JPH07297232A - TAB tape manufacturing method - Google Patents

TAB tape manufacturing method

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JPH07297232A
JPH07297232A JP6104752A JP10475294A JPH07297232A JP H07297232 A JPH07297232 A JP H07297232A JP 6104752 A JP6104752 A JP 6104752A JP 10475294 A JP10475294 A JP 10475294A JP H07297232 A JPH07297232 A JP H07297232A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tape
plating
tab tape
tab
washed
Prior art date
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Pending
Application number
JP6104752A
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Japanese (ja)
Inventor
Makoto Goto
誠 後藤
Hiroyuki Okabe
宏之 岡部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd filed Critical Hitachi Cable Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】めっき外観ムラの発生を防止して安定なインナ
ーリードボンディング性を得る。 【構成】TAB用キャリアテープに所定の配線パターン
を形成しテープ表面を洗浄した後めっき処理を行うTA
Bテープの製造方法において、TABテープ表面を洗浄
した後めっき処理前にエアー乾燥を行いTABテープ表
面の水滴残さを除去することを特徴とする、TABテー
プの製造方法。
(57) [Summary] [Purpose] Prevents uneven plating appearance and obtains stable inner lead bonding. [Structure] TA that forms a predetermined wiring pattern on a TAB carrier tape, cleans the tape surface, and then performs plating treatment
A method for producing a TAB tape, which is characterized in that after the surface of the TAB tape is washed, it is air-dried before the plating treatment to remove the water drop residue on the surface of the TAB tape.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、めっき外観ムラの発生
を防止することができるTABテープの製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a TAB tape manufacturing method capable of preventing the occurrence of uneven plating appearance.

【0002】[0002]

【従来の技術】TABテープは、例えば図1に示される
構造であり、接着剤付ポリイミドテープ1と、スプロケ
ットホール2と、デバイスホール3と、アウターリード
スリット4と、インナーリード5a、入力側アウターリ
ード5bおよび出力側アウターリード5cからなる配線
パターン5から構成されている。
2. Description of the Related Art A TAB tape has a structure shown in FIG. 1, for example, and includes a polyimide tape 1 with an adhesive, a sprocket hole 2, a device hole 3, an outer lead slit 4, an inner lead 5a, and an input side outer. The wiring pattern 5 includes a lead 5b and an output side outer lead 5c.

【0003】従来、このようなTABテープの製造は一
般に以下の工程により行われる。まず、接着剤付ポリイ
ミドテープ1に金型成形加工によってスプロケットホー
ル2、素子搭載用デバイスホール3、アウターリードス
リット4を形成し、その後圧延または電解により得た銅
箔(厚さ35μm)をポリイミドテープ1上にラミネー
ト接着し、接着した銅箔に対して金属エッチングを行い
所定の配線パターン5を形成する。この配線パターンの
例としては、200ピンテープではインナーリード5a
のピッチは100μm、線幅は50μmとなる。次いで
配線パターン5を形成したTABテープを脱脂、水洗、
酸洗、水洗する洗浄工程(前処理)を行い表面を洗浄し
た後、前記配線パターン5にめっき(錫、半田または
金)処理を行う。
Conventionally, the production of such a TAB tape is generally performed by the following steps. First, a sprocket hole 2, an element mounting device hole 3 and an outer lead slit 4 are formed on a polyimide tape 1 with an adhesive by a mold forming process, and then a copper foil (thickness 35 μm) obtained by rolling or electrolysis is formed on the polyimide tape. 1 is laminated and bonded, and the bonded copper foil is subjected to metal etching to form a predetermined wiring pattern 5. As an example of this wiring pattern, the inner lead 5a is used with a 200-pin tape.
Has a pitch of 100 μm and a line width of 50 μm. Next, the TAB tape having the wiring pattern 5 formed thereon is degreased, washed with water,
After performing a washing step (pretreatment) of pickling and washing with water to wash the surface, the wiring pattern 5 is plated (tin, solder or gold).

【0004】半田および金めっきは電気めっき方式で行
われるのに対して、錫めっきは主に無電解めっき方式で
行われる。錫めっきの場合所定のめっき厚(0.3〜
0.6μm)を得るためにTABテープを長時間(5〜
10分)、高温(50〜70℃)のめっき浴に浸漬して
いる。また、錫めっきではリードショート不良の要因と
なる錫ホイスカの発生を防止するため、めっき処理後に
熱処理を行っている。
While solder and gold plating are performed by electroplating, tin plating is mainly performed by electroless plating. In the case of tin plating, the specified plating thickness (0.3 ~
TAB tape for a long time (5 to 5 μm)
It is immersed in a high temperature (50 to 70 ° C.) plating bath for 10 minutes. Further, in the tin plating, heat treatment is performed after the plating treatment in order to prevent the generation of tin whiskers that cause defective lead shorts.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
TABテープの製造工程においては、前処理を経たテー
プの銅リード面の水滴残さに起因してめっき後に外観ム
ラが発生する恐れがあった。特に、めっき時間が長く、
めっき温度が高い錫の無電解めっきでこの傾向が高い。
However, in the conventional manufacturing process of the TAB tape, there is a possibility that unevenness in appearance may occur after plating due to residual water droplets on the copper lead surface of the tape that has undergone pretreatment. Especially, the plating time is long,
This tendency is high in tin electroless plating, which has a high plating temperature.

【0006】このような外観むらは、TABテープとI
Cチップとの間のインナーリードボンディングの際のリ
ード位置検出をリードとポリイミドフィルムの明暗によ
る2値化方式で行う関係上、2値化の読み取りに誤動作
を生じボンディング不良を招くことにもなる。また、外
観ムラのある部分と無い部分とではめっきの結晶形に差
がありこれがボンディング濡れ性、強度等に影響を及ぼ
すため、安定したボンディングが確保できなくなる。こ
れを防ぐために、めっき浴を2回繰り返すことが考えら
れるが、工程を複雑化する。
[0006] Such appearance unevenness is
Since the lead position is detected at the time of inner lead bonding with the C chip by the binarization method depending on the brightness of the lead and the polyimide film, a malfunction in the binarization reading may occur and a bonding defect may be caused. In addition, since there is a difference in the crystal shape of the plating between the portion having the uneven appearance and the portion having no unevenness, which affects the bonding wettability, strength, etc., stable bonding cannot be secured. In order to prevent this, the plating bath may be repeated twice, but this complicates the process.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題に鑑
みてなされたものであり、めっき外観ムラの発生を防止
して安定なインナーリードボンディング性を得るため、
TAB用キャリアテープに所定の配線パターンを形成し
テープ表面を洗浄した後めっき処理を行うTABテープ
の製造方法において、TABテープ表面を洗浄した後め
っき処理前にエアー乾燥を行いTABテープ表面の水滴
残さを除去するようにしたTABテープの製造方法を提
供するものである。
The present invention has been made in view of the above problems, and in order to prevent the occurrence of uneven plating appearance and obtain stable inner lead bonding,
A method of manufacturing a TAB tape in which a predetermined wiring pattern is formed on a carrier tape for TAB, the surface of the tape is washed, and then plating is performed. In the method of manufacturing the TAB tape, after drying the surface of the TAB tape, air drying is performed before the plating to remove water droplets on the surface of the TAB tape. The present invention provides a method for producing a TAB tape that removes

【0008】すなわち、本発明はTABテープの製造工
程において前処理後のめっき工程直前にTABテープを
エアー乾燥してTABテープリード面の水滴残さを除去
することにより、めっき外観ムラの発生を防止すること
ができる。なお、本発明のTABテープの製造方法は無
電解錫めっきの他電解式の半田めっきおよび金めっきに
も適用可能である。
That is, according to the present invention, in the TAB tape manufacturing process, the TAB tape is air-dried immediately before the plating process to remove the water drop residue on the lead surface of the TAB tape, thereby preventing uneven plating appearance. be able to. The method for manufacturing a TAB tape of the present invention can be applied to electroless solder plating and gold plating in addition to electroless tin plating.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明の一実施例を詳細に説明する。
TABキャリアテープに所定の配線パターンを形成した
後、前処理、エアー乾燥、無電解錫めっき、後処理およ
び乾燥の各工程を行った。 <前処理>まず、TABテープを40〜50℃のアルカ
リ溶液に30秒〜1分浸漬し、これを室温のイオン水で
30秒〜1分水洗した後、室温の過硫酸カリウム系溶液
に30秒〜1分浸漬し、再度室温のイオン水で30秒〜
1分水洗した。 <エアー乾燥>次いで、水洗したTABテープに10〜
30リットル/分の流量のエアーを通しながら室温で3
0秒〜1分乾燥した。 <無電解錫めっき>乾燥したTABテープを50〜70
℃の錫を溶解した有機酸浴に5〜10分浸漬して錫めっ
きを行った。リールTOリール方式のめっき装置を使用
した。得られた錫めっきの組成は100%錫で厚さは
0.3〜0.6μmであった。 <後処理>錫めっきしたTABテープを室温のイオン水
で30秒〜1分水洗した後、60〜80℃の水で30秒
〜3分洗い、再度室温のイオン水で30秒〜1分水洗し
た。 <乾燥>最後に、TABテープに5〜20リットル/分
の流量で100〜200℃の熱風を通しながら30秒〜
1分乾燥した。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below.
After forming a predetermined wiring pattern on the TAB carrier tape, each step of pretreatment, air drying, electroless tin plating, posttreatment and drying was performed. <Pretreatment> First, the TAB tape is immersed in an alkaline solution at 40 to 50 ° C. for 30 seconds to 1 minute, washed with ionized water at room temperature for 30 seconds to 1 minute, and then immersed in a potassium persulfate solution at room temperature. Soak for 1 second to 1 minute, then again with room temperature ionized water for 30 seconds
It was washed with water for 1 minute. <Air drying> Then, wash the TAB tape with water for 10
3 at room temperature while passing air at a flow rate of 30 liters / minute
It was dried for 0 seconds to 1 minute. <Electroless tin plating> 50-70 dry TAB tape
It was immersed in an organic acid bath in which tin was dissolved at 5 ° C for 5 to 10 minutes to perform tin plating. A reel-to-reel type plating device was used. The composition of the obtained tin plating was 100% tin and the thickness was 0.3 to 0.6 μm. <Post-treatment> The tin-plated TAB tape is washed with room temperature ion water for 30 seconds to 1 minute, then washed with water at 60 to 80 ° C for 30 seconds to 3 minutes, and again washed with room temperature ion water for 30 seconds to 1 minute. did. <Drying> Finally, while passing hot air of 100 to 200 ° C through the TAB tape at a flow rate of 5 to 20 liters / minute, 30 seconds to
It was dried for 1 minute.

【0010】使用したTABテープの仕様は、幅35m
m、ピン数200、125μm厚ポリイミドフィルム、
エポキシ系接着剤20μm、銅箔厚35μmであった。
本実施例により得られた無電解錫めっきTABテープに
ついて外観検査、インナーリードボンディング性(リー
ド検出精度、ボンディング濡れ量、引張り強度)評価を
行った結果、表1に示す通り従来の製造方法(錫めっき
直前のエアー乾燥を行わない)によるものに比較し、本
実施例の製品は表1に示す通り外観、ボンディング性共
に従来品よりも優れていた。
The TAB tape used has a width of 35 m.
m, pin number 200, 125 μm thick polyimide film,
The epoxy adhesive was 20 μm and the copper foil thickness was 35 μm.
The electroless tin-plated TAB tape obtained in this example was subjected to an appearance inspection and an inner lead bonding property (lead detection accuracy, bonding wetting amount, tensile strength). As a result, as shown in Table 1, the conventional manufacturing method (tin As shown in Table 1, the appearance and bonding properties of the product of this example were superior to those of the conventional product, as compared with those obtained by not performing air drying immediately before plating).

【0011】[0011]

【表1】 本実施例は本発明の範囲を何ら限定するものではなく、
たとえばめっき浴として有機酸浴の代わりにホウフッ化
浴等を使用することも可能である。
[Table 1] This example does not limit the scope of the present invention at all,
For example, it is possible to use a borofluoride bath or the like as the plating bath instead of the organic acid bath.

【0012】[0012]

【発明の効果】以上詳しく説明した通り、本発明のTA
Bテープの製造方法によれば、TAB用キャリアテープ
に所定の配線パターンを形成しテープ表面を洗浄した後
めっき処理を行うTABテープの製造方法において、T
ABテープ表面を洗浄した後めっき処理前にエアー乾燥
を行いTABテープ表面の水滴残さを除去するようにし
たため、めっき外観ムラの発生を防止して安定なインナ
ーリードボンディング性を得ることができる。
As described in detail above, the TA of the present invention
According to the method for producing a B tape, a method for producing a TAB tape, in which a predetermined wiring pattern is formed on the TAB carrier tape, the surface of the tape is washed, and then plating treatment is performed,
After the AB tape surface is washed and air-dried before the plating treatment to remove the water drop residue on the TAB tape surface, it is possible to prevent uneven plating appearance and obtain stable inner lead bonding properties.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】TABテープの構造を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing the structure of a TAB tape.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 接着剤付ポリイミドテープ 2 スプロケットホール 3 デバイスホール 4 アウターリードスリット 5 配線パターン 5a インナーリード 5b 入力側アウターリード 5c 出力側アウターリード 1 Polyimide tape with adhesive 2 Sprocket hole 3 Device hole 4 Outer lead slit 5 Wiring pattern 5a Inner lead 5b Input side outer lead 5c Output side outer lead

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 TAB用キャリアテープに所定の配線パ
ターンを形成しテープ表面を洗浄した後めっき処理を行
うTABテープの製造方法において、TABテープ表面
を洗浄した後めっき処理前にエアー乾燥を行いTABテ
ープ表面の水滴残さを除去することを特徴とする、TA
Bテープの製造方法。
1. A method for producing a TAB tape in which a predetermined wiring pattern is formed on a TAB carrier tape and the surface of the tape is washed, and then plating is performed. In the method, a TAB tape is washed and air drying is performed before the plating. TA, characterized by removing water droplets residue on the tape surface
B tape manufacturing method.
【請求項2】 前記めっき処理が銅リードに対する錫の
無電解めっきであることを特徴とする、請求項1記載の
TABテープの製造方法。
2. The method for producing a TAB tape according to claim 1, wherein the plating treatment is electroless plating of tin on a copper lead.
JP6104752A 1994-04-19 1994-04-19 TAB tape manufacturing method Pending JPH07297232A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2022085374A1 (en) * 2020-10-20 2022-04-28

Cited By (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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