JPH07302777A - 洗浄装置、抑泡方法および抑泡装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 消泡剤を使用せずに抑泡可能な抑泡装置を提
供する。 【構成】 本洗浄装置によれば、洗浄液の液面上にエア
流を形成するためのエア流形成手段（４０）を設けてい
るので、エア流を泡の表面に衝突させることにより破泡
させることが可能である。その結果、洗浄液の発泡はエ
ア流が形成する面よりも上方には到達しない。このよう
に、本発明装置によれば、消泡剤を用いることなく抑泡
が可能なので、消泡剤の残渣の影響を受けない、より清
浄度の高い被洗浄物の洗浄を行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は洗浄装置に係り、特に洗
浄槽において水系洗浄剤に被洗浄物を浸漬し洗浄するた
めの洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体製造工程を始め各種製
造工程では、半導体ウェハ、プリント基板、機械部品な
どの被洗浄物を所定の薬液や純水により洗浄し、脱脂や
除塵などの処理を行うために、洗浄装置が使用されてい
る。特に近年、環境保全の観点より、脱フロン化が推し
進められており、その対応策として、各種の薬液や純水
を用いる水系洗浄装置が提案されている。

【０００３】ここで、薬液洗浄に関しては、薬液槽内に
被洗浄物を浸漬し、一定時間浸漬する浸漬洗浄、超音波
を照射する超音波洗浄、強制的に水泡を発生させるバブ
リング洗浄、上下前後に被洗浄物を駆動する揺動洗浄な
どが知られている。図１０には、超音波振動子１０１が
設置された洗浄槽１０３内の薬液を、ポンプ１０４およ
びフィルタ１０５が介挿された薬液循環路により、循環
攪拌させる構成が示されている。ところで、水系洗浄装
置においては、被洗浄物を洗浄するために循環攪拌され
る薬液中には、界面活性剤が含有されており、処理時に
攪拌や揺動などの物理的力を薬液に対して作用させる
と、図示のように、薬液表面に発泡を生じ、その泡が被
洗浄物の表面に付着したり、あるいは洗浄槽からオーバ
ーフローすることがあるため問題となっていた。

【０００４】特に、洗浄効果を上げるために、薬液の温
度を上げて洗浄処理を行うような場合には、図１１に示
すように、超音波振動子１１０を設置した洗浄槽１１１
の他に、加熱用ヒータ１１２が設置された補助槽１１３
を設け、ポンプ１１４とフィルタ１１５とが介挿された
循環路にて薬液を洗浄槽１１１と補助槽１１３との間で
循環させる構成を採用しているが、処理時には、一般に
洗浄槽１１１から補助槽１１３に薬液を自然落下させて
おり、その結果、補助槽１１３側で大量の泡が発生する
ので、泡のオーバーフロー防止のために、図示のよう
に、補助槽１０３の槽壁を高くするなどの対策が必須で
あった。この点、図１０に示す洗浄槽１０２に、超音波
振動子１０１と図中点線で示す加熱用ヒータ１０５とを
並設し、泡の発生量を抑える構成を採用することも可能
であるが、装置のレイアウトが困難であり、装置構成が
複雑となるため、一般には、図１１に示すような洗浄槽
と補助槽から成る２槽式の構成が採用されている。

【０００５】また発泡を抑えるために、使用される薬液
中に消泡剤を添加することにより、泡膜の表面張力を低
下させ、破泡する方法も広く採用されている。しかしな
がら、被洗浄物の形状が複雑で深い凹凸が存在する場合
などには、薬液洗浄後に純水洗浄しても被洗浄物の表面
に消泡剤の残渣物が残ることがあり、そのような場合に
は、被洗浄物の表面が残渣物により浸食され、次の乾燥
工程の熱により被洗浄物の表面にしみ状の浸食痕が残る
などの問題が生じることがある。そのため、洗浄のため
の薬液には、可能な限り消泡剤を添加しないことが好ま
しく、現場においては消泡剤を用いずに物理的に発泡を
抑えることが可能な洗浄装置の開発が強く望まれてい
た。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来の洗浄装置の有する問題点に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、洗浄処理時に、洗浄
槽内の薬液に対して、落下、揺動、攪拌、振動などの強
い物理的力を加えた場合であっても、薬液中に消泡剤を
一切添加せずとも、薬液の発泡を抑止することが可能な
新規かつ改良された抑泡手段を備えた洗浄装置を提供す
ることである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に記載の発明は、洗浄槽において水系洗浄
剤に被洗浄物を浸漬し洗浄するための洗浄装置におい
て、洗浄液の液面上にエア流を形成するためのエア流形
成手段を設けたことを特徴としている。

【０００８】また請求項２に記載の発明は、請求項１に
記載の発明において、エア流形成手段により形成される
エア流の流れ方向および／またはエア圧を調整可能に構
成したことを特徴としており、請求項３に記載の発明
は、特にその調整を洗浄槽内の前記洗浄液の液面高さに
応じて行うことを特徴としている。

【０００９】また請求項４または請求項５によれば、容
器内に収容された液体の液面に発生する泡を抑泡するた
めの抑泡方法が提供され、請求項４に記載の抑泡方法
は、液体の液面上にエア流を形成することを特徴として
おり、請求項５に記載の抑泡方法は、そのエア流を液体
の液面から上方に所定間隔を開けて形成し、液面に発生
する泡を破泡させる十分なエア圧を持たせたことを特徴
としている。

【００１０】さらに請求項６〜請求項８によれば、容器
内に収容された液体の液面に発生する泡を抑泡するため
の抑泡装置が提供され、請求項６に記載の装置は、液体
の液面上にエア流を形成するためのエア流形成手段を設
けたことを特徴としており、さらに請求項７に記載の装
置では、その抑泡装置から発生されるエア流の流れ方向
および／またはエア圧が調整可能に構成され、さらにま
た請求項８に記載の装置では、その抑泡装置から発生さ
れるエア流の流れ方向および／またはエア圧が、容器内
に収容された液体の液面高さに応じて調整可能なように
構成されている。

【００１１】

【作用】請求項１に記載の洗浄装置によれば、洗浄液の
液面上にエア流を形成するためのエア流形成手段を設け
ているので、図５に示すように、エア流を泡の表面に衝
突させることにより破泡させることが可能である。その
結果、洗浄液の発泡はエア流が形成する面よりも上方に
は到達しない。このように、本発明装置によれば、消泡
剤を用いることなく抑泡が可能なので、後処理において
消泡剤の残渣の影響を受けない、より清浄度の高い被洗
浄物の洗浄を行うことができる。

【００１２】また請求項２に記載の洗浄装置によれば、
エア流の流れ方向および／またはエア圧が調整可能なの
で、発泡量および洗浄槽の深さに応じて、エア流が形成
するエア面の液面からの高さ、すなわち洗浄液の液面上
の許容発泡高さを調整することができる。特に請求項３
に記載の洗浄装置のように、エア流の流れ方向および／
またはエア圧を、液面レベルセンサなどにより検出され
る洗浄液の液面高さに応じて、調整することにより、液
面からの発泡高さを発泡量や液面高さにかかわらず一定
に保つことができるので、より効果的な抑泡装置が提供
される。

【００１３】請求項４に記載の抑泡方法によれば、容器
内に収容された液体の液面上にエア流を形成することに
より、特に効果的には、請求項５に記載のように、十分
なエア圧を有するエア流を液体の液面から上方に所定間
隔を開けて形成することにより、図５に示すように、エ
ア流を泡の表面に衝突させて、破泡させることが可能で
ある。その結果、容器内に収容された液体の液面から発
生する泡はエア流が形成する面よりも上方には到達しな
い。このように、本発明の抑泡方法によれば、消泡剤を
用いることなく抑泡を行うことができるので、後処理に
おける消泡剤の残渣の影響を最小限に抑えて、より清浄
度の高い被洗浄物の洗浄を行うことができる。

【００１４】さらに請求項６に記載の抑泡装置によれ
ば、容器内に収容された液体の液面上にエア流を形成す
るためのエア流形成手段を設けているので、図５に示す
ように、エア流を泡の表面に衝突させることにより破泡
させることが可能である。その結果、液体の液面からの
発泡はエア流が形成する面よりも上方には到達しない。
このように、本発明の抑泡装置によれば、消泡剤を用い
ることなく大きな抑泡効果を得ることができる。また請
求項７に記載のように、エア流の流れ方向および／また
はエア圧を調整可能に構成することにより、特に請求項
８に記載のように、液体の液面高さに応じて調整可能に
構成することにより、発泡量および容器の深さに応じ
て、エア流が形成するエア面の液面からの高さ、すなわ
容器内に収容される液体の液面上の許容発泡高さを調整
することができる。

【００１５】

【実施例】以下に添付図面を参照しながら本発明に基づ
いて構成された洗浄装置の一実施例について詳細に説明
する。

【００１６】図１は、本発明に基づいて構成された抑泡
装置が実装された洗浄装置の概略的な見取図であり、図
２は、図１の装置の抑泡装置部分の拡大図であり、図３
および図４は、それぞれ、図１の装置の補助槽部分の平
面図および横断面図を示している。なお本明細書におい
ては、同一の機能構成要素については同一の参照番号を
付することにより重複説明を省略することにする。

【００１７】図１に示す洗浄装置は、それぞれ箱形に形
成された薬液洗浄槽１０と補助槽２０とから主に構成さ
れている。この薬液洗浄槽１０の上面は、搬送ロボット
により搬送されてきた被洗浄物を槽内に浸漬できるよう
に開放しており、その上部周囲には上記洗浄槽１０から
溢れた薬液を溜めるためのオーバーフロー用フレーム１
１が設けられている。そして、このフレーム１１内に溢
れた薬液が、落下ダクト１２を介して、上記洗浄槽１０
より槽高さが低く構成された上記補助槽２０内に自然落
下するように構成されている。さらに上記洗浄槽１０と
上記補助槽２０とは薬液循環経路３０により連通されて
おり、この薬液循環経路３０には、薬液内のゴミを除去
するためのフィルタ３１と洗浄槽１０から補助槽２０に
溢れた薬液を再び洗浄槽１０に循環させるための循環ポ
ンプ３２とが介挿されている。

【００１８】上記補助槽２０の底部には、図３および図
４に示すような加熱手段２１、たとえばヒータが設置さ
れており、薬液の温度を所定の温度にまで昇温させ、洗
浄効果を高めることが可能なように構成されている。ま
た上記補助槽２０の槽内には、図１に示すように、液面
レベルセンサ２２が設置されており、上記補助槽２０内
に溜まった洗浄液の液面高さを監視し、後述するよう
に、液面高さに応じて、図４に示す抑泡装置４０から噴
射されるエア流の吹出方向および／またはエア圧を調整
することができるように構成されている。なお具体的な
構成については、図２を参照しながら後述する。他方、
上記洗浄槽１０内には図示しない超音波振動子が設置さ
れており、図１に示す薬液循環経路３０を介して補助槽
２０から送られてきた所定の温度の薬液に対して超音波
振動を与え被洗浄物の洗浄効果を高めるように構成され
ている。

【００１９】そして上記補助槽２０の液面上方には、図
２に詳細に示すような抑泡装置４０が設置されている。
この抑泡装置４０は、一対のユニット取り付けリング４
１により傾斜角度調整可能に補助槽２０の一方の対向内
壁間に張りわたされた中空のノズルパイプ４２と、その
ノズルパイプ４２の側壁面には複数の位置から略水平方
向に張り出すエアノズル４３とから主に構成されてい
る。この各ノズル４３は上記ノズルパイプ４２から扁平
状に膨大部を有し、先端を絞った構造になっている。上
記ノズルパイプ４２の中空部とエアノズル４３のエア吹
出口４４とは連通しており、図示のように圧縮エア源４
５より、レギュレータ４６、エアソレノイドバルブ４
７、エア速度コントローラ４８を介して、ノズルパイプ
４２内に送られてきた圧縮エアを、そのノズルパイプ４
２に対して略平行に帯状に（スリット状に）開口するフ
ラット型エアノズル４３のエア吹出口４４から、所定の
方向に所定のエア圧を有する層状のエア流として噴射す
ることが可能である。このエア流はシート状でもよい。
なお、エアノズル４３のエア吹出口４４から噴射される
エア流の吹出方向は、上記取り付けリング４１を回転さ
せてエアノズル４３の傾斜角度を調整することにより、
あるいは図４に示すように、図示しない駆動装置により
ノズルパイプ４２自体を上下動させることにより調整す
ることができる。またエアノズル４３のエア吹出口４４
から噴射されるエア流のエア圧はエア速度コントローラ
４８により調整することが可能である。また、使用され
るエアとしては、空気でもよいが、半導体ウェハなどの
処理工程など、自然酸化膜の発生などの対策が必要な場
合には、不活性ガスを使用することが好ましい。

【００２０】次に図５および図６を参照しながら、上記
のように構成された抑泡装置４０の動作について説明す
る。図５に示すように、洗浄液の液面Ｌから上方に所定
間隔ｈ、たとえば５ｍｍ〜５０ｍの間隔を開けて、所定
のエア圧を形成し、所定方向に面状に展開するエア流面
Ｓを形成する。そして液面において発泡し、次々に上昇
してくる泡群は、上記エア流面Ｓに接触すると同時に破
泡され、上記エア流面よりも上方には泡が展開すること
ができないため、消泡剤を使用せずとも、効果的に抑泡
効果を得ることが可能となる。

【００２１】このようにして、図６に示すように、落下
ダクト１２から落下した洗浄液１３の作用により液面Ｌ
上に形成された発泡は、エアノズル４３から噴射された
エア流面Ｓよりも上昇することがない。なお、エアノズ
ル４３から噴射されるエア流の角度については、要求さ
れる条件に応じて任意の角度を採用することが可能であ
り、たとえば液面Ｌと略平行に展開するエア流Ｓ(0)よ
りも上方に向かうエア流Ｓ(+)として展開することも可
能である。しかしより大きな抑泡効果を得るためには、
上記エア流Ｓ(0)よりも下方に向かうエア流Ｓ(-)として
展開させることが好ましい。またエア流のエア圧につい
ても、使用される洗浄剤の種類や量、さらには発泡量に
応じて、最適に調整することが可能であるが、５００ｇ
／ｃｍ²以上、たとえば１ｋｇ／ｃｍ²程度のエア圧があ
れば十分な効果が得られる。なお上記エア流は、所定の
周期で断続的に供給してもよいし、圧力を変化させても
よいし、あえ流の方向を変化させてもよく、またこれら
の動作を組み合わせることにより、抑泡効果をさらに高
めることもできる。

【００２２】次に上記のように構成された洗浄槽を実装
した洗浄装置全体の構成およびその動作について、図７
を参照しながら説明する。図示の洗浄装置は、水系の洗
浄剤、たとえば弱アルカリ性の界面活性剤を使用し、被
洗浄物、たとえば機械加工部品の除塵・脱脂を主目的と
する４槽式のディップ式精密洗浄機５０である。

【００２３】本装置５０は、被洗浄物をスライド式ロー
ダ５１に載置された搬送用ケージ５２に入れ、洗浄機５
０の上方に設置された搬送用ロボット５３により、薬液
洗浄槽５４、純水洗浄槽５５、純水すすぎ槽５６、蒸気
乾燥槽５７の４槽を順次搬送し、洗浄処理を実施するた
めのものである。

【００２４】上記薬液洗浄槽５４は、図１に示す装置と
ほぼ同様の構造を有するもので、超音波洗浄を行う超音
波発振装置５８が設置された主洗浄槽５９と、薬液を温
めるための加熱装置６０が設置された補助槽６１と、フ
ィルタ６２と循環ポンプ６３が介挿されて薬液を主洗浄
槽５９と補助槽６１との間で循環させる循環系６４とか
ら構成されている。そして、補助槽６１には、抑泡装置
６５が設置されて、エア流により補助槽６１内での薬液
の発泡を最小限に抑えることが可能である。また上記抑
泡装置６５を、必要に応じて、上記純水洗浄槽５５、上
記すすぎ槽５６などに、水位を検出するための液面セン
サなどとともに設ける構成を採用することも可能であ
る。

【００２５】純水洗浄を行う純水洗浄槽５５と純水すす
ぎを行う純水すすぎ槽５６とは、共通の純水循環経路６
６により純粋化装置７０に接続されている。この純水循
環経路６６には、純水を保存するサブタンク６７と、純
水を循環させる循環ポンプ６８と、循環する純水中のゴ
ミを濾過するフィルタ６９と、フィルタ６９により濾過
された純水をさらに清浄する純水化装置７０が介挿され
ている。そして、上記純水すすぎ槽５６において、上記
純水化装置７０から供給された純水により被洗浄物のす
すぎを行うとともに、そのオーバーフロー分を隣接して
設置された上記純水洗浄槽５５に供給し、超音波発信装
置７１により超音波洗浄することが可能である。

【００２６】次工程の蒸気乾燥槽５７は、乾燥薬液の蒸
気を作る加熱装置７２と、蒸気源となる数種の乾燥薬
液、たとえばＴＦＥ（トリフロロエタノール）やＰＦＣ
（パーフロロカーボン）を収容する供給タンク７３、７
４と、乾燥薬液を回収するために使用される冷却装置７
５と、回収した乾燥薬液を保存する回収タンク７６、７
７とから主に構成されている。

【００２７】また搬送用ロボット５３は、上記ケージ５
２を上下方向に搬送する垂直方向搬送機構７８と、上記
ケージ５２をロードエリアから、上記薬液洗浄槽５４、
純水洗浄槽５５、純水すすぎ槽５６、蒸気乾燥槽５７を
経て、アンロードエリアまで搬送する垂直方向搬送機構
７９と、さらにはケージの有無を検知するセンサ（図示
せず）やケージの位置を検知する位置センサ（図示せ
ず）などから構成されている。

【００２８】さらに本洗浄機５０は、制御装置８０を有
している。この制御装置８０は、各槽に設置された液面
センサＳｎその他のセンサからの信号や各種レシピに応
じて装置全体を制御するプログラマブルコントロールユ
ニットや各装置に電源を供給するパワーディストリビュ
ーションなどから構成され、被洗浄物の洗浄処理を最適
に実施することが可能なように構成されている。

【００２９】次に上記のように構成された洗浄機５０に
よる機械加工部品などの被洗浄物の洗浄動作について説
明する。

【００３０】（１）薬液洗浄 まず被洗浄物は、搬送ロボット５３によりロードエリア
から薬液洗浄槽５４に運ばれ、ここで脱脂・除塵処理が
施される。被洗浄物は、補助槽６１内において加熱装置
６０により所定温度、たとえば６０℃にまで昇温された
後、循環ポンプ６３により洗浄槽５９内に供給された洗
浄液、たとえば弱アルカリ性の界面活性剤内に一定時間
浸漬され、その間、超音波装置５８による超音波洗浄が
施される。超音波洗浄後、被洗浄物は搬送ロボット５３
により薬液洗浄槽５４から吊り上げられ、洗浄槽上部で
所定時間だけ停止し、被洗浄物に付着した溶剤を落と
し、その後、被洗浄物は純水洗浄槽５５に搬送される。

【００３１】なお、洗浄槽５９には補助槽６１から常に
所定温度に温められた洗浄液が供給されており、洗浄槽
５９から溢れた洗浄液は落下ダクトを介して随時補助槽
６１に戻されている。そしてその際に、薬液の自然落下
により補助槽６１の薬液表面には大量の発泡が生じる
が、抑泡装置６５により、所定のエア圧のエア流が所定
方向または所定角度に供給されることにより、液面上空
にエア流面を形成し、そのエア流面よりも上方に向かう
泡を破泡するので、液面上の発泡高さを常に所望の位置
保持することが可能である。すなわち、泡による液面の
検出誤差を少なくできる効果がある。なおその際に、エ
ア流のエア圧および／またはエア方向を、液面センサに
より検出される液面に応じて調整することにより、より
高い抑泡効果を奏することが可能である。

【００３２】（２）純水洗浄 この純水洗浄工程においては、搬送用ロボット５３によ
り薬液洗浄槽５４から搬送された被洗浄物は、純水洗浄
槽５５内の純水に浸漬され、超音波装置７１による純水
超音波洗浄が所定時間だけ実施され、この後、被洗浄物
は純水すすぎ槽５６に搬送される。なお純水は、次工程
の純水すすぎ槽５６からのオーバーフローにより純水洗
浄槽５５へ供給される。そして純水すすぎ槽５６より常
に供給される純水により、純水洗浄槽から溢れた純水は
サブタンク６７に戻される。

【００３３】（３）純水すすぎ この純水すすぎ工程においては、搬送用ロボット５３に
より純水洗浄槽５５から搬送された被洗浄物は、純水す
すぎ槽５６内の純水に浸漬され、所定時間純水によるす
すぎ洗浄が実施される。すすぎ洗浄終了後、被洗浄物は
純水すすぎ槽５６から吊り上げられ、純水すすぎ槽上部
で、所定時間水切りされた後、蒸気乾燥槽５７へ搬送さ
れる。なお、上述したように、純水洗浄槽５５から戻さ
れたサブタンク６７内の純水は、循環ポンプ６８により
フィルタ６９を経由し、純水化装置７０に送られる。純
水化装置７０に送られた水は、純度を増し、純水すすぎ
槽５６に送られ、純水すすぎ槽５６において溢れた水は
純粋洗浄槽５５にオーバーフローする。

【００３４】（４）蒸気乾燥 純水すすぎ槽５６から搬送された被洗浄物は、次の蒸気
乾燥槽５７において、乾燥薬液により蒸気乾燥され、洗
浄終了となる。すなわち、被洗浄物は、所定時間だけ蒸
気乾燥槽５７内において蒸気雰囲気中に置かれる。この
間、被洗浄物表面で凝縮した蒸気は液化して表面の水分
とともに蒸気乾燥槽５７内下方にある受け皿に落ちる。
被洗浄物入槽直後に受け皿に回収された液は水分を多く
含んでいるため、自動的にモータ駆動三方弁を切り替え
ることにより、液回収タンク７６、７７に回収される。
しばらく経過してからの凝縮液は水分が少なくなるた
め、再び自動的にモータ駆動三方弁を切り替えることに
より、蒸気乾燥槽下部に配置された乾燥薬液槽７５に戻
される。このようにして、蒸気雰囲気中に所定時間置か
れて乾燥処理された被洗浄物は、搬送ロボット５３によ
りゆっくりと持ち上げられた後、アンロードエリアに搬
送され、一連の動作を終了する。

【００３５】なお上記乾燥槽５７では、蒸気を外部に逃
がさないように、上部と下部にそれぞれ水の冷却ライン
を設けている。上部の冷却ラインは、常時、水により冷
却されているが、下部の冷却ラインは、被洗浄物が蒸気
乾燥槽５７にないときのみ、水で冷却されている。これ
は、被洗浄物が蒸気乾燥槽５７にないときの蒸気を極力
外部に逃すのを防ぐためである。また被洗浄物が蒸気乾
燥槽５７内にあるときは、この冷却ラインへの冷却水の
供給を停止し、効率よく蒸気が被洗浄物にかかるよう
に、自動的にモータ駆動弁を開閉し、制御を行ってい
る。

【００３６】次にさらに別の実施例について、図８およ
び図９を参照しながら説明する。

【００３７】図１に示す装置においては、空気噴出方向
に向かって扇状に広がり液面にほぼ平行に帯状に開口す
る開口部を有するノズルを用いていたが、ノズルの形状
構造はかかる実施例に限定されない。たとえば、図８に
示すように、管壁面に複数のノズル孔８３列を穿設した
ノズルパイプ８４を用いて、各ノズル孔８３より所定の
エア圧を所定方向に噴き出し、エア流を形成し、液面に
形成された泡を破泡させる構造を採用することも可能で
ある。あるいはまた、図９に示すように、上記パイプ８
４の管壁に管軸方向に長いスリット状の孔を形成し、こ
の孔を帯状噴出口として用いる構成にすることもでき
る。またノズルパイプとノズルが一体的に構成された帯
状のエア流を形成するノズルを用いて、エア流を形成
し、液面に形成された泡を破泡させる構造を採用するこ
とも可能である。要するに、発泡が生じる液面上空にエ
ア流を形成し、破泡効果を得ることにあり、破泡効果が
得られるエア流を生じさせるものであれば、いかなる構
造の装置をも採用することが可能である。

【００３８】また上記実施例においては、機械加工品を
洗浄するための洗浄機を例に挙げて本発明を説明した
が、本発明はかかる装置に限定されない。本発明は、水
系洗浄装置において、薬液の攪拌、循環等により生ずる
発泡を抑止したいあらゆる装置、たとえば塗装前洗浄装
置、プリント基板洗浄装置、部品脱脂洗浄装置、精密機
構部品洗浄装置、さらには半導体ウェハやＬＣＤ基盤な
どの半導体部品または半導体加工品洗浄装置などにも適
用可能である。さらに本発明装置は、界面活性剤に限定
されず、発泡を生じるあらゆる液体に対して適用するこ
とが可能である。また上記実施例では、洗浄液に対する
抑泡について説明したが、抑泡を必要とする液体収容部
であれば、あらゆる用途に適用できる。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明よれば、消
泡剤を一切添加することなく、抑泡効果を得ることがで
きるため、たとえば、純水洗浄のような後工程において
も、消泡剤の残渣の影響を受けなくなる。また発泡が生
じる液槽の槽壁を高くするなどの構造上の配慮も不要と
なる。

【００４０】すなわち、請求項１に記載の洗浄装置によ
れば、洗浄液の液面上にエア流を形成するためのエア流
形成手段を設けているので、図５に示すように、エア流
を泡の表面に衝突させることにより破泡させることが可
能である。その結果、洗浄液の発泡はエア流が形成する
面よりも上方には到達しない。このように、本発明装置
によれば、消泡剤を用いることなく抑泡が可能なので、
より清浄度の高い被洗浄物の洗浄を行うことができる。

【００４１】また請求項２に記載の洗浄装置によれば、
エア流の流れ方向および／またはエア圧が調整可能なの
で、発泡量および洗浄槽の深さに応じて、エア流が形成
する面の液面からの高さ、すなわち洗浄液の液面上の許
容発泡高さを調整することができる。特に請求項３に記
載の洗浄装置のように、エア流の流れ方向および／また
はエア圧を、液面レベルセンサなどにより検出される洗
浄液の液面高さに応じて、調整することにより、液面か
らの発泡高さを発泡量や液面高さにかかわらず一定に保
つことができるので、より効果的な抑泡装置が提供され
る。

【００４２】さらに本発明は洗浄装置に限定されず、よ
り広く抑泡が必要な用途に適用することが可能であり、
請求項４に記載のように、容器内に収容された液体の液
面上にエア流を形成することにより、特に効果的には、
請求項５に記載のように、十分なエア圧を有するエア流
を液体の液面から上方に所定間隔を開けて形成すること
により、エア流を泡の表面に衝突させて、破泡させるこ
とが可能である。

【００４３】また同様に請求項６に記載のように、容器
内に収容された液体の液面上にエア流を形成するための
エア流形成手段を設けることによって、エア流を泡の表
面に衝突させることにより破泡させることが可能であ
る。その結果、液体の液面からの発泡はエア流が形成す
る面よりも上方には到達しない。このように、本発明の
抑泡装置によれば、消泡剤を用いることなく大きな抑泡
効果を得ることができる。また請求項７に記載のよう
に、エア流の流れ方向および／またはエア圧を調整可能
に構成することにより、特に請求項８に記載のように、
液体の液面高さに応じて調整することにより、発泡量お
よび容器の深さに応じて、エア流が形成するエア面の液
面からの高さ、すなわ容器内に収容される液体の液面上
の許容発泡高さを調整することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に基づいて構成された破泡装置を実装し
た洗浄槽の概略的な見取図である。

【図２】図１に示す装置の破泡装置部分の概略的な拡大
図である。

【図３】図１に示す装置の補助槽部分の平面図である。

【図４】図１に示す装置の補助槽部分の横断面図であ
る。

【図５】本発明に基づいて構成された破泡装置の作用を
示す説明図である。

【図６】本発明に基づいて構成された破泡装置の作用を
示す説明図である。

【図７】本発明に基づいて構成された破泡装置を実装し
た機械部品洗浄装置の概略を示す説明図である。

【図８】本発明に基づいて構成された破泡装置のノズル
部分別の実施例を示す説明図である。

【図９】本発明に基づいて構成された破泡装置のノズル
部分のさらに別の実施例を示す説明図である。

【図１０】従来の単層型洗浄槽の概略を示す説明図であ
る。

【図１１】従来の２槽型洗浄槽の概略を示す説明図であ
る。

【符号の説明】

１０ 洗浄槽 １１ オーバーフロー用フレーム １２ 薬液落下用ダクト ２０ 補助槽 ２１ 加熱装置 ２２ 液面センサ ３０ 薬液循環経路 ３１ フィルタ ３２ 循環ポンプ ４０ 抑泡装置 ４２ ノズルパイプ ４３ エアノズル ５０ 洗浄機 ５３ 搬送ロボット ５４ 薬液洗浄機 ５５ 純水洗浄槽 ５６ 純水すすぎ槽 ５７ 蒸気乾燥槽 ６１ 補助槽 ６５ 抑泡装置

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 洗浄槽において水系洗浄剤に被洗浄物を
   浸漬し洗浄するための洗浄装置において、前記洗浄液の
   液面上にエア流を形成するためのエア流形成手段を設け
   たことを特徴とする、洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記エア流の流れ方向および／またはエ
   ア圧が、調整可能であることを特徴とする、請求項１に
   記載の洗浄装置。
3. 【請求項３】 前記エア流の流れ方向および／またはエ
   ア圧が、前記洗浄槽内の前記洗浄液の液面高さに応じて
   調整可能であることを特徴とする、請求項１に記載の洗
   浄装置。
4. 【請求項４】 容器内に収容された液体の液面に発生す
   る泡を抑泡するための抑泡方法であって、前記液体の液
   面上にエア流を形成することを特徴とする、抑泡方法。
5. 【請求項５】 前記エア流が前記液体の液面から上方に
   所定間隔を開けて形成され、液面に発生する泡を破泡さ
   せる十分なエア圧を有していることを特徴とする、請求
   項４に記載の抑泡方法。
6. 【請求項６】 容器内に収容された液体の液面に発生す
   る泡を抑泡するための抑泡装置であって、前記液体の液
   面上にエア流を形成するためのエア流形成手段を設けた
   ことを特徴とする、抑泡装置。
7. 【請求項７】 前記エア流の流れ方向および／またはエ
   ア圧が、調整可能であることを特徴とする、請求項６に
   記載の抑泡装置。
8. 【請求項８】 前記エア流の流れ方向および／またはエ
   ア圧が、前記容器内の前記容器内に収容された液体の液
   面高さに応じて調整可能であることを特徴とする、請求
   項６に記載の洗浄装置。