JPH07305158A

JPH07305158A - 溶射前処理方法

Info

Publication number: JPH07305158A
Application number: JP11755394A
Authority: JP
Inventors: Jun Takeuchi; 順竹内
Original assignee: Nippon Steel Corp
Current assignee: Nippon Steel Corp
Priority date: 1994-05-06
Filing date: 1994-05-06
Publication date: 1995-11-21

Abstract

(57)【要約】【目的】真空度が良くない真空槽でも負性移行型アー
ク処理により基板全面を清浄化処理し、密着性の優れた
溶射被膜を形成すると共に凹面を有する複雑形状品に於
ても全面を負性移行型アークの陰極点により清浄化処理
し、密着性の優れた溶射被膜を形成することができる溶
射前処理方法を提供する。【構成】負性移行型アークによる予熱を行い、かつ基
板が７００℃に加熱される以前に予熱を停止することに
より、また、負性移行型アークによる予熱時の圧力を１
５Ｔｏｒｒ以下とすることにより、更に基板をショット
ブラスト処理した後に当該処理を行うことにより、真空
度が良くない真空槽に於ても負性移行型アーク処理によ
り基板全面を清浄化処理し、密着性の優れた溶射被膜を
形成可能となると共に凹面を有する複雑形状品に於ても
全面を負性移行型アークの陰電極により清浄化処理し、
密着性の優れた溶射被膜を形成することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、金属基板上に溶射被膜
を形成する溶射方法の前処理方法に関し、特に減圧雰囲
気内でＮｉ基超合金上に溶射被膜を形成する溶射方法に
適した前処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】溶射被膜と基板との密着性を向上する方
法としてショットブラストによる前処理方法が知られて
いる。ショットブラストにより基板表面上の異物や汚染
を除去すると共に基板表面を粗面化し、アンカリング効
果を向上させることができる。この方法はコストも安価
でかつ容易であるが、ブラスト材が表面に突き刺さり照
射被膜形成後にも基板／溶射被膜界面に残留するため、
或る程度までの密着性しか得られない。従って、高い密
着性を必要としない大気溶射に広く用いられている。

【０００３】一方、特公昭６０−３５９８８号公報、特
開昭５６−５５５６２号公報及び実公昭５８−４５７９
０号公報には、プラズマフレームによる溶射前処理方法
とそのための装置とが開示されている。即ち、特公昭６
０−３５９８８号公報は、「プラズマ溶射によって金属
材料表面上に金属、合金或いはセラミックスを被覆する
方法に於て、不活性ガス雰囲気中で、母材金属材料に負
電圧を与え、プラズマフレームによるクリーニング作用
を利用して該母材金属材料表面上の酸化被膜を除去した
後、前記母材金属材料への電圧を切り、金属、合金或い
はセラミックスをプラズマ溶射により被覆することを特
徴とするプラズマ溶射法」である。また、特開昭５６−
５５５６２号公報は、「金属材料表面上に金属、合金ま
たはセラミックスをプラズマ溶射被覆する方法に於て、
不活性ガス雰囲気中で、母材金属材料に負電圧を与え、
プラズマフレームによるクリーニング作用を利用して該
母材金属材料表面を現出させると共に、プラズマ溶射に
よって母材金属材料表面上に被覆されつつある金属、合
金またはセラミックス層表面の酸化被膜をも前記プラズ
マフレームによるクリーニング作用を利用して除去しな
がら被覆を完成させることを特徴とするプラズマ溶射
法」である。更に、実公昭５８−４５７９０号公報は、
「不活性ガス雰囲気中でプラズマアークにより金属表面
に金属または非金属の粉末を溶射する装置に於て、直流
電源と負荷への回路の途中にアーク電圧の極性切り替え
機構を具備したことを特徴とするプラズマアーク溶射装
置」である。

【０００４】これらのプラズマフレームによるクリーニ
ング作用は、正確には特公昭６２−５４０６０号公報に
開示されている負性移行型アーク現象によるクリーニン
グ作用である。この公報では、負性移行型アークの陰極
である基板上に発生する陰極点の作用により、基板上の
異物や汚染を蒸発除去するようにしている。この技術を
減圧雰囲気溶射法と組み合わせることにより、基板、溶
射被膜界面を清浄とし、強固な密着性を得ることができ
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記溶射前
処理方法を発展させたものである。

【０００６】前記の負性移行型アークの陰極点による前
処理方法は、非常に有効ではあるが、Ｎｉ基超合金への
溶射の場合には減圧雰囲気中での負性移行型アークによ
る前処理では十分でないことがたびたび起こる。これは
第１に、雰囲気中の酸素分圧や水蒸気分圧が充分低くな
いため、合金成分のＡｌやＣｒからなる酸化膜が形成さ
れ、陰極点が去ったところが再度酸化されること、第２
に、複雑形状品の凹面には陰極点が回り込まず、陰極点
による清浄化効果が全く期待できないことを理由とす
る。特に、マスク材等の除去のための、ショットブラス
ト処理を行ってから減圧雰囲気中で負性移行型アークに
より前処理を行ってから溶射する場合には、基板−溶射
被膜間の界面には、多数の酸化物やショット材の残留が
認められる。

【０００７】例えば、工業的に用いられる減圧プラズマ
溶射装置に於て用いられる真空ポンプは、油回転ポンプ
またはせいぜいメカニカルブースターポンプである。真
空槽が大きいことなどから、これらのポンプを用いて得
られる真空度は、長時間の真空引きを行っても１０^-2Ｔ
ｏｒｒ程度である。この程度の真空度では酸化しやすい
金属は予熱中に容易に酸化する。特に耐酸化合金では合
金成分のＡｌやＣｒが表面に強固な酸化被膜を形成する
ことにより内部の酸化を防止する。このような合金で
は、予熱中に基板表面に強固な酸化被膜が形成され、基
板−溶射被膜界面の密着性を劣化させる。この酸化被膜
は、負性移行型アーク処理の陰極点の蒸発作用により除
去できるが、陰極点が移動したそばから再度酸化被膜が
形成される。従って基板表面を清浄化処理することは困
難である。

【０００８】また、工業的には溶射面をマスクし、溶射
面とは別な面に別な処理を施してからマスク材をプラス
と処理により除去した後照射する場合がある。溶射基板
の形状が平滑であるときには、減圧雰囲気中での負性移
行型アーク処理により残留ブラスト材の除去が容易に行
われるが、溶射面が凹面の場合には、負性移行型アーク
の陰極点が凹面を処理することが困難である。これはア
ークが突起等の凸部に集中して飛ぶ性質である。

【０００９】本発明はかかる現状に鑑み、第１に真空度
が良くない真空槽に於ても負性移行型アーク処理により
基板全面を清浄化処理し、密着性の優れた溶射被膜を形
成する溶射前処理方法を提供すること、第２に凹面を有
する複雑形状品に於ても全面を負性移行型アークの陰極
点により清浄化処理し、密着性の優れた溶射被膜を形成
することができる溶射前処理方法を提供することを目的
とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成するべく種々実験、検討を重ねた結果、本発明に
至った。

【００１１】本発明者は、特開平５−８６４５１号公報
及び特開平５−９８４１２号公報にて開示したように、
１００Ｐａ（０．７５Ｔｏｒｒ）程度以下の真空アーク
処理を施した後、溶射被膜を形成することにより、凹部
が未処理になるという問題が解決されることを見いだし
た。しかしながら、特開平５−８６４５１号公報に開示
されるように、溶射を行う真空槽とは別に真空アーク処
理を行う予備真空室を設置することは設備が高価になる
と云う欠点を有する。また特開平５−８６４５１号公報
や特開平５−９８４１２号公報に開示されるように、同
一の真空槽内で真空アーク処理と減圧プラズマ溶射処理
とを行う場合には、処理圧力の違いから真空引きのため
のアイドル時間が必要である。例えば減圧プラズマ溶射
処理を３０Ｔｏｒｒで行った場合には、次の基板を真空
アーク処理するために、０．７５Ｔｏｒｒ程度以下まで
真空引きするための数分間待つ必要がある。

【００１２】更に重要なことに特開平５−８６４５１号
公報または特開平５−９８４１２号公報にて開示した方
法に於ても、Ｎｉ基超合金の場合には、溶射被膜−母材
界面に薄い酸化物が残留することが度々起こることが観
察された。即ち、真空アーク処理により清浄化された基
板表面が溶射前の予熱中に再酸化されていることを見い
だした。

【００１３】本発明者は、真空アーク処理を行い清浄化
したＮｉ基超合金基板をプラズマフレームにより予熱
し、溶射を行わずに回収した。この場合、プラズマフレ
ームによる予熱とは基板に電位を与えず浮遊ポテンシャ
ルにしたままプラズマフレームに曝すことによる加熱で
ある。基板が赤熱されるまで予熱した基板は全面がひど
く酸化され、黒色を呈していた。一方、基板予熱を赤熱
以前で停止した基板はほとんど酸化されていなかった。
即ち、真空度が悪い真空槽で酸化し易い金属を加熱して
も温度が低ければ酸化速度が遅いため酸化の程度が弱い
ことが分かった。放射温度計による計測では、７００℃
以下では酸化速度が遅いことが観察された。ショットブ
ラスト処理を施してから負性移行型アークによる前処理
を行っても同様の結果が得られた。

【００１４】更に本発明者は、凹部を有するタービンブ
レード（材質はＮｉ基超合金）を用いて処理圧力を変え
負性移行型アーク処理を行った。即ち、０．７５Ｔｏｒ
ｒ以下で行う真空アーク処理では、凹部に陰極点が入り
込むが、通常溶射を行う３０Ｔｏｒｒ程度の圧力では、
負性移行型アークの陰極点は凹部に入り込まない。従っ
て、凹部に陰極点が入り込む限界圧力はこれらの間にあ
ることになる。その結果、約１５Ｔｏｒｒ以下では凹部
に陰極点が入り込み、清浄化されるが、それ以上では凹
部には陰極点が入り込まないことが明らかとなった。

【００１５】本発明は、上記の実験、検討によりなされ
たもので、即ち、本発明は第１に減圧プラズマ容器内で
基板を予熱してから基板上に溶射被膜を形成する溶射方
法の前処理方法に於て、負性移行型アークによる予熱を
行い、かつ基板が７００℃に加熱される以前に予熱を停
止することを特徴とする溶射前処理方法であり、第２に
前記溶射前処理方法に於て、負性移行型アークによる予
熱時の圧力を１５Ｔｏｒｒ以下とすることを特徴とする
溶射前処理方法であり、第３に基板をショットブラスト
処理した後に当該処理を行う溶射前処理方法である。

【００１６】

【作用】図１を用いて本発明の請求項１を説明する。図
１は減圧プラズマ溶射装置の構成概要を示す断面図であ
る。本装置は真空を維持する真空槽１、該真空槽１内に
設置されたプラズマ溶射ガン２、プラズマ発生電源３、
基板金属材料５、基板駆動装置６、移行型アーク用電源
７、真空排気系８、粉末供給装置９から構成されてい
る。

【００１７】負性移行型アークとは、基板５を陰極と
し、プラズマ溶射ガン２を陽極とするアーク放電であ
る。負性移行型アークの電力は移行型アーク用電源７に
より供給される。通常移行型アーク放電を安定的に維持
するためにプラズマ発生電源３によるプラズマフレーム
をプラズマ溶射ガン２に供給した状態で移行型アークを
発生させる。

【００１８】予熱は負性移行型アークにより行われる
が、予熱時間省略のため予備真空室で基板５を予熱して
から真空槽１に挿入しても良い。また負性移行型アーク
による加熱は強力であり、基板５の過熱の恐れがあると
きは予熱期間の一部のみを負性移行型アークによりその
他を負性移行型アークを用いないプラズマフレームによ
る加熱としても良い。

【００１９】真空槽１内の基板５の温度は熱電対にて比
較的正確に測定できる。しかし、通常基板駆動装置によ
り基板を動かすため、熱電対による測温は困難であるの
で、放射温度計により真空槽１の窓を通して測温しても
良い。熱電対にて測定される温度と放射温度計にて測定
される温度の差は、最大５０℃程度であるが、一度両者
の測定を同時に行っておけば補正は容易である。

【００２０】予熱を停止するとは、基板がそれ以上温度
が上がらない状態にすることである。例えば基板駆動装
置６によるプラズマフレームに曝されない位置に基板５
を退避することにより達せられる。通常退避状態にて粉
末供給装置９から粉末の供給を開始し、粉末の供給が安
定してから溶射を行う。

【００２１】圧力は、例えば隔膜式真空計にて容易に測
定することができる。具体的には、真空排気計８に設け
た圧力調整弁の開閉によって圧力を制御する方法があ
る。また、溶射被膜形成時の供給ガス流量より負性移行
型アークによる予熱時のガス流量を減らすという方法も
ある。

【００２２】

【実施例】

（実施例１）Ｎｉ基超合金からなるタービンブレード基
板を用いて本発明を実施した。基板組成は、Ｎｉ：４
１．７ｗｔ％、Ｃｒ：９．０ｗｔ％、Ｃｏ：１０．０ｗ
ｔ％、Ｔｉ：２．０ｗｔ％、Ａｌ：５．０ｗｔ％、Ｃ：
０．１ｗｔ％、Ｗ：１２．５ｗｔ％、Ｔａ：２．０ｗｔ
％、Ｈｆ：２．０ｗｔ％、Ｚｒ：０．１ｗｔ％である。
真空槽１内に基板５を設置する前に、基板をアルミナに
てショットブラスト処理した。また、溶射粉末もほぼ同
様の組成を有するＮｉＣｏＣｒＡｌＹ合金である。

【００２３】本発明の実施手順を示すと、まず基板５を
真空槽１内に設置する。その後真空排気系８で真空槽１
を排気してプラズマガスの供給を開始する。プラズマ発
生電源３にてプラズマ溶射ガン２にプラズマフレームを
発生させ、移行型アーク電源７を起動し、移行型アーク
を発生する。次に基板駆動装置６を起動し、基板５をプ
ラズマガンに正面を前後させると共に基板５を回転させ
る。これにより基板５の全面が負性移行型アークの陰電
極により清浄化処理される。基板５を１５回往復させた
後、基板５を退避位置で停止させる。その後、移行型ア
ーク電源７を停止し、粉末供給装置９を起動し、粉末の
供給を開始する。基板駆動装置６を再度起動し、基板５
をプラズマガンに正面を前後させ、溶射被膜を積層させ
る。基板５を１０回往復させた後、基板５を退避位置で
停止させ、粉末供給装置９を停止する。更にプラズマ発
生電源３を停止し、プラズマガスの供給を停止する。そ
して、基板５を充分に冷却し、真空槽１を大気解放し、
基板５を回収する。

【００２４】溶射中のプラズマ条件は以下の通りであ
る。Ａｒ：１５０ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅ：４０ｌ／ｍｉｎ、
粉末供給ガス（Ａｒ）：６０ｌ／ｍｉｎ、プラズマ電力
７０ｋＷ、溶射距離３００ｍｍ、粉末供給速度１００ｇ
／ｍｉｎで溶射中の真空槽１内の圧力は３０Ｔｏｒｒで
ある。

【００２５】予熱中のプラズマ条件は以下の通りであ
る。Ａｒ：５０ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅ：０ｌ／ｍｉｎ、粉末
供給ガス（Ａｒ）：０ｌ／ｍｉｎ、プラズマ電力２０ｋ
Ｗ、溶射距離３００ｍｍで予熱中で真空装置１内の圧力
は８Ｔｏｒｒである。移行型アークの電流値は８０Ａと
した（本発明の予熱条件）。

【００２６】比較のために以下の条件で予熱処理を行っ
た。予熱中のプラズマ条件は溶射中のプラズマ条件と同
一（粉末の供給は行わない）、とし、かつ移行型アーク
を用いない（比較例１）。予熱中のプラズマ条件は溶射
中のプラズマ条件と同一（粉末の供給は行わない）と
し、かつ移行型アークを用いる（比較例２）。予熱中の
プラズマ条件は本発明の予熱中のプラズマ条件と同一と
し、かつ移行型アークを用いない（比較例３）。予熱中
のプラズマ条件は本発明の予熱中のプラズマ条件と同一
とし、かつ基板を赤熱状態まで加熱する（比較例４）。
予熱中のプラズマ条件は溶射中のプラズマ条件と同一
（粉末の供給は行わない）とし、かつ移行型アークを用
いない。また基板を赤熱状態まで加熱する（比較例
５）。予熱中のプラズマ条件は溶射中のプラズマ条件と
同一（粉末の供給は行わない）とし、かつ移行型アーク
を用いる。また基板を赤熱状態まで加熱する（比較例
６）。予熱中のプラズマ条件は本発明の予熱中のプラズ
マ条件と同一とし、かつ移行型アークを用いない。また
基板を赤熱状態まで加熱する（比較例７）。

【００２７】それぞれの条件で溶射したタービンブレー
ドの断面を研磨し、基板−溶射被膜界面を評価した。そ
の結果を表１に示す。負性移行型アークを用いない場合
では、凸部に於ても大きな酸化物粒子が界面に観察され
た。これはアルミナショット材の残留であると考えられ
る。予熱中の圧力が高い場合には、凸部の界面に大きな
酸化物粒子が観察された。赤熱するまで予熱した場合に
は、界面に薄い酸化膜が観察された。

【００２８】

【表１】

【００２９】（実施例２）実施例１と同じくＮｉ基超合
金からなるタービンブレード基板を用いて本発明を実施
した。実施手順のうち移行型アークの停止タイミングの
みを変えた。即ち、実施例１では予熱終了と共に移行型
アーク電源４を停止したが、本実施例では溶射が終了し
てから溶射型アーク電源４を停止した。即ち、移行型ア
ークは予熱及び溶射期間中常に維持した。

【００３０】実施例１と同じく７通り比較例についても
実施した。その結果は実施例１と全く同じであった。即
ち、移行型アークの停止タイミングは界面の品質に全く
影響を及ぼさなかった。

【００３１】（実施例３）実施例１の比較例２の条件で
予熱のみを行い、タービンブレード基板を回収した。こ
のとき、タービンブレード基板の回転は停止しておき、
熱電対による測温を行った。また放射温度計による測温
も行った。特定の回数だけ基板５を往復した後、基板５
を退避位置で停止し、移行型アークを停止し測温を行っ
た。これを予熱温度とした。これは移行型アーク運転時
には熱電対の出力にノイズが乗るため、予熱中の温度測
定が不正確になるためであるが、測温に要する時間は瞬
時であるため、負性移行型アークからの放射冷却はさほ
ど大きくなく、正確な温度が測定されている。基板の往
復回数、予熱温度及びタービンブレード基板の表面状態
を表２に示す。７００℃以下の予熱温度では、全面が金
属光沢であるか極一部に薄い酸化被膜が観察される程度
であるが、それ以上では厚い酸化被膜が観察された。実
際、予熱に連続して溶射してみると、基板−溶射被膜界
面の酸化物の厚み及び量は７００℃以下では許容量であ
った。

【００３２】

【表２】

【００３３】（実施例４）実施例１の（本発明の条件）
にて予熱のみを行い、タービンブレード基板を回収し
た。このとき、排気系８に設けた圧力調整弁にて圧力を
調整した。尚、放射温度計で予熱終了時の温度を測定し
たが、何れの圧力でも７００℃以下であった。表３に予
熱中の圧力とタービンブレード基板の表面状態とを示
す。１５Ｔｏｒｒ以下では全面金属光沢であるが、それ
以上では僅かであるが酸化被膜が観察された。

【００３４】

【表３】

【００３５】

【発明の効果】本発明により、第１に真空度が良くない
真空槽に於ても負性移行型アーク処理により基板全面を
清浄化処理し、密着性の優れた溶射被膜を形成する溶射
前処理方法を提供でき、第２に凹面を有する複雑形状品
に於ても全面を負性移行型アークの陰電極により清浄化
処理し、密着性の優れた溶射被膜を形成する溶射前処理
方法を提供でき、その結果、本発明は産業上の発展に貢
献するところが極めて大となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】減圧プラズマ溶射装置の概略構成を示す断面
図。

【符号の説明】

１真空槽２プラズマ溶射ガン３プラズマ発生電源５基板金属材料６基板駆動装置７移行型アーク用電源８真空排気系９粉末供給装置

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【手続補正書】

【提出日】平成６年７月１８日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００２

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００２】

【従来の技術】溶射被膜と基板との密着性を向上する方
法としてショットブラストによる前処理方法が知られて
いる。ショットブラストにより基板表面上の異物や汚染
を除去すると共に基板表面を粗面化し、アンカリング効
果を向上させることができる。この方法はコストも安価
でかつ容易であるが、ブラスト材が表面に突き刺さり溶
射被膜形成後にも基板／溶射被膜界面に残留するため、
或る程度までの密着性しか得られない。従って、高い密
着性を必要としない大気溶射に広く用いられている。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００８

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００８】また、工業的には溶射面をマスクし、溶射
面とは別な面に別な処理を施してからマスク材をブラス
ト処理により除去した後溶射する場合がある。溶射基板
の形状が平滑であるときには、減圧雰囲気中での負性移
行型アーク処理により残留ブラスト材の除去が容易に行
われるが、溶射面が凹面の場合には、負性移行型アーク
の陰極点が凹面を処理することが困難である。これはア
ークが突起等の凸部に集中して飛ぶ性質である。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２１】圧力は、例えば隔膜式真空計にて容易に測
定することができる。具体的には、真空排気系８に設け
た圧力調整弁の開閉によって圧力を制御する方法があ
る。また、溶射被膜形成時の供給ガス流量より負性移行
型アークによる予熱時のガス流量を減らすという方法も
ある。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２２

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２２】

【実施例】（実施例１）Ｎｉ基超合金からなるタービンブレード基
板を用いて本発明を実施した。基板組成は、Ｎｉ：４
５．７ｗｔ％、Ｃｒ：９．０ｗｔ％、Ｃｏ：１０．０ｗ
ｔ％、Ｔｉ：２．０ｗｔ％、Ａｌ：５．０ｗｔ％、Ｃ：
０．１ｗｔ％、Ｗ：１２．５ｗｔ％、Ｚｒ：０．１ｗｔ
％である。真空槽１内に基板５を設置する前に、基板を
アルミナにてショットブラスト処理した。また、溶射粉
末もほぼ同様の組成を有するＮｉＣｏＣｒＡｌＹ合金で
ある。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２３】本発明の実施手順を示すと、まず基板５を
真空槽１内に設置する。その後真空排気系８で真空槽１
を排気してプラズマガスの供給を開始する。プラズマ発
生電源３にてプラズマ溶射ガン２にプラズマフレームを
発生させ、移行型アーク電源７を起動し、移行型アーク
を発生する。次に基板駆動装置６を起動し、基板５をプ
ラズマガン２正面を前後させると共に基板５を回転させ
る。これにより基板５の全面が負性移行型アークの陰極
点により清浄化処理される。基板５を１５回往復させた
後、基板５を退避位置で停止させる。その後、移行型ア
ーク電源７を停止し、粉末供給装置９を起動し、粉末の
供給を開始する。基板駆動装置６を再度起動し、基板５
をプラズマガン２正面を前後させ、溶射被膜を積層させ
る。基板５を１０回往復させた後、基板５を退避位置で
停止させ、粉末供給装置９を停止する。更にプラズマ発
生電源３を停止し、プラズマガスの供給を停止する。そ
して、基板５を充分に冷却し、真空槽１を大気解放し、
基板５を回収する。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】減圧プラズマ容器内で基板を予熱して
から基板上に溶射被膜を形成する溶射方法の前処理方法
に於て、負性移行型アークによる予熱を行い、かつ基板が７００
℃に加熱される以前に予熱を停止することを特徴とする
溶射前処理方法。
【請求項２】負性移行型アークによる予熱時の圧力
を１５Ｔｏｒｒ以下とすることを特徴とする請求項１に
記載の溶射前処理方法。
【請求項３】基板をショットブラスト処理した後に
当該処理を行うことを特徴とする請求項２に記載の溶射
前処理方法。