JPH0729800U - X線照射装置 - Google Patents
X線照射装置Info
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- JPH0729800U JPH0729800U JP6340593U JP6340593U JPH0729800U JP H0729800 U JPH0729800 U JP H0729800U JP 6340593 U JP6340593 U JP 6340593U JP 6340593 U JP6340593 U JP 6340593U JP H0729800 U JPH0729800 U JP H0729800U
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- electron beam
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- cooling duct
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Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ビームシャッタと照射窓を覆う水冷ダクトの
冷却水配管設備を簡素化すること。 【構成】 電子線発生部から走査管1に導入された電子
線は照射窓2を通って大気中に取り出される。照射窓の
下方に電子吸収可動部材10が設けられており、同部材
は照射窓のフランジ部を覆う水冷ダクト部11とビーム
シャッタ部12とを一体化して構成されており、両部の
冷却水通路13は連続している。X線発生時、照射窓か
らの電子線は水冷ダクト部の開口部14を通り、X線タ
ーゲットに入射する。同ターゲットから照射窓のフラン
ジ部方向に散乱した電子は水冷ターゲット部で捕捉吸収
される。X線照射装置の立ち上げ、立ち下げ時、電子吸
収可動部材は一点鎖線で示す位置まで移動し、ビームシ
ャッタ部はX線ターゲットへの電子線の入射を遮る。
冷却水配管設備を簡素化すること。 【構成】 電子線発生部から走査管1に導入された電子
線は照射窓2を通って大気中に取り出される。照射窓の
下方に電子吸収可動部材10が設けられており、同部材
は照射窓のフランジ部を覆う水冷ダクト部11とビーム
シャッタ部12とを一体化して構成されており、両部の
冷却水通路13は連続している。X線発生時、照射窓か
らの電子線は水冷ダクト部の開口部14を通り、X線タ
ーゲットに入射する。同ターゲットから照射窓のフラン
ジ部方向に散乱した電子は水冷ターゲット部で捕捉吸収
される。X線照射装置の立ち上げ、立ち下げ時、電子吸
収可動部材は一点鎖線で示す位置まで移動し、ビームシ
ャッタ部はX線ターゲットへの電子線の入射を遮る。
Description
【0001】
本考案は、ビ−ムシャッタと照射窓のフランジ部を覆う水冷ダクトを一体化し 、冷却水配管設備を簡素化したX線照射装置に関する。
【0002】
図3は走査型X線照射装置の一例を示す断面図である。熱電子放出フィラメン ト及び加速管を有する電子線発生部からの電子線は走査管1に導入され、その端 部に設けられた照射窓2から電子線を大気中に取り出し、X線ターゲット3に当 て、X線を発生させている。照射窓2は、走査管1の端部のフランジ部11に箔 押え板21で取付られた窓箔22を有し、電子線発生部及び走査管1内を真空状態 に封止している。
【0003】 電子線がX線ターゲット3に当ると散乱電子が発生する。この散乱電子の一部 が照射窓2における箔押え板21を含む照射窓のフランジ部に当ると、同フラン ジ部は散乱電子のエネルギーを吸収し発熱する。これに伴い、例えば照射窓2の フランジ部における真空封止機構部材の熱膨張の違いにより封止機能が低下し、 走査管1内の真空度が悪化する。そこで、照射窓2のフランジ部を覆う水冷ダク ト4を設け、フランジ部に当る散乱電子を同ダクトで吸収させている。図4(a )はの水冷ダクト4の斜視図であり、同ダクトの冷却水通路41に冷却水を流し 、散乱電子の吸収に伴う発熱を防止している。
【0004】 X線照射装置の動作の立ち上げ、立ち下げ時(動作開始、停止時)、ビ−ムシ ャッタ5を図3の実線で示す位置から一点鎖線で示す位置まで移動させてX線タ ーゲット3への電子線の入射を遮り、X線を発生させないようにしている。図4 (b)はビ−ムシャッタ5の斜視図であり、同ビ−ムシャッタの内部には冷却水 の通路51が形成されており、電子線の吸収に伴う発熱を防いでいる。
【0005】
本考案は、上述のように、水冷機構を有する電子線吸収部材であるビ−ムシャ ッタ5は、X線照射装置の動作の立ち上げ、立ち下げ時、例えば動作開始時につ いて言えば、電子線が所定のビ−ム量、定格ビーム量の80%程度に立ち上がる までの短時間、一時的に電子線を遮断するものであることに鑑み、共に電子吸収 、電子吸収に伴う発熱を除去するための水冷機構を有する部材であるビームシャ ッタと水冷ダクト4との一体化を図り、冷却水配管設備を簡素化したX線照射装 置の提供を目的とするものである。
【0006】
本考案は、照射窓のフランジ部を覆う水冷ダクトと、X線ターゲットへの電子 線の入射を遮るビ−ムシャッタとを有するX線照射装置において、前記水冷ダク トとビ−ムシャッタが、その内部の冷却水通路を連続させて一体に構成されてい ることを特徴とするものである。
【0007】
水冷ダクトとビ−ムシャッタは、その内部の冷却水通路が連続し、一体に構成 されているから、水冷ダクトとビ−ムシャッタへの冷却水配管を格別に設けずに 済むことになる。
【0008】
本考案の一実施例を図面を参照して説明する。図1は走査型X線照射装置の断 面図、図2は水冷ダクト部とビ−ムシャッタ部を有する電子吸収可動部材の斜視 図であり、図3ないし図5と同一符号は同等部分を示す。電子線発生部からの電 子線は走査管1に導入され、その端部に設けられた照射窓2から電子線を大気中 に取り出し、X線ターゲット3に当て、X線を発生させる。走査管1からの電子 線を透過させる照射窓2は、走査管1の端部のフランジ部11に箔押え板21で取 付られた窓箔22を有し、電子線発生部及び走査管1内を真空状態に封止してい る。
【0009】 照射窓2の下方に水冷ダクトとビ−ムシャッタを一体化した電子吸収可動部材 10が設けられている。同可動部材は照射窓2のフランジ部を覆う水冷ダクト部 11とX線ターゲット3への電子線の入射を遮るビ−ムシャッタ部12が一体に 結合して構成されており、同可動部材の部分101は水冷ダクト部とビームシャ ッタ部の共用部分となっている。電子吸収可動部材10における水冷ダクト部1 1とビ−ムシャッタ部12の内部に形成される冷却水通路13は連続しており、 これに伴い、両部の冷却水通路に対し一組の冷却水配管により冷却水が供給され る。
【0010】 X線発生時、電子吸収可動部材10は図1に示す開位置に移動配置する。照射 窓2を透過した電子線は水冷ダクト部11の開口部14を通り、X線ターゲット 3に入射する。同ターゲットから、照射窓2のフランジ部方向に散乱した電子は 水冷ダクト部11で捕捉吸収される。
【0011】 X線照射装置の動作立ち上げ、立ち下げ時、電子吸収可動部材10はビ−ムシ ャッタ部12がX線ターゲット3を覆い、電子線を遮る閉位置に移動配置される 。この場合、ビ−ムシャッタ部12への電子線の入射に伴い、同部から散乱電子 が発生し、照射窓2のフランジ部に当るが、ビ−ムシャッタ部への電子線入射は 短時間であり、入射量も定格値以下にすぎないから、照射窓の発熱は特に問題に ならない。
【0012】
本考案は、以上説明したように、照射窓のフランジ部を覆う水冷ダクトとX線 ターゲットへの電子線を遮るビ−ムシャッタとが一体に結合し、それら内部の冷 却水通路が連続して形成されているから、冷却水配管設備が簡素化される。
【0013】 水冷ダクトとビ−ムシャッタが一体化されることに伴い、照射窓とX線ターゲ ット間の電子線通過空気層を短縮することができ、空気層の加熱、電子線エネル ギーの損失を低減することができると共に、水冷ダクト部とビームシャッタ部の 一部を共用することができるから、全体をコンパクトに形成できる。
【図1】本考案の実施例の断面図である。
【図2】実施例における電子吸収可動部材の斜視図であ
る。
る。
【図3】従来のX線照射装置の断面図である。
【図4】水冷ダクトとビームシャッタの斜視図である。
1 走査管 2 照射窓 3 X線ターゲット 4 水冷ダクト 5 ビ−ムシャッタ 10 電子吸収可動部材 11 水冷ダクト部 12 ビ−ムシャッタ部 13 冷却水通路
Claims (1)
- 【請求項1】 照射窓のフランジ部を覆う水冷ダクト
と、X線ターゲットへの電子線の入射を遮るビ−ムシャ
ッタとを有するX線照射装置において、前記水冷ダクト
とビ−ムシャッタが、その内部の冷却水通路を連続させ
て一体に構成されていることを特徴とするX線照射装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6340593U JPH0729800U (ja) | 1993-11-02 | 1993-11-02 | X線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6340593U JPH0729800U (ja) | 1993-11-02 | 1993-11-02 | X線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0729800U true JPH0729800U (ja) | 1995-06-02 |
Family
ID=13228368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6340593U Pending JPH0729800U (ja) | 1993-11-02 | 1993-11-02 | X線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0729800U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008209394A (ja) * | 2007-01-30 | 2008-09-11 | Sii Nanotechnology Inc | X線管及びx線分析装置 |
-
1993
- 1993-11-02 JP JP6340593U patent/JPH0729800U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008209394A (ja) * | 2007-01-30 | 2008-09-11 | Sii Nanotechnology Inc | X線管及びx線分析装置 |
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