JPH07287230A - 液晶表示装置及びその製造方法、液晶分子の配向処理方法、液晶表示装置用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明はラビング処理に換わる新規な配向処
理を提供することを目的とする。 【構成】 基板上に配向膜を形成し、これに配向能を生
じせしめるために配向制御膜を配向膜上に形成し、その
後配向制御膜を一定の方向に引き剥す。さらにこの基板
を対向配置させこれらの間に液晶材料を配置させ液晶表
示装置を作成する。 【効果】 均一、安定且つ精度の良い配向状態を持つ液
晶表示装置が容易に提供でき、クリーンルーム内の発塵
を抑えることができる。液晶表示装置に必要なプレチル
ト角を十分に励起させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置の製造方法
に係り、特に液晶分子の新規な配向処理方法を有する液
晶表示装置の製造方法に関する。またこの方法により製
造された液晶表示装置に係る。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＣＲＴに代わる新しい表示装置の
開発が盛んに行われるようになってきた。その中でも液
晶表示装置は、薄型で低電力動作が可能であるため、家
電製品、ＯＡ機器等の市場での期待は大きいものがあ
る。

【０００３】このような液晶表示装置の構成部材のう
ち、液晶分子を配向させるための配向膜は、絶縁性の膜
表面に各種の配向処理がなされたものである。これら配
向処理としては、従来よりラビング法と呼ばれる処理が
広く行われており、配向膜としては、ポリイミド膜が主
に用いられている。

【０００４】これらポリイミド配向膜は、膜表面を綿、
布等の繊維状物質を用いて一定方向に擦る（ラビングす
る）ことによって、膜表面に対する配向能を誘起する材
料である。一般的にラビング方向が決定されることによ
り、液晶分子のディレクター方向とプレチルト方向は必
然的に決定される。このディレクタ方向とプレチルト方
向の決定にともない、液晶表示装置としての視角方向及
び視角特性が決定され実際の製造工程にも用いられてい
る。

【０００５】しかしながら同ラビング工程はその単純さ
ゆえに条件設定および制御の難しさや、再現性の不確定
要因などの問題を有する。さらに、有機高分子膜界面を
擦る過程において、綿、布等の繊維状物質から生じる発
塵が清浄度を必要とするクリーンルーム内での作業に適
していないなど多くの問題点が存在する。

【０００６】このようなラビングによる問題点を解決す
るために特開平６−４３４５８号公報に示される液晶配
向方法がある。この方法は予めフィルムに一定方向に揃
う１軸性を形成し、このフィルムを基板上に密着させこ
の１軸性を基板に転写させ、この後にこのフィルムを取
り除く方法である。この方法ではラビングするという工
程がなく上記問題を解決することができる。

【０００７】しかしながら本発明者らがこの方法を用い
て追試したところ、この方法では液晶分子が一定方向に
揃うことができても、一定方向に傾くプレチルト角を得
ることができないという問題が生じた。通常液晶表示装
置では１゜〜６゜のプレチルト角を必要とするが、この
方法ではこれを達成することができず実際の装置に適用
できないという問題を有している。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従来、発塵の問題がな
く実際の装置に適用できるプレチルト角を得ることがで
きる液晶分子の配向方法、これを用いた液晶表示装置の
製造方法は得られていない。

【０００９】本発明の目的は、発塵等の問題点を有する
綿、布等の繊維状物質により高分子配向膜面を擦るラビ
ング処理を施すことなく、均一な配向制御性を有する配
向膜を得る液晶表示装置の製造方法を提供することであ
る。

【００１０】本発明の他の目的は、クリーンルーム内で
の作業に適しかつ容易に安定な配向を有する液晶表示装
置の製造方法を提供するものである。本発明のさらに他
の目的は、実際の液晶表示装置に用いることができる程
度に十分に高いプレチルト角を実現できる配向膜を提供
できる液晶表示装置の製造方法を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、基板上に配向制御膜を形成する工程と、前
記配向制御膜を剥離することにより、前記配向制御膜と
前記基板との接着力によって、前記基板上に液晶分子を
配向させる配向制御機能を持たせる工程と、前記基板の
配向処理された面を対向面とし一定の距離を隔てて対向
基板を配置する工程と、前記基板の配向処理された面上
に液晶材料を配置する工程とを具備することを特徴とす
る液晶表示装置の製造方法を提供するものである。

【００１２】また本発明は、表面に配向制御膜を有する
ローラを用い、このローラを基板上に転がらせることに
よって前記配向制御膜の表面と基板の表面の接着力によ
り、前記基板上に液晶分子を配向させる配向制御機能を
持たせる工程と、前記基板の配向処理された面を対向面
とし一定の距離を隔てて対向基板を配置する工程と、前
記基板の配向処理された面上に液晶材料を配置する工程
とを具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方法
を提供するものである。

【００１３】また本発明は、主面上に配向制御膜が形成
され、この配向制御膜を剥がすことにより、前記配向制
御膜との接着力によって、液晶分子を配向させる配向制
御機能有している第１の基板と配向処理された面を対向
面とし一定の距離を隔てて第１の基板に対向配置された
第２の基板と、前記第１及び第２の基板間に配置された
液晶材料とを具備することを特徴とする液晶表示装置を
提供するものである。

【００１４】また本発明は表面に配向制御膜を有するロ
ーラを用い、このローラを主面上に転がらせることによ
って前記配向制御膜の表面と主面との接着力により、液
晶分子を配向させる配向制御機能を有する第１の基板
と、配向処理された面を対向面とし一定の距離を隔てて
第１の基板に対向配置された第２の基板と、前記第１及
び第２の基板間に配置された液晶材料とを具備すること
を特徴とする液晶表示装置を提供するものである。

【００１５】また本発明は、基板上に配向制御膜を形成
する工程と、前記配向制御膜を剥離することにより、前
記配向制御膜と前記基板との接着力によって、前記基板
上に液晶分子を配向させる配向制御機能を持たせる工程
とを具備することを特徴とする液晶分子の配向処理方法
を提供するものである。

【００１６】また本発明は、表面に配向制御膜を有する
ローラを用い、このローラを基板上に転がらせることに
よって前記配向制御膜の表面と基板の表面の接着力によ
り、前記基板上に液晶分子を配向させる配向制御機能を
持たせることを特徴とする液晶分子の配向処理方法を提
供するものである。

【００１７】また本発明は、主面上に配向制御膜が形成
され、この配向制御膜を剥がすことにより、前記配向制
御膜との接着力によって、液晶分子を配向させる配向制
御機能有していることを特徴とする液晶表示装置のため
の基板を提供するものである。

【００１８】また本発明は、表面に配向制御膜を有する
ローラを用い、このローラを主面上に転がらせることに
よって前記配向制御膜の表面と主面との接着力により、
液晶分子を配向させる配向制御機能を有することを特徴
とする液晶表示装置のための基板を提供するものであ
る。

【００１９】前記配向制御膜を一定方向に剥すことによ
って前記基板上に液晶分子を配向させる配向制御機能を
持たせることが可能となる。前記ローラは前記基板上を
一定方向に転がることによって前記基板上に液晶分子を
配向させる配向制御機能を待たせることが可能となる。

【００２０】また、本発明によると、基板上に配向制御
膜を形成する工程の前に、プレチルト角を制御するた
め、基板と配向制御膜との接着力を調整する配向表面処
理を基板表面に施す工程をさらに具備する液晶表示装置
の製造方法及びそれにより製造される液晶表示装置が提
供される。

【００２１】上記基板は予めポリイミド等の配向膜を形
成していることが好ましいが、ガラス等の基板上に直接
配向処理を施しても良い。配向膜を形成した方が液晶分
子の配向をより制御性よくすることができる。また配向
膜を形成した方が液晶分子の配向保持力がよりよい。

【００２２】ここで、基板の配向処理された面を対向面
とし一定の距離を隔てて対向基板を配置する工程と、基
板の配向処理された面上に液晶材料を配置する工程とは
どちらを先に施しても良く、例えば基板と基板を対向配
置させた後これを真空状態にして液晶材料を充填するも
の、配向処理された基板上に液晶材料をスポイルした後
対向基板を配置しても良い。

【００２３】更に、前記配向処理を施す基板は一方の基
板のみでも良いが、好ましくは両方の基板に施した方が
よい。また、配向を施すための配向制御膜はポリビニル
アルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン誘導体、ポ
リエチレン、ポリカーボネート等の有機高分子膜、ポリ
アミド酸等のポリイミド前駆体等が挙げられる。

【００２４】配向制御膜の剥離或いは離脱は、液晶表示
装置の仕様により配向制御膜と基板面との接着力、配向
制御膜の剥離或いは離脱の速度、方向等の条件を変化さ
せることにより、液晶分子のプレチルト角度、配向方位
の制御をすることができる。例えば配向制御膜がシート
状であれば、シートを先ず基板上に配置しその後このシ
ートを剥離する。シートと基板表面との接着力、剥離す
るときの速度や方向を制御することにより、液晶分子の
プレチルト角度、配向方位を制御することができる。ま
た、配向制御膜がローラの表面に形成された場合、ロー
ラ表面と基板表面の接着力、ローラが基板上を転がる速
度や方向を制御することにより、液晶分子のプレチルト
角度、配向方位を制御することができる。

【００２５】また、基板上に予め配向膜を形成した後配
向制御膜により配向処理する場合、配向膜材料として
は、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリピロール、ポ
リアニリン等が挙げられ、上記配向制御膜との好ましい
組み合わせとしては、配向制御膜としてポリビニルアル
コール、ポリ酢酸ビニルと配向膜としてポリイミド或い
はポリイミド膜とポリイミド前駆体が挙げられる。

【００２６】また、配向制御膜を配向膜上に形成する前
の配向表面処理には、例えばＮ−（β−アミノエチル−
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）：東芝シリコ
ーン社製（ＴＳＬ−３８４５）、γ−（グリシドキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン）：東芝シリコーン社製
（ＴＳＬ−８３５５）、オクタデシルトリエトキシシラ
ン：チッソ（株）社製（ＯＤＳＥ）、等の有機シラン剤
などが挙げられる。基本的には配向膜上の配向制御膜を
引き剥す際に、配向膜と配向制御膜界面に作用する接着
力の強度を調整できる材料であれば上記有機シラン剤以
外の材料でも用いることができる。

【００２７】具体的には、このような配向表面処理は化
学反応により、この有機シラン剤を基板上に極薄い単分
子層状或いは数分子層状に形成することによってなされ
る。この有機シラン材料を介して前述したように配向制
御膜を形成し引き剥すことによって本発明の配向処理を
施すことができる。配向膜上に形成される配向表面処理
としての配向表面処理膜は、極薄い単分子層状或いは数
分子状に形成することが好ましい。この処理によって配
向膜表面と配向制御膜との間に存在する反応基の割合を
調整することが可能となり、配向膜と配向制御膜との接
着力を調整することが可能となる。こうして基板上に形
成される液晶分子のプレチルト角を任意に変えることが
できるのである。

【００２８】また、配向制御膜と基板との接着力を大き
くすればプレチルト角は低くなり、接着力を小さくすれ
ばプレチルト角は大きくなる傾向がある。この接着力は
以下に表す不等式の範囲でそのプレチルト角は良好に得
られる。

【００２９】Ｋ１＞Ｋ２，Ｆ２＞Ｆ１・・・（１） 基板面と配向膜との接着力をＫ１、配向膜と配向制御膜
との接着力をＫ２、配向膜の降伏応力をＦ１、配向制御
膜の降伏応力をＦ２とする。

【００３０】上記した不等式（１）を満たす時に配向膜
固有のプレチルト角を形成可能となる。また下記の不等
式（２）に示す条件では配向膜固有のプレチルト角より
は低いプレチルト角を示す。 Ｋ２＞Ｋ１，Ｆ２≧Ｆ１・・・（２） 本発明において、配向膜及び配向制御膜の形成方法は、
基板上に配向膜材料を塗布後加熱処理して配向膜を形成
した後、この配向膜上に配向制御膜材料を塗布し加熱し
て形成することができる。この時、配向膜材料及び配向
制御膜材料はそれぞれ非相溶性であることが好ましい。
例えば、配向膜材料にポリイミドを用いる場合には主に
メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、γ- ブチロ
ラクトンなどの有機溶媒が用いられることが多いが、こ
の場合には配向制御膜材料にはポリビニルアルコール、
ポリ酢酸ビニル等の水溶性高分子材料を用いて予め形成
されたポリイミド膜の溶解を避けることが必要である。

【００３１】しかしながら、配向条件によっては予め形
成された配向膜と配向制御膜とが接する界面近傍におい
て若干の相溶性を示てもよい。この場合、配向制御膜が
剥離する際に著しい分子鎖延伸効果を示す材料同士を用
いることが可能であり、例えば配向膜としてポリイミド
と配向制御膜としてポリカーボネート或はポリエチレン
の組み合わせで用いることができる。

【００３２】この時、配向膜材料をポリイミドにした場
合、ポリイミドの分子量に対して低分子量の材料を配向
制御膜に用いると、配向制御膜材料がポリイミド分子鎖
間に容易に浸透し接着強度を高めることができるので、
剥離工程において液晶分子の配向性を高めることができ
る。

【００３３】また、予めポリイミド配向膜上に形成され
た粘着性を有するポリイミド前駆体を持つシートをポリ
イミド配向膜表面に密着させ、加熱後にこのシートのみ
を剥離することも可能である。

【００３４】次に、上述したような本発明の液晶表示装
置の製造方法の具体例を図１Ａ、図１Ｂを参照して説明
する。先ず図１に示すように対向する基板１、２の液晶
と接する面１０、１１に配向膜３、４をそれぞれ形成す
る。次に配向膜３、４上に、それぞれ配向制御膜５、６
を１０〜２０μｍ厚の膜状に形成する。次に配向制御膜
５、６の剥離方向を上下基板で９０゜ツイストを形成す
る様に一定方向である矢印７、８の方向に一定速度で行
う。

【００３５】この後基板を一定間隔をもって対向配置
し、該基板間に液晶材料を充填して液晶表示セルを形成
する。また図２に示すように配向制御膜５、６を配向膜
３、４上に形成する前に、この配向膜３、４上に配向表
面処理として配向表面処理膜１１、１２を部分的又は全
面的に単分子膜或いは数分子の累積状態で形成してもよ
い。この配向表面処理膜は、この後の工程の配向制御膜
５、６と配向膜３、４とを引き剥す工程において、互い
の接着力を調整する作用を施す。この接着力によって液
晶分子のプレチルト角が励起される。

【００３６】また図３に示すように配向膜を予め形成し
ていない基板１、２上に直接配向制御膜５、６を形成
し、これを剥離することによっても液晶分子の配向処理
を施すことができる。

【００３７】さらに図４に示すように配向膜を予め形成
していない基板１、２表面に配向表面処理を施して、単
分子或いは数分子状の配向表面処理膜１１、１２を形成
し、この配向表面処理膜１１、１２を介して配向制御膜
５、６を形成しても良い。この後配向制御膜を剥すこと
により液晶分子の配向処理を施すことが可能となる。

【００３８】次に図５、図６に本発明の配向処理によっ
て液晶分子がチルトアップする様子を示す。配向制御膜
５の剥離により、配向膜３の表面の有機高分子は有機高
分子鎖ループ２１或いは有機高分子側鎖２２を一定方向
２３、２４に引き延ばされ、剥離誘起方向２５（引き離
す方向）や剥離速度（引き離す速度）により液晶表示装
置には不可欠なディレクタ配向２６とプレチルト角２７
を制御することが可能となる。このとき配向制御膜５の
剥離する方向矢印２５に対して、液晶分子長軸方向が基
板上で揃う。またこの剥離する方向２５に対して反対向
きに液晶分子のプレチルト角２７は励起されるので、液
晶分子のディレクタ配向は矢印２６で表すように配向制
御膜を引き剥す方向２５と逆の方向に励起される。

【００３９】また、図７に示すようにＴＦＴ基板など能
動素子が配置された基板３１では配線領域３２、スイッ
チング素子領域３３の高低差が〜1 μm におよぶものも
少なくない。このため通常行われているラビング処理で
は配線領域３２や素子領域３３の近傍において、均一に
毛先が当たらないため均一な配向処理が施し難いことが
指摘されている。

【００４０】本発明の処理方法によれば印刷、キャスト
などにより均一に成膜された配向膜３４上に、密着する
ように配向制御膜３５を配置し、これを剥離することに
より配向処理を行うため、いかなる構造を有する基板面
においても均一な配向処理を行うことが可能である。

【００４１】また、図８に示すように配向膜３４上に配
向制御膜３５を形成する前に配向表面処理膜３６を入れ
ても良い。前記配向膜及び配向制御膜は、二種類以上の
材料の混合液の塗布／焼成時における非相溶相分離過程
により同時に形成しても良い。

【００４２】同工程に用いる材料には、配向膜にポリカ
ーボネート、配向制御膜にポリスチレンを用いることが
できる。例えば上記材料としてポリカーボネート：ポリ
スチレンを重量比で１：２００〜１：３００に混合した
溶液（Ｎ−メチルビロリドン）を用い、基板上に１０μ
ｍ〜２０μｍの厚さになるように成膜し焼成を行う。焼
成時に混合膜は表面にポリスチレン膜を下層にポリカー
ボネート膜を主に形成する。乾燥後にポリスチレン膜を
一定方向に剥離することにより基板面に付着したポリカ
ーボネート配向層が形成される。

【００４３】上記工程に用いる材料としては、上記ポリ
カーボネート、ポリスチレンのように同一溶媒或は極性
の近い溶媒に可溶で、溶媒蒸発時に層状分離を示す材料
であれば使用可能である。

【００４４】これまで配向制御膜を基板上に乾燥形成し
た後、引き剥す配向処理について述べてきた。本発明者
のその後の実験より、配向制御膜を形成した後、配向制
御膜を引き剥そうとすると、基板端部で膜が剥がれ難
く、工程上非常に熟練を要する点が明らかになった。得
に図１６に示すように基板８１上に取り出し電極８３が
設けられているものにおいて、上記問題が顕著になる。
図中８１は表示部８４を有する基板、８３が取り出し電
極、８２は基板８１上に形成された配向制御膜である。
図１６に示すように配向制御膜８２を基板８１の端部８
５で引き剥そうとするとこの位置で膜をうまく引き剥す
には非常に熟練を有し、工程上問題となる。

【００４５】そこで図１７に示すように配向制御膜８２
を形成した後、基板８１よりも大きいフィルム状のシー
ト８６を配向制御膜８２を覆うように張り付け、このフ
ィルムを引き剥すことによって同時に配向制御膜８２も
基板８１から引き剥すようにすることで、容易に配向制
御膜８２と基板８１との剥離を施すことができる。この
ようなシートは少なくとも引き剥し始めの端部に覆いか
ぶさるように形成されることが必要である。

【００４６】ここで好ましくは配向制御膜８２と予めフ
ィルム状のシート８６とは同じ材料により形成されてい
る方がよい。このフィルム状のシート８６は配向制御膜
８２が完全に乾燥する前に配向制御膜８２を覆うように
張り付けることが好ましい。

【００４７】さらにフィルム状のシート８６の膜厚は２
０〜３０μｍであることが密着性、引き剥しの際のシー
トの強度の観点で好ましい。次に、図９、図１０、図１
１、図１２に示すように配向制御膜４２をローラ４１に
巻いてこれを基板１上を転がして配向処理を施した例を
示す。

【００４８】図中４１はローラ、４２はローラ表面に形
成されている配向制御膜を表し１、３はそれぞれ基板、
配向膜を表す。図９は基板１上に予め配向膜３を形成
し、この配向膜３表面を一定方向にローラ４１を転がす
ことによって配向処理を施している図である。

【００４９】ローラ４１が基板１上を転がることによっ
て、ローラ４１表面に形成された配向制御膜４２が配向
膜３の表面と一時的に接触しその後すぐ引き剥される。
この時に配向膜３と配向制御膜４２との接着力により配
向膜分子鎖ループ或は側鎖が一定方向に引き起こされ
る。こうして液晶分子を配向させる配向処理を施すこと
ができる。

【００５０】図１０は配向膜を形成していない基板表面
を直接ローラ４１を転がすことによって配向処理を施し
ている図である。ローラ４１が基板１上を転がることに
よって、ローラ４１表面に形成された配向処理膜４２の
表面の単分子層が基板１上に転写されその後すぐ引き剥
される。この時に基板１と配向制御膜４２との接着力に
より、転写された単分子層が一定方向に引き延ばされ
る。こうして液晶分子を配向させる配向処理を施すこと
ができる。

【００５１】図１１は配向膜３表面に配向表面処理を施
して配向表面処理膜１１を形成し、この配向表面処理膜
１１を介して、ローラ４１を転がして配向膜３表面を配
向処理している図である。

【００５２】図１２は配向膜を形成していない基板表面
に配向表面処理を施して配向表面処理膜１１を形成し、
この配向表面処理膜１１を介して、直接ローラ４１を転
がして基板１表面を配向処理している図である。

【００５３】この時配向表面処理膜１１は配向制御膜４
２と配向膜３或いは基板１との接着力を調整するために
働き、この接着力を調整することによってプレチルト角
を制御することができる。

【００５４】本発明によると、予め配向膜を持たないガ
ラス基板上に直接配向制御膜を形成し剥離することによ
っても配向機能を持たせることができる。例えば、基板
上に配向制御膜であるポリイミド、ポリイミド前駆体で
あるポリアミド膜を厚さ１０μｍ〜２０μｍに形成す
る。次に焼成或は乾燥後に基板面に形成されたポリイミ
ド膜を剥離する。こうすることにより基板界面に残留す
るポリイミド数分子からなる方向性を有する薄膜或は方
向性を有する微小突起により液晶分子の配向を制御する
ことができる。また配向制御膜としてポリイミド以外に
もポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニルを用いても同
様の配向能を示す。

【００５５】本発明のポイントは配向制御膜と基板との
接着力が、配向制御膜を引き剥す際に基板上に配向能を
与える点にある。この配向能は液晶分子をある一定の方
向に揃える点と、液晶分子にプレチルト角を与える点を
有する。

【００５６】また本発明の別のポイントは、配向制御膜
をある一定方向に剥離する点にある。すなわち図１３、
図１４、図１５に示すように一定の方向５０に配向制御
膜５２を剥離する点をポイントとする。この場合剥離す
る配向制御膜５２と基板５３との境界線は図の等高線５
１のようになる。こうすることによって液晶分子は一定
方向に安定に揃うのである。この場合剥離するスピード
も一定に保つことが均一な配向を得るためにも肝要であ
る。

【００５７】

【作用】本発明によると、配向膜上に形成された配向制
御膜の剥離過程における配向膜と配向制御膜結合界面で
の接着力により、引っ張り剪断応力が生じる。この引っ
張り剪断応力によって、配向膜界面に方向性を持って形
成された有機高分子ループや有機高分子側鎖を誘起され
る。この有機高分子鎖により、液晶分子の配向とプレチ
ルト角を施すことができる。

【００５８】ガラス基板表面に直接配向制御膜を形成し
これを剥離することにより配向膜を形成するのは、配向
制御膜の一部が配向膜界面へ吸着しており、これにより
液晶分子の配向を施すことができる。

【００５９】

【実施例】以下に図面を参照して本発明の好ましい実施
例を説明する。尚、これら実施例は、本発明の理解を容
易にする目的で記載されるものであり、本発明を限定す
るものではないことを理解されたい。また本発明はその
要旨の範囲内で種々変更して用いることができることは
言うまでもない。

【００６０】実施例１ 図１において、対向基板である透明基板１、２の対面配
置される面９、１０上にポリイミドを厚さ３００オング
ストローム（以下Ａと記す）〜７００Ａ（ここでは５０
０Ａとした。）に成膜し１８０℃にて１時間焼成を行い
配向膜３、４を形成する。次に配向膜３、４表面にＰＶ
Ａ（ポリビニルアルコール）水溶液をキャストし厚さ１
０〜３０μｍに均一にする。次に乾燥炉により温度７０
℃で２時間乾燥を施し配向制御膜５、６を形成し、ポリ
イミド配向膜３、４とＰＶＡ配向制御膜５、６を密着さ
せる。

【００６１】次に、対向基板面の配向方向が９０°ツイ
ストをなす様な方向にポリイミド配向膜３、４を含むＰ
ＶＡ配向制御膜５、６を一定方向に一定速度１０cm／se
c で剥離し基板界面に残留したポリイミド分子鎖による
液晶分子配向膜を形成する。

【００６２】それぞれ配向処理を施した一対の透明基板
１、２を用いセルを構成する。用いる液晶材料は、メル
ク社製：ZLI-3276-100であり左捻れを誘起させるための
カイラル剤を０．１WT％含んでいる。

【００６３】実施例２ 図１において、対向透明基板１、２の対面配置する面
９、１０上に厚さ約７００Ａ〜１０００Ａのポリイミド
膜を成膜し１８０℃にて１時間焼成を行い配向膜３、４
を形成する。配向膜３、４の表面に、ＰＶＡ膜を２０〜
４０μｍの厚さでキャストした後に７０℃にて２時間焼
成し配向制御膜５、６を形成し、配向膜３、４と配向制
御膜５、６とを密着させる。

【００６４】次に、上下基板の配向方向が９０°ツイス
トを形成する様な方向にポリイミド配向膜３、４の極表
面の膜を含むＰＶＡ配向制御膜５、６を一定速度２cm／
secで剥離しポリイミド配向膜３、４界面に形成された
ポリイミド分子鎖配向により液晶分子配向処理層を形成
した。

【００６５】それぞれに配向処理を施した透明基板１、
２を用いセルを構成した。用いた液晶材料はメルク社
製：ZLI-3276-100であり左捻れを誘起させるためにカイ
ラル剤を０．１WT％含んでいる。

【００６６】実施例３ 図９において、対向透明基板１の表面上に厚さ約７００
Ａ〜１０００Ａのポリイミド膜を成膜し１８０℃にて１
時間焼成を行い配向膜３を形成した。配向膜３の表面
に、配向制御膜４２としてシート状のＰＶＡ（水溶性ヒ
゛ニロンフィルム：クラレ( 株) ）膜を５ｍｍの厚さで
巻いた回転ローラー４１を用意し、このローラー４１を
基板１上の配向膜３の表面を転がるように接触させ、一
定方向に移動させる。移動方向はセルを組み立てたとき
上下基板で液晶配向状態が９０°ツイストを形成する方
向に行う。この場合には、同一方向に３〜５回の処理を
行った。それぞれに処理を施した透明基板１を用いセル
を構成する。用いた液晶材料はメルク社製：ZLI-3276-1
00であり左捻れを誘起させるためにカイラル剤を０．１
WT％含んでいる。

【００６７】実施例４ 図３において、対向基板である透明基板１、２の液晶材
料が接する面９、１０にポリビニルアルコール（ポバー
ル235 ：クラレ( 株) ）の５％溶液を塗布し、７０℃で
１時間乾燥を行い、厚さ１０μｍ〜２０μｍのポリビニ
ルアルコール配向制御膜５、６を形成する。

【００６８】次に、対向基板面の配向方向が９０゜ツイ
ストを構成するように一定方向に一定速度（２cm/sec）
でポリビニルアルコール配向制御膜５、６を剥離し配向
処理を行う。

【００６９】それぞれに処理を施した一対の透明基板
１、２を用いセルを構成した。用いる液晶材料はメルク
社製：ZLI-3276-100であり左捻れを誘起させるためにカ
イラル剤を０．１WT％含んでいる。

【００７０】以下に図２、図４、図１１を用いて配向表
面処理を施した場合の実施例を説明する。 実施例５ 図２において、対向基板である透明基板１、２の対面配
置される面９、１０にポリイミドを厚さ３００Ａ〜７０
０Ａに成膜し１８０℃にて１時間焼成を行い配向膜３、
４を形成する。

【００７１】次に配向表面処理として以下に示す工程を
施す。配向膜３、４が形成された透明基板１、２を表面
処理剤であるシランカップリング剤ＴＳＬ−８３４５
（東芝シリコーン社製）エタノール溶液にディップし界
面活性化処理を施す。次に界面での結合及び乾燥のため
に１８０℃にて２０分焼成を施し配向表面処理膜１１、
１２を形成する。

【００７２】この配向表面処理を施した後に、配向制御
膜の形成を行う。先ず配向表面処理膜１１、１２が形成
された面上にＰＶＡ（ポリビニールアルコール）水溶液
をキャストし厚さ１０〜３０μｍに均一に成膜する。乾
燥炉により温度７０℃で２時間乾燥を行い配向制御膜
５、６を形成し、ポリイミド配向膜３、４とＰＶＡ配向
制御膜５、６を配向表面処理膜１１、１２を介して密着
させる。

【００７３】次に、対向基板面の配向方向が９０゜ツイ
ストを構成する方向にＰＶＡ配向制御膜５、６を一定方
向に一定速度１０cm/secで剥離し基板界面のポリイミド
分子鎖による液晶分子配向層を形成した。

【００７４】このときの配向膜と配向制御膜との接着力
の関係は前記不等式（１）に従う。それぞれ配向処理を
施した一対の透明基板１、２を用いセルを構成する。用
いる液晶材料は、メルク社製：ZLI-3276-100であり左捻
れを誘起させるためのカイラル剤を０．１WT％含んでい
る。

【００７５】実施例６ 図２において、対向基板である透明基板１、２の対面配
置される面９、１０にポリイミドを厚さ７００Ａ〜１０
００Ａに成膜し１８０℃にて１時間焼成を行い配向膜
３、４を形成する。

【００７６】次に配向表面処理として以下に示す工程を
施した。配向膜３、４が形成された透明基板１、２を表
面処理剤であるシランカップリング剤ＴＳＬ−８３４５
（東芝シリコーン社製）エタノール溶液にディップし界
面活性化処理を施す。次に界面での結合及び乾燥のため
に１８０℃にて２０分焼成を施し配向表面処理膜１１、
１２を形成する。

【００７７】この配向表面処理を施した後に、配向制御
膜の形成を行う。先ず配向表面処理膜１１、１２表面に
ＰＶＡ（ポリビニールアルコール）水溶液をキャストし
厚さ２０〜４０μｍに均一に成膜する。乾燥炉により温
度７０℃で２時間乾燥を行い配向制御膜５、６を形成
し、ポリイミド配向膜３、４とＰＶＡ配向制御膜５、６
を配向表面処理膜１１、１２を介して密着させる。

【００７８】次に、対向基板面の配向方向が９０゜ツイ
ストを構成する方向にＰＶＡ配向制御膜５、６を一定方
向に一定速度２cm/secで剥離し配向膜３、４界面のポリ
イミド分子鎖による液晶分子配向層を形成する。

【００７９】このときの配向膜と配向制御膜との接着力
の関係は前記不等式（１）に従う。それぞれ配向処理を
施した一対の透明基板１、２を用いセルを構成する。用
いる液晶材料は、メルク社製：ZLI-3276-100であり左捻
れを誘起させるためのカイラル剤を０．１WT％含んでい
る。

【００８０】実施例７ 図１１において、対向基板である透明基板１の表面上に
厚さ約７００Ａ〜１０００Ａのポリイミド膜を成膜し１
８０℃にて１時間焼成を行い配向膜３を形成する。

【００８１】次に配向表面処理として以下に示す工程を
施す。配向膜３が形成された透明基板１を表面処理剤で
あるシランカップリング剤ＴＳＬ−８３４５（東芝シリ
コーン社製）エタノール溶液にディップし界面活性化処
理を施す。次に界面での結合及び乾燥のために１８０℃
にて２０分焼成を施し配向表面処理膜１１を形成する。

【００８２】この配向表面処理を施した後に、配向制御
膜の形成を行う。先ず配向表面処理膜１１表面に、配向
制御膜４２としてシート状のＰＶＡ（水溶性ビニロンフ
ィルム：クラレ( 株) ）膜を５ｍｍの厚さで巻いた回転
ローラー４１を用意し、このローラー４１を基板１上の
配向表面処理膜１１の表面を転がるように接触させ一定
方向に移動させる。移動方向はセルを組み立てたとき上
下基板で液晶配向状態が９０°ツイストを形成する方向
に行う。この場合には、同一方向に３〜５回の処理を行
った。それぞれに処理を施した透明基板１を用いセルを
構成する。用いる液晶材料はメルク社製：ZLI-3276-100
であり左捻れを誘起させるためにカイラル剤を０．１WT
％含んでいる。

【００８３】次に、図１７を用いて配向制御膜の引き剥
しを容易にするために、配向制御膜上にシート状のフィ
ルムを接着したものについて説明する。 実施例８ 図７において、対向基板である透明基板８１の液晶材料
が接する面にポリイミドを厚さ３００Ａ〜７００Ａに成
膜し１８０℃にて１時間焼成を行い配向膜（図示せず）
を形成する。

【００８４】次に配向膜表面に配向制御膜８２としてＰ
ＶＡ水溶液の５％溶液をキャストし厚さ１〜２μｍに薄
く均一に成膜する。次に、この配向制御膜８２状に、予
め厚さ３０μｍのフィルム状のシート８６（水溶性ヒ゛
ニロンフィルム：クラレ( 株) ）を密着する。密着後７
０℃にて２時間乾燥を行い密着を進める。

【００８５】次に、対向基板面の配向方向が９０°ツイ
ストをなす様な方向にポリイミド配向膜を含むＰＶＡ配
向制御膜に密着したフィルム状のシート８６を一定方向
に一定速度１０cm／sec で剥離し基板界面に残留したポ
リイミド分子鎖による液晶分子配向膜を形成する。

【００８６】それぞれ配向処理を施した一対の透明基板
を用いセルを構成する。用いる液晶材料は、メルク社
製：ZLI-3276-100であり左捻れを誘起させるためのカイ
ラル剤を０．１WT％含んでいる。

【００８７】実施例９ 本実施例は実施例８において、水溶化したポリビニルア
ルコールをキャストする前に、配向表面処理を行ったも
のである。

【００８８】図１７において、対向基板である透明基板
８１の液晶材料が接する面にポリイミドを厚さ３００Ａ
〜７００Ａに成膜し１８０℃にて１時間焼成を行い配向
膜（図示せず）を形成する。

【００８９】次に配向膜が形成された透明基板８１を表
面処理剤であるシランカップリング剤ＴＳＬ−８３４５
（東芝シリコーン社製）エタノール溶液にディップし界
面活性化処理を施す。

【００９０】次に界面での結合及び乾燥のために１８０
℃にて２０分焼成を施し配向表面処理膜（図示せず）を
形成する。この配向表面処理を施した後に、実施例８と
同様の工程を施して液晶表示装置を得ることができる。

【００９１】上記した実施例１〜実施例９までを表２に
纏める。本発明により製造される液晶表示装置は非常に
良好な表示状態が得られた。比較例としてはラビング処
理或いはフィルム転写処理により配向制御された装置の
配向状態を用いた。

【００９２】 処理内容 配向膜 配向制御膜 配向状況 プレチルト 実施例１ ポリイミド ＰＶＡ（ポバール235 ） 良好 2.5 ゜ 実施例２ ポリイミド ＰＶＡ（ポバール235 ） 良好 1.5 ゜ 実施例３ ポリイミド ＰＶＡ（ポバール205 ） 良好 3.5 ゜ 実施例４ 無し ＰＶＡ（ポバール235 ） 良好 0.5 ゜ 実施例５ ポリイミド ＰＶＡ（ポバ−ル235 ） 良好 5.0 ゜ 実施例６ ポリイミド ＰＶＡ（ポバール235 ） 良好 3.5 ゜ 実施例７ ポリイミド ＰＶＡ（ビニロンフィルム）良好 3.5 ゜ 実施例８ ポリイミド ＰＶＡ（ポバール235 ） 良好 4.5 ゜ 実施例９ ポリイミド ＰＶＡ（ポバール235 ） 良好 3.5 ゜ 比較例１ ポリイミド ラビング布（綿） 普通 4.0 ゜ 比較例２ ポリイミド フィルム転写 良好 ０゜ 配向状況については、顕微鏡で観察した場合、ポリイミ
ドのラビング処理配向処理面に筋状の配向欠陥の観察さ
れるものを普通とし、観察されないものについて良好と
した。また、上記実施例では配向処理工程において、い
っさい発塵が生じず、発塵による液晶表示装置の不良は
全く見られなかった。

【００９３】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明による液晶
表示装置の製造方法は、従来技術のように布等でラビン
グ処理を施すことなく均一、安定に且つ精度良く配向制
御された液晶表示装置を提供することができる。また、
製造工程における発塵を抑えることができるので著しい
歩留まり向上を図ることが可能となる。さらに配向制御
膜と基板との接着力により液晶分子に良好なプレチルト
角を励起させることを可能とする。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の液晶表示装置の製造方法を説明する
ための斜視図。

【図２】 本発明の液晶表示装置の製造方法で配向表面
処理を施す場合の製造方法を説明するための斜視図。

【図３】 本発明の液晶表示装置の製造方法を説明する
ための斜視図。

【図４】 本発明の液晶表示装置の製造方法で配向表面
処理を施す場合の製造方法を説明するための斜視図。

【図５】 本発明の液晶表示装置における配向能形成の
一例を示す概略図。

【図６】 本発明の液晶表示装置における配向能形成の
一例を示す概略図。

【図７】 本発明の液晶表示装置における凹凸界面にお
ける配向処理を施す場合の製造方法を説明するための断
面図。

【図８】 本発明の液晶表示装置における凹凸界面にお
ける配向処理をする際配向表面処理を施す場合の製造方
法を説明するための断面図。

【図９】 本発明液晶表示装置の製造方法でローラー表
面に配向制御膜を設け、これを配向膜が形成された基板
表面に接触するように転がして配向処理を施す場合の製
造方法を説明するための断面図。

【図１０】 本発明液晶表示装置の製造方法でローラー
表面に配向制御膜を設け、これを直接基板表面に接触す
るように転がして配向処理を施す場合の製造方法を説明
するための断面図。

【図１１】 本発明の液晶表示装置の製造方法で配向表
面処理を施した基板をローラーで配向処理を施す場合の
製造方法を説明するための断面図。

【図１２】 本発明の液晶表示装置の製造方法で配向表
面処理を施した基板をローラーで配向処理を施す場合の
製造方法を説明するための断面図。

【図１３】 本発明の基板から配向制御膜を引き剥す方
向を説明するための斜視図。

【図１４】 本発明の基板から配向制御膜を引き剥す方
向を説明するための平面図。

【図１５】 本発明の基板から配向制御膜を引き剥す方
向を説明するための平面図。

【図１６】 本発明の液晶表示装置の製造方法で配向膜
制御膜を基板から剥す方法を説明するための斜視図。

【図１７】 本発明の液晶表示装置の製造方法で配向膜
制御膜を基板から剥す方法を説明するための斜視図。

【符号の説明】

１・・・基板 ２・・・基板 ３・・・配向膜 ４・・・配向膜 ５・・・配向制御膜 ６・・・配向制御膜 ７・・・剥離方向を示す矢印 ８・・・剥離方向を示す矢印 ９・・・基板表面 １０・・・基板表面 １１・・・配向表面処理膜 １２・・・配向表面処理膜 ４１・・・ローラ ４２・・・配向制御膜

Claims (62)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に配向制御膜を形成する工程と、 前記配向制御膜を剥離することにより、前記配向制御膜
   と前記基板との接着力によって、前記基板上に液晶分子
   を配向させる配向制御機能を持たせる工程と、 前記基板の配向処理された面を対向面とし一定の距離を
   隔てて対向基板を配置する工程と、 前記基板の配向処理された面上に液晶材料を配置する工
   程とを具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方
   法。
2. 【請求項２】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法に
   おいて、前記基板上に予め配向膜を形成する工程をさら
   に具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
3. 【請求項３】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法に
   おいて、基板上に配向制御膜を形成する工程の前に、プ
   レチルト角を制御するための配向表面処理を基板表面に
   施す工程をさらに具備することを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
4. 【請求項４】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法に
   おいて、基板上に配向制御膜を形成する工程の前に、プ
   レチルト角を制御するための配向表面処理を配向膜表面
   に施す工程をさらに具備することを特徴とする液晶表示
   装置の製造方法。
5. 【請求項５】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法に
   おいて、シート状の前記配向制御膜を用いることを特徴
   とする液晶表示装置の製造方法。
6. 【請求項６】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法に
   おいて、前記配向制御膜は有機高分子膜であることを特
   徴とする液晶表示装置の製造方法。
7. 【請求項７】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法に
   おいて、前記配向制御膜は、ポリビニルアルコール、ポ
   リ酢酸ビニル、ポリスチレン誘導体、ポリエチレン、ポ
   リカーボネート、或いはポリイミド前駆体からなる郡か
   ら少なくとも１つ選ばれる材料で構成されていることを
   特徴とする液晶表示装置の製造方法。
8. 【請求項８】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法に
   おいて、前記配向膜は、ポリイミド、ポリイミド前駆
   体、ポリピロール、或いはポリアニリンからなる郡から
   少なくとも１つ選ばれる材料で構成されていることを特
   徴とする液晶表示装置の製造方法。
9. 【請求項９】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法に
   おいて、前記配向制御膜と前記配向膜の材料の組み合わ
   せは、配向制御膜としてポリビニルアルコール、或いは
   ポリ酢酸ビニルから少なくとも１つ選ばれ、配向膜とし
   てポリイミド、或いはポリイミド膜とポリイミド前駆体
   から少なくとも１つ選ばれる材料で構成されていること
   を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
10. 【請求項１０】請求項３記載の液晶表示装置の製造方法
    において、前記配向表面処理は有機シラン剤を基板表面
    上に晒す工程であることを特徴とする液晶表示装置の製
    造方法。
11. 【請求項１１】請求項４記載の液晶表示装置の製造方法
    において、前記配向表面処理は有機シラン剤を前記配向
    膜表面上に晒す工程であることを特徴とする液晶表示装
    置の製造方法。
12. 【請求項１２】請求項１０記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記有機シラン剤はＮ−（β−アミノエチ
    ル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）、γ−
    （グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン）、オ
    クタデシルトリエトキシシランから少なくとも１つ選ば
    れることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
13. 【請求項１３】請求項１１記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記有機シラン剤はＮ−（β−アミノエチ
    ル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）、γ−
    （グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン）、或
    いはオクタデシルトリエトキシシランから少なくとも１
    つ選ばれることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
14. 【請求項１４】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法
    において、前記配向制御膜の形成方法は、前記基板上に
    配向制御膜材料を塗布しこれを加熱硬化して形成するこ
    とを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
15. 【請求項１５】請求項２記載の液晶表示装置の製造方法
    において、前記配向制御膜の形成方法は、前記配向膜上
    に配向制御膜材料を塗布しこれを加熱硬化して形成する
    ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
16. 【請求項１６】表面に配向制御膜を有するローラを用
    い、このローラを基板上に転がらせることによって前記
    配向制御膜の表面と基板の表面の接着力により、前記基
    板上に液晶分子を配向させる配向制御機能を持たせる工
    程と、 前記基板の配向処理された面を対向面とし一定の距離を
    隔てて対向基板を配置する工程と、 前記基板の配向処理された面上に液晶材料を配置する工
    程とを具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方
    法。
17. 【請求項１７】請求項１６記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記基板上に配向膜を形成する工程をさら
    に具備することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
18. 【請求項１８】請求項１６記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記基板表面に前記ローラ表面を接触させ
    る工程の前に、プレチルト角を制御するための配向表面
    処理を前記基板表面に施す工程をさらに具備することを
    特徴とする液晶表示装置の製造方法。
19. 【請求項１９】請求項１７記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記基板表面に前記ローラ表面を接触させ
    る工程の前に、プレチルト角を制御するための配向表面
    処理を前記基板表面に施す工程をさらに具備することを
    特徴とする液晶表示装置の製造方法。
20. 【請求項２０】請求項１６記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記配向制御膜は有機高分子膜であること
    を特徴とする液晶表示装置の製造方法。
21. 【請求項２１】請求項１６記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記配向制御膜は、ポリビニルアルコー
    ル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン誘導体、ポリエチレ
    ン、ポリカーボネート、或いはポリイミド前駆体からな
    る郡から少なくとも１つ選ばれる材料で構成されること
    を特徴とする液晶表示装置。
22. 【請求項２２】請求項１７記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記配向膜材料は、ポリイミド、ポリイミ
    ド前駆体、ポリピロール、或いはポリアニリンからなる
    郡から少なくとも１つ選ばれる材料で構成されているこ
    とを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
23. 【請求項２３】請求項１７記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記配向制御膜と前記配向膜の材料の組み
    合わせは、配向制御膜としてポリビニルアルコール、或
    いはポリ酢酸ビニルから少なくとも１つ選ばれ、配向膜
    としてポリイミド、或いはポリイミド膜とポリイミド前
    駆体から少なくとも１つ選ばれる材料で構成されている
    ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
24. 【請求項２４】請求項１８記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記配向表面処理は有機シラン剤を基板表
    面上に晒す工程であることを特徴とする液晶表示装置の
    製造方法。
25. 【請求項２５】請求項１９記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記配向表面処理は有機シラン剤を前記配
    向膜表面上に晒す工程であることを特徴とする液晶表示
    装置の製造方法。
26. 【請求項２６】請求項２４記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記有機シラン剤はＮ−（β−アミノエチ
    ル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）、γ−
    （グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン）、或
    いはオクタデシルトリエトキシシランから少なくとも１
    つ選ばれることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
27. 【請求項２７】請求項２５記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記有機シラン剤はＮ−（β−アミノエチ
    ル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）、γ−
    （グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン）、或
    いはオクタデシルトリエトキシシランから少なくとも１
    つ選ばれることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
28. 【請求項２８】主面上に配向制御膜が形成され、この配
    向制御膜を剥がすことにより、前記配向制御膜との接着
    力によって、液晶分子を配向させる配向制御機能有して
    いる第１の基板と配向処理された面を対向面とし一定の
    距離を隔てて第１の基板に対向配置された第２の基板
    と、 前記第１及び第２の基板間に配置された液晶材料とを具
    備することを特徴とする液晶表示装置。
29. 【請求項２９】請求項２８記載の液晶表示装置におい
    て、第１の基板上にはさらに配向膜が形成されており、
    この配向膜の表面を主面とすることを特徴とする液晶表
    示装置。
30. 【請求項３０】請求項２８記載の液晶表示装置におい
    て、前記主面に配向制御膜が形成される前に、プレチル
    ト角を制御するための配向表面処理が、前記主面に施さ
    れていることを特徴とする液晶表示装置。
31. 【請求項３１】請求項２９記載の液晶表示装置におい
    て、前記主面に配向制御膜が形成される前に、プレチル
    ト角を制御するための配向表面処理が、前記主面に施さ
    れていることを特徴とする液晶表示装置。
32. 【請求項３２】請求項２８記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向制御膜はシート状であることを特徴とする
    液晶表示装置。
33. 【請求項３３】請求項２８記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向制御膜は有機高分子膜であることを特徴と
    する液晶表示装置。
34. 【請求項３４】請求項２８記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向制御膜は、ポリビニルアルコール、ポリ酢
    酸ビニル、ポリスチレン誘導体、ポリエチレン、ポリカ
    ーボネート、或いはポリイミド前駆体からなる郡から少
    なくとも１つ選ばれる材料で構成されていることを特徴
    とする液晶表示装置。
35. 【請求項３５】請求項２９記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向膜材料は、ポリイミド、ポリイミド前駆
    体、ポリピロール、或いはポリアニリンからなる郡から
    少なくとも１つ選ばれる材料で構成されていることを特
    徴とする液晶表示装置。
36. 【請求項３６】請求項２９記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向制御膜と前記配向膜の材料の組み合わせ
    は、前記配向制御膜としてポリビニルアルコール、或い
    はポリ酢酸ビニルから少なくとも１つ選ばれ、前記配向
    膜としてポリイミド、或いはポリイミド膜とポリイミド
    前駆体から少なくとも１つ選ばれる材料で構成されてい
    ることを特徴とする液晶表示装置。
37. 【請求項３７】請求項３０記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向表面処理は前記主面を有機シラン剤に晒す
    工程であることを特徴とする液晶表示装置。
38. 【請求項３８】請求項３１記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向表面処理は前記主面を有機シラン剤に晒す
    工程であることを特徴とする液晶表示装置。
39. 【請求項３９】請求項３７記載の液晶表示装置におい
    て、前記有機シラン剤はＮ−（β−アミノエチル−γ−
    アミノプロピルトリメトキシシラン）、γ−（グリシド
    キシプロピルメチルジメトキシシラン）、或いはオクタ
    デシルトリエトキシシランから少なくとも１つ選ばれる
    ことを特徴とする液晶表示装置。
40. 【請求項４０】請求項３８記載の液晶表示装置におい
    て、前記有機シラン剤はＮ−（β−アミノエチル−γ−
    アミノプロピルトリメトキシシラン）、γ−（グリシド
    キシプロピルメチルジメトキシシラン）、或いはオクタ
    デシルトリエトキシシランから少なくとも１つ選ばれる
    ことを特徴とする液晶表示装置。
41. 【請求項４１】請求項３８記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向制御膜は、前記基板上に配向制御膜材料を
    塗布し加熱硬化して形成されることを特徴とする液晶表
    示装置。
42. 【請求項４２】請求項３９記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向制御膜は、前記配向膜上に配向制御膜材料
    を塗布し加熱硬化して形成されることを特徴とする液晶
    表示装置。
43. 【請求項４３】表面に配向制御膜を有するローラを用
    い、このローラを主面上に転がらせることによって前記
    配向制御膜の表面と主面との接着力により、液晶分子を
    配向させる配向制御機能を有する第１の基板と、 配向処理された面を対向面とし一定の距離を隔てて第１
    の基板に対向配置された第２の基板と、 前記第１及び第２の基板間に配置された液晶材料とを具
    備することを特徴とする液晶表示装置。
44. 【請求項４４】請求項４３記載の液晶表示装置におい
    て、第１の基板上にはさらに配向膜が形成されており、
    この配向膜の表面を主面とすることを特徴とする液晶表
    示装置。
45. 【請求項４５】請求項４３記載の液晶表示装置におい
    て、前記主面に配向制御膜が形成される前に、プレチル
    ト角を制御するための配向表面処理が前記主面に施され
    ていることを特徴とする液晶表示装置。
46. 【請求項４６】請求項４４記載の液晶表示装置におい
    て、前記主面上を前記ローラが転がる前に、プレチルト
    角を制御するための配向表面処理が、前記主面に施され
    ていることを特徴とする液晶表示装置。
47. 【請求項４７】請求項４３記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向制御膜は有機高分子膜であることを特徴と
    する液晶表示装置。
48. 【請求項４８】請求項４３記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向制御膜は、ポリビニルアルコール、ポリ酢
    酸ビニル、ポリスチレン誘導体、ポリエチレン、ポリカ
    ーボネート、或いはポリイミド前駆体からなる郡から少
    なくとも１つ選ばれる材料で構成されていることを特徴
    とする液晶表示装置。
49. 【請求項４９】請求項４４記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向膜材料は、ポリイミド、ポリイミド前駆
    体、ポリピロール、或いはポリアニリンからなる郡から
    少なくとも１つ選ばれる材料で構成されていることを特
    徴とする液晶表示装置。
50. 【請求項５０】請求項４４記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向制御膜と前記配向膜の材料の組み合わせ
    は、前記配向制御膜としてポリビニルアルコール、或い
    はポリ酢酸ビニルから少なくとも１つ選ばれ、前記配向
    膜としてポリイミド、或いはポリイミド膜とポリイミド
    前駆体から少なくとも１つ選ばれる材料で構成されてい
    ることを特徴とする液晶表示装置。
51. 【請求項５１】請求項４５記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向表面処理は前記主面を有機シラン剤に晒す
    工程であることを特徴とする液晶表示装置。
52. 【請求項５２】請求項４６記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向表面処理は前記主面を有機シラン剤に晒す
    工程である。
53. 【請求項５３】請求項５１記載の液晶表示装置におい
    て、前記有機シラン剤はＮ−（β−アミノエチル−γ−
    アミノプロピルトリメトキシシラン）、γ−（グリシド
    キシプロピルメチルジメトキシシラン）、或いはオクタ
    デシルトリエトキシシランから少なくとも１つ選ばれる
    ことを特徴とする液晶表示装置。
54. 【請求項５４】請求項５２記載の液晶表示装置におい
    て、前記有機シラン剤はＮ−（β−アミノエチル−γ−
    アミノプロピルトリメトキシシラン）、γ−（グリシド
    キシプロピルメチルジメトキシシラン）、或いはオクタ
    デシルトリエトキシシランから少なくとも１つ選ばれる
    ことを特徴とする液晶表示装置。
55. 【請求項５５】基板上に配向制御膜を形成する工程と、 前記配向制御膜を剥離することにより、前記配向制御膜
    と前記基板との接着力によって、前記基板上に液晶分子
    を配向させる配向制御機能を持たせる工程とを具備する
    ことを特徴とする液晶分子の配向処理方法。
56. 【請求項５６】表面に配向制御膜を有するローラを用
    い、このローラを基板上に転がらせることによって前記
    配向制御膜の表面と基板の表面の接着力により、前記基
    板上に液晶分子を配向させる配向制御機能を持たせるこ
    とを特徴とする液晶分子の配向処理方法。
57. 【請求項５７】主面上に配向制御膜が形成され、この配
    向制御膜を剥がすことにより、前記配向制御膜との接着
    力によって、液晶分子を配向させる配向制御機能有して
    いることを特徴とする液晶表示装置用基板。
58. 【請求項５８】表面に配向制御膜を有するローラを用
    い、このローラを主面上に転がらせることによって前記
    配向制御膜の表面と主面との接着力により、液晶分子を
    配向させる配向制御機能を有することを特徴とする液晶
    表示装置用基板。
59. 【請求項５９】請求項１記載の液晶表示装置の製造方法
    において、前記配向制御膜は一定方向に剥すことを特徴
    とする液晶表示装置の製造方法。
60. 【請求項６０】請求項１６記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記ローラは一定方向に転がすことを特徴
    とする液晶表示装置の製造方法。
61. 【請求項６１】請求項２８記載の液晶表示装置におい
    て、前記配向制御膜は一定方向に転がすことを特徴とす
    る液晶表示装置。
62. 【請求項６２】請求項４３記載の液晶表示装置の製造方
    法において、前記ローラは一定方向に転がすことを特徴
    とする液晶表示装置の製造方法。