JPH07302435A - ビーム３分割用反射型回折格子およびこれを用いた光ピックアップ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ビーム３分割用反射型回折格子を光源に対し
て傾けて配置する場合に、３分割回折されたビームのス
ポット間隔を対称に且つ小スポットに集光させることの
できるビーム３分割用反射型回折格子を提供することを
目的とする。 【構成】 発散レーザ光源の光軸に対して傾斜させて用
いられ、格子面上でのレーザ光入射角が傾斜方向で異な
ることになるビーム３分割用反射型回折格子１１であっ
て、その傾斜方向に回折する作用を有し、少なくとも有
効な開口内で、前記レーザ光入射角が大きくなる程その
格子面１１ａ上での格子周期が長くなるように格子の周
期変調がなされ、３分割回折作用により形成される±１
次仮想光源が、０次仮想光源を中心に対称で且つ光強度
分布の幅が狭くなるようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、発散レーザ光源の光軸
に対して傾斜させて用いられるビーム３分割用反射型回
折格子およびこれを用いた光ピックアップに関する。

【０００２】

【従来の技術】光ピックアップのトラッキングサーボの
方法の一つとして３ビーム法が知られているが、この３
ビーム法を用いる場合には、信号光が再び回折格子に入
射して損失が生じるという透過型のビーム３分割用回折
格子の欠点を回避するために、反射型のビーム３分割用
回折格子が用いられている。反射型の回折格子は、基板
表面にエッチングで凹凸を形成してＡｌ或いはＣｒとＡ
ｕとを蒸着する等の製法により作製される。

【０００３】図９は、ビーム３分割用反射型回折格子を
用いた光ピックアップを示す縦断側面図である。図中の
１は、ｎ⁺ 型Ｓｉ等からなる導電性半導体材料または銅
等の導電性金属からなる良熱伝導性基板である。良熱伝
導性基板１には、第１平面部１ａ、４５°傾斜面部１
ｂ、及び第２平面部１ｃが形成されている。第１平面部
１ａ上には、光量調整用ＰＩＮフォトダイオード部を有
するサブマウント２を介して半導体レーザチップ４が設
けられている。４５°傾斜面部１ｂには、ビーム３分割
用反射型回折格子６が設けられている。そして、第２平
面部１ｃには、信号検出用６分割ＰＩＮフォトダイオー
ド５がマウントされている。

【０００４】また、これら素子配置面の上方側には、図
示しない支持手段にてホログラム素子７が配置され、さ
らにその上方には、図示しないアクチュエータに取り付
けられた集光用レンズ８が配置されている。半導体レー
ザチップ４から出射された光はビーム３分割用反射型回
折格子６によって反射される際、回折作用により３本の
ビームに分割される。そして、これら３本のビームは、
ホログラム素子７を透過（０次回折）したのち、集光レ
ンズ８により光ディスク９の信号記録面上に集光され
る。

【０００５】ピット信号（ＨＦ信号）、トラッキングエ
ラー信号、及びフォーカシングエラー信号が乗った３本
のビームの反射光は、再び集光レンズ８を通過したの
ち、ホログラム素子７によって１次回折（或いは−１次
回折）し、信号検出用ＰＩＮフォトダイオード５に入射
される。なお、フォーカシングエラー信号は、ホログラ
ム素子７が回折光に非点収差を持たせる機能を有してい
るため、４分割ＰＩＮフォトダイオードを用いて非点収
差法により検出することができる。

【０００６】このようなビーム３分割用反射型回折格子
６を用いた光ピックアップにおいては、ホログラム素子
７を除いて各素子をほぼ同一面上に配置することがで
き、半導体レーザ４、フォトダイオード５等のワイヤボ
ンディングの引き出し等の作製が容易であり、低コスト
化が図れる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、半導体レー
ザ光の集光スポット形状は、半導体レーザ出射面での近
視野像の形状を反映し楕円形状になり、ピット信号検出
のＳ／Ｎ比を考慮すると、３ビーム分割は、半導体レー
ザ素子接合面に垂直方向（図９においては紙面内で回
折：図１０参照）に行う必要がある。

【０００８】図１０は、半導体レーザ４から出射された
光ビームが、４５°傾けて配置されたビーム３分割用反
射型回折格子６によって３分割回折されて反射される様
子を示すとともに、仮想光源が回折格子面を基準にして
半導体レーザ４と対称な位置に形成される様子を示した
説明図である。図中、３２ａが０次仮想光源、３２ｂが
＋１次仮想光源、３２ｃが−１次仮想光源である。ま
た、図中のＸは、ビーム３分割用反射型回折格子６の傾
斜方向であってレーザ光入射角が大きくなる方向を示し
ている。Ｏは、原点（光軸に一致する点）を示してい
る。ｘ′は、仮想光源についての上記方向Ｘに対応する
方向での距離（０を原点とする）を示し、ｄは仮想光源
のｘ′上の位置を示している。

【０００９】上記従来のビーム３分割用反射型回折格子
６は、図１１に示すように、格子ピッチ（Λ₀ ）が図中
Ｘ方向に全て等しくされた等周期回折格子から成る。そ
の±１次回折光の仮想発光点の光強度分布を計算する
と、図１２に示すように、かなり広がった分布になる。
即ち、１点にはならず、回折限界の小さいスポットに集
光させることができない。なお、図１２の１１０μｍの
位置は、光ディスク上では２０μｍ位置に対応する（２
０μｍ×レンズ倍率５．５＝１１０μｍ）。

【００１０】また、図１０に示しているように、半導体
レーザ光軸２３を中心として回折格子の上側と下側での
入射角が非対称となるため、＋１次仮想光源３２ｂと−
１次仮想光源３２ｃのスポット間隔も非対称となる。従
って、このようなビームを用いてトラッキングエラー信
号を検出する場合には、信号の振幅が小さくなったり、
光ディスクが傾斜したときに、信号にオフセットが生じ
たりするという欠点を有していた。

【００１１】本発明は、上記の事情に鑑み、ビーム３分
割用反射型回折格子を光源に対して傾けて配置する場合
に、３分割回折されたビームのスポット間隔を対称に且
つ小スポットに集光させることのできるビーム３分割用
反射型回折格子およびこれを用いた光ピックアップを提
供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】このため、第１の構成
は、入射ビームを反射すると共に分割するビーム３分割
用反射型回折格子において、３分割されたビームが形成
する集光スポットが一直線上に等間隔で且つその各スポ
ットが小さくなるようにした回折格子形状を有する。ま
た、第２の構成は、上記入射ビームが非平行ビームであ
る。

【００１３】第３の構成のビーム３分割用反射型回折格
子は、発散レーザ光源の光軸に対して傾斜させて用いら
れ、格子面上でのレーザ発光点からの距離またはレーザ
光入射角が傾斜方向で異なることになるビーム３分割用
反射型回折格子において、その傾斜方向に回折する作用
を有し、３分割回折作用により形成される±１次仮想光
源の位置が、０次仮想光源を中心に対称で且つ±１次仮
想光源の光強度分布の幅が狭くなるように格子の周期変
調がなされていることを特徴とする。

【００１４】第４の構成のビーム３分割用反射型回折格
子は、発散レーザ光源の光軸に対して傾斜させて用いら
れ、格子面上でのレーザ発光点からの距離またはレーザ
光入射角が傾斜方向で異なることになるビーム３分割用
反射型回折格子において、その傾斜方向に回折する作用
を有し、少なくとも有効な開口内で、前記レーザ発光点
からの距離が大きくなる程またはレーザ光入射角が大き
くなる程その格子面上での格子周期が長くなるように格
子の周期変調がなされていることを特徴とする。

【００１５】第５の構成のビーム３分割用反射型回折格
子は、上記第３又は第４の構成において、発散レーザ光
源の光軸が交わる付近の格子周期が略一定若しくは他の
部分よりも変化が緩やかになっていてもよい。

【００１６】第６乃至第１０の構成のビーム３分割用反
射型回折格子は、格子周期Λ（ｘ）が所定の式により変
調されている。

【００１７】第１１の構成の光ピックアップは、上記第
１乃至第１０の構成のいずれかのビーム３分割用反射型
回折格子を備えたことを特徴とする。

【００１８】

【作用】第１又は第２の構成によれば、３分割されたビ
ームが形成するスポットが一直線上に等間隔で且つその
各スポットが小さくなる。

【００１９】第３乃至第１０の構成によれば、格子面上
でのレーザ光入射角が傾斜方向で異なる場合でも、３分
割回折されたビームのスポット間隔を対称に且つ小スポ
ットに集光させることができる。

【００２０】第５、第９、第１０の構成のビーム３分割
用反射型回折格子によれば、原点付近の周期変化が緩や
かになっているので、上記作用に加え、回折格子の取付
位置の多少のずれを許容することが可能であり、光ピッ
クアップの組み立て容易化が図れる。

【００２１】第１１の構成の光ピックアップによれば、
トラッキングエラー信号の振幅を大きくすることがで
き、更に、光ディスクが傾斜したときでも信号にオフセ
ットが生じたりするのを回避できるので、トラッキング
サーボの信頼性を向上させることができる。

【００２２】

【実施例】

（実施例１）以下、本発明のビーム３分割用反射型回折
格子をその実施例を示す図１乃至図３に基づいて説明す
る。なお、その製法や半導体レーザの光軸に対して傾斜
させて用いられる点は従来と変わらない。即ち、本発明
のビーム３分割用反射型回折格子は、従来例で示した図
１０のごとく配置される。以下の説明では必要に応じて
この図１０を適宜参照する。

【００２３】図１は、本実施例のビーム３分割用反射型
回折格子１１を示す縦断側面図である。図中の方向Ｘ、
及び原点（光軸に一致する点）Ｏは、図１０で示された
方向Ｘ及び原点Ｏに一致する。

【００２４】上記のビーム３分割用反射型回折格子１１
は、３分割回折作用により形成される±１次仮想光源３
１ｂ，３１ｃが、０次仮想光源３１ａを中心に対称で且
つ光強度分布の幅が狭くなるように格子の周期変調がな
されている。具体的には、原点Ｏを通るＸ方向上におい
て、レーザ光入射角が大きくなる程（別言すれば、レー
ザ発光点からの距離が遠い位置になる程）その格子面
（回折格子の凹凸が形成されている面）１１ａ上での格
子周期Λ（ｘ）が長くなるように格子の周期変調がなさ
れている。但し、ｘは格子面上のＸ方向の位置座標を示
す。

【００２５】格子周期Λ（ｘ）は、以下の式１により決
定している。

【００２６】

【数１】 Λ（ｘ）＝（１／２）〔λ／ｈ₁(ｘ) ＋λ／ｈ₂(ｘ) 〕 ただし、 ｈ₁(ｘ) ＝sin(tan ^-1((d-x)/(l+x))-π/4)+sin(tan ^-1
(x/(l+x))+π/4) ｈ₂(ｘ) ＝sin(tan ^-1(-x/(l+x))- π/4)+sin(tan
^-1((d+x)/(l+x))+π/4) λ：レーザ光の波長 l：レーザ発光点と原点Ｏとの距離 d：±１次回折光仮想光源のｘ′方向上での位置

【００２７】図２は、上記の式１において、λ＝０．７
９μｍ、 l＝２０００μｍ、ｄ＝１１０μｍとした場合
の格子周期Λ（ｘ）の変化を示したグラフである。この
図では、レーザ光入射角（格子面法線とのなす角度）が
大きくなる側、別言すれば、レーザ光源からの距離が遠
い位置になる側はプラス側として表記され、その逆の側
はマイナス側として表記している。また、図中の点線
は、従来のビーム３分割用反射型回折格子の格子周期を
示している。以下の実施例においても同様である。

【００２８】なお、図２のグラフにおける格子面上位置
のマイナス側で一部、グラフの傾きが逆転する部分があ
るが、この部分は回折格子の有効な開口内から外れるこ
とになる部分である。以下の実施例においても同様であ
る。

【００２９】図３は、上記のごとく周期変調された格子
面１１ａを有する場合の±１次回折光の仮想発光点の光
強度分布を示すグラフである。±１次仮想光源が０次仮
想光源を中心に対称で且つ光強度分布の幅が狭くなって
おり、図１２に示した従来のビーム３分割用反射型回折
格子に比べてかなり改善されている。

【００３０】（実施例２）以下、本発明の他の実施例を
図４に基づいて説明する。

【００３１】本実施例のビーム３分割用反射型回折格子
は、実施例１の式１を２次関数で近似した以下に示す式
２によって格子周期を変調している。

【００３２】

【数２】Λ（ｘ）＝ａ（ｘ−ｂ）² ＋ｃ ただし、ａ，ｂ，ｃは定数

【００３３】図４は、上記の式２において、ａ＝１．３
９５×１０^-5、ｂ＝−７２０、ｃ＝１２．７５とした場
合の格子周期Λ（ｘ）の変化を示したグラフである。図
２に示した結果とほぼ同様の結果を得ることができる。

【００３４】（実施例３）以下、本発明の他の実施例を
図５に基づいて説明する。

【００３５】本実施例のビーム３分割用反射型回折格子
は、波動光学的手法を用い、以下に示す式３によって格
子周期を変調している。

【００３６】

【数３】Λ（ｘ）＝λｈ₃ (ｘ)／ｈ₄ (ｘ) ただし、 ｈ₃ (ｘ)＝［｛(x-x₀)²+y₀ ² ｝｛(x-x₁)²+y₁ ² ｝］^1/2 ｈ₄ (ｘ)＝(x-x₀)〔(x-x₁)²+y₁ ² 〕^1/2 -(x-x₁)〔(x-x
₀)²+y₀ ² 〕^1/2 x₀＝-y₀ ＝-l/2^1/2 x₁＝(-l+d)/2^1/2 y₁＝(-l-d)/2^1/2 あるいは、 x₁＝(-l-d)/2^1/2 y₁＝(-l+d)/2^1/2 なお、λ， l， d， x は、実施例１と同様に定義され
る。

【００３７】図５は、上記の式３において、λ＝０．７
９μｍ、 l＝２０００μｍ、ｄ＝１１０μｍとした場合
の格子周期Λ（ｘ）の変化を示したグラフであり、この
場合も、原点Ｏを通るＸ方向上において、レーザ光入射
角が大きくなる程その格子面１１ａ上での格子周期Λ
（ｘ）が長くなる。なお、この波動光学的手法により得
られた格子周期を有するビーム３分割用反射型回折格子
１１は、これら実施例を通じて最もよい結果を得ること
ができた。

【００３８】（実施例４）以下、本発明の他の実施例を
図６を用いて説明する。

【００３９】本実施例では、図６に示すように、格子周
期Λ（ｘ）の変化を直線近似させている。同図は、傾き
を０．０１６とした場合である。この直線近似の場合、
仮想光源のスポット幅はやや広がるものの、格子面の設
計が容易であるという利点を有する。

【００４０】（実施例５）以下、本発明の他の実施例を
図７を用いて説明する。

【００４１】本実施例のビーム３分割用反射型回折格子
は、当該格子配置の位置精度を緩和し得るようになって
いる。即ち、実施例１乃至４では、回折格子の取付位置
がｘ方向にずれると、仮想光源の間隔が設計値からずれ
るという欠点を有するが、本実施例によれば、原点Ｏ付
近の周期変化が緩やかになっているので、回折格子の取
付位置の多少のずれを許容することが可能であり、光ピ
ックアップの組み立て容易化が図れる。

【００４２】本実施例では、格子周期Λ（ｘ）は、４次
関数である以下の式４により与えている。

【００４３】

【数４】Λ（ｘ）＝ａ₁ ｘ³ （ｂ₁ ｘ−ｃ₁ ）＋ｆ₁ ただし、ａ₁ ，ｂ₁ ，ｃ₁ ，ｆ₁ は定数

【００４４】図６は、上記の式４において、ａ₁ ＝２．
８７１×１０^-11 、ｂ₁ ＝３、ｃ₁＝−２８８０、ｆ₁
＝２０．２３とした場合の格子周期Λ（ｘ）の変化を示
したグラフである。図から明らかなように、原点Ｏ付近
での周期変化が略一定になっている。

【００４５】（実施例６）以下、本発明の他の実施例を
図８を用いて説明する。

【００４６】本実施例のビーム３分割用反射型回折格子
は、実施例５と同様、格子配置の位置精度を緩和し得る
ものである。そして、格子周期Λ（ｘ）は、以下の式５
により与えている。

【００４７】

【数５】ｘ≦０の領域で、 Λ（ｘ）＝ａ₂ ｃｏｓ（ｘπ／ｂ₂ ）＋ｃ₂ ｘ＞０の領域で、 Λ（ｘ）＝ｆ₂ ｘ^1.5 ＋ｇ₂ ただし、ａ₂ ，ｂ₂ ，ｃ₂ ，ｆ₂ ，ｇ₂ は定数

【００４８】図８は、上記の式５において、ａ₂ ＝３．
８５８、ｂ₂ ＝７２０、ｃ₂ ＝１６．３７、ｆ₂ ＝１．
２３０×１０^-10 、ｇ₂ ＝２０．２３とした場合の格子
周期Λ（ｘ）の変化を示したグラフである。図から明ら
かなように、原点Ｏ付近での周期変化が略一定になって
いる。

【００４９】なお、以上の説明で示された式１〜５は例
示であり、他の関数によって格子周期を表現するように
してもよい。勿論、これらとともに示した変数或いは定
数として他の数値を用いてもよいものである。

【００５０】（実施例７）次に、光ピックアップについ
て説明する。本発明の光ピックアップは、以上に説明し
たビーム３分割用反射型回折格子１１を備えて成る。勿
論、このビーム３分割用反射型回折格子１１は、発散レ
ーザ光源の光軸に対して傾斜させて用いられる。即ち、
本発明のビーム３分割用反射型回折格子は、従来例で示
した図９のごとく配置されるものであり、他の構成も、
図９と同様に構成できる。

【００５１】かかる光ピックアップによれば、トラッキ
ングエラー信号の振幅を大きくすることができ、更に、
光ディスクが傾斜したときでも信号にオフセットが生じ
たりするのを回避できるので、トラッキングサーボの信
頼性を向上させることができる。

【００５２】なお、以上の実施例では、原点Ｏを通る格
子面上での光入射点とレーザ発光点の距離の変化に対し
てのみ周期を変調し、Ｘ方向と直交する方向では周期が
変化しない（即ち、平行な直線状の格子パターン）とし
たが、原点Ｏを通らないＸ方向でのレーザ発光点と格子
面上の光入射点との距離の変化をも加味し、Ｘ方向と直
交する方向の各位置で格子周期が異なるよう（即ち、曲
線状の格子パターン）にしてもよいものである。

【００５３】また、以上の実施例に限らず、入射ビーム
を反射すると共に分割するビーム３分割用反射型回折格
子において、３分割されたビームが形成するスポットが
一直線上に等間隔で且つその各スポットが小さくなるよ
うにした回折格子形状を有するように構成してもよく、
また、この構成において上記入射ビームが非平行ビーム
であってもよいものである。

【００５４】

【発明の効果】以上のように、本発明のビーム３分割用
反射型回折格子によれば、３分割されたビームが形成す
るスポットが一直線上に等間隔で且つその各スポットが
小さくなり、また、３分割回折されたビームのスポット
間隔を対称に且つ小スポットに集光させることができ、
また、原点付近の周期変化が緩やかにする構成では、回
折格子の取付位置の多少のずれを許容することが可能で
あるため、光ピックアップの組み立て容易化が図れる。
また、本発明の光ピックアップによれば、トラッキング
エラー信号の振幅は大きくなり、更に、光ディスクが傾
斜したときでも信号にオフセットが生じたりするのを回
避できるので、トラッキングサーボの信頼性を向上させ
ることができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のビーム３分割用反射型回折格子の縦断
側面図である。

【図２】本発明のビーム３分割用反射型回折格子の格子
周期を示すグラフである。

【図３】図２の格子周期を有するビーム３分割用反射型
回折格子による仮想光源位置に対する光強度分布を示す
グラフである。

【図４】本発明の他の実施例のビーム３分割用反射型回
折格子の格子周期を示すグラフである。

【図５】本発明の他の実施例のビーム３分割用反射型回
折格子の格子周期を示すグラフである。

【図６】本発明の他の実施例のビーム３分割用反射型回
折格子の格子周期を示すグラフである。

【図７】本発明の他の実施例のビーム３分割用反射型回
折格子の格子周期を示すグラフである。

【図８】本発明の他の実施例のビーム３分割用反射型回
折格子の格子周期を示すグラフである。

【図９】光ピックアップの模式的断面図である。

【図１０】半導体レーザから出射された光ビームが、４
５°傾けて配置されたビーム３分割用反射型回折格子に
よって３分割回折されて反射される様子を示すととも
に、仮想光源が回折格子面を基準にして半導体レーザ４
と対称な位置に形成される様子を示した説明図である。

【図１１】従来のビーム３分割用反射型回折格子を示す
縦断側面図である。

【図１２】従来のビーム３分割用反射型回折格子による
仮想光源位置に対する光強度分布を示すグラフである。

【符号の説明】

１ 良熱伝導性基板 ４ 半導体レーザチップ ５ 信号検出用ＰＩＮフォトダイオード ７ ホログラム素子 ８ 集光用レンズ ９ 光ディスク９ １１ ビーム３分割用反射型回折格子 １１ａ格子面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 隆夫 大阪府守口市京阪本通２丁目５番５号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 新名 達彦 大阪府守口市京阪本通２丁目５番５号 三 洋電機株式会社内

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 入射ビームを反射すると共に分割するビ
   ーム３分割用反射型回折格子において、３分割されたビ
   ームが形成する集光スポットが一直線上に等間隔で且つ
   その各スポットが小さくなるようにした回折格子形状を
   有することを特徴とするビーム３分割用反射型回折格
   子。
2. 【請求項２】 上記入射ビームが非平行ビームであるこ
   とを特徴とする請求項１に記載のビーム３分割用反射型
   回折格子。
3. 【請求項３】 発散レーザ光源の光軸に対して傾斜させ
   て用いられ、格子面上でのレーザ発光点からの距離また
   はレーザ光入射角が傾斜方向で異なることになるビーム
   ３分割用反射型回折格子において、その傾斜方向に回折
   する作用を有し、３分割回折作用により形成される±１
   次仮想光源の位置が、０次仮想光源を中心に対称で且つ
   ±１次仮想光源の光強度分布の幅が狭くなるように格子
   の周期変調がなされていることを特徴とするビーム３分
   割用反射型回折格子。
4. 【請求項４】 発散レーザ光源の光軸に対して傾斜させ
   て用いられ、格子面上でのレーザ発光点からの距離また
   はレーザ光入射角が傾斜方向で異なることになるビーム
   ３分割用反射型回折格子において、その傾斜方向に回折
   する作用を有し、少なくとも有効な開口内で、前記レー
   ザ発光点からの距離が大きくなる程またはレーザ光入射
   角が大きくなる程その格子面上での格子周期が長くなる
   ように格子の周期変調がなされていることを特徴とする
   ビーム３分割用反射型回折格子。
5. 【請求項５】 発散レーザ光源の光軸が交わる付近の格
   子周期が略一定若しくは他の部分よりも変化が緩やかに
   なっていることを特徴とする請求項３又は請求項４に記
   載のビーム３分割用反射型回折格子。
6. 【請求項６】 格子周期Λ（ｘ）が、 Λ（ｘ）＝（１／２）〔λ／ｈ₁(ｘ) ＋λ／ｈ₂(ｘ) 〕 ただし、 ｈ₁(ｘ) ＝sin(tan ^-1((d-x)/(l+x))-π/4)+sin(tan ^-1
   (x/(l+x))+π/4) ｈ₂(ｘ) ＝sin(tan ^-1(-x/(l+x))- π/4)+sin(tan
   ^-1((d+x)/(l+x))+π/4) ｘ：レーザ発光点とその光軸が格子面に交わる点Ｏから
   の格子面上での傾斜方向上の距離 λ：レーザ光の波長 l：レーザ発光点とその光軸が格子面に交わる点Ｏとの
   距離 d：±１次回折光仮想光源の０次回折光仮想光源からの
   距離 のように変調されていることを特徴とする請求項３又は
   ４に記載のビーム３分割用反射型回折格子。
7. 【請求項７】 格子周期Λ（ｘ）が、 Λ（ｘ）＝ａ（ｘ−ｂ）² ＋ｃ ただし、 ａ，ｂ，ｃは定数、ｘはレーザ光の光軸が格子面に交わ
   る点からの格子面上での傾斜方向上の距離のように変調
   されていることを特徴とする請求項３又は４に記載のビ
   ーム３分割用反射型回折格子。
8. 【請求項８】 格子周期Λ（ｘ）が、 Λ（ｘ）＝λｈ₃ (ｘ)／ｈ₄ (ｘ) ただし、 ｈ₃ (ｘ)＝［｛(x-x₀)²+y₀ ² ｝｛(x-x₁)²+y₁ ² ｝］^1/2 ｈ₄ (ｘ)＝(x-x₀)〔(x-x₁)²+y₁ ² 〕^1/2 -(x-x₁)〔(x-x
   ₀)²+y₀ ² 〕^1/2 x₀＝-y₀ ＝-l/2^1/2 x₁＝(-l+d)/2^1/2 y₁＝(-l-d)/2^1/2 あるいは、 x₁＝(-l-d)/2^1/2 y₁＝(-l+d)/2^1/2 ｘ：レーザ発光点とその光軸が格子面に交わる点Ｏから
   の格子面上での傾斜方向上の距離 λ：レーザ光の波長 l：レーザ発光点とその光軸が格子面に交わる点Ｏとの
   距離 d：±１次回折光仮想光源の０次回折光仮想光源からの
   距離 のように変調されていることを特徴とする請求項３又は
   ４に記載のビーム３分割用反射型回折格子。
9. 【請求項９】 格子周期Λ（ｘ）が、 Λ（ｘ）＝ａ₁ ｘ³ （ｂ₁ ｘ−ｃ₁ ）＋ｆ₁ ただし、 ａ₁ ，ｂ₁ ，ｃ₁ ，ｆ₁ は定数、ｘはレーザ光の光軸が
   格子面に交わる点からの格子面上での傾斜方向上の距離
   のように変調されていることを特徴とする請求項５に記
   載のビーム３分割用反射型回折格子。
10. 【請求項１０】 格子周期Λ（ｘ）がｘ≦０の領域で、 Λ（ｘ）＝ａ₂ ｃｏｓ（ｘπ／ｂ₂ ）＋ｃ₂ ｘ＞０の領域で、 Λ（ｘ）＝ｆ₂ ｘ^1.5 ＋ｇ₂ ただし、 ａ₂ ，ｂ₂ ，ｃ₂ ，ｆ₂ ，ｇ₂ は定数、ｘはレーザ光の
    光軸が格子面に交わる点からの格子面上での傾斜方向上
    の距離のように変調されていることを特徴とする請求項
    ５に記載のビーム３分割用反射型回折格子。
11. 【請求項１１】 請求項１乃至請求項１０のいずれかの
    ビーム３分割用反射型回折格子を備えたことを特徴とす
    る光ピックアップ。