JPH07306402A - 反射型液晶表示装置 - Google Patents
反射型液晶表示装置Info
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- JPH07306402A JPH07306402A JP9899494A JP9899494A JPH07306402A JP H07306402 A JPH07306402 A JP H07306402A JP 9899494 A JP9899494 A JP 9899494A JP 9899494 A JP9899494 A JP 9899494A JP H07306402 A JPH07306402 A JP H07306402A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 カラー画像対応のＴＦＴ駆動による高分子分
散型液晶を用いる反射型液晶表示装置にて、液晶セル中
の高分子分散型液晶の光硬化を容易且つ確実に行う。 【構成】 従来対向電極側に設けられていたカラーフィ
ルタに代えて、画素電極１１６上に形成される光干渉膜
１１７により入射光の色分離を行いカラー画像を得る。
これにより、高分子分散型液晶の光硬化時、第２の電極
基板２０１にて紫外線光を遮るものが無くなり、十分な
光硬化が得られる。
散型液晶を用いる反射型液晶表示装置にて、液晶セル中
の高分子分散型液晶の光硬化を容易且つ確実に行う。 【構成】 従来対向電極側に設けられていたカラーフィ
ルタに代えて、画素電極１１６上に形成される光干渉膜
１１７により入射光の色分離を行いカラー画像を得る。
これにより、高分子分散型液晶の光硬化時、第２の電極
基板２０１にて紫外線光を遮るものが無くなり、十分な
光硬化が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜トランジスタ（以
下ＴＦＴと略称する。）等のスイッチ素子を供えた液晶
表示装置に掛かり、特に光散乱型の液晶を使用した反射
型液晶表示装置に関する。
下ＴＦＴと略称する。）等のスイッチ素子を供えた液晶
表示装置に掛かり、特に光散乱型の液晶を使用した反射
型液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、高機能、高精細を得るため、ＴＦ
Ｔを用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置の実用
化が図られ、これ等液晶表示装置の内、特に、偏光板が
不要であるため明るさを確保出来る事から、光散乱型の
液晶である高分子分散型液晶を用いた液晶表示装置の開
発が行われている。
Ｔを用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置の実用
化が図られ、これ等液晶表示装置の内、特に、偏光板が
不要であるため明るさを確保出来る事から、光散乱型の
液晶である高分子分散型液晶を用いた液晶表示装置の開
発が行われている。
【０００３】この様な高分子分散型液晶は例えば、特開
昭６１−５０２１２８号公報あるいは特開昭６２−２２
３１号公報等に開示されている。
昭６１−５０２１２８号公報あるいは特開昭６２−２２
３１号公報等に開示されている。
【０００４】しかしながらこの様な高分子分散型液晶を
用いた液晶表示装置にあっては、入射光を平行光とする
ためのコリメータ光学系を用いなければならず、このた
め液晶表示装置への入射光量が低減され、十分な明るさ
を得られないという新たな問題を生じていた。これは、
高分子分散型液晶の光散乱能から必要なコントラスト比
を得るための平行光を得るためには、コリメータ光学系
の開口絞りの径を小さくしなければならならず、これが
明るさを低下してしまう原因となっていた。
用いた液晶表示装置にあっては、入射光を平行光とする
ためのコリメータ光学系を用いなければならず、このた
め液晶表示装置への入射光量が低減され、十分な明るさ
を得られないという新たな問題を生じていた。これは、
高分子分散型液晶の光散乱能から必要なコントラスト比
を得るための平行光を得るためには、コリメータ光学系
の開口絞りの径を小さくしなければならならず、これが
明るさを低下してしまう原因となっていた。
【０００５】この為に、表示モードを透過モードでは無
く反射モードで行う事により、高分子分散型液晶セル中
の光路長を２倍にして光散乱能を増大し、これにより所
望のコントラスト比を得るための開口絞りの径を大きく
し、明るさを約２倍に増大させる装置が考えられてい
る。
く反射モードで行う事により、高分子分散型液晶セル中
の光路長を２倍にして光散乱能を増大し、これにより所
望のコントラスト比を得るための開口絞りの径を大きく
し、明るさを約２倍に増大させる装置が考えられてい
る。
【０００６】そしてこの様な反射型液晶表示装置を用
い、プロジェクター等にてカラー表示を行う場合には、
液晶表示装置を３枚用い、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑
（Ｇ）の各色毎に画像を形成し更に合成する３板式が一
般的とされているが、装置の低価格化を実現するために
は、高分子分散型液晶を用いた反射型液晶表示装置にカ
ラーフィルタを搭載した単板式の装置の開発が望まれて
いる。
い、プロジェクター等にてカラー表示を行う場合には、
液晶表示装置を３枚用い、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑
（Ｇ）の各色毎に画像を形成し更に合成する３板式が一
般的とされているが、装置の低価格化を実現するために
は、高分子分散型液晶を用いた反射型液晶表示装置にカ
ラーフィルタを搭載した単板式の装置の開発が望まれて
いる。
【０００７】ところで高分子分散型液晶は、液晶セル中
に液晶化合物と光硬化性化合物を混合した溶液を封入し
た後、紫外線光等のエネルギー線を照射する事により光
硬化性化合物を硬化させるという、紫外線硬化技術によ
り液晶化合物と光硬化性化合物とを相分離させ製造する
ことができる。
に液晶化合物と光硬化性化合物を混合した溶液を封入し
た後、紫外線光等のエネルギー線を照射する事により光
硬化性化合物を硬化させるという、紫外線硬化技術によ
り液晶化合物と光硬化性化合物とを相分離させ製造する
ことができる。
【０００８】しかしながら、反射型の液晶表示装置にあ
っては、アレイ基板が光を通さないないため、アレイ基
板側からの紫外線照射により製造することができない。
更に対向基板側にカラーフィルタを設けてしまうと、ア
レイ基板側及び対向基板側のいずれからも紫外線照射に
よる製造が不可能となってしまう。
っては、アレイ基板が光を通さないないため、アレイ基
板側からの紫外線照射により製造することができない。
更に対向基板側にカラーフィルタを設けてしまうと、ア
レイ基板側及び対向基板側のいずれからも紫外線照射に
よる製造が不可能となってしまう。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は上記課
題を除去するもので、ＴＦＴを搭載し高分子分散型液晶
を用い、且つ、単板式にてカラー画像を得るため、カラ
ーフィルタを搭載するにもかかわらず、液晶セル中の高
分子分散型液晶に紫外線光等のエネルギー線を充分に照
射出来、反射型液晶表示装置を容易に得る事が出来る事
から、明るく且つコントラスト比の高い良質の画像を得
られると共に、これを用いて低価格にてカラープロジェ
クタ等を得る事ができる反射型液晶表示装置を提供する
事を目的とする。
題を除去するもので、ＴＦＴを搭載し高分子分散型液晶
を用い、且つ、単板式にてカラー画像を得るため、カラ
ーフィルタを搭載するにもかかわらず、液晶セル中の高
分子分散型液晶に紫外線光等のエネルギー線を充分に照
射出来、反射型液晶表示装置を容易に得る事が出来る事
から、明るく且つコントラスト比の高い良質の画像を得
られると共に、これを用いて低価格にてカラープロジェ
クタ等を得る事ができる反射型液晶表示装置を提供する
事を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１の液晶表示装置
は、対向電極を有する第２の電極基板と、この第２の電
極基板に対向して設けられる第１の電極基板と、この第
１の電極基板の基板面にマトリクス状に形成され、前記
第２の電極基板側から入射される入射光のうち、不要な
分光々を透過させ、必要な分光々を反射させる色分離層
と不要な光を吸収する光吸収層とを有する画素部と、前
記第１の電極基板の基板面に前記画素部毎に対応して設
けられるスイッチ素子と、前記第１の電極基板及び前記
第２の電極基板の間に封入される高分子分散型液晶とを
具備する事を特徴としている。
は、対向電極を有する第２の電極基板と、この第２の電
極基板に対向して設けられる第１の電極基板と、この第
１の電極基板の基板面にマトリクス状に形成され、前記
第２の電極基板側から入射される入射光のうち、不要な
分光々を透過させ、必要な分光々を反射させる色分離層
と不要な光を吸収する光吸収層とを有する画素部と、前
記第１の電極基板の基板面に前記画素部毎に対応して設
けられるスイッチ素子と、前記第１の電極基板及び前記
第２の電極基板の間に封入される高分子分散型液晶とを
具備する事を特徴としている。
【００１１】請求項２に記載される発明は、対向電極を
有する第２の電極基板と、この第２の電極基板に対向し
て設けられる第１の電極基板と、この第１の電極基板の
基板面にマトリクス状に形成され、前記第２の電極基板
側から入射される入射光のうち、不要な分光々を透過さ
せ、必要な分光々を反射させる色分離層と不要な光を透
光する光透光層とを有する画素部と、前記第１の電極基
板の基板面に前記画素部毎に対応して設けられるスイッ
チ素子と、前記第１の電極基板の前記基板面と相対する
面に設けられる反射層と、前記第１の電極基板及び前記
第２の電極基板の間に封入される高分子分散型液晶とを
具備する事を特徴としている。
有する第２の電極基板と、この第２の電極基板に対向し
て設けられる第１の電極基板と、この第１の電極基板の
基板面にマトリクス状に形成され、前記第２の電極基板
側から入射される入射光のうち、不要な分光々を透過さ
せ、必要な分光々を反射させる色分離層と不要な光を透
光する光透光層とを有する画素部と、前記第１の電極基
板の基板面に前記画素部毎に対応して設けられるスイッ
チ素子と、前記第１の電極基板の前記基板面と相対する
面に設けられる反射層と、前記第１の電極基板及び前記
第２の電極基板の間に封入される高分子分散型液晶とを
具備する事を特徴としている。
【００１２】
【作用】本発明によれば、カラー画像対応の反射型液晶
表示装置のカラーフィルタを、対向電極側では無く、画
素電極側に設ける事により、液晶セル中の高分子分散型
液晶に紫外線光を照射して光硬化させる際に、対向電極
側に紫外線光を遮るカラーフィルタが無いので、高分子
分散型液晶を充分に光硬化出来、液晶を確実に相分離出
来るので、高分子分散型液晶は十分な光散乱能を保持す
る事となる。
表示装置のカラーフィルタを、対向電極側では無く、画
素電極側に設ける事により、液晶セル中の高分子分散型
液晶に紫外線光を照射して光硬化させる際に、対向電極
側に紫外線光を遮るカラーフィルタが無いので、高分子
分散型液晶を充分に光硬化出来、液晶を確実に相分離出
来るので、高分子分散型液晶は十分な光散乱能を保持す
る事となる。
【００１３】すなわち、ＴＦＴにより駆動を行う高分子
分散型液晶を用い、且つカラーフィルタを搭載する反射
型液晶表示装置の製造を可能とし、十分な明るさが得ら
れ、且つコントラスト比の良い良質の画像を容易に得る
事が出来るものであり、この結果、低価格の単板式の液
晶カラープロジェクタ装置等を実現可能とするものであ
る。
分散型液晶を用い、且つカラーフィルタを搭載する反射
型液晶表示装置の製造を可能とし、十分な明るさが得ら
れ、且つコントラスト比の良い良質の画像を容易に得る
事が出来るものであり、この結果、低価格の単板式の液
晶カラープロジェクタ装置等を実現可能とするものであ
る。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の第１の実施例を図１乃至図３
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【００１５】１０は、多結晶シリコンＴＦＴを用いた駆
動回路一体型の高分子分散型の反射型液晶表示装置であ
り、図２に示す様に一対の電極基板１０１、２０１間に
保護膜１２０、２２０を介して高分子分散型の液晶層１
５０が保持されている。
動回路一体型の高分子分散型の反射型液晶表示装置であ
り、図２に示す様に一対の電極基板１０１、２０１間に
保護膜１２０、２２０を介して高分子分散型の液晶層１
５０が保持されている。
【００１６】第１の電極基板１０１は、透明な石英基板
１０２上に第１遮光膜１０３が配置され、第１遮光膜１
０３は第１絶縁膜１０４で被覆されている。
１０２上に第１遮光膜１０３が配置され、第１遮光膜１
０３は第１絶縁膜１０４で被覆されている。
【００１７】そして第１絶縁膜１０４上には複数本の信
号線１０６と走査線１０７とがマトリクス状に配置さ
れ、各交点部分にＴＦＴ１７０が配置されている。
号線１０６と走査線１０７とがマトリクス状に配置さ
れ、各交点部分にＴＦＴ１７０が配置されている。
【００１８】このＴＦＴ１７０にあっては、石英基板１
０２上にチャネル領域１０８Ｃ、ソース領域１０８Ｓ、
ドレイン領域１０８Ｄ、不純物イオン濃度がソース領域
１０８Ｓに比べて低い第１電界緩和領域１０８ＳＳ、第
２電界緩和領域１０８ＤＤからなる多結晶シリコン膜１
０８が設けられている。
０２上にチャネル領域１０８Ｃ、ソース領域１０８Ｓ、
ドレイン領域１０８Ｄ、不純物イオン濃度がソース領域
１０８Ｓに比べて低い第１電界緩和領域１０８ＳＳ、第
２電界緩和領域１０８ＤＤからなる多結晶シリコン膜１
０８が設けられている。
【００１９】そしてチャネル領域１０８Ｃ上には、第２
絶縁膜１１０を介して後述する走査線１０７と一対のゲ
ート電極１０７Ｇが配置され、多結晶シリコン膜１０８
上には、第２絶縁膜１１０を介してゲート電極１０７Ｇ
と同一工程で形成された画素電位保持容量線１１１が設
けられ、多結晶シリコン膜１０８と画素電位保持容量線
１１１との間で画素電位保持容量が形成されている。
絶縁膜１１０を介して後述する走査線１０７と一対のゲ
ート電極１０７Ｇが配置され、多結晶シリコン膜１０８
上には、第２絶縁膜１１０を介してゲート電極１０７Ｇ
と同一工程で形成された画素電位保持容量線１１１が設
けられ、多結晶シリコン膜１０８と画素電位保持容量線
１１１との間で画素電位保持容量が形成されている。
【００２０】更にこの上に第３絶縁膜１１２が配置さ
れ、第１のコンタクトホール１１３を介してドレイン領
域１０８Ｄと信号線１０６とが接続され、その上に第４
絶縁膜１１５を介し第２遮光膜１１９ａと光吸収層１１
９ｂが配置されている。
れ、第１のコンタクトホール１１３を介してドレイン領
域１０８Ｄと信号線１０６とが接続され、その上に第４
絶縁膜１１５を介し第２遮光膜１１９ａと光吸収層１１
９ｂが配置されている。
【００２１】又第２のコンタクトホール１１４及び接続
用のアルミニウム（Ａｌ）を介してＩｎｄｉｕｍ Ｔｉ
ｎ Ｏｘｉｄｅ（以下ＩＴＯと省略する。）からなる画
素電極１１６とソース領域１０８Ｓとが接続されてい
る。
用のアルミニウム（Ａｌ）を介してＩｎｄｉｕｍ Ｔｉ
ｎ Ｏｘｉｄｅ（以下ＩＴＯと省略する。）からなる画
素電極１１６とソース領域１０８Ｓとが接続されてい
る。
【００２２】そして画素電極１１６上に色分離層である
光干渉膜１１７を設ける。ここで干渉膜は、各画素の色
に応じて必要な色を反射して画像表示に用いる一方、不
要な色は透過するものであり、蒸着法を用いて多層の誘
電体薄膜を均等厚に成膜した後、赤、青、緑の各画素の
色に対応して必要な厚さとなるようエッチングを行った
ものである。
光干渉膜１１７を設ける。ここで干渉膜は、各画素の色
に応じて必要な色を反射して画像表示に用いる一方、不
要な色は透過するものであり、蒸着法を用いて多層の誘
電体薄膜を均等厚に成膜した後、赤、青、緑の各画素の
色に対応して必要な厚さとなるようエッチングを行った
ものである。
【００２３】更に最後に光干渉膜１１７上に保護膜１２
０を成膜し、第１の電極基板１０１を完成する。
０を成膜し、第１の電極基板１０１を完成する。
【００２４】尚本実施例における第１の電極基板１０１
は、図１に示す様に２本の走査線１０７が１組として近
接配置され、走査線１０７を介する事無く、信号線１０
６に沿って隣り合う画素電極１１６に共通な画素電位保
持容量線１１１が設けられている。これにより、画素電
位保持容量線１１１数を低減出来、又ＴＦＴ１７０と信
号線１０６との第１のコンタクトホール１１３が、近接
配置されたＴＦＴ１７０に関しては共通化されているた
め、第１のコンタクトホール１１３の数も低減出来、液
晶表示装置１０の開口率は高く保持されている。
は、図１に示す様に２本の走査線１０７が１組として近
接配置され、走査線１０７を介する事無く、信号線１０
６に沿って隣り合う画素電極１１６に共通な画素電位保
持容量線１１１が設けられている。これにより、画素電
位保持容量線１１１数を低減出来、又ＴＦＴ１７０と信
号線１０６との第１のコンタクトホール１１３が、近接
配置されたＴＦＴ１７０に関しては共通化されているた
め、第１のコンタクトホール１１３の数も低減出来、液
晶表示装置１０の開口率は高く保持されている。
【００２５】一方、第２の電極基板２０１は、第１の反
射防止層２０８を有する透明な石英基板２０２上に第１
の電極基板１０１側のＴＦＴ１７０、信号線１０６、走
査線１０７、画素電極１１６と信号線１０６との間、画
素電極１１６と走査線１０７との間を全て遮光するため
のマトリクス状のクロム［Ｃｒ］製の第３遮光膜２０３
が第２の反射防止層２０４を介し配置されている。
射防止層２０８を有する透明な石英基板２０２上に第１
の電極基板１０１側のＴＦＴ１７０、信号線１０６、走
査線１０７、画素電極１１６と信号線１０６との間、画
素電極１１６と走査線１０７との間を全て遮光するため
のマトリクス状のクロム［Ｃｒ］製の第３遮光膜２０３
が第２の反射防止層２０４を介し配置されている。
【００２６】更に、ＩＴＯからなる対向電極２０６及び
保護膜２２０が配置されている。
保護膜２２０が配置されている。
【００２７】そしてこの様に形成された第１及び第２の
電極基板１０１、２０１を常法に従って対向して組み立
て、セル化し、両電極基板１０１、２０１間に高分子分
散型液晶からなる液晶層１５０を注入し、封止する。
電極基板１０１、２０１を常法に従って対向して組み立
て、セル化し、両電極基板１０１、２０１間に高分子分
散型液晶からなる液晶層１５０を注入し、封止する。
【００２８】次いで第２の電極基板２０１側から紫外線
光を照射し、液晶材料と紫外線硬化樹脂とを相分離させ
て、液晶層１５０を形成し反射型液晶表示装置１０を完
成する。
光を照射し、液晶材料と紫外線硬化樹脂とを相分離させ
て、液晶層１５０を形成し反射型液晶表示装置１０を完
成する。
【００２９】この様にして形成した反射型液晶表示装置
１０では、第２の電極基板２０１側より光が入射される
と、画素電極１１６に対応した各画素毎の光干渉膜１１
７により所望の光が第２の電極基板２０１側に反射され
る一方、残りの不要な光成分は画素電極を透過し、光吸
収層で吸収され、所望のカラー画像が得られる事とな
る。光吸収層は黒色レジスト等で形成すればよく、色分
離層と画素電極の間に形成してもよい。
１０では、第２の電極基板２０１側より光が入射される
と、画素電極１１６に対応した各画素毎の光干渉膜１１
７により所望の光が第２の電極基板２０１側に反射され
る一方、残りの不要な光成分は画素電極を透過し、光吸
収層で吸収され、所望のカラー画像が得られる事とな
る。光吸収層は黒色レジスト等で形成すればよく、色分
離層と画素電極の間に形成してもよい。
【００３０】この様に構成すれば、第２の電極基板２０
１側から入射された光は、第１の電極基板１０１側に設
けられる光干渉膜１１７により色分離が成されるので、
第２の電極基板２０１側には従来の様なカラーフィルタ
を設ける必要が無くなる。
１側から入射された光は、第１の電極基板１０１側に設
けられる光干渉膜１１７により色分離が成されるので、
第２の電極基板２０１側には従来の様なカラーフィルタ
を設ける必要が無くなる。
【００３１】従って、液晶セル形成後の紫外線照射時、
第２の電極基板２０１側から照射される紫外線光が従来
の様にカラーフィルタにより遮られる事が無く、液晶セ
ル中の高分子分散型液晶を充分に光硬化出来、液晶の相
分離を確実に出来るので、高分子分散型液晶は十分な光
散乱能を保持でき、カラー画像対応の、ＴＦＴ制御の高
分子分散型液晶を用いた反射型液晶表示装置を容易に得
る事が出来る。
第２の電極基板２０１側から照射される紫外線光が従来
の様にカラーフィルタにより遮られる事が無く、液晶セ
ル中の高分子分散型液晶を充分に光硬化出来、液晶の相
分離を確実に出来るので、高分子分散型液晶は十分な光
散乱能を保持でき、カラー画像対応の、ＴＦＴ制御の高
分子分散型液晶を用いた反射型液晶表示装置を容易に得
る事が出来る。
【００３２】更に、色分離層が光干渉膜１１７であるこ
とから、染料等を用いたフィルム状の通常のカラーフィ
ルタに比し、耐光性に優れ、且つ光干渉膜１１７が画素
電極１１６と一体に形成される事から、対向電極側に設
けられる場合に比し、画素電極１１６との合わせ精度を
向上出来る。
とから、染料等を用いたフィルム状の通常のカラーフィ
ルタに比し、耐光性に優れ、且つ光干渉膜１１７が画素
電極１１６と一体に形成される事から、対向電極側に設
けられる場合に比し、画素電極１１６との合わせ精度を
向上出来る。
【００３３】そしてこの反射型液晶表示装置１０を用い
る事により、単板式であり、低価格、且つ十分な明るさ
を有し、しかもコントラスト比の良い液晶カラープロジ
ェクタの実現が可能となる。
る事により、単板式であり、低価格、且つ十分な明るさ
を有し、しかもコントラスト比の良い液晶カラープロジ
ェクタの実現が可能となる。
【００３４】次に本発明の第２の実施例を図４及び図５
を参照して説明する。本実施例は、第１の実施例の反射
型液晶表示装置２０の第１の電極基板１０１の光出射界
面に反射膜１２１を成膜したものであり、他は第１の実
施例と同様である事から同一部分については同一符号を
付しその説明を省略する。
を参照して説明する。本実施例は、第１の実施例の反射
型液晶表示装置２０の第１の電極基板１０１の光出射界
面に反射膜１２１を成膜したものであり、他は第１の実
施例と同様である事から同一部分については同一符号を
付しその説明を省略する。
【００３５】すなわち本実施例は、第１の電極基板１０
１の画素電極１１６及びＴＦＴ１７０が形成される基板
面と相対する面に反射膜１２１が形成されるものであ
る。
１の画素電極１１６及びＴＦＴ１７０が形成される基板
面と相対する面に反射膜１２１が形成されるものであ
る。
【００３６】そしてこの反射膜１２１は、光干渉膜１１
７を透過された、画像表示に不要な光を再度入射方向に
反射させるが、ここで不要な光とは、例えば必要な光が
緑である場合、赤及び青が不要な光となる。但しこの赤
及び青の不要な光は、隣接する画素電極１１６にとって
は、それぞれ必要な光であり、これ等の光を隣接する画
素電極１１６側に反射すると、それぞれ隣接する光干渉
膜１１７により再度色分離が為され、再度、赤のみある
いは青のみを反射させる光干渉膜１１７を透過して、表
示に寄与する事となり、ひいては色純度は低下されるが
画像の明るさが増大される事となる。
７を透過された、画像表示に不要な光を再度入射方向に
反射させるが、ここで不要な光とは、例えば必要な光が
緑である場合、赤及び青が不要な光となる。但しこの赤
及び青の不要な光は、隣接する画素電極１１６にとって
は、それぞれ必要な光であり、これ等の光を隣接する画
素電極１１６側に反射すると、それぞれ隣接する光干渉
膜１１７により再度色分離が為され、再度、赤のみある
いは青のみを反射させる光干渉膜１１７を透過して、表
示に寄与する事となり、ひいては色純度は低下されるが
画像の明るさが増大される事となる。
【００３７】この様に構成すれば、第１の実施例と同様
第２の電極基板２０１側からの紫外線光が遮られる事が
なく、液晶セル中の高分子分散型液晶を充分に光硬化出
来、液晶を相分離出来るので、高分子分散型液晶は十分
な光散乱能を保持できる。
第２の電極基板２０１側からの紫外線光が遮られる事が
なく、液晶セル中の高分子分散型液晶を充分に光硬化出
来、液晶を相分離出来るので、高分子分散型液晶は十分
な光散乱能を保持できる。
【００３８】更に反射膜１２１により、従来不要とされ
第１の電極基板１０１より出射されていた光が再度画像
表示に使用されるので、より明るく、且つコントラスト
比の良いより良質の画像を容易に得る事が出来るもので
ある。
第１の電極基板１０１より出射されていた光が再度画像
表示に使用されるので、より明るく、且つコントラスト
比の良いより良質の画像を容易に得る事が出来るもので
ある。
【００３９】尚本発明は上記実施例に限られるものでな
く、その趣旨を変えない範囲での変更は可能であって、
例えばＴＦＴは非晶質シリコンＴＦＴであっても良い。
く、その趣旨を変えない範囲での変更は可能であって、
例えばＴＦＴは非晶質シリコンＴＦＴであっても良い。
【００４０】又色分離層は、干渉膜では無く通常のカラ
ーフィルタで形成し、画素電極にて光を反射するように
しても良い。
ーフィルタで形成し、画素電極にて光を反射するように
しても良い。
【００４１】又、色分離層は画素電極に対応して形成さ
れていれば、画素電極の上側あるいは下側のいづれにあ
っても良い。
れていれば、画素電極の上側あるいは下側のいづれにあ
っても良い。
【００４２】更に第１の電極基板及び第２の電極基板の
構造等任意であり、例えば、実施例における第１の電極
基板１０１上の第２遮光膜１１９が遮光性が充分で且つ
反射率が低く、ＴＦＴ１７０の光リーク電流を確実に防
止出来るものであれば、第２の電極基板２０１上の第２
遮光膜２０３を省略しても良い。この様にすれば、第２
の電極基板２０１上には紫外線光を遮るものが全て無く
なるので、液晶セル中の高分子分散型液晶を完全に光硬
化する事が可能となる。またＴＦＴ１７０は、画素電極
の下に形成してもよい。
構造等任意であり、例えば、実施例における第１の電極
基板１０１上の第２遮光膜１１９が遮光性が充分で且つ
反射率が低く、ＴＦＴ１７０の光リーク電流を確実に防
止出来るものであれば、第２の電極基板２０１上の第２
遮光膜２０３を省略しても良い。この様にすれば、第２
の電極基板２０１上には紫外線光を遮るものが全て無く
なるので、液晶セル中の高分子分散型液晶を完全に光硬
化する事が可能となる。またＴＦＴ１７０は、画素電極
の下に形成してもよい。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、カ
ラー画像対応の反射型液晶表示装置の高分子分散型液晶
の光硬化時、第２の電極基板側より紫外線光を照射して
も、紫外線光がカラーフィルタに遮られる事無く光硬化
を行えるので高分子分散型液晶は、良好な相分離が為さ
れ、十分な光散乱能を容易に得ることができ、明るく且
つコントラスト比の良い良好な画像を得ることが出来
る。
ラー画像対応の反射型液晶表示装置の高分子分散型液晶
の光硬化時、第２の電極基板側より紫外線光を照射して
も、紫外線光がカラーフィルタに遮られる事無く光硬化
を行えるので高分子分散型液晶は、良好な相分離が為さ
れ、十分な光散乱能を容易に得ることができ、明るく且
つコントラスト比の良い良好な画像を得ることが出来
る。
【００４４】従って、従来製造が困難とされていた、カ
ラー画像対応のＴＦＴ駆動である高分子分散型液晶を用
いた反射型液晶表示装置を容易に製造出来、ひいてはこ
の様な反射型液晶表示装置を、高性能が要求される液晶
カラープロジェクタに適用しても、単板式で液晶カラー
プロジェクタ装置を実現出来る事から、高性能でありな
がら低価格化を図る事も可能となる。
ラー画像対応のＴＦＴ駆動である高分子分散型液晶を用
いた反射型液晶表示装置を容易に製造出来、ひいてはこ
の様な反射型液晶表示装置を、高性能が要求される液晶
カラープロジェクタに適用しても、単板式で液晶カラー
プロジェクタ装置を実現出来る事から、高性能でありな
がら低価格化を図る事も可能となる。
【図１】本発明の第１の実施例の反射型液晶表示装置の
第１の電極基板を示す概略平面図である。
第１の電極基板を示す概略平面図である。
【図２】本発明の第１の実施例の反射型液晶表示装置の
図１におけるＡ−Ａ´線に沿って切断された概略断面図
である。
図１におけるＡ−Ａ´線に沿って切断された概略断面図
である。
【図３】本発明の第１の実施例の反射型液晶表示装置に
より画像が表示される状態を示す概略説明図である。
より画像が表示される状態を示す概略説明図である。
【図４】本発明の第２の実施例の概略断面図である。
【図５】本発明の第２の実施例の反射型液晶表示装置に
より画像が表示される状態を示す概略説明図である。．
より画像が表示される状態を示す概略説明図である。．
１０…液晶表示装置 １０１…第１の電極基板 １１６…画素電極 １１７…光干渉膜 １５０…液晶層 １７０…ＴＦＴ ２０１…第２の電極基板 ２０２…電極支持基板
Claims (2)
- 【請求項１】 対向電極を有する第２の電極基板と、 この第２の電極基板に対向して設けられる第１の電極基
板と、 この第１の電極基板の基板面にマトリクス状に形成さ
れ、前記第２の電極基板側から入射される入射光のう
ち、不要な分光々を透過させ、必要な分光々を反射させ
る色分離層と不要な光を吸収する光吸収層とを有する画
素部と、 前記第１の電極基板の基板面に前記画素部毎に対応して
設けられるスイッチ素子と、 前記第１の電極基板及び前記第２の電極基板の間に封入
される高分子分散型液晶とを具備する事を特徴とする反
射型液晶表示装置。 - 【請求項２】 対向電極を有する第２の電極基板と、 この第２の電極基板に対向して設けられる第１の電極基
板と、 この第１の電極基板の基板面にマトリクス状に形成さ
れ、前記第２の電極基板側から入射される入射光のう
ち、不要な分光々を透過させ、必要な分光々を反射、さ
せる色分離層と不要な光を透光する光透光層とを有する
画素部と、 前記第１の電極基板の基板面に前記画素部毎に対応して
設けられるスイッチ素子と、 前記第１の電極基板の前記基板面と相対する面に設けら
れる反射層と、 前記第１の電極基板及び前記第２の電極基板の間に封入
される高分子分散型液晶とを具備する事を特徴とする反
射型液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9899494A JPH07306402A (ja) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | 反射型液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9899494A JPH07306402A (ja) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | 反射型液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07306402A true JPH07306402A (ja) | 1995-11-21 |
Family
ID=14234542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9899494A Pending JPH07306402A (ja) | 1994-05-13 | 1994-05-13 | 反射型液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07306402A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0814366A3 (en) * | 1996-06-20 | 1998-10-28 | Seiko Instruments Inc. | Reflection type liquid crystal display device |
| US6618104B1 (en) | 1998-07-28 | 2003-09-09 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical device having reverse mode holographic PDLC and front light guide |
| US6819393B1 (en) | 1998-07-28 | 2004-11-16 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical device and display apparatus using light diffraction and light guide |
| JP2005526272A (ja) * | 2002-05-14 | 2005-09-02 | キノプティクス インコーポレイテッド | シリコン・ベースのカラー液晶表示デバイス |
| US8518498B2 (en) | 2009-09-02 | 2013-08-27 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and manufacturing method thereof |
-
1994
- 1994-05-13 JP JP9899494A patent/JPH07306402A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0814366A3 (en) * | 1996-06-20 | 1998-10-28 | Seiko Instruments Inc. | Reflection type liquid crystal display device |
| US6618104B1 (en) | 1998-07-28 | 2003-09-09 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical device having reverse mode holographic PDLC and front light guide |
| US6819393B1 (en) | 1998-07-28 | 2004-11-16 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical device and display apparatus using light diffraction and light guide |
| US6836314B2 (en) | 1998-07-28 | 2004-12-28 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Optical device and display apparatus having a plate-shaped light guide and an optical control surface thereon |
| JP2005526272A (ja) * | 2002-05-14 | 2005-09-02 | キノプティクス インコーポレイテッド | シリコン・ベースのカラー液晶表示デバイス |
| US8518498B2 (en) | 2009-09-02 | 2013-08-27 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display and manufacturing method thereof |
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