JPH0729995B2 - 8−n,n−ジアルキルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカンの製造方法 - Google Patents
8−n,n−ジアルキルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカンの製造方法Info
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- JPH0729995B2 JPH0729995B2 JP4332011A JP33201192A JPH0729995B2 JP H0729995 B2 JPH0729995 B2 JP H0729995B2 JP 4332011 A JP4332011 A JP 4332011A JP 33201192 A JP33201192 A JP 33201192A JP H0729995 B2 JPH0729995 B2 JP H0729995B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C209/00—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton
- C07C209/24—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reductive alkylation of ammonia, amines or compounds having groups reducible to amino groups, with carbonyl compounds
- C07C209/26—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reductive alkylation of ammonia, amines or compounds having groups reducible to amino groups, with carbonyl compounds by reduction with hydrogen
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- C07C211/34—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings of a saturated carbon skeleton
- C07C211/38—Compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton having amino groups bound to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings of a saturated carbon skeleton containing condensed ring systems
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2603/00—Systems containing at least three condensed rings
- C07C2603/56—Ring systems containing bridged rings
- C07C2603/58—Ring systems containing bridged rings containing three rings
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- C07C2603/66—Ring systems containing bridged rings containing three rings containing at least one ring with less than six members containing five-membered rings
- C07C2603/68—Dicyclopentadienes; Hydrogenated dicyclopentadienes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、8- N,N- ジアルキ
ルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカンの製
造方法に関する。アルキルハロゲニドを用いる8- N,
N- ジアルキルアミノトリシクロ〔5.2.1.
02.6 〕デカンの反応によって、トリシクロ〔5.2.
1.02.6 〕デカンの対応する第四級アンモニウム塩を
製造することができる。トリシクロ〔5.2.1.0
2.6 〕デカンのこの第四級アンモニウム塩は、たとえば
ゼオライトの製造に必要である。
ルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカンの製
造方法に関する。アルキルハロゲニドを用いる8- N,
N- ジアルキルアミノトリシクロ〔5.2.1.
02.6 〕デカンの反応によって、トリシクロ〔5.2.
1.02.6 〕デカンの対応する第四級アンモニウム塩を
製造することができる。トリシクロ〔5.2.1.0
2.6 〕デカンのこの第四級アンモニウム塩は、たとえば
ゼオライトの製造に必要である。
【0002】
【従来の技術】9−ジメチルアミノテトラヒドロジシク
ロペンタジエン(8−N,N−ジメチルアミノトリシク
ロ〔5.2.1.02.6〕デカン)の数段階合成は、
P.ウィルダー(Wilder)、Jr.,Ch.F.
カルバーソン(Culberson)及びG.T.ヤン
グブラッド(Youngblood)によってJ.A
m.Chem.Soc.81,第655〜658頁、
(1959)中に記載されている。ケトン(トリシクロ
〔5.2.1.02.6〕デカン−8(9)−オン)か
ら出発して、ヒドロキシルアミンとの反応によって対応
するオキシムを製造する。オキシムを、2つの別々の工
程(先ずPtO2及びH2を用いて、次いでナトリウム
を用いて)還元して、対応するアミン(8(9)−アミ
ノトリシクロ〔5.2.1.02.6〕デカン)とな
す。アミンを、水性ホルムアルデヒドとギ酸から成る混
合物と反応させて対応する(9)−ジメチルアミノテト
ラヒドロジシクロペンタジエン(8−N,N−ジメチル
アミノトリシクロ〔5.2.1.02.6〕デカン)と
なす。メチル化段階での収率は、使用された第一アミン
に対してほんの48%であるが、全製造方法に対する収
率は、相応して比較的低い。
ロペンタジエン(8−N,N−ジメチルアミノトリシク
ロ〔5.2.1.02.6〕デカン)の数段階合成は、
P.ウィルダー(Wilder)、Jr.,Ch.F.
カルバーソン(Culberson)及びG.T.ヤン
グブラッド(Youngblood)によってJ.A
m.Chem.Soc.81,第655〜658頁、
(1959)中に記載されている。ケトン(トリシクロ
〔5.2.1.02.6〕デカン−8(9)−オン)か
ら出発して、ヒドロキシルアミンとの反応によって対応
するオキシムを製造する。オキシムを、2つの別々の工
程(先ずPtO2及びH2を用いて、次いでナトリウム
を用いて)還元して、対応するアミン(8(9)−アミ
ノトリシクロ〔5.2.1.02.6〕デカン)とな
す。アミンを、水性ホルムアルデヒドとギ酸から成る混
合物と反応させて対応する(9)−ジメチルアミノテト
ラヒドロジシクロペンタジエン(8−N,N−ジメチル
アミノトリシクロ〔5.2.1.02.6〕デカン)と
なす。メチル化段階での収率は、使用された第一アミン
に対してほんの48%であるが、全製造方法に対する収
率は、相応して比較的低い。
【0003】WO90/04567には、N,N- ジア
ルキル -8- アミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕
デカン(8- N,N- ジアルキルアミノトリシクロ
〔5.2.1.02.6 〕デカン)の製造方法が記載さ
れ、これは8- ケトトリシクロ〔5.2.1.0〕デカ
ン(トリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン8(9)-
オン)から出発する。この場合ケトンをジアルキルホル
ムアミドとギ酸の存在下に160〜195℃の温度で反
応させる。反応時間は、10〜50時間である。反応際
に、CO2 が生じ、これを所望されない圧力上昇を避け
るために反応から連続的に除去しなければならない。
ルキル -8- アミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕
デカン(8- N,N- ジアルキルアミノトリシクロ
〔5.2.1.02.6 〕デカン)の製造方法が記載さ
れ、これは8- ケトトリシクロ〔5.2.1.0〕デカ
ン(トリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン8(9)-
オン)から出発する。この場合ケトンをジアルキルホル
ムアミドとギ酸の存在下に160〜195℃の温度で反
応させる。反応時間は、10〜50時間である。反応際
に、CO2 が生じ、これを所望されない圧力上昇を避け
るために反応から連続的に除去しなければならない。
【0004】前記方法は、技術上極めて複雑であるばか
りか極めて時間がかかる。
りか極めて時間がかかる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】したがって課題は、簡
単に実施することができ、所望の8- N,N- ジアルキ
ルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカンを高
収率で入手することができ、更に変換の実施に必要な時
間を減少させる方法を開発することにある。
単に実施することができ、所望の8- N,N- ジアルキ
ルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカンを高
収率で入手することができ、更に変換の実施に必要な時
間を減少させる方法を開発することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】この課題は、8- N,N
- ジアルキルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6〕
デカンの製造方法によって解決される。トリシクロ
〔5.2.1.02.6 〕デカン- 8(9)-オンと式R1
R2 NH(式中R1 及びR2 はC- 原子数1〜6のアル
キル基を示す。)なるアミンを、白金を含有する担体触
媒と水素の存在下に高められた圧力及び高められた温度
で反応させることを特徴とする、8- N,N- ジアルキ
ルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカンの製
造方法によって解決される。
- ジアルキルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6〕
デカンの製造方法によって解決される。トリシクロ
〔5.2.1.02.6 〕デカン- 8(9)-オンと式R1
R2 NH(式中R1 及びR2 はC- 原子数1〜6のアル
キル基を示す。)なるアミンを、白金を含有する担体触
媒と水素の存在下に高められた圧力及び高められた温度
で反応させることを特徴とする、8- N,N- ジアルキ
ルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカンの製
造方法によって解決される。
【0007】変換に必要なトリシクロ〔5.2.1.0
2.6 〕デカン- 8(9)-オンを、工業的規模でシクロペ
ンタジエンから出発することができる。水の添加によっ
て酸性触媒(H2 SO4 又はカチオン交換体)の存在下
に8(9)-ヒドロキシトリシクロ〔5.2.1.
02.6 〕デセ -3- エン──これは不飽和アルコールで
ある──が生じ、これをニッケルを含有する触媒によっ
て高められた温度でトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕
デカン- 8(9)-オンに変えることができる。この変換
は、すべての見込みに於て分子内水素転位であり、この
際──次の反応式に対応して──8- 又は9- 位にある
ヒドロキシル基を水素の離脱下にケト基に変え、次いで
遊離した水素を3位に配置された炭素- 炭素二重結合に
付加する。
2.6 〕デカン- 8(9)-オンを、工業的規模でシクロペ
ンタジエンから出発することができる。水の添加によっ
て酸性触媒(H2 SO4 又はカチオン交換体)の存在下
に8(9)-ヒドロキシトリシクロ〔5.2.1.
02.6 〕デセ -3- エン──これは不飽和アルコールで
ある──が生じ、これをニッケルを含有する触媒によっ
て高められた温度でトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕
デカン- 8(9)-オンに変えることができる。この変換
は、すべての見込みに於て分子内水素転位であり、この
際──次の反応式に対応して──8- 又は9- 位にある
ヒドロキシル基を水素の離脱下にケト基に変え、次いで
遊離した水素を3位に配置された炭素- 炭素二重結合に
付加する。
【0008】
【化1】この方法で不飽和アルコールがトリシクロ
〔5.2.1.02.6 〕デカン- 8(9)-オンに変換す
る。
〔5.2.1.02.6 〕デカン- 8(9)-オンに変換す
る。
【0009】次式に従って:
【0010】
【化2】トリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン- 8
(9)-オン及び式R1 R2 NHのアミンから、所望され
た8- N,N- ジアルキルアミノトリシクロ〔5.2.
1.02.6 〕デカンが生じる。
(9)-オン及び式R1 R2 NHのアミンから、所望され
た8- N,N- ジアルキルアミノトリシクロ〔5.2.
1.02.6 〕デカンが生じる。
【0011】出発化合物トリシクロ〔5.2.1.0
2.6 〕デカン- 8(9)-オン及び式R 1 R2 NHのアミ
ンを、当量で使用することができる。その変化方法によ
って、出発化合物の1つを過剰に使用することができ
る。
2.6 〕デカン- 8(9)-オン及び式R 1 R2 NHのアミ
ンを、当量で使用することができる。その変化方法によ
って、出発化合物の1つを過剰に使用することができ
る。
【0012】常法でトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕
デカン- 8(9)-オン及び式R1 R 2 NHのアミンを、
モル割合0.2:1〜1:1、特に0.7:1〜0.
9:1で反応に使用する。
デカン- 8(9)-オン及び式R1 R 2 NHのアミンを、
モル割合0.2:1〜1:1、特に0.7:1〜0.
9:1で反応に使用する。
【0013】式R1 R2 NHのアミンの基R1 及びR2
は同一又は異なっていてよい。これらはC- 原子数1〜
6、特に1〜4、好ましくは1〜3のアルキル基を示
す。適するアミンは、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジ -n- プロピルアミン、ジ -n- ブチルアミン、
ジ -i- ブチルアミン、ジ -n- ペンチルアミン、ジ-
3- メチルブチルアミン、ジ -n- ヘキシルアミン、ジ
-i- ヘキシルアミン、N- メチルエチルアミン、N-
メチルプロピルアミン、N- メチルブチルアミン、N-
メチルペンチルアミン、N- メチルヘキシルアミン、N
- エチルプロピルアミン、N- エチルブチルアミン、N
- エチルペチルアミン、N- エチルヘキシルアミン、N
- プロピルブチルアミン、N- プロピルベンチルアミ
ン、N- プロピルヘキシルアミン、N- ブチルペンチル
アミン、N- ブチルヘキシルアミン、特にジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジ -n- プロピルアミン、好まし
くはジメチルアミンである。
は同一又は異なっていてよい。これらはC- 原子数1〜
6、特に1〜4、好ましくは1〜3のアルキル基を示
す。適するアミンは、ジメチルアミン、ジエチルアミ
ン、ジ -n- プロピルアミン、ジ -n- ブチルアミン、
ジ -i- ブチルアミン、ジ -n- ペンチルアミン、ジ-
3- メチルブチルアミン、ジ -n- ヘキシルアミン、ジ
-i- ヘキシルアミン、N- メチルエチルアミン、N-
メチルプロピルアミン、N- メチルブチルアミン、N-
メチルペンチルアミン、N- メチルヘキシルアミン、N
- エチルプロピルアミン、N- エチルブチルアミン、N
- エチルペチルアミン、N- エチルヘキシルアミン、N
- プロピルブチルアミン、N- プロピルベンチルアミ
ン、N- プロピルヘキシルアミン、N- ブチルペンチル
アミン、N- ブチルヘキシルアミン、特にジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジ -n- プロピルアミン、好まし
くはジメチルアミンである。
【0014】白金含有担体触媒は、白金含有量に関して
すべての特別な要求を満たさなくてよい。白金0.1〜
10、特に0.2〜7、好ましくは0.5〜5重量%を
含有する触媒が適する。高い白金含有量を有する触媒も
使用することができる。
すべての特別な要求を満たさなくてよい。白金0.1〜
10、特に0.2〜7、好ましくは0.5〜5重量%を
含有する触媒が適する。高い白金含有量を有する触媒も
使用することができる。
【0015】担体材料として、けいそう土、シリカゲ
ル、SiO2 、Al2 O3 又は活性炭、特にAl2 O3
又は活性炭、好ましくは活性炭が挙げられる。上記化合
物の混合物も、担体材料として使用することもできる。
ル、SiO2 、Al2 O3 又は活性炭、特にAl2 O3
又は活性炭、好ましくは活性炭が挙げられる。上記化合
物の混合物も、担体材料として使用することもできる。
【0016】本発明による方法は、水素の添加を必要と
する。要求される化学量論量に対して水素を過剰に使用
するのが好ましい。特に水素を用いて前もって決められ
た圧力を調整し、水素を変換で消費される割合で補充す
るのが容易である。反応が低い圧力でしか開始しないに
もかかわらず、0.5〜15、特に1.0〜10、好ま
しくは1.5〜8MPaの圧力で処理するのが好まし
い。
する。要求される化学量論量に対して水素を過剰に使用
するのが好ましい。特に水素を用いて前もって決められ
た圧力を調整し、水素を変換で消費される割合で補充す
るのが容易である。反応が低い圧力でしか開始しないに
もかかわらず、0.5〜15、特に1.0〜10、好ま
しくは1.5〜8MPaの圧力で処理するのが好まし
い。
【0017】変換は、室温でさえ開始し、進行する。よ
り急速に反応は高められた温度で進行する。適する温度
は、30〜150、特に40〜130、好ましくは50
〜120℃の範囲を含む。
り急速に反応は高められた温度で進行する。適する温度
は、30〜150、特に40〜130、好ましくは50
〜120℃の範囲を含む。
【0018】本発明による方法は、連続的に及び非連続
的に実施することができる。特に非連続的処理法が適す
る。
的に実施することができる。特に非連続的処理法が適す
る。
【0019】
【実施例】次の例は本発明を説明するものであって、本
発明はこれによって限定されない。
発明はこれによって限定されない。
【0020】〔例1〕 8−N,N−ジメチルアミノトリシクロ〔5.2.1.
02.6〕デカンの製造反応撹拌器を備えたオートクレ
ープ(容量5リットル)中に、酸素の除去下でトリシク
ロ〔5.2.1.02.6〕デカン−8−オン2250
g(15モル)及び担体材料として活性炭上に5重量%
白金を含有する触媒11.25gを予め入れる。ジメチ
ルアミン877g(19.5モル)を別々の容器中に入
れる。キャピラル──これはジメチルアミンで満たされ
た別の容器をオートクレープと連結させる──を介して
ジメチルアミンを水素によってオートクレープ中で加圧
する。次いで水素を圧力1.0MPaまで加圧する。撹
拌下で40分以内で100℃の反応温度に加熱する。反
応の開始によって圧力が0.8MPaに下がる。水素の
添加によって、反応圧力2.0MPaを調整し、水素の
くり返し添加によってこのレベルを保つ。
02.6〕デカンの製造反応撹拌器を備えたオートクレ
ープ(容量5リットル)中に、酸素の除去下でトリシク
ロ〔5.2.1.02.6〕デカン−8−オン2250
g(15モル)及び担体材料として活性炭上に5重量%
白金を含有する触媒11.25gを予め入れる。ジメチ
ルアミン877g(19.5モル)を別々の容器中に入
れる。キャピラル──これはジメチルアミンで満たされ
た別の容器をオートクレープと連結させる──を介して
ジメチルアミンを水素によってオートクレープ中で加圧
する。次いで水素を圧力1.0MPaまで加圧する。撹
拌下で40分以内で100℃の反応温度に加熱する。反
応の開始によって圧力が0.8MPaに下がる。水素の
添加によって、反応圧力2.0MPaを調整し、水素の
くり返し添加によってこのレベルを保つ。
【0021】1時間後、水素の吸収が終了する。更に1
時間反応させる。次いで反応生成物を冷却し、加圧下に
濾過して触媒を除く。変換は、次の結果(夫々使用され
たケトンに対して)を生じる: 変換率:96.2% 選択率:98.5% 収率:9
4.8% 〔例2〕反応撹拌器を備えたオートクレーブ中に、酸素
の除去下でトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン -
8- オン300g(2モル)及び例1に記載した触媒─
これは5重量%白金を担体材料として活性炭上に含有す
る──1.5gを予め入れる。ジメチルアミン117g
(2.6モル)を、別々の容器中に入れる。ジメチルア
ミンで満たされた別の容器をオートクレーブと連結させ
るキャプラルを介して、ジメチルアミンを水素によって
オートクレーブ中で加圧する。その後例1に記載した様
に処理する。
時間反応させる。次いで反応生成物を冷却し、加圧下に
濾過して触媒を除く。変換は、次の結果(夫々使用され
たケトンに対して)を生じる: 変換率:96.2% 選択率:98.5% 収率:9
4.8% 〔例2〕反応撹拌器を備えたオートクレーブ中に、酸素
の除去下でトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン -
8- オン300g(2モル)及び例1に記載した触媒─
これは5重量%白金を担体材料として活性炭上に含有す
る──1.5gを予め入れる。ジメチルアミン117g
(2.6モル)を、別々の容器中に入れる。ジメチルア
ミンで満たされた別の容器をオートクレーブと連結させ
るキャプラルを介して、ジメチルアミンを水素によって
オートクレーブ中で加圧する。その後例1に記載した様
に処理する。
【0022】55分後、水素の吸収は終了する。更に1
時間反応させる。次いで反応生成物を冷却し、加圧下に
濾過して触媒を除く。変換は、次の結果(夫々使用され
たケトンに対して)を生じる: 変換率:96.5% 選択率:98.1% 収率:9
4.7% 〔例3〕例2に記載した様に処理するが、例2で使用し
た、加圧濾過によって分離された触媒を使用する(触媒
の第一再使用)。
時間反応させる。次いで反応生成物を冷却し、加圧下に
濾過して触媒を除く。変換は、次の結果(夫々使用され
たケトンに対して)を生じる: 変換率:96.5% 選択率:98.1% 収率:9
4.7% 〔例3〕例2に記載した様に処理するが、例2で使用し
た、加圧濾過によって分離された触媒を使用する(触媒
の第一再使用)。
【0023】55分後、水素の吸収は終了する。更に1
時間反応させる。次いで反応生成物を冷却し、加圧下に
濾過して触媒を除く。変換は次の結果(夫々使用された
ケトンに対して)を生じる: 変換率:96.5% 選択率:98.2% 収率:9
4.8% 〔例4〕例かに記載した様に処理するが、例3で使用し
た、加圧濾過によって分離された触媒を使用する(触媒
の第二再使用)。
時間反応させる。次いで反応生成物を冷却し、加圧下に
濾過して触媒を除く。変換は次の結果(夫々使用された
ケトンに対して)を生じる: 変換率:96.5% 選択率:98.2% 収率:9
4.8% 〔例4〕例かに記載した様に処理するが、例3で使用し
た、加圧濾過によって分離された触媒を使用する(触媒
の第二再使用)。
【0024】70分後、水素の吸収は終了する。更に1
時間反応させる。次いで反応生成物を冷却し、加圧下に
濾過して触媒を除く。変換は次の結果(夫々使用された
ケトンに対して)を生じる: 変換率:96.4% 選択率:97.8% 収率:9
4.3% 反応条件及びガスクロマトグラフィー分析によって測定
され、反応生成物の組成を、次表に挙げる。
時間反応させる。次いで反応生成物を冷却し、加圧下に
濾過して触媒を除く。変換は次の結果(夫々使用された
ケトンに対して)を生じる: 変換率:96.4% 選択率:97.8% 収率:9
4.3% 反応条件及びガスクロマトグラフィー分析によって測定
され、反応生成物の組成を、次表に挙げる。
【0025】 表 例 1 2 3 4 温度〔℃〕 100 100 100 100 圧力〔MPa〕 2.0 2.0 2.0 2.0 反応時間〔分〕 120 115 115 130 (後からの反応を含む) 出発化合物 ケトン1)〔g〕 2250 300 300 300 ジメチルアミン〔g〕 877 117 117 117 モル- 割合 ケトン:ジメチルアミン 0.77:1 0.77:1 0.77:1 0.77:1 触媒(ケトンに対する白金の重量%) 0.025 0.025 0.025 0.025 反応生成物の組成(重量%) 前留出物 0.43 0.62 1.64 1.26 異性体 0.45 0.54 0.27 0.55 ジメチルアミノ トリシクロデカン2) 92.62 92.23 91.47 91.03 第三アミンケトン1) 0.35 0.32 0.45 0.45 不飽和ケトン3) 3.61 3.38 3.34 3.39 アルコール4) 2.46 2.86 2.75 3.24 高沸点化合物 〈0.08 〈0.05 〈0.08 〈0.08 1) トリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン -8- オン2) 8- N,N- ジアルキルアミノトリシクロ〔5.2.
1.02.6 〕デカン3) トリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン -8- オン
-3- エン4) 8- ヒドロキシトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デ
カン+8- ヒドロキシ-トリシクロ〔5.2.1.0
2.6 〕デセ -3- エン
1.02.6 〕デカン3) トリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカン -8- オン
-3- エン4) 8- ヒドロキシトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デ
カン+8- ヒドロキシ-トリシクロ〔5.2.1.0
2.6 〕デセ -3- エン
【0026】
【発明の効果】本発明によれば、簡単な方法でかつ極め
て短時間で、目的化合物を製造することができる。
て短時間で、目的化合物を製造することができる。
Claims (9)
- 【請求項1】 トリシクロ〔5.2.1.02.6〕デ
カン−8(9)−オンと式R1R2NH(式中R1及び
R2はC−原子数1〜6のアルキル基を示す。)なるア
ミンを、白金を含有する担体触媒と水素の存在下に高め
られた圧力及び高められた温度で反応させることを特徴
とする、8−N,N−ジアルキルアミノトリシクロ
〔5.2.1.02.6〕デカンの製造方法。 - 【請求項2】 トリシクロ〔5.2.1.02.6〕デ
カン−8(9)−オン及び式R1R2NHなるアミンを
割合0.2:1〜1:1、特に0.7:1〜0.9:1
で使用する、請求項1記栽の方法。 - 【請求項3】 式R1R2NHR1及びR2なるアミン
に於て、R1及びR2は同一又は異なる請求項1又は2
記載の方法。 - 【請求項4】 R1及びR2は、C−原子数1〜4、特
に1〜3のアルキル基である請求項1ないし3のいずれ
かに記載の方法。 - 【請求項5】 アミンとしてジメチルアミンを使用す
る、請求項1ないし4のいずれかに記載の方法。 - 【請求項6】 白金を含有する担体触媒は、白金0.1
〜10、特に0.2〜7、好ましくは0.5〜5重量%
を含有する、請求項1ないし5のいずれかに記載の方
法。 - 【請求項7】 白金を含有する担体触媒は、担体として
Al2O3、けいそう土、シリカゲル、SiO2、活性
炭、特にAl2O3又は活性炭、好ましくは活性炭を含
有する、請求項1ないし6のいずれかに記載の方法。 - 【請求項8】 反応を0.5〜15、特に1.0〜1
0、好ましくは1.5〜8MPaで実施する、請求項1
ないし7のいずれかに記載の方法。 - 【請求項9】 反応を30〜150、特に40〜13
0、好ましくは50〜120℃で実施する請求項1ない
し8のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4141962A DE4141962A1 (de) | 1991-12-19 | 1991-12-19 | Verfahren zur herstellung von 8-n,n-dialkylaminotricyclo (5.2.1.0(pfeil hoch)2(pfeil hoch)(pfeil hoch)6(pfeil hoch)) decan |
| DE4141962:6 | 1991-12-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05345747A JPH05345747A (ja) | 1993-12-27 |
| JPH0729995B2 true JPH0729995B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=6447485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4332011A Expired - Lifetime JPH0729995B2 (ja) | 1991-12-19 | 1992-12-11 | 8−n,n−ジアルキルアミノトリシクロ〔5.2.1.02.6 〕デカンの製造方法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5403959A (ja) |
| EP (1) | EP0547499B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0729995B2 (ja) |
| KR (1) | KR960015622B1 (ja) |
| AT (1) | ATE136022T1 (ja) |
| CA (1) | CA2085190C (ja) |
| DE (2) | DE4141962A1 (ja) |
| DK (1) | DK0547499T3 (ja) |
| ES (1) | ES2085544T3 (ja) |
| TW (1) | TW211556B (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4190601A (en) * | 1978-05-31 | 1980-02-26 | Union Carbide Corporation | Production of tertiary amines by reductive alkylation |
| ZA80701B (en) * | 1979-02-21 | 1981-02-25 | Uniroyal Inc | Trialkylamine preparation by reductive alkylation of dialkylamines with ketones |
| ES537882A0 (es) * | 1983-11-22 | 1985-10-16 | Nippon Oils & Fats Co Ltd | Un procedimiento para la produccion de una amina terciaria por alquilacion de una amina |
| JPS62164653A (ja) * | 1986-01-14 | 1987-07-21 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 第三アミンの製造方法 |
| WO1990004567A1 (en) * | 1988-10-20 | 1990-05-03 | Chevron Research Company | New zeolite ssz-31 |
| US5225597A (en) * | 1992-03-13 | 1993-07-06 | Uop | Selective, high purity preparation of N-monoalkyl alkylenediamines |
-
1991
- 1991-12-19 DE DE4141962A patent/DE4141962A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-10-30 TW TW081108648A patent/TW211556B/zh active
- 1992-11-30 KR KR1019920022915A patent/KR960015622B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-10 EP EP92121029A patent/EP0547499B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-10 DE DE59205849T patent/DE59205849D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-10 AT AT92121029T patent/ATE136022T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-12-10 ES ES92121029T patent/ES2085544T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-10 DK DK92121029.0T patent/DK0547499T3/da active
- 1992-12-11 CA CA002085190A patent/CA2085190C/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-11 JP JP4332011A patent/JPH0729995B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-04-12 US US08/226,381 patent/US5403959A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| CA2085190A1 (en) | 1993-06-20 |
| DK0547499T3 (da) | 1996-04-29 |
| EP0547499B1 (de) | 1996-03-27 |
| EP0547499A2 (de) | 1993-06-23 |
| JPH05345747A (ja) | 1993-12-27 |
| ES2085544T3 (es) | 1996-06-01 |
| EP0547499A3 (en) | 1993-09-08 |
| KR930012682A (ko) | 1993-07-21 |
| DE59205849D1 (de) | 1996-05-02 |
| ATE136022T1 (de) | 1996-04-15 |
| US5403959A (en) | 1995-04-04 |
| DE4141962A1 (de) | 1993-06-24 |
| TW211556B (ja) | 1993-08-21 |
| KR960015622B1 (ko) | 1996-11-18 |
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|---|---|---|---|
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