JPH0730115Y2 - 気体洗浄装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は工場、プラント、或いは種々の設備から流出さ
れる排ガスや有毒ガス等の気体を洗浄液により洗浄もし
くは浄化するための気体洗浄装置の改良に関する。

〔従来の技術〕

従来、排ガスや有毒ガス等の被処理気体は、気体洗浄装
置において洗浄液と気液接触され洗浄処理された後、大
気に放出されるか或いは再使用されている。このような
気体洗浄装置は、下部から導入され装置内を上昇する被
処理気体と装置上部もしくは、中間部に設けたスプレー
ノズルからスプレーされた洗浄液を向流接触させ、気体
中に含まれている有毒物等の物質を洗浄液に吸収、もし
くは洗浄液と中和等の反応をさせて洗浄液側へ移動させ
除去するようになされている。このように気体と接触し
た洗浄液は落下し、通常気体導入部より下部もしくは装
置底部に設けされた貯留槽に貯留され、循環ポンプ等を
含む、循環手段によりスプレーノズルに供給され再使用
される。

上記気体洗浄装置においては、処理時間の経過に従って
貯留槽の洗浄液中の不純物濃度が上昇する。そして、槽
中の淀みのため、不純物濃度に分布が生じると共に、不
純物の一部は槽の底部に沈殿するようになる。そのため
洗浄液を一部入れ替えながら運転するか、或いは一定処
理時間毎に洗浄液を更新する等の操作が一般に行われる
が、そのような操作を行ったとしても、濃度の均一性及
び不純物の一部沈殿を避けることは困難である。槽中に
不純物の濃度分布が発生して濃度の濃い部分が生じた
り、貯留槽の底部に不純物が沈殿したりすると、その一
部が凝集物となって循環ポンプに吸込まれ、スプレーノ
ズルのスプレー孔を閉鎖して処理効率を低下させる原因
となる。そこでこのようなトラブルを回避するため、通
常貯留槽中へエアー配管を布設し、攪拌プロペラや噴出
するエアーによる気泡で洗浄液を攪拌して洗浄液の淀み
を防ぎ、不純物を微細な粒子の均一分散状態のまま維持
して沈殿や凝集を防止する方法が知られている。

〔考案が解決すべき課題〕

しかしながら、このような攪拌プロペラや気泡による攪
拌方法を採用するためには、プロペラ駆動源やコンプレ
ッサー等の特別な装置を必要とし、設備コストが上昇す
ると共に、設備のために必要とする面積も増加するとい
う問題がある。更に装置全体の信頼性もしくは稼動率も
このような可動部分のある装置を付加することにより低
下する。

そこで本考案は、従来の気体洗浄装置におけるこのよう
な問題点を解決した新規な装置を提供することを目的と
するものである。

〔課題を解決するための手段〕

前記目的を達成するための本考案の気体処理装置は被洗
浄気体に向けて洗浄液をスプレーするスプレーノズル
と、該スプレーノズルからスプレーされて落下した洗浄
液を貯留する貯留槽と、該貯留槽の洗浄液を前記スプレ
ーノズルに供給する循環手段とを備えた気体洗浄装置に
おいて、前記スプレーノズルへ供給される洗浄液の一部
を前記貯留槽の洗浄液中へ噴出し該洗浄液を攪拌するよ
うにしたことを特徴とする。

〔作用〕

本考案の気体洗浄装置は、循環手段によってスプレーノ
ズルへ供給される洗浄液の一部を分け、貯留槽の洗浄液
中へ噴出させることによって該洗浄液を攪拌するように
したので、従来のような特別の装置を設けることなく貯
留槽の洗浄液の淀みを防ぎ、不純物の沈殿や凝集等を防
止することができる。

〔実施例〕

次に、図面により本考案の実施例を説明する。第１図及
び第２図は本考案の気体洗浄装置の１例を正面及び側面
から見た概略図で説明の都合上夫々その一部を断面的に
示したものである。気体洗浄装置における装置本体１の
下部に気体流入室２が設けられ、該気体流入室２の側壁
には被処理気体の流入ダクト３の端部が開口されてい
る。４はブロワで吸引ダクト５から吸込んだ被処理気体
を加圧し流入ダクト３へ送出する。気体流入室２の上部
には、例えば繊維状物質をマット状に形成した除じん用
の１次フィルタ６が設けられており、更にその上部のス
プレー室７には多数の２次元的に分散したノズル孔を有
するスプレーノズル８が配置されている。スプレー室７
の上部には例えばロックウールのようなフィルタ層を持
った２次フィルタ９が３段設けられ、更にその上部の空
間は上方にテーパ状に縮小され、その頂部壁に排気ダク
ト10の末端部が閉口されている。

次に、気体流入室２の下部には洗浄液を貯留するための
貯留槽11が設けられている。貯留槽11の一部は装置本体
１の側壁から外方へ延長され、該延長部に循環ポンプ12
が設けられている。循環ポンプ12の吸込口13は貯留槽11
の下部に閉口しており、その吐出口14には循環配管15が
結合されている。循環配管15はスプレー調整弁16を介し
て前記スプレーノズル８に結合されている。なお、これ
ら循環ポンプ12、循環配管15及びスプレー調整弁16等に
より循環手段17を構成している。

一方、循環ポンプの吐出口14とスプレー調整弁16の途中
における循環配管15から分岐配管18が分岐され、該分岐
配管18は噴流調整弁19を経由してその先端部が貯留槽11
の洗浄液中へ閉口されている。分岐配管18の先端部には
必要に応じて多数の噴出孔を１次元的もしくは２次元的
に分散して設けた噴流ノズル管を取付けてもよい。これ
ら分岐配管18及び噴流調整弁19等により攪拌手段20を構
成している。貯留槽11にはオーバーフロー配管21及びド
レン配管22が設けられ、ドレン配管22にはドレン弁23が
設けられている。

更に、前記スプレー室７の側壁にはスプレー状況及び１
次フィルタ６の目詰まり状態等を監視するための監視窓
24が設けられ、同様に２次フィルタ９の各段の側壁には
夫々のフィルタの目詰まり状態等を監視するための監視
窓25がもうけられている。

次に、第１図及び第２図の装置の作用を説明する。吸引
ダクト５から矢印のように吸引された被処理気体はブロ
ワ４により加圧されて流入ダクト３の末端部から気体流
入室２へ流入される。該気体は次いで装置本体１内を上
昇し、１次フィルタ６で除じんされた後スプレー室７に
入り、ここでスプレーノズル８からスプレーされる洗浄
液により洗浄される。洗浄された気体は続いて３段の２
次フィルタ９を次々と通過する間に更に除じんと液分離
された後、矢印のように、排気ダクト10より処理済気体
として排出される。処理済気体は目的に応じそのまま大
気に放出されるか、または再使用のため別の装置へ送ら
れる。

一方、スプレーノズル８からスプレーされた洗浄液は液
滴となって被処理気体と向流接触しながら落下し、下部
の貯留槽11へ流入する。貯留槽11の洗浄液は循環ポンプ
12によって汲み上げられ、循環配管15を通ってスプレー
ノズル８へ供給されると共に、一部は分岐配管18によっ
て分岐され貯留槽11の洗浄液中へ噴流として放出されて
槽中の洗浄液を攪拌する。循環される洗浄液のスプレー
ノズル８への供給量及び貯留槽11への噴出量は、夫々ス
プレー調整弁16及び噴流調整弁19によって調整される。

貯留槽11へ新たな洗浄液を補給するには、図示しない補
給配管により直接貯留槽11中へ洗浄水を補給するか、ま
たは循環配管15もしくは分岐配管18の途中に補給口を設
けて補給することができる。万一貯留槽11内の洗浄液が
過剰となったときは、オーバーフロー配管21から排出さ
れる。なお、貯留槽11中の洗浄液はドレン弁23の操作に
より一部もしくは全部を抜き出すことができる。

〔考案の効果〕

以上説明したように、本考案の気体洗浄装置は貯留槽か
ら循環されてスプレーノズルへ供給される洗浄液の一部
を貯留槽へ戻し、その洗浄液中へ噴出して該洗浄液を攪
拌するようにしたので、構造が簡単で安価な上に、従来
の攪拌プロペラやエアーによる攪拌のように特別な装置
を必要としないので、設置のための新たな面積が実質的
に不要である。

更に、攪拌手段に可動部分を持たないので信頼性も向上
する。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は本考案の気体洗浄装置の１例を示す
概略図正面図及び側面図であって、夫々説明の都合上そ
の内部が見えるように断面的に示した図。 １……装置本体、２……気体流入室 ３……流入ダクト、４……ブロワ ５……吸引ダクト、６……１次フィルタ ７……スプレー室、８……スプレーノズル ９……２次フィルタ、10……排気ダクト 11……貯留槽、12……循環ポンプ 13……吸込口、14……吐出口 15……循環配管、16……スプレー調整弁 17……循環手段、18……分岐配管 19……噴流調整弁、20……攪拌手段 21……オーバーフロー配管 22……ドレン配管、23……ドレン弁 24……監視窓、25……監視窓

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】被洗浄気体に向けて洗浄液をスプレーする
   スプレーノズル（８）と、該スプレーノズル（８）から
   スプレーされて落下した洗浄液を貯留する貯留槽（11）
   と、該貯留槽（11）の洗浄液を前記スプレーノズル
   （８）に供給する循環手段（17）とを備えた気体洗浄装
   置において、前記スプレーノズル（８）へ供給される洗
   浄液の一部を前記貯留槽（11）の洗浄液中へ噴出し該洗
   浄液を攪拌するようにしたことを特徴とする気体洗浄装
   置。