JPH0730234A - 超音波洗浄器 - Google Patents
超音波洗浄器Info
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- JPH0730234A JPH0730234A JP5170749A JP17074993A JPH0730234A JP H0730234 A JPH0730234 A JP H0730234A JP 5170749 A JP5170749 A JP 5170749A JP 17074993 A JP17074993 A JP 17074993A JP H0730234 A JPH0730234 A JP H0730234A
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
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- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims abstract description 13
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Landscapes
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄時に飛散した磁性体金属成膜の細片を吸
い寄せることができて、絶縁膜を損傷させることのない
ようにした超音波洗浄器を提供することにある。 【構成】 基板の表面に形成された絶縁膜と磁性体の金
属成膜との間に、パターンを形成している感光材料を有
する洗浄対象物の前記感光材料を有機溶液と超音波振動
作用とによって除去する超音波洗浄器において、前記磁
性体の金属成膜に近づけて設けられて洗浄槽内の有機溶
液に浸っている磁性体細片捕集用の磁石を備えている。
い寄せることができて、絶縁膜を損傷させることのない
ようにした超音波洗浄器を提供することにある。 【構成】 基板の表面に形成された絶縁膜と磁性体の金
属成膜との間に、パターンを形成している感光材料を有
する洗浄対象物の前記感光材料を有機溶液と超音波振動
作用とによって除去する超音波洗浄器において、前記磁
性体の金属成膜に近づけて設けられて洗浄槽内の有機溶
液に浸っている磁性体細片捕集用の磁石を備えている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、超音波洗浄器に関する
もので、詳しくは、基板の表面に形成された絶縁膜と磁
性体の金属成膜との間に、パターンを形成している感光
材料を有する洗浄対象物の前記感光材料を有機溶液と超
音波振動作用とによって除去する超音波洗浄器に関する
ものである。
もので、詳しくは、基板の表面に形成された絶縁膜と磁
性体の金属成膜との間に、パターンを形成している感光
材料を有する洗浄対象物の前記感光材料を有機溶液と超
音波振動作用とによって除去する超音波洗浄器に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から超音波洗浄器で洗浄される洗浄
対象物には、いろいろあるが、その１つに、図５に示す
ようなセンサ用のプリント基板がある。図５において、
ａは洗浄対象物で、下から順に、後述する１〜４が積層
されている。すなわち、１はＳＵＳまたはインコネルか
らなる基板、２はポリイミド樹脂からなる厚さ１〜５μ
ｍの絶縁膜、３はパターンを形成しているレジストなど
からなる厚さ約３μｍの感光材料、４はホトリソグラフ
ィ法などの手法によりニッケルなどの磁性体の金属を真
空蒸着やスパッタリング法等によって厚さ約０．２μｍ
に成膜した金属成膜である。
対象物には、いろいろあるが、その１つに、図５に示す
ようなセンサ用のプリント基板がある。図５において、
ａは洗浄対象物で、下から順に、後述する１〜４が積層
されている。すなわち、１はＳＵＳまたはインコネルか
らなる基板、２はポリイミド樹脂からなる厚さ１〜５μ
ｍの絶縁膜、３はパターンを形成しているレジストなど
からなる厚さ約３μｍの感光材料、４はホトリソグラフ
ィ法などの手法によりニッケルなどの磁性体の金属を真
空蒸着やスパッタリング法等によって厚さ約０．２μｍ
に成膜した金属成膜である。
【０００３】図６は従来の超音波洗浄器の概略を示した
もので、図示されていない高出力の発振器を組込んでい
て、洗浄槽５の中に前記洗浄対象物ａを入れ、該洗浄対
象物ａの感光材料３をアセトンなどの有機溶液６で除去
している。
もので、図示されていない高出力の発振器を組込んでい
て、洗浄槽５の中に前記洗浄対象物ａを入れ、該洗浄対
象物ａの感光材料３をアセトンなどの有機溶液６で除去
している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の超音波洗浄器においては、洗浄によって感光材
料３が溶けるが、洗浄時に金属成膜４の一部が細かい破
片となって飛散し、これが降下して絶縁膜２の表面に接
触し、その表面に傷をつけたり、あるいはつきささっ
て、該絶縁膜２の絶縁性を阻害するという問題点があっ
た。
た従来の超音波洗浄器においては、洗浄によって感光材
料３が溶けるが、洗浄時に金属成膜４の一部が細かい破
片となって飛散し、これが降下して絶縁膜２の表面に接
触し、その表面に傷をつけたり、あるいはつきささっ
て、該絶縁膜２の絶縁性を阻害するという問題点があっ
た。
【０００５】本発明は、上記のような問題点を解決しよ
うとするものである。すなわち、本発明は、洗浄時に飛
散した磁性体金属成膜の細片を吸い寄せることができ
て、絶縁膜を損傷させることのないようにした超音波洗
浄器を提供することを目的とするものである。
うとするものである。すなわち、本発明は、洗浄時に飛
散した磁性体金属成膜の細片を吸い寄せることができ
て、絶縁膜を損傷させることのないようにした超音波洗
浄器を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、基板の表面に形成された絶縁膜と磁性体
の金属成膜との間に、パターンを形成している感光材料
を有する洗浄対象物の前記感光材料を有機溶液と超音波
振動作用とによって除去する超音波洗浄器において、前
記磁性体の金属成膜に近づけて設けられて洗浄槽内の有
機溶液に浸っている磁性体細片捕集用の磁石を備えてい
るものとした。
に、本発明は、基板の表面に形成された絶縁膜と磁性体
の金属成膜との間に、パターンを形成している感光材料
を有する洗浄対象物の前記感光材料を有機溶液と超音波
振動作用とによって除去する超音波洗浄器において、前
記磁性体の金属成膜に近づけて設けられて洗浄槽内の有
機溶液に浸っている磁性体細片捕集用の磁石を備えてい
るものとした。
【０００７】
【作用】本発明によれば、基板の表面に形成された絶縁
膜と磁性体の金属成膜との間に、パターンを形成してい
る感光材料を有する洗浄対象物の前記感光材料を有機溶
液と超音波振動作用とによって除去する超音波洗浄器に
おいて、前記磁性体の金属成膜に近づけて設けられて洗
浄槽内の有機溶液に浸っている磁性体細片捕集用の磁石
を備えているので、該磁石が洗浄時に細かく飛散した磁
性体の金属成膜の破片を吸い寄せて捕集する。
膜と磁性体の金属成膜との間に、パターンを形成してい
る感光材料を有する洗浄対象物の前記感光材料を有機溶
液と超音波振動作用とによって除去する超音波洗浄器に
おいて、前記磁性体の金属成膜に近づけて設けられて洗
浄槽内の有機溶液に浸っている磁性体細片捕集用の磁石
を備えているので、該磁石が洗浄時に細かく飛散した磁
性体の金属成膜の破片を吸い寄せて捕集する。
【０００８】したがって、飛散した金属破片が洗浄対象
物に接触することがなく、傷をつけることもない。
物に接触することがなく、傷をつけることもない。
【０００９】
【実施例】図１および図２は本発明の第１実施例を示し
ている。図１および図２において、ａは図５に示したも
のと同様な洗浄対象物、５は図６に示したものと同様な
洗浄槽、６は同じようなアセトンなどの有機溶液であ
る。
ている。図１および図２において、ａは図５に示したも
のと同様な洗浄対象物、５は図６に示したものと同様な
洗浄槽、６は同じようなアセトンなどの有機溶液であ
る。
【００１０】そして、７は磁性体細片捕集用の磁石で、
永久磁石または電磁石などからなり、有機溶液６に浸っ
ていて、洗浄対象物ａのまわりを取り囲んでいる。すな
わち、前記磁石７は、図５に示した洗浄対象物ａの磁性
体の金属成膜４から遠ざからないように設置されてい
る。図１および図２に示すように構成された超音波洗浄
器においては、磁性体細片捕集用の磁石７が洗浄槽５の
内部に設置されていて、洗浄対象物ａのまわりを取り囲
んでいるので、該磁石７が洗浄時に飛散した金属成膜２
の破片を吸い寄せ、該破片が洗浄対象物ａに接触するこ
となく、絶縁膜２の表面に傷をつけたり、ささったりす
ることがなく、したがって、絶縁膜２の絶縁性が阻害さ
れない。
永久磁石または電磁石などからなり、有機溶液６に浸っ
ていて、洗浄対象物ａのまわりを取り囲んでいる。すな
わち、前記磁石７は、図５に示した洗浄対象物ａの磁性
体の金属成膜４から遠ざからないように設置されてい
る。図１および図２に示すように構成された超音波洗浄
器においては、磁性体細片捕集用の磁石７が洗浄槽５の
内部に設置されていて、洗浄対象物ａのまわりを取り囲
んでいるので、該磁石７が洗浄時に飛散した金属成膜２
の破片を吸い寄せ、該破片が洗浄対象物ａに接触するこ
となく、絶縁膜２の表面に傷をつけたり、ささったりす
ることがなく、したがって、絶縁膜２の絶縁性が阻害さ
れない。
【００１１】図３および図４は本発明の第２実施例を示
している。この第２実施例では、磁性体細片捕集用磁石
７は、洗浄対象物ａの直上に位置して支持腕８で支持さ
れている。図３および図４に示すように構成された超音
波洗浄器においては、磁性体細片捕集用の磁石７が洗浄
対象物ａの直上に位置しているので、該磁石７は、洗浄
時に飛散して上昇してきた金属成膜２の破片を下降させ
ないで捕集する。
している。この第２実施例では、磁性体細片捕集用磁石
７は、洗浄対象物ａの直上に位置して支持腕８で支持さ
れている。図３および図４に示すように構成された超音
波洗浄器においては、磁性体細片捕集用の磁石７が洗浄
対象物ａの直上に位置しているので、該磁石７は、洗浄
時に飛散して上昇してきた金属成膜２の破片を下降させ
ないで捕集する。
【００１２】したがって、該破片が洗浄対象物ａに接触
することなく、絶縁膜２の表面に傷をつけたり、ささっ
たりすることがない。
することなく、絶縁膜２の表面に傷をつけたり、ささっ
たりすることがない。
【００１３】図示はしていないが、本発明の第３実施例
として、洗浄槽自体が磁性体細片捕集用の磁石を兼ねて
いるものが挙げられる。ただし、洗浄対象物の直下に磁
性体細片捕集用の磁石が存在すると、洗浄時に飛散して
上昇する金属成膜の破片を強制的に下降させて洗浄対象
物の表面に接触させることになって、好ましくないの
で、洗浄槽を磁性体細片捕集用の磁石に兼用する場合
は、洗浄槽の底部を磁性体細片捕集用の磁石として作用
しないように構成する必要がある。
として、洗浄槽自体が磁性体細片捕集用の磁石を兼ねて
いるものが挙げられる。ただし、洗浄対象物の直下に磁
性体細片捕集用の磁石が存在すると、洗浄時に飛散して
上昇する金属成膜の破片を強制的に下降させて洗浄対象
物の表面に接触させることになって、好ましくないの
で、洗浄槽を磁性体細片捕集用の磁石に兼用する場合
は、洗浄槽の底部を磁性体細片捕集用の磁石として作用
しないように構成する必要がある。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板の表面に形成された絶縁膜と磁性体の金属成膜との
間に、パターンを形成している感光材料を有する洗浄対
象物の前記感光材料を有機溶液と超音波振動作用とによ
って除去する超音波洗浄器において、前記磁性体の金属
成膜に近づけて設けられて洗浄槽内の有機溶液に浸って
いる磁性体細片捕集用の磁石を備えているので、該磁石
が洗浄時に細かく飛散した磁性体の金属成膜の破片を吸
い寄せて捕集する。
基板の表面に形成された絶縁膜と磁性体の金属成膜との
間に、パターンを形成している感光材料を有する洗浄対
象物の前記感光材料を有機溶液と超音波振動作用とによ
って除去する超音波洗浄器において、前記磁性体の金属
成膜に近づけて設けられて洗浄槽内の有機溶液に浸って
いる磁性体細片捕集用の磁石を備えているので、該磁石
が洗浄時に細かく飛散した磁性体の金属成膜の破片を吸
い寄せて捕集する。
【００１５】したがって、飛散した金属破片が洗浄対象
物に接触することがなく、傷をつけることもなく、該洗
浄対象物の絶縁膜の絶縁性を阻害することが避けられ
る。
物に接触することがなく、傷をつけることもなく、該洗
浄対象物の絶縁膜の絶縁性を阻害することが避けられ
る。
【図１】本発明の第１実施例を示した断面正面図であ
る。
る。
【図２】図１の平面図である。
【図３】本発明の第２実施例を示した断面正面図であ
る。
る。
【図４】図３の平面図である。
【図５】洗浄対象物の一例を示した拡大断面正面図であ
る。
る。
【図６】従来の超音波洗浄器の概略を示した断面正面図
である。
である。
ａ 洗浄対象物 １ 基板 ２ 絶縁膜 ３ 感光材料 ４ 磁性体の金属成膜 ５ 洗浄槽 ６ 有機溶液 ７ 磁性体細片捕集用の磁石
Claims (4)
- 【請求項１】 基板の表面に形成された絶縁膜と磁性体
の金属成膜との間に、パターンを形成している感光材料
を有する洗浄対象物の前記感光材料を有機溶液と超音波
振動作用とによって除去する超音波洗浄器において、前
記磁性体の金属成膜に近づけて設けられて洗浄槽内の有
機溶液に浸っている磁性体細片捕集用の磁石を備えてい
ることを特徴とする、超音波洗浄器。 - 【請求項２】 洗浄槽内に設置された磁性体細片捕集用
の磁石が洗浄対象物のまわりを取り囲んでいる請求項１
記載の超音波洗浄器。 - 【請求項３】 洗浄槽内に設置された磁性体細片捕集用
の磁石が洗浄対象物の直上に位置している請求項１記載
の超音波洗浄器。 - 【請求項４】 洗浄槽の底部を除く部分が磁性体細片捕
集用の磁石になっている請求項１記載の超音波洗浄器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17074993A JP3475964B2 (ja) | 1993-07-12 | 1993-07-12 | 超音波洗浄器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17074993A JP3475964B2 (ja) | 1993-07-12 | 1993-07-12 | 超音波洗浄器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0730234A true JPH0730234A (ja) | 1995-01-31 |
| JP3475964B2 JP3475964B2 (ja) | 2003-12-10 |
Family
ID=15910680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17074993A Expired - Fee Related JP3475964B2 (ja) | 1993-07-12 | 1993-07-12 | 超音波洗浄器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3475964B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005095862A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-04-14 | Optoquest Co Ltd | 光学部品の洗浄方法および洗浄システムならびに光学部品保持治具 |
| US8109432B2 (en) * | 2005-07-11 | 2012-02-07 | Showa Denko K.K. | Method for attachment of solder powder to electronic circuit board and solder-attached electronic circuit board |
-
1993
- 1993-07-12 JP JP17074993A patent/JP3475964B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005095862A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-04-14 | Optoquest Co Ltd | 光学部品の洗浄方法および洗浄システムならびに光学部品保持治具 |
| US8109432B2 (en) * | 2005-07-11 | 2012-02-07 | Showa Denko K.K. | Method for attachment of solder powder to electronic circuit board and solder-attached electronic circuit board |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3475964B2 (ja) | 2003-12-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
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