pola
r] 2.04gが得られた。
ノキシ)−1−メチルエチル]−2−(3−トリフルオ
ロメチルフェニル)モルホリン[(B)Polar]
1.58g、アセトン 10ml、臭化水素酸 3.6
1g、亜硝酸ナトリウム348mgおよび水 1ml、
更にアクリル酸ブチル 6.0mlおよび酸化第一銅
120mgを用いて処理すると、Rf値=0.27(シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:n−ヘ
キサン=1:3)を有する目的化合物[(B)Pola
r] 2.04gが得られた。
【0251】また、上記と同様に4−[2−(4−アミ
ノフェノキシ)−1−メチルエチル]−2−(3−トリ
フルオロメチルフェニル)モルホリン[(C)Less
Polar] 1.21g、アセトン 10ml、臭
化水素酸 2.75g、亜硝酸ナトリウム 265mg
および水 1ml、更にアクリル酸ブチル 3.7ml
および酸化第一銅 86mgを用いて処理すると、Rf
値=0.25(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢
酸エチル:n−ヘキサン=1:3)を有する目的化合物
[(C)Less Polar] 1.28gが得られ
た。
ノフェノキシ)−1−メチルエチル]−2−(3−トリ
フルオロメチルフェニル)モルホリン[(C)Less
Polar] 1.21g、アセトン 10ml、臭
化水素酸 2.75g、亜硝酸ナトリウム 265mg
および水 1ml、更にアクリル酸ブチル 3.7ml
および酸化第一銅 86mgを用いて処理すると、Rf
値=0.25(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢
酸エチル:n−ヘキサン=1:3)を有する目的化合物
[(C)Less Polar] 1.28gが得られ
た。
【0252】参考例73.5−{4−[2−(2−(3−トリフルオロメチルフェ
ニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−2−イミ
ノチアゾリジン−4−オン[(A)ジアステレオ混合
物、(B)Polarおよび(C)Less Pola
r] 参考例72.で得られた2−ブロモ−3−{4−[2−
(2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モルホリ
ノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン酸ブチル
[(A)ジアステレオ混合物] 1.25g、チオ尿素
0.25g、酢酸ナトリウム 0.25gおよびメタ
ノール 7mlを用い、参考例59.に準じて反応およ
び後処理を行うと、Rf値=0.37(酢酸エチル:テ
トラヒドロフラン=20:1)を有する目的化合物
[(A)ジアステレオ混合物] 0.39gが得られ
た。
ニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−2−イミ
ノチアゾリジン−4−オン[(A)ジアステレオ混合
物、(B)Polarおよび(C)Less Pola
r] 参考例72.で得られた2−ブロモ−3−{4−[2−
(2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モルホリ
ノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン酸ブチル
[(A)ジアステレオ混合物] 1.25g、チオ尿素
0.25g、酢酸ナトリウム 0.25gおよびメタ
ノール 7mlを用い、参考例59.に準じて反応およ
び後処理を行うと、Rf値=0.37(酢酸エチル:テ
トラヒドロフラン=20:1)を有する目的化合物
[(A)ジアステレオ混合物] 0.39gが得られ
た。
【0253】上記と同様に2−ブロモ−3−{4−[2
−(2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モルホリ
ノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン酸ブチル
[(B)Polar] 2.00g、チオ尿素 0.4
1g、酢酸ナトリウム 0.40gおよびメタノール
20mlを用いて処理すると、Rf値=0.21(酢酸
エチル:テトラヒドロフラン=20:1)を有する目的
化合物[(B)Polar]791mgが得られた。
−(2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モルホリ
ノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン酸ブチル
[(B)Polar] 2.00g、チオ尿素 0.4
1g、酢酸ナトリウム 0.40gおよびメタノール
20mlを用いて処理すると、Rf値=0.21(酢酸
エチル:テトラヒドロフラン=20:1)を有する目的
化合物[(B)Polar]791mgが得られた。
【0254】また、上記と同様に2−ブロモ−3−{4
−[2−(2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モ
ルホリノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン酸ブチル
[(C)Less Polar] 1.28g、チオ尿
素 0.30g、酢酸ナトリウム 0.29gおよびメ
タノール 7mlを用いて処理すると、Rf値=0.4
0(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル)
を有する目的化合物[(C)Less Polar]
610mgが得られた。
−[2−(2−(3−トリフルオロメチルフェニル)モ
ルホリノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン酸ブチル
[(C)Less Polar] 1.28g、チオ尿
素 0.30g、酢酸ナトリウム 0.29gおよびメ
タノール 7mlを用いて処理すると、Rf値=0.4
0(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル)
を有する目的化合物[(C)Less Polar]
610mgが得られた。
【0255】参考例74.N−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−2
−ヒドロキシエチル]クロロアセトアミド 2−アミノ−1−(3−クロロ−4−フルオロフェニ
ル)エタノール20.5g、塩化クロロアセチル 1
0.1ml、テトラヒドロフラン 410mlおよびト
リエチルアミン 17.6mlを用い、参考例1.に準
じて反応および後処理を行うと、融点76.7〜78.
8℃を有する目的化合物 25.2gが得られた。
−ヒドロキシエチル]クロロアセトアミド 2−アミノ−1−(3−クロロ−4−フルオロフェニ
ル)エタノール20.5g、塩化クロロアセチル 1
0.1ml、テトラヒドロフラン 410mlおよびト
リエチルアミン 17.6mlを用い、参考例1.に準
じて反応および後処理を行うと、融点76.7〜78.
8℃を有する目的化合物 25.2gが得られた。
【0256】参考例75.2−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−5
−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル[(A)Po
larおよび(B)Less Polar] N−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−2
−ヒドロキシエチル]クロロアセトアミド 13.3
g、水素化ナトリウム(55重量%) 6.6g、ジメ
チルホルムアミド 700mlおよびα−ブロモプロピ
オン酸エチル9.8mlを用い、参考例34.に準じて
反応および後処理を行うと、Rf値=0.46(シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=
1:1)を有する目的化合物[(A)Polar]
3.33gおよびRf値=0.53(ヘキサン:酢酸エ
チル=1:1)を有する目的化合物[(B)Less
Polar] 4.26gが得られた。
−オキソモルホリノ]プロピオン酸エチル[(A)Po
larおよび(B)Less Polar] N−[2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−2
−ヒドロキシエチル]クロロアセトアミド 13.3
g、水素化ナトリウム(55重量%) 6.6g、ジメ
チルホルムアミド 700mlおよびα−ブロモプロピ
オン酸エチル9.8mlを用い、参考例34.に準じて
反応および後処理を行うと、Rf値=0.46(シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=
1:1)を有する目的化合物[(A)Polar]
3.33gおよびRf値=0.53(ヘキサン:酢酸エ
チル=1:1)を有する目的化合物[(B)Less
Polar] 4.26gが得られた。
【0257】参考例76.2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4−(1
−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン[(A)Pol
arおよび(B)Less Polar] 参考例75.で得られた2−[2−(3−クロロ−4−
フルオロフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオ
ン酸エチル[(A)Polar] 3.16g、水素化
アルミニウムリチウム 1.20gおよびテトラヒドロ
フラン75mlを用い、参考例8.に準じて反応および
後処理を行うと、Rf値=0.42(シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物
[(A)Polar] 2.62gが得られた。
−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン[(A)Pol
arおよび(B)Less Polar] 参考例75.で得られた2−[2−(3−クロロ−4−
フルオロフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロピオ
ン酸エチル[(A)Polar] 3.16g、水素化
アルミニウムリチウム 1.20gおよびテトラヒドロ
フラン75mlを用い、参考例8.に準じて反応および
後処理を行うと、Rf値=0.42(シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物
[(A)Polar] 2.62gが得られた。
【0258】上記と同様に、2−[2−(3−クロロ−
4−フルオロフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロ
ピオン酸エチル[(B)Less Polar] 4.
16g、水素化アルミニウムリチウム 1.50gおよ
びテトラヒドロフラン100mlを用いて処理すると、
Rf値=0.44(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル)を有する目的化合物[(B)Less
Polar]2.88gが得られた。
4−フルオロフェニル)−5−オキソモルホリノ]プロ
ピオン酸エチル[(B)Less Polar] 4.
16g、水素化アルミニウムリチウム 1.50gおよ
びテトラヒドロフラン100mlを用いて処理すると、
Rf値=0.44(シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー;酢酸エチル)を有する目的化合物[(B)Less
Polar]2.88gが得られた。
【0259】参考例77.2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)−4−[1
−メチル−2−(4−ニトロフェノキシ)エチル]モル
ホリン[(A)Polarおよび(B)Less Po
lar] 参考例76.で得られた2−(3−クロロ−4−フルオ
ロフェニル)−4−(1−ヒドロキシメチルエチル)モ
ルホリン[(A)Polar] 2.10g、1−フル
オロ−4−ニトロベンゼン 0.83ml、水素化ナト
リウム(55重量%) 350mgおよびジメチルホル
ムアミド 30mlを用い、参考例63.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.55(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:
1)を有する目的化合物[(A)Polar] 2.6
3gが得られた。
−メチル−2−(4−ニトロフェノキシ)エチル]モル
ホリン[(A)Polarおよび(B)Less Po
lar] 参考例76.で得られた2−(3−クロロ−4−フルオ
ロフェニル)−4−(1−ヒドロキシメチルエチル)モ
ルホリン[(A)Polar] 2.10g、1−フル
オロ−4−ニトロベンゼン 0.83ml、水素化ナト
リウム(55重量%) 350mgおよびジメチルホル
ムアミド 30mlを用い、参考例63.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.55(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:
1)を有する目的化合物[(A)Polar] 2.6
3gが得られた。
【0260】上記と同様に2−(3−クロロ−4−フル
オロフェニル)−4−(1−ヒドロキシメチルエチル)
モルホリン[(B)Less Polar] 2.50
g、1−フルオロ−4−ニトロベンゼン 1.00m
l、水素化ナトリウム(55%重量) 480mgおよ
びジメチルホルムアミド 40mlを用いて処理する
と、Rf値=0.45(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化
合物[(B)Less Polar] 3.25gが得
られた。
オロフェニル)−4−(1−ヒドロキシメチルエチル)
モルホリン[(B)Less Polar] 2.50
g、1−フルオロ−4−ニトロベンゼン 1.00m
l、水素化ナトリウム(55%重量) 480mgおよ
びジメチルホルムアミド 40mlを用いて処理する
と、Rf値=0.45(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化
合物[(B)Less Polar] 3.25gが得
られた。
【0261】参考例78.4−[2−(4−アミノフェノキシ)−1−メチルエチ
ル]−2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)モル
ホリン[(A)Polarおよび(B)Less Po
lar] 参考例77.で得られた2−(3−クロロ−4−フルオ
ロフェニル)−4−[1−メチル−2−(4−ニトロフ
ェノキシ)エチル]モルホリン[(A)Polar]
1.47g、亜鉛 3.9g、メタノール 60mlお
よび酢酸1.5mlを用い、参考例57.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.41(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:
1)を有する目的化合物[(A)Polar] 1.2
3gが得られた。
ル]−2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)モル
ホリン[(A)Polarおよび(B)Less Po
lar] 参考例77.で得られた2−(3−クロロ−4−フルオ
ロフェニル)−4−[1−メチル−2−(4−ニトロフ
ェノキシ)エチル]モルホリン[(A)Polar]
1.47g、亜鉛 3.9g、メタノール 60mlお
よび酢酸1.5mlを用い、参考例57.に準じて反応
および後処理を行うと、Rf値=0.41(シリカゲル
薄層クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:
1)を有する目的化合物[(A)Polar] 1.2
3gが得られた。
【0262】上記と同様に、2−(3−クロロ−4−フ
ルオロフェニル)−4−[1−メチル−2−(4−ニト
ロフェノキシ)エチル]モルホリン[(B)Less
Polar] 2.11g、亜鉛 5.6g、メタノー
ル 90mlおよび酢酸2.2mlを用いて処理する
と、Rf値=0.38(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化
合物[(B)Less Polar] 1.81gが得
られた。
ルオロフェニル)−4−[1−メチル−2−(4−ニト
ロフェノキシ)エチル]モルホリン[(B)Less
Polar] 2.11g、亜鉛 5.6g、メタノー
ル 90mlおよび酢酸2.2mlを用いて処理する
と、Rf値=0.38(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化
合物[(B)Less Polar] 1.81gが得
られた。
【0263】参考例79.2−ブロモ−3−{4−[2−(2−(3−クロロ−4
−フルオロフェニル)モルホリノ)プロポキシ]フェニ
ル}プロピオン酸ブチル[(A)Polarおよび
(B)Less Polar] 参考例78.で得られた4−[2−(4−アミノフェノ
キシ)−1−メチルエチル]−2−(3−クロロ−4−
フルオロフェニル)モルホリン[(A)Polar]
1.21g、アセトン 30ml、臭化水素酸 1.5
ml、亜硝酸ナトリウム 250mgおよび水 2m
l、更にアクリル酸ブチル 4.8mlおよび酸化第一
銅 100mgを用い、参考例58.に準じて反応およ
び後処理を行うと、Rf値=0.85(シリカゲル薄層
クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)
を有する目的化合物[(A)Polar] 0.89g
が得られた。
−フルオロフェニル)モルホリノ)プロポキシ]フェニ
ル}プロピオン酸ブチル[(A)Polarおよび
(B)Less Polar] 参考例78.で得られた4−[2−(4−アミノフェノ
キシ)−1−メチルエチル]−2−(3−クロロ−4−
フルオロフェニル)モルホリン[(A)Polar]
1.21g、アセトン 30ml、臭化水素酸 1.5
ml、亜硝酸ナトリウム 250mgおよび水 2m
l、更にアクリル酸ブチル 4.8mlおよび酸化第一
銅 100mgを用い、参考例58.に準じて反応およ
び後処理を行うと、Rf値=0.85(シリカゲル薄層
クロマトグラフィー;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)
を有する目的化合物[(A)Polar] 0.89g
が得られた。
【0264】上記と同様に4−[2−(4−アミノフェ
ノキシ)−1−メチルエチル]−2−(3−クロロ−4
−フルオロフェニル)モルホリン[(B)Less P
olar] 1.77g、アセトン 40ml、臭化水
素酸 2.4ml、亜硝酸ナトリウム 407mgおよ
び水 6ml、更にアクリル酸ブチル 7.1mlおよ
び酸化第一銅 140mgを用いて処理すると、Rf値
=0.81(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキ
サン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化合物
[(B)Less Polar] 1.38gが得られ
た。
ノキシ)−1−メチルエチル]−2−(3−クロロ−4
−フルオロフェニル)モルホリン[(B)Less P
olar] 1.77g、アセトン 40ml、臭化水
素酸 2.4ml、亜硝酸ナトリウム 407mgおよ
び水 6ml、更にアクリル酸ブチル 7.1mlおよ
び酸化第一銅 140mgを用いて処理すると、Rf値
=0.81(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;ヘキ
サン:酢酸エチル=1:1)を有する目的化合物
[(B)Less Polar] 1.38gが得られ
た。
【0265】参考例80.5−{4−[2−(2−(3−クロロ−4−フルオロフ
ェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−2−イ
ミノチアゾリジン−4−オン[(A)Polarおよび
(B)Less Polar] 参考例79.で得られた2−ブロモ−3−{4−[2−
(2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)モルホリ
ノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン酸ブチル
[(A)Polar] 0.87g、チオ尿素 360
mg、酢酸ナトリウム260mgおよびエタノール 2
5mlを用い、参考例59.に準じ反応および後処理を
行うと、Rf値=0.33(シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー;酢酸エチル)を有する目的粗生成物[(A)
Polar] 1.31gが得られた。
ェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−2−イ
ミノチアゾリジン−4−オン[(A)Polarおよび
(B)Less Polar] 参考例79.で得られた2−ブロモ−3−{4−[2−
(2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)モルホリ
ノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン酸ブチル
[(A)Polar] 0.87g、チオ尿素 360
mg、酢酸ナトリウム260mgおよびエタノール 2
5mlを用い、参考例59.に準じ反応および後処理を
行うと、Rf値=0.33(シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー;酢酸エチル)を有する目的粗生成物[(A)
Polar] 1.31gが得られた。
【0266】上記と同様に、2−ブロモ−3−{4−
[2−(2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)モ
ルホリノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン酸ブチル
[(B)Less Polar] 1.08g、チオ尿
素 450mg、酢酸ナトリウム 330mgおよびエ
タノール 30mlを用いて処理すると、Rf値=0.
35(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチ
ル)を有する目的粗生成物[(B)Less Pola
r] 1.45gが得られた。
[2−(2−(3−クロロ−4−フルオロフェニル)モ
ルホリノ)プロポキシ]フェニル}プロピオン酸ブチル
[(B)Less Polar] 1.08g、チオ尿
素 450mg、酢酸ナトリウム 330mgおよびエ
タノール 30mlを用いて処理すると、Rf値=0.
35(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチ
ル)を有する目的粗生成物[(B)Less Pola
r] 1.45gが得られた。
【0267】参考例81.N−(4−ベンジルオキシベンジル)−N,O−ビス
(t−ブトキシカルボニル)ヒドロキシルアミン 塩化4−ベンジルオキシベンジル 6.98g、N、O
−ビス(t−ブトキシカルボニル)ヒドロキシルアミン
9.1gのジメチルホルムアミド 150ml溶液へ
氷冷下で水素化ナトリウム(55重量%) 1.44g
を加え、室温で4時間撹拌した。反応混合物よりジメチ
ルホルムアミドを減圧下で留去し、残渣に水を加え酢酸
エチルで抽出した。抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。抽出液より酢酸エチルを留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル:ヘキサン=1:7)に付して精製すると、R
f値=0.32(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;
酢酸エチル:ヘキサン=1:10)を有する目的化合物
12.2gが得られた。
(t−ブトキシカルボニル)ヒドロキシルアミン 塩化4−ベンジルオキシベンジル 6.98g、N、O
−ビス(t−ブトキシカルボニル)ヒドロキシルアミン
9.1gのジメチルホルムアミド 150ml溶液へ
氷冷下で水素化ナトリウム(55重量%) 1.44g
を加え、室温で4時間撹拌した。反応混合物よりジメチ
ルホルムアミドを減圧下で留去し、残渣に水を加え酢酸
エチルで抽出した。抽出液を水洗し、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。抽出液より酢酸エチルを留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢
酸エチル:ヘキサン=1:7)に付して精製すると、R
f値=0.32(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;
酢酸エチル:ヘキサン=1:10)を有する目的化合物
12.2gが得られた。
【0268】参考例82.N−(4−ヒドロキシベンジル)−N,O−ビス(t−
ブトキシカルボニル)ヒドロキシルアミン N−(4−ベンジルオキシベンジル)−N、O−ビス
(t−ブトキシカルボニル)ヒドロキシルアミン 1
0.6g、10%パラジウム−炭素 2.1gおよびメ
タノール 300mlの混合物へ、室温で3時間水素ガ
スを通じた。反応混合物をセライトでろ過し、ろ液より
メタノールを留去して得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:4)
に付して精製すると、Rf値=0.30(シリカゲル薄
層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:
3)を有する目的化合物 6.1gが得られた。
ブトキシカルボニル)ヒドロキシルアミン N−(4−ベンジルオキシベンジル)−N、O−ビス
(t−ブトキシカルボニル)ヒドロキシルアミン 1
0.6g、10%パラジウム−炭素 2.1gおよびメ
タノール 300mlの混合物へ、室温で3時間水素ガ
スを通じた。反応混合物をセライトでろ過し、ろ液より
メタノールを留去して得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:4)
に付して精製すると、Rf値=0.30(シリカゲル薄
層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:
3)を有する目的化合物 6.1gが得られた。
【0269】参考例83.N−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−N,O−ビス(t−ブ
トキシカルボニル)ヒドロキシルアミン 2−(3−クロロフェニル)−4−(1−ヒドロキシメ
チルエチル)モルホリン 3.4g、N−(4−ヒドロ
キシベンジル)−N、O−ビス(t−ブトキシカルボニ
ル)ヒドロキシルアミン 4.5g、トリブチルホスフ
ィン 2.97g、アゾジカルボニルジピペリジン
3.36gおよびベンゼン 100mlの混合物を室温
で6時間撹拌した。反応終了後、反応混合物より不溶物
をろ別し、ろ液を濃縮して、得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:3)に付して精製すると、Rf値=0.62(シリ
カゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン
=1:1)を有する目的化合物2.5gが得られた。
リノ)プロポキシ]ベンジル}−N,O−ビス(t−ブ
トキシカルボニル)ヒドロキシルアミン 2−(3−クロロフェニル)−4−(1−ヒドロキシメ
チルエチル)モルホリン 3.4g、N−(4−ヒドロ
キシベンジル)−N、O−ビス(t−ブトキシカルボニ
ル)ヒドロキシルアミン 4.5g、トリブチルホスフ
ィン 2.97g、アゾジカルボニルジピペリジン
3.36gおよびベンゼン 100mlの混合物を室温
で6時間撹拌した。反応終了後、反応混合物より不溶物
をろ別し、ろ液を濃縮して、得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:3)に付して精製すると、Rf値=0.62(シリ
カゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン
=1:1)を有する目的化合物2.5gが得られた。
【0270】参考例84.N−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ]プロポキシ]ベンジル}ヒドロキシルアミン N−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−N、O−ビス(t−ブ
トキシカルボニル)ヒドロキシルアミン 3gの塩化メ
チレン 30ml中へ、氷冷下でトリフルオロ酢酸 4
mlを加え、室温で2時間撹拌した。反応終了後、反応
混合物より溶剤を留去し、残渣に炭酸カリウム水溶液を
加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。抽出液より酢酸エチルを留去した
後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:エタノール=10:1)に付して精製
すると、Rf値=0.23(シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 1.2g
が得られた。
リノ]プロポキシ]ベンジル}ヒドロキシルアミン N−{4−[2−(2−(3−クロロフェニル)モルホ
リノ)プロポキシ]ベンジル}−N、O−ビス(t−ブ
トキシカルボニル)ヒドロキシルアミン 3gの塩化メ
チレン 30ml中へ、氷冷下でトリフルオロ酢酸 4
mlを加え、室温で2時間撹拌した。反応終了後、反応
混合物より溶剤を留去し、残渣に炭酸カリウム水溶液を
加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。抽出液より酢酸エチルを留去した
後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:エタノール=10:1)に付して精製
すると、Rf値=0.23(シリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー;酢酸エチル)を有する目的化合物 1.2g
が得られた。
【0271】参考例85.2−(R)−[2−(R)−(3−クロロフェニル)−
2−t−ブチルジメチルシリルオキシエチルアミノ]プ
ロピオン酸メチル (R)−α−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フェ
ニルアセトアルデヒド103.5g、D−アラニンメチ
ルエステル 36.0gのメタノール 1リットル溶液
を室温で1時間撹拌した後、氷冷下で水素化シアノホウ
素ナトリウム50gを少量づつ加え、室温で一夜放置し
た。反応終了後、反応混合物よりメタノールを留去し、
得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。抽出液より酢酸エチルを留去し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキ
サン=1:8)に付して精製すると、Rf値=0.26
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘ
キサン=1:8)を有する目的化合物 54.51gが
得られた。
2−t−ブチルジメチルシリルオキシエチルアミノ]プ
ロピオン酸メチル (R)−α−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)フェ
ニルアセトアルデヒド103.5g、D−アラニンメチ
ルエステル 36.0gのメタノール 1リットル溶液
を室温で1時間撹拌した後、氷冷下で水素化シアノホウ
素ナトリウム50gを少量づつ加え、室温で一夜放置し
た。反応終了後、反応混合物よりメタノールを留去し、
得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。抽出液より酢酸エチルを留去し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキ
サン=1:8)に付して精製すると、Rf値=0.26
(シリカゲル薄層クロマトグラフィー;酢酸エチル:ヘ
キサン=1:8)を有する目的化合物 54.51gが
得られた。
【0272】参考例86.2−(R)−[2−(R)−(3−クロロフェニル)−
2−ヒドロキシエチルアミノ]プロピオン酸メチル 2−(R)−[2−(R)−(3−クロロフェニル)−
2−t−ブチルジメチルシリルオキシエチルアミノ]プ
ロピオン酸メチル 44.45gのテトラヒドロフラン
400ml溶液にフッ化テトラブチルアンモニウム
(1.0Mテトラヒドロフラン溶液) 300mlを加
え、45分間室温で撹拌した。反応混合物よりテトラヒ
ドロフランを反応混合物が約300mlになるまで留去
した。反応混合物へ氷冷下で4N塩酸/ジオキサン溶液
を 700ml加え、次いでメタノール 200mlを
加えて室温で2.5時間撹拌した。更に4N塩酸/ジオ
キサン溶液 500mlを加え、室温で1時間撹拌し、
更に4NHCl/ジオキサン溶液 500mlを加え、
室温で4時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を約5
00mlまで濃縮し、炭酸カリウム水溶液でpH8に調
整し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を3回水洗後無水
硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液より溶剤を留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:ヘキサン=3:1)に付して精製する
と、Rf値=0.45(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;酢酸エチル:ヘキサン=3:1)を有する目的化
合物16.2gが得られた。
2−ヒドロキシエチルアミノ]プロピオン酸メチル 2−(R)−[2−(R)−(3−クロロフェニル)−
2−t−ブチルジメチルシリルオキシエチルアミノ]プ
ロピオン酸メチル 44.45gのテトラヒドロフラン
400ml溶液にフッ化テトラブチルアンモニウム
(1.0Mテトラヒドロフラン溶液) 300mlを加
え、45分間室温で撹拌した。反応混合物よりテトラヒ
ドロフランを反応混合物が約300mlになるまで留去
した。反応混合物へ氷冷下で4N塩酸/ジオキサン溶液
を 700ml加え、次いでメタノール 200mlを
加えて室温で2.5時間撹拌した。更に4N塩酸/ジオ
キサン溶液 500mlを加え、室温で1時間撹拌し、
更に4NHCl/ジオキサン溶液 500mlを加え、
室温で4時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を約5
00mlまで濃縮し、炭酸カリウム水溶液でpH8に調
整し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を3回水洗後無水
硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液より溶剤を留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(酢酸エチル:ヘキサン=3:1)に付して精製する
と、Rf値=0.45(シリカゲル薄層クロマトグラフ
ィー;酢酸エチル:ヘキサン=3:1)を有する目的化
合物16.2gが得られた。
【0273】参考例87.α−(R)−{N−クロロアセチル−N−[2−(R)
−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチル]ア
ミノ}プロピオン酸メチル 2−(R)−[2−(R)−(3−クロロフェニル)−
2−ヒドロキシエチルアミノ]プロピオン酸メチル 1
5.95gのテトラヒドロフラン 150ml溶液へ、
氷冷下で塩化クロロアセチル 5.91mlのテトラヒ
ドロフラン10ml溶液を滴下し、次いでトリエチルア
ミン 10.3mlを滴下した。反応混合物を氷冷下で
1時間撹拌した後、水にあけ酢酸エチルで抽出した。更
に水層に食塩を加え酢酸エチルで抽出した。両抽出液を
合わせ食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。抽出液より酢酸エチルを留去し、得られた残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:2→2:3)に付して精製すると、融点 120〜
121℃を有する目的化合物 6gが得られた。
−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチル]ア
ミノ}プロピオン酸メチル 2−(R)−[2−(R)−(3−クロロフェニル)−
2−ヒドロキシエチルアミノ]プロピオン酸メチル 1
5.95gのテトラヒドロフラン 150ml溶液へ、
氷冷下で塩化クロロアセチル 5.91mlのテトラヒ
ドロフラン10ml溶液を滴下し、次いでトリエチルア
ミン 10.3mlを滴下した。反応混合物を氷冷下で
1時間撹拌した後、水にあけ酢酸エチルで抽出した。更
に水層に食塩を加え酢酸エチルで抽出した。両抽出液を
合わせ食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し
た。抽出液より酢酸エチルを留去し、得られた残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=
1:2→2:3)に付して精製すると、融点 120〜
121℃を有する目的化合物 6gが得られた。
【0274】参考例882−(R)−[2−(R)−(3−クロロフェニル)−
5−オキソモルホリノ]プロピオン酸メチル 2−(R)−{N−クロロアセチル−N−[2−(R)
−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチル]ア
ミノ}プロピオン酸メチル 5.95gのジメチルホル
ムアミド 80ml溶液に、ヘキサンで洗浄した水素化
ナトリウム740mg(55重量%)を加えた。反応混
合物を室温で1時間撹拌した後、水にあけ酢酸エチルで
抽出した。更に水層に食塩を加え酢酸エチルで抽出し
た。最初の抽出液と合わせた後、両抽出液を食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液より溶
剤を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)に付して
精製すると、Rf値=0.25(シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:2)を有す
る目的化合物 2.5gが得られた。
5−オキソモルホリノ]プロピオン酸メチル 2−(R)−{N−クロロアセチル−N−[2−(R)
−(3−クロロフェニル)−2−ヒドロキシエチル]ア
ミノ}プロピオン酸メチル 5.95gのジメチルホル
ムアミド 80ml溶液に、ヘキサンで洗浄した水素化
ナトリウム740mg(55重量%)を加えた。反応混
合物を室温で1時間撹拌した後、水にあけ酢酸エチルで
抽出した。更に水層に食塩を加え酢酸エチルで抽出し
た。最初の抽出液と合わせた後、両抽出液を食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。抽出液より溶
剤を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:2)に付して
精製すると、Rf値=0.25(シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:2)を有す
る目的化合物 2.5gが得られた。
【0275】参考例892−(R)−(3−クロロフェニル)−4−(1−
(R)−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン 2−(R)−[2−(R)−(3−クロロフェニル)−
5−オキソモルホリノ]プロピオン酸メチル 2.1
g、水素化アルミニウムリチウム(1.0Mテトラヒド
ロフラン溶液) 21.2mlおよびテトラヒドロフラ
ン 30mlを用い、参考例8.に準じて反応および後
処理を行うと、Rf値=0.25(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=5:1)を有
する目的化合物 1.13gが得られた。
(R)−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン 2−(R)−[2−(R)−(3−クロロフェニル)−
5−オキソモルホリノ]プロピオン酸メチル 2.1
g、水素化アルミニウムリチウム(1.0Mテトラヒド
ロフラン溶液) 21.2mlおよびテトラヒドロフラ
ン 30mlを用い、参考例8.に準じて反応および後
処理を行うと、Rf値=0.25(シリカゲル薄層クロ
マトグラフィー;酢酸エチル:ヘキサン=5:1)を有
する目的化合物 1.13gが得られた。
【0276】参考例905−{4−[2−(R)−(2−(R)−(3−クロロ
フェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−
トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−ジオン 2−(R)−(3−クロロフェニル)−4−(1−
(R)−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン 1.1
g、5−(4−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニ
ルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン 2.27g、
トリブチルホスフィン 0.99g、アゾジカルボニル
ジピペリジン 1.23gおよびベンゼン50mlを用
い、参考例4.に準じて反応および後処理を行うと、
[α]D 24−4.0°(C=1.000,CHCl3 )
およびRf値=0.41(シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:1)を有する目的
化合物 1.54gが得られた。
フェニル)モルホリノ)プロポキシ]ベンジル}−3−
トリフェニルメチルチアゾリジン−2,4−ジオン 2−(R)−(3−クロロフェニル)−4−(1−
(R)−ヒドロキシメチルエチル)モルホリン 1.1
g、5−(4−ヒドロキシベンジル)−3−トリフェニ
ルメチルチアゾリジン−2、4−ジオン 2.27g、
トリブチルホスフィン 0.99g、アゾジカルボニル
ジピペリジン 1.23gおよびベンゼン50mlを用
い、参考例4.に準じて反応および後処理を行うと、
[α]D 24−4.0°(C=1.000,CHCl3 )
およびRf値=0.41(シリカゲル薄層クロマトグラ
フィー;酢酸エチル:ヘキサン=1:1)を有する目的
化合物 1.54gが得られた。
【0277】
試験例 1.負荷血糖降下作用 本発明化合物のD−グルコ−ス負荷高血糖に対する血糖
降下作用を測定した。体重28〜30gの3ヶ月令 K
K系雄性マウスを一夜絶食後、1mg/kgの被検化合
物を経口投与し、 60分後に高血糖を誘発するためD
−グルコ−ス1.2g/kg を皮下投与した。投与後
60分および 120分の時点で採血し、血糖濃度を
グルコースアナライザー(GL−101 (商品名) 、三
菱化成(株)社製)を用いて測定し、次式に基づき負荷
血糖降下率(R)を算出した。
降下作用を測定した。体重28〜30gの3ヶ月令 K
K系雄性マウスを一夜絶食後、1mg/kgの被検化合
物を経口投与し、 60分後に高血糖を誘発するためD
−グルコ−ス1.2g/kg を皮下投与した。投与後
60分および 120分の時点で採血し、血糖濃度を
グルコースアナライザー(GL−101 (商品名) 、三
菱化成(株)社製)を用いて測定し、次式に基づき負荷
血糖降下率(R)を算出した。
【0278】R=(1−( B/A) )×100 但し、A:CMC(カルボキシメチルセルロース)群の
血糖値 B:被検化合物投与群の血糖値 得られた結果を表5 に示す。
血糖値 B:被検化合物投与群の血糖値 得られた結果を表5 に示す。
【0279】
【表5】 ─────────────────────────────────── 化合物 投与量 マウス数 負荷血糖降下率(%) (mg/kg ) 60 分 120 分 ─────────────────────────────────── 実施例1の 1 4 30.6 39.6 化合物 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 5−[4−(2−モル 1 4 3.8 -2.9 ホリノエトキシ)ベン 10 4 -7.3 -4.9 ジル]チアゾリジン− 2、4−ジオン* ─────────────────────────────────── * Chem.Pharm.Bull.、30 巻、 3580頁(1982 年) の Tab
le IV.に記載のNo.70 の化合物 表5から、本発明の化合物は優れた血糖降下作用を示し
た。
le IV.に記載のNo.70 の化合物 表5から、本発明の化合物は優れた血糖降下作用を示し
た。
【0280】試験例 2.毒性 実験動物にddY系雄性マウスを用いた。 実験には一
群3匹を用いた。被験化合物は各動物に 300mg/
kg体重量が経口投与された。用いられた被験化合物は
実施例1.の化合物である。動物は投与後1週間観察し
た。そして、その期間中、被験化合物に起因した異常性
はなんら見られなかった。すべての動物は観察期間中、
生存していた。各動物に対する実質投与量の観点から見
て、死亡率0は本発明の化合物の毒性が非常に低いこと
を示している。
群3匹を用いた。被験化合物は各動物に 300mg/
kg体重量が経口投与された。用いられた被験化合物は
実施例1.の化合物である。動物は投与後1週間観察し
た。そして、その期間中、被験化合物に起因した異常性
はなんら見られなかった。すべての動物は観察期間中、
生存していた。各動物に対する実質投与量の観点から見
て、死亡率0は本発明の化合物の毒性が非常に低いこと
を示している。
【0281】
【発明の効果】本発明の前記一般式(I)を有する化合
物またはその塩は、血糖低下作用、肥満改善作用、耐糖
能不全改善作用、肝臓での糖新生抑制作用、脂質低下作
用、アルドース還元酵素阻害作用およびトロンボキサン
A2 合成阻害作用を有し、高血糖症、肥満症、高脂血
症、糖尿病合併症たとえば網膜症、腎症、神経症、白内
障、冠動脈疾患、動脈硬化症、更に肥満性高血圧症、骨
粗鬆症および血栓症などの予防薬および/または治療薬
として有用である。
物またはその塩は、血糖低下作用、肥満改善作用、耐糖
能不全改善作用、肝臓での糖新生抑制作用、脂質低下作
用、アルドース還元酵素阻害作用およびトロンボキサン
A2 合成阻害作用を有し、高血糖症、肥満症、高脂血
症、糖尿病合併症たとえば網膜症、腎症、神経症、白内
障、冠動脈疾患、動脈硬化症、更に肥満性高血圧症、骨
粗鬆症および血栓症などの予防薬および/または治療薬
として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 413/12 233 263 417/10 233 263 265 271 277 279 417/12 233 263 265 277 279 // A61K 31/535 ACN ADN 9454−4C ADP 31/54 ABJ ABU 9454−4C ACB AED 9454−4C C12N 9/99 (C07D 413/10 265:00 271:00) (C07D 413/12 265:00 271:00) (C07D 417/10 265:00 285:00) (C07D 417/10 263:00 279:00) (C07D 417/10 279:00 285:00) (C07D 417/12 265:00 279:00) (C07D 417/12 263:00 265:00) (C07D 417/12 233:00 265:00) (C07D 417/12 265:00 285:00) (C07D 417/12 263:00 − − − − − 1 KN0 G GAA− - G , − , 86.E 7. . KE, N , − , ,SD, , , , SZ, S , −,S 91.K , , , N,S U (72)発明者 金井 勉 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 佐野 宏己 滋賀県野洲郡野洲町野洲1041 三共株式会 社内 (72)発明者 掘越 大能 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 藤原 俊彦 東京都品川区広町1丁目2番58号 三共株 式会社内
Claims (6)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、 R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は同一または異なっ
て、水素原子、炭素数1ないし5個を有する直鎖状もし
くは分枝鎖状のアルキル基、炭素数1ないし5個を有す
る直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ基、ハロゲン原
子、ヒドロキシ基、またはトリフルオロメチル基を示
す。R6 は水素原子または炭素数1ないし5個を有する
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示す。Aは酸素
原子または硫黄原子を示す。Bは結合手、酸素原子また
は硫黄原子を示す。mは1ないし5の整数を示す。Xは
窒素原子または基 >CH− を示す。Yはイミノ基、
酸素原子または硫黄原子を示す。Zは水素原子または基
−(CH2 )n −CO2 R7 (式中、R7 は水素原子
または炭素数1ないし5個を有する直鎖状もしくは分枝
鎖状のアルキル基を示し、nは1ないし5の整数を示
す。)を示す。)を有するモルホリンおよびチオモルホ
リン誘導体またはその塩。 - 【請求項2】[請求項1]において、 R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 が同一または異なっ
て、水素原子、炭素数1ないし4個を有する直鎖状もし
くは分枝鎖状のアルキル基、炭素数1ないし3個を有す
る直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコキシ基、ハロゲン原
子、ヒドロキシ基、またはトリフルオロメチル基を示
し、 R6 が水素原子または炭素数1ないし3個を有する直鎖
状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、 Aが酸素原子または硫黄原子を示し、 Bが結合手、酸素原子または硫黄原子を示し、 mが1ないし3の整数を示し、 Xが窒素原子または基 >CH− を示し、 Yがイミノ基、酸素原子または硫黄原子を示し、 Zが水素原子または基 −(CH2 )n −CO2 R7
(式中、R7 は水素原子または炭素数1ないし4個を有
する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、nは
1ないし4の整数を示す。)を示す、化合物またはその
塩。 - 【請求項3】[請求項1]または[請求項2]におい
て、 R1 、R2 およびR3 が同一または異なって水素原子、
炭素数1ないし4個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキル基、炭素数1ないし3個を有する直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ
基またはトリフルオロメチル基を示し、 R4 およびR5 が同一または異なって水素原子、炭素数
1ないし3個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルコ
キシ基、炭素数1ないし3個を有する直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基ま
たはトリフルオロメチル基を示し、 R6 が水素原子または炭素数1ないし3個を有する直鎖
状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、 Aが酸素原子または硫黄原子を示し、 Bが結合手、酸素原子または硫黄原子を示し、 mが1ないし3の整数を示し、 Xが窒素原子または基 >CH− を示し、 Yが酸素原子または硫黄原子を示し、 Zが水素原子または基 −(CH2 )n −CO2 R7
(式中、R7 は水素原子または炭素数1ないし4個を有
する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、nは
1ないし3の整数を示す。)を示す、化合物またはその
塩。 - 【請求項4】[請求項1]、[請求項2]または[請求
項3]において、 R1 、R2 およびR3 が同一または異なって水素原子、
炭素数1ないし4個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の
アルキル基、炭素数1ないし3個を有する直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ
基またはトリフルオロメチル基を示し、 R4 およびR5 が同一または異なって水素原子、炭素数
1ないし2個を有するアルキル基、炭素数1ないし2個
を有するアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、ヒドロ
キシ基またはトリフルオロメチル基を示し、 R6 が水素原子または炭素数1ないし3個を有する直鎖
状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、 Aが酸素原子または硫黄原子を示し、 Bが結合手、酸素原子または硫黄原子を示し、 mが1ないし3の整数を示し、 Xは窒素原子または基 >CH− を示し、 Yが酸素原子または硫黄原子を示し、 Zが水素原子または基 −(CH2 )n −CO2 R7
(式中、R7 は水素原子または炭素数1ないし4個を有
する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、nは
1ないし2の整数を示す。)を示す、化合物またはその
塩。 - 【請求項5】[請求項1]、[請求項2]、[請求項
3]または[請求項4]において、 R1 が水素原子、炭素数1ないし4個を有する直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキル基、炭素数1ないし2個を有
するアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル基を示し、 R2 が水素原子、炭素数1ないし2個を有するアルキル
基、炭素数1ないし2個を有するアルコキシ基、フッ素
原子、塩素原子、ヒドロキシ基またはトリフルオロメチ
ル基を示し、 R3 が水素原子、炭素数1ないし4個を有する直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキル基、炭素数1ないし2個を有
するアルコキシ基、フッ素原子または塩素原子を示し、 R4 が水素原子、炭素数1ないし2個を有するアルキル
基、炭素数1ないし2個を有するアルコキシ基、ヒドロ
キシ基、フッ素原子、塩素原子またはトリフルオロメチ
ル基を示し、 R5 が水素原子、炭素数1ないし2個を有するアルキル
基、炭素数1ないし2個を有するアルコキシ基、フッ素
原子または塩素原子を示し、 R6 が水素原子または炭素数1ないし3個を有する直鎖
状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、 Aが酸素原子または硫黄原子を示し、 Bが結合手、酸素原子または硫黄原子を示し、 mが1ないし3の整数を示し、 Xが窒素原子または基 >CH− を示し、 Yが酸素原子または硫黄原子を示し、 Zが水素原子または基 −(CH2 )n −CO2 R7
(式中、R7 は水素原子または炭素数1ないし4個を有
する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基を示し、nは
1ないし2の整数を示す。)を示す、化合物またはその
塩。 - 【請求項6】[請求項1]、[請求項2]、[請求項
3]、[請求項4]または[請求項5]において、 R1 が水素原子、炭素数1ないし4個を有する直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキル基、メトキシ基、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基またはトリフル
オロメチル基を示し、 R2 が水素原子、メチル基、メトキシ基、フッ素原子、
塩素原子、ヒドロキシ基またはトリフルオロメチル基を
示し、 R3 が水素原子、炭素数1ないし4個を有する直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキル基、メトキシ基、フッ素原子
または塩素原子を示し、 R4 が水素原子、メチル基、メトキシ基、ヒドロキシ
基、フッ素原子、塩素原子またはトリフルオロメチル基
を示し、 R5 が水素原子またはメチル基を示し、 R6 が水素原子またはメチル基を示し、 Aが酸素原子または硫黄原子を示し、 Bが結合手または酸素原子を示し、 mが1ないし2の整数を示し、 Xが基 >CH− を示し、 Yが硫黄原子を示し、 Zが水素原子を示す、化合物またはその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8121794A JPH072848A (ja) | 1993-04-23 | 1994-04-20 | モルホリンおよびチオモルホリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-98057 | 1993-04-23 | ||
| JP9805793 | 1993-04-23 | ||
| JP8121794A JPH072848A (ja) | 1993-04-23 | 1994-04-20 | モルホリンおよびチオモルホリン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH072848A true JPH072848A (ja) | 1995-01-06 |
Family
ID=26422249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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-
1994
- 1994-04-20 JP JP8121794A patent/JPH072848A/ja active Pending
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