JPH07309937A - ポリエステルの製造方法 - Google Patents
ポリエステルの製造方法Info
- Publication number
- JPH07309937A JPH07309937A JP12702794A JP12702794A JPH07309937A JP H07309937 A JPH07309937 A JP H07309937A JP 12702794 A JP12702794 A JP 12702794A JP 12702794 A JP12702794 A JP 12702794A JP H07309937 A JPH07309937 A JP H07309937A
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- hydrocarbon group
- aromatic
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 エステル化又はエステル交換触媒の存在下
で、ジカルボン酸のジアルキルエステルと、ポリカーボ
ネート及び／又は芳香族ジアルキルジカーボネートを反
応させてポリエステルを製造するに際し、安定剤を添加
することを特徴とするポリエステルの製造方法。 【効果】 着色度が少ないポリエステルが得られる。
で、ジカルボン酸のジアルキルエステルと、ポリカーボ
ネート及び／又は芳香族ジアルキルジカーボネートを反
応させてポリエステルを製造するに際し、安定剤を添加
することを特徴とするポリエステルの製造方法。 【効果】 着色度が少ないポリエステルが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポリエステルの新規な製
造方法に関するものである。更に詳しくは、ジカルボン
酸のジアルキルエステルと、ポリカーボネート及び／又
は芳香族ジアルキルジカーボネートを反応せしめてポリ
エステルを製造するに際し、特定の安定剤を添加するこ
とを特徴とする低着色ポリエステルの製造方法に関す
る。
造方法に関するものである。更に詳しくは、ジカルボン
酸のジアルキルエステルと、ポリカーボネート及び／又
は芳香族ジアルキルジカーボネートを反応せしめてポリ
エステルを製造するに際し、特定の安定剤を添加するこ
とを特徴とする低着色ポリエステルの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】熱可塑性ポリエステルを製造する方法は
種々知られているが、最も一般的な方法は、ジカルボン
酸とジオールを触媒の存在下で溶融重縮合反応させるも
のである。しかし、該方法はジオールとしてエチレング
リコール等に代表される脂肪族のジオールを用いるポリ
エステルの製造には有効であるものの、２，２′−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以下、ビスフェ
ノールＡと記載する場合がある。）等に代表される芳香
族のジオールを用いるポリエステルの製造においては、
芳香族ジオールの反応性が乏しく、重合度の高いポリエ
ステルを得ようとすると厳しい条件での反応が必要とな
り、その結果得られたポリマーの着色が激しいという問
題があった。
種々知られているが、最も一般的な方法は、ジカルボン
酸とジオールを触媒の存在下で溶融重縮合反応させるも
のである。しかし、該方法はジオールとしてエチレング
リコール等に代表される脂肪族のジオールを用いるポリ
エステルの製造には有効であるものの、２，２′−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以下、ビスフェ
ノールＡと記載する場合がある。）等に代表される芳香
族のジオールを用いるポリエステルの製造においては、
芳香族ジオールの反応性が乏しく、重合度の高いポリエ
ステルを得ようとすると厳しい条件での反応が必要とな
り、その結果得られたポリマーの着色が激しいという問
題があった。
【０００３】このような問題を回避するために、特開平
５−２６２８６４号は、芳香族ジカルボン酸のジアルキ
ルエステルと芳香族ポリカーボネート及び／又は芳香族
ジアルキルジカーボネートとを反応させる芳香族ポリエ
ステルの製造方法を記載している。しかし、この方法で
は反応条件は穏和になるものの、例示されているＴｉ又
はＺｒ系の触媒を用いた場合には、重縮合後のポリエス
テルの着色が激しいという問題があった。最近Ｓｎ又は
Ｚｎ系触媒が前記の芳香族ポリエステルの製造において
Ｔｉ系触媒と比較すると着色の低減に対して若干の効果
があることが明らかにされているが、特に透明性を要求
される分野においては低減効果が未だ充分ではないとい
う問題があった。
５−２６２８６４号は、芳香族ジカルボン酸のジアルキ
ルエステルと芳香族ポリカーボネート及び／又は芳香族
ジアルキルジカーボネートとを反応させる芳香族ポリエ
ステルの製造方法を記載している。しかし、この方法で
は反応条件は穏和になるものの、例示されているＴｉ又
はＺｒ系の触媒を用いた場合には、重縮合後のポリエス
テルの着色が激しいという問題があった。最近Ｓｎ又は
Ｚｎ系触媒が前記の芳香族ポリエステルの製造において
Ｔｉ系触媒と比較すると着色の低減に対して若干の効果
があることが明らかにされているが、特に透明性を要求
される分野においては低減効果が未だ充分ではないとい
う問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来のポリエステルの製造方法が有する欠点を克服し、
低着色ポリエステルの新規製造方法を提供することを目
的としてなされたものである。
従来のポリエステルの製造方法が有する欠点を克服し、
低着色ポリエステルの新規製造方法を提供することを目
的としてなされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記目的を
達成するために鋭意研究を重ねた結果、芳香族ジカルボ
ン酸のジアルキルエステルと芳香族ポリカーボネート及
び／又は芳香族ジアルキルカーボネートの重合におい
て、重合時の任意の時点で、特定の安定剤を添加するこ
とにより、着色が大幅に低減したポリエステルが製造可
能であり、上記目的を達成しうることを見いだし本発明
を完成するに至った。
達成するために鋭意研究を重ねた結果、芳香族ジカルボ
ン酸のジアルキルエステルと芳香族ポリカーボネート及
び／又は芳香族ジアルキルカーボネートの重合におい
て、重合時の任意の時点で、特定の安定剤を添加するこ
とにより、着色が大幅に低減したポリエステルが製造可
能であり、上記目的を達成しうることを見いだし本発明
を完成するに至った。
【０００６】即ち、本発明はエステル化又はエステル交
換触媒の存在下で、ジカルボン酸のジアルキルエステル
と、ポリカーボネート及び／又は芳香族ジアルキルジカ
ーボネートを反応させてポリエステルを製造するに際
し、安定剤を添加することを特徴とする低着色ポリエス
テルの製造方法を内容とする。
換触媒の存在下で、ジカルボン酸のジアルキルエステル
と、ポリカーボネート及び／又は芳香族ジアルキルジカ
ーボネートを反応させてポリエステルを製造するに際
し、安定剤を添加することを特徴とする低着色ポリエス
テルの製造方法を内容とする。
【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、原料として使用されるポリカーボネートとして
は、一般式（Ｉ）で表される化合物を挙げることができ
る。
おいて、原料として使用されるポリカーボネートとして
は、一般式（Ｉ）で表される化合物を挙げることができ
る。
【０００８】
【化４】
【０００９】〔一般式（Ｉ）中のＲ1 は２価の芳香族炭
化水素基、Ｒ2 −Ｘ−Ｒ3 基（但し、Ｒ2 及びＲ3 は２
価の芳香族炭化水素基であり、Ｘは酸素原子、スルホニ
ル基、カルボニル基、炭化水素基、エステル基又は直接
結合を示す。）を示し（但し、芳香族環の水素原子はハ
ロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基又はフェノキシ
基等で置換されていてもよい。）、ａは正の整数を示
す。但しＲ1 は１種に限定されるものではなく、２種以
上の共重合体であってもよい。〕 本発明に用いられるポリカーボネートとしては、物性と
コストのバランスからビスフェノールＡに基づくポリカ
ーボネートが特に好ましい。
化水素基、Ｒ2 −Ｘ−Ｒ3 基（但し、Ｒ2 及びＲ3 は２
価の芳香族炭化水素基であり、Ｘは酸素原子、スルホニ
ル基、カルボニル基、炭化水素基、エステル基又は直接
結合を示す。）を示し（但し、芳香族環の水素原子はハ
ロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基又はフェノキシ
基等で置換されていてもよい。）、ａは正の整数を示
す。但しＲ1 は１種に限定されるものではなく、２種以
上の共重合体であってもよい。〕 本発明に用いられるポリカーボネートとしては、物性と
コストのバランスからビスフェノールＡに基づくポリカ
ーボネートが特に好ましい。
【００１０】また、本発明において使用される芳香族ジ
アルキルジカーボネートとしては、一般式（II) で示さ
れる化合物を挙げることができる。
アルキルジカーボネートとしては、一般式（II) で示さ
れる化合物を挙げることができる。
【００１１】
【化５】
【００１２】〔一般式（II）中のＲ4 は２価の芳香族炭
化水素基、Ｒ6 −Ｘ−Ｒ7 基（但し、Ｒ6 及びＲ7 は２
価の芳香族炭化水素基であり、Ｘは酸素原子、スルホニ
ル基、カルボニル基、炭化水素基、エステル基又は直接
結合を示す。）を示し（但し、芳香族環の水素原子はハ
ロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基又はフェノキシ
基等で置換されていてもよい。）、Ｒ5 は炭素数１〜４
の脂肪族炭化水素基又は炭素数６〜１０の芳香族炭化水
素基を示す。〕
化水素基、Ｒ6 −Ｘ−Ｒ7 基（但し、Ｒ6 及びＲ7 は２
価の芳香族炭化水素基であり、Ｘは酸素原子、スルホニ
ル基、カルボニル基、炭化水素基、エステル基又は直接
結合を示す。）を示し（但し、芳香族環の水素原子はハ
ロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基又はフェノキシ
基等で置換されていてもよい。）、Ｒ5 は炭素数１〜４
の脂肪族炭化水素基又は炭素数６〜１０の芳香族炭化水
素基を示す。〕
【００１３】かかる化合物の具体例としては、以下に示
す芳香族ジオールのジメチル、ジエチル及びジフェニル
カーボネートを挙げることができる。即ち、芳香族ジオ
ールの具体例としては、例えば、ビスフェノールＡ、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジメチルフェニル）メタン、ビス（４
−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）メタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシ
ルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エ
タン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，
４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、ビス（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）エーテル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジメチルフェニル）スルホン、４，
４′−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、
テトラブロモビスフェノールＡ、テトラクロロビスフェ
ノールＡ、ジヒドロキシジフェニル、ハイドロキノン、
レゾルシノール、ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキ
シアントラセン、フェノールフタレイン、フェルオレセ
イン、２，２′−ジヒドロキシ−１，１−ジナフチルメ
タン、４，４′−ジヒドロキシジナフチル等が挙げられ
る。これらの中で入手の容易さから、ビスフェノールＡ
のジメチルカーボネートが特に好ましい。本発明におい
ては、上述のポリカーボネート及び芳香族ジアルキルジ
カーボネートは、それぞれ単独又は２種以上組み合わせ
て用いてもよいし、また両者を１種又は２種以上組み合
わせて用いてもよい。
す芳香族ジオールのジメチル、ジエチル及びジフェニル
カーボネートを挙げることができる。即ち、芳香族ジオ
ールの具体例としては、例えば、ビスフェノールＡ、ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジメチルフェニル）メタン、ビス（４
−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）メタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシ
ルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エ
タン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，
４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、ビス（４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）エーテル、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジメチルフェニル）スルホン、４，
４′−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、
テトラブロモビスフェノールＡ、テトラクロロビスフェ
ノールＡ、ジヒドロキシジフェニル、ハイドロキノン、
レゾルシノール、ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキ
シアントラセン、フェノールフタレイン、フェルオレセ
イン、２，２′−ジヒドロキシ−１，１−ジナフチルメ
タン、４，４′−ジヒドロキシジナフチル等が挙げられ
る。これらの中で入手の容易さから、ビスフェノールＡ
のジメチルカーボネートが特に好ましい。本発明におい
ては、上述のポリカーボネート及び芳香族ジアルキルジ
カーボネートは、それぞれ単独又は２種以上組み合わせ
て用いてもよいし、また両者を１種又は２種以上組み合
わせて用いてもよい。
【００１４】本発明において、もう一つの原料として使
用されるジカルボン酸のジアルキルエステルとしては、
一般式（III)で表される化合物を挙げることができる。
用されるジカルボン酸のジアルキルエステルとしては、
一般式（III)で表される化合物を挙げることができる。
【００１５】
【化６】
【００１６】〔一般式（III ）中のＲ8 は炭素数６〜１
０の２価の芳香族炭化水素基（但し、芳香族環の水素原
子はハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基又はフェ
ノキシ基等で置換されていてもよい。）、炭素数２〜２
０の脂肪族又は脂環式炭化水素基を示し、Ｒ9 は炭素数
１〜４の脂肪族炭化水素基又は炭素数６〜１０の芳香族
炭化水素基を示す。〕
０の２価の芳香族炭化水素基（但し、芳香族環の水素原
子はハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基又はフェ
ノキシ基等で置換されていてもよい。）、炭素数２〜２
０の脂肪族又は脂環式炭化水素基を示し、Ｒ9 は炭素数
１〜４の脂肪族炭化水素基又は炭素数６〜１０の芳香族
炭化水素基を示す。〕
【００１７】かかるジカルボン酸のジアルキルエステル
の具体例としては、以下に示すジカルボン酸のジメチ
ル、ジエチル、ジフェニルエステルを挙げることができ
る。即ち、ジカルボン酸の具体例としては、テレフタル
酸、メトキシテレフタル酸、エトキシテレフタル酸、フ
ルオロテレフタル酸、クロロテレフタル酸、メチルテレ
フタル酸、イソフタル酸、フタル酸、メトキシイソフタ
ル酸、ジフェニルメタン−４，４′−ジカルボン酸、ジ
フェニルメタン−３，３′−ジカルボン酸、ジフェニル
エーテル−４，４′−ジカルボン酸、ジフェニル−４，
４′−ジカルボン酸、ナフタレン−１，４−ジカルボン
酸、ナフタレン−１，５−ジカルボン酸、ナフタレン−
２，６−ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼ
ライン酸、スベリン酸、ドデカンジカルボン酸、３−メ
チルアゼライン酸、グルタル酸、コハク酸、シクロヘキ
サン−１，４−ジカルボン酸、シクロヘキサン−１，３
−ジカルボン酸、シクロペンタン−１，３−ジカルボン
酸等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、また
２種以上組み合わせて使用してもよい。これらの中で、
物性面、コスト面からテレフタル酸、イソフタル酸、ナ
フタレン−２，６−ジカルボン酸、シクロヘキサン−
１，４−ジカルボン酸、シクロヘキサン−１，３−ジカ
ルボン酸のジメチルエステルを単独又は２種以上組み合
わせて用いるのが特に好ましい。
の具体例としては、以下に示すジカルボン酸のジメチ
ル、ジエチル、ジフェニルエステルを挙げることができ
る。即ち、ジカルボン酸の具体例としては、テレフタル
酸、メトキシテレフタル酸、エトキシテレフタル酸、フ
ルオロテレフタル酸、クロロテレフタル酸、メチルテレ
フタル酸、イソフタル酸、フタル酸、メトキシイソフタ
ル酸、ジフェニルメタン−４，４′−ジカルボン酸、ジ
フェニルメタン−３，３′−ジカルボン酸、ジフェニル
エーテル−４，４′−ジカルボン酸、ジフェニル−４，
４′−ジカルボン酸、ナフタレン−１，４−ジカルボン
酸、ナフタレン−１，５−ジカルボン酸、ナフタレン−
２，６−ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼ
ライン酸、スベリン酸、ドデカンジカルボン酸、３−メ
チルアゼライン酸、グルタル酸、コハク酸、シクロヘキ
サン−１，４−ジカルボン酸、シクロヘキサン−１，３
−ジカルボン酸、シクロペンタン−１，３−ジカルボン
酸等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、また
２種以上組み合わせて使用してもよい。これらの中で、
物性面、コスト面からテレフタル酸、イソフタル酸、ナ
フタレン−２，６−ジカルボン酸、シクロヘキサン−
１，４−ジカルボン酸、シクロヘキサン−１，３−ジカ
ルボン酸のジメチルエステルを単独又は２種以上組み合
わせて用いるのが特に好ましい。
【００１８】本発明のポリエステルの製造方法は、ポリ
カーボネート及び／又は芳香族ジアルキルジカーボネー
トを触媒の存在下、ジカルボン酸のジアルキルエステル
と反応させることを特徴としている。本反応に用いられ
る触媒としては、一般に知られているエステル化及びエ
ステル交換触媒が使用できる。これらの触媒としては、
チタン化合物、スズ化合物、アンチモン化合物、コバル
ト化合物、ジルコニウム化合物、マグネシウム化合物、
マンガン化合物、ゲルマニウム化合物、アルミニウム化
合物、亜鉛化合物、カルシウム化合物、リチウム化合
物、ナトリウム化合物、カリウム化合物等が挙げられ
る。これらの中で反応活性の点からはチタン化合物、ス
ズ化合物、アンチモン化合物、ジルコニウム化合物、亜
鉛化合物が好ましい。
カーボネート及び／又は芳香族ジアルキルジカーボネー
トを触媒の存在下、ジカルボン酸のジアルキルエステル
と反応させることを特徴としている。本反応に用いられ
る触媒としては、一般に知られているエステル化及びエ
ステル交換触媒が使用できる。これらの触媒としては、
チタン化合物、スズ化合物、アンチモン化合物、コバル
ト化合物、ジルコニウム化合物、マグネシウム化合物、
マンガン化合物、ゲルマニウム化合物、アルミニウム化
合物、亜鉛化合物、カルシウム化合物、リチウム化合
物、ナトリウム化合物、カリウム化合物等が挙げられ
る。これらの中で反応活性の点からはチタン化合物、ス
ズ化合物、アンチモン化合物、ジルコニウム化合物、亜
鉛化合物が好ましい。
【００１９】かかる化合物の具体例としては、テトラ−
ｎ−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−
ｎ−ブトキシジルコニウム、二塩化スズ、酢酸スズ、四
塩化スズ、四臭化スズ、トリクロロブチルスズ、ジクロ
ロジブチルスズ、酸化ジブチルスズ、酸化ジフェニルス
ズ、酸化ジオクチルスズ、酸化ブチルヒドロキシスズ、
二酢酸ジブチルスズ、トリエトキシアンチモン、トリブ
トキシアンチモン、三酸化アンチモン、塩化亜鉛、臭化
亜鉛、ヨウ化亜鉛、酢酸亜鉛、炭酸亜鉛等が好ましい。
また、低着色であるという観点からはアルカリ金属化合
物、特にリチウム化合物が好ましい。かかるリチウム系
触媒の具体例としては、リチウム、水酸化リチウム、水
素化リチウム、リチウムアルミニウムハイドライド、酢
酸リチウム、及びフェノール、ビスフェノールＡ、安息
香酸、テレフタル酸、イソフタル酸等のリチウム塩が挙
げられる。これらの触媒の使用量は特に制限はないが、
反応性と物性のバランスから、生成ポリエステル１００
重量部に対し０．０００１〜１重量部、好ましくは０．
０００５〜０．１重量部使用される。
ｎ−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−
ｎ−ブトキシジルコニウム、二塩化スズ、酢酸スズ、四
塩化スズ、四臭化スズ、トリクロロブチルスズ、ジクロ
ロジブチルスズ、酸化ジブチルスズ、酸化ジフェニルス
ズ、酸化ジオクチルスズ、酸化ブチルヒドロキシスズ、
二酢酸ジブチルスズ、トリエトキシアンチモン、トリブ
トキシアンチモン、三酸化アンチモン、塩化亜鉛、臭化
亜鉛、ヨウ化亜鉛、酢酸亜鉛、炭酸亜鉛等が好ましい。
また、低着色であるという観点からはアルカリ金属化合
物、特にリチウム化合物が好ましい。かかるリチウム系
触媒の具体例としては、リチウム、水酸化リチウム、水
素化リチウム、リチウムアルミニウムハイドライド、酢
酸リチウム、及びフェノール、ビスフェノールＡ、安息
香酸、テレフタル酸、イソフタル酸等のリチウム塩が挙
げられる。これらの触媒の使用量は特に制限はないが、
反応性と物性のバランスから、生成ポリエステル１００
重量部に対し０．０００１〜１重量部、好ましくは０．
０００５〜０．１重量部使用される。
【００２０】本発明に用いられる安定剤としては、一般
に知られているポリエステル製造時の安定剤のうち特定
のものが使用される。これらの安定剤としては、具体的
にはリン系化合物、フェノール系化合物、チオエーテル
系化合物、アミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合
物及びエポキシ系化合物等を挙げることができ、これら
は単独又は２種以上組み合わせて用いられる。リン系化
合物としては、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ピロリ
ン酸、ポリリン酸、リン酸エステル及び亜リン酸エステ
ル等が挙げられ、これらは単独又は２種以上組み合わせ
て用いられる。
に知られているポリエステル製造時の安定剤のうち特定
のものが使用される。これらの安定剤としては、具体的
にはリン系化合物、フェノール系化合物、チオエーテル
系化合物、アミン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合
物及びエポキシ系化合物等を挙げることができ、これら
は単独又は２種以上組み合わせて用いられる。リン系化
合物としては、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、ピロリ
ン酸、ポリリン酸、リン酸エステル及び亜リン酸エステ
ル等が挙げられ、これらは単独又は２種以上組み合わせ
て用いられる。
【００２１】リン酸エステルとしては、例えば、トリメ
チルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチ
ルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリドデ
シルホスフェート、トリオクタデシルホスフェート、ジ
オクタデシルペンタエリスリチルジホスフェート、トリ
ス（２−クロロエチル）ホスフェート、トリス（２，３
−ジクロロプロピル）ホスフェート等のトリアルキスホ
スフェート、トリシクロヘキシルホスフェート等のトリ
シクロアルキルホスフェート、トリフェニルホスフェー
ト、トリクレジルホスフェート、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスフェート、２−エチルフェニルジフェニルホス
フェート等のトリアリールホスフェート等が挙げられ、
これらは単独又は２種以上組み合わせて用いられる。
チルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチ
ルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリドデ
シルホスフェート、トリオクタデシルホスフェート、ジ
オクタデシルペンタエリスリチルジホスフェート、トリ
ス（２−クロロエチル）ホスフェート、トリス（２，３
−ジクロロプロピル）ホスフェート等のトリアルキスホ
スフェート、トリシクロヘキシルホスフェート等のトリ
シクロアルキルホスフェート、トリフェニルホスフェー
ト、トリクレジルホスフェート、トリス（ノニルフェニ
ル）ホスフェート、２−エチルフェニルジフェニルホス
フェート等のトリアリールホスフェート等が挙げられ、
これらは単独又は２種以上組み合わせて用いられる。
【００２２】亜リン酸エステルとしては、例えば、トリ
メチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブ
チルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリス
（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリノニルホス
ファイト、トリドデシルホスファイト、トリオクタデシ
ルホスファイト、ジドデシルペンタエリスリチルジホス
ファイト、トリス（２−クロロエチル）ホスファイト、
トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスファイト等の
トリアルキルホスファイト、トリシクロヘキシルホスフ
ァイト等のトリシクロアルキルホスファイト、トリフェ
ニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス
（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフェニル）ホ
スファイト、トリス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ァイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホ
スファイト等のトリアリールホスファイト、フェニルジ
デシルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、
ジフェニルイソオクチルホスファイト、フェニルジイソ
オクチルホスファイト、２−エチルヘキシルジフェニル
ホスファイト、ジフェニルノニルフェニルホスファイト
等のアリールアルキルホスファイト、ジオクタデシルペ
ンタエリスリチルジホスファイト、ビス（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホスファイ
ト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニ
ル）ペンタエリスリチルジホスファイト等が挙げられ、
これらは単独又は２種以上組み合わせて用いられる。上
記リン系化合物のうち、亜リン酸エステルが好ましく、
その中でも芳香族亜リン酸エステルが好ましく、特にト
リス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト
が好ましい。
メチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブ
チルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリス
（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリノニルホス
ファイト、トリドデシルホスファイト、トリオクタデシ
ルホスファイト、ジドデシルペンタエリスリチルジホス
ファイト、トリス（２−クロロエチル）ホスファイト、
トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスファイト等の
トリアルキルホスファイト、トリシクロヘキシルホスフ
ァイト等のトリシクロアルキルホスファイト、トリフェ
ニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス
（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフェニル）ホ
スファイト、トリス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフ
ァイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホ
スファイト等のトリアリールホスファイト、フェニルジ
デシルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、
ジフェニルイソオクチルホスファイト、フェニルジイソ
オクチルホスファイト、２−エチルヘキシルジフェニル
ホスファイト、ジフェニルノニルフェニルホスファイト
等のアリールアルキルホスファイト、ジオクタデシルペ
ンタエリスリチルジホスファイト、ビス（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホスファイ
ト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニ
ル）ペンタエリスリチルジホスファイト等が挙げられ、
これらは単独又は２種以上組み合わせて用いられる。上
記リン系化合物のうち、亜リン酸エステルが好ましく、
その中でも芳香族亜リン酸エステルが好ましく、特にト
リス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト
が好ましい。
【００２３】フェノール系化合物としては、例えばペン
タエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、
１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５
−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−メ
チル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−イソシアヌレイト、ジステアリル（４−
ヒドロキシ−３−メチル−５−ｔ−ブチル）ベンジルマ
ロネート、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート−ジエチルエステル、１，３，５−トリ
メチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、４−ヒドロキシ
メチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等が挙げら
れ、これらは単独又は２種以上組み合わせて用いられ
る。これらのうち、ペンタエリスリチル−テトラキス
〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート〕が特に好ましい。
タエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、
１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５
−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−メ
チル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−イソシアヌレイト、ジステアリル（４−
ヒドロキシ−３−メチル−５−ｔ−ブチル）ベンジルマ
ロネート、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ルホスホネート−ジエチルエステル、１，３，５−トリ
メチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、４−ヒドロキシ
メチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等が挙げら
れ、これらは単独又は２種以上組み合わせて用いられ
る。これらのうち、ペンタエリスリチル−テトラキス
〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート〕が特に好ましい。
【００２４】チオエーテル系化合物としては、例えば、
ジドデシル−チオジプロピオネート、ジトリデシル−チ
オジプロピオネート、ジミリスチル−チオジプロピオネ
ート、ジオクタデシル−チオジプロピオネート、ペンタ
エリスリチル−テトラキス〔３−（ｎ−ドデシルチオ）
プロピオネート〕等が挙げられ、これらは単独又は２種
以上組み合わせて用いられる。これらのうち、ペンタエ
リスリチル−テトラキス〔３−（ｎ−ドデシルチオ）プ
ロピオネート〕等が特に好ましい。アミン系化合物とし
ては、例えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−
〔２−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）ピロピオニルオキシ｝エチル〕−４−｛３
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）ピロピオニルオキシ｝−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テト
ラメチル−３−オクチル−１，２，３−トリアザスピロ
−４，５−ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイ
ルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、テトラキス
（１，２，３，４−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙
げられ、これらは単独又は２種以上組み合わせて用いら
れる。これらのうち、ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）セバケートが特に好ましい。
ジドデシル−チオジプロピオネート、ジトリデシル−チ
オジプロピオネート、ジミリスチル−チオジプロピオネ
ート、ジオクタデシル−チオジプロピオネート、ペンタ
エリスリチル−テトラキス〔３−（ｎ−ドデシルチオ）
プロピオネート〕等が挙げられ、これらは単独又は２種
以上組み合わせて用いられる。これらのうち、ペンタエ
リスリチル−テトラキス〔３−（ｎ−ドデシルチオ）プ
ロピオネート〕等が特に好ましい。アミン系化合物とし
ては、例えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−
〔２−｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）ピロピオニルオキシ｝エチル〕−４−｛３
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）ピロピオニルオキシ｝−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テト
ラメチル−３−オクチル−１，２，３−トリアザスピロ
−４，５−ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイ
ルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、
２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、テトラキス
（１，２，３，４−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙
げられ、これらは単独又は２種以上組み合わせて用いら
れる。これらのうち、ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）セバケートが特に好ましい。
【００２５】ベンゾトリアゾール系化合物としては、２
−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，
α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブ
チル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−ク
ロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’ヒドロ
キシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル等が挙げられ、これらは単独又は２種以上組み合わせ
て用いられる。これらのうち、２−〔２−ヒドロキシ−
３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル〕
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが特に好ましい。
−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，
α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブ
チル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−ク
ロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’ヒドロ
キシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル等が挙げられ、これらは単独又は２種以上組み合わせ
て用いられる。これらのうち、２−〔２−ヒドロキシ−
３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル〕
−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが特に好ましい。
【００２６】エポキシ系化合物としては、エポキシ化大
豆油、エポキシ化アマニ油、フェニルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、ｔ−ブチルフェニルグ
リシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメ
チル−３，４−シクロヘキサンカルボキレート、３，４
−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３，４
−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレー
ト、２，３−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、４−（３，
４−エポキシ−５−メチルシクロヘキシル）−ブチル−
３，４−エポキシシクヘキサンカルボキシレート、３，
４−エポキシシクロヘキシルエチレンオキシド、シクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘ
キシルメチル−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレ
ート、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテル、テト
ラブロモビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテル、フ
タル酸のジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸
のジグリシジルエステル、ビス（エポキシクロペンタジ
フェニル）エーテル、ビスエポキシエチレングリコー
ル、ビス（エポキシシクロヘキシル）アジペート、ブタ
ジエンジエポキシド、テトラフェニルエチレンエポキシ
ド、オクチルエポキシタレート、エポキシ化ポリブタジ
エン、３，４−ジメチル−１，２−エポキシシクロヘキ
サン、３，５−ジメチル−１，２−エポキシシクロヘキ
サン、３−メチル−５−ｔ−ブチル−エポキシシクロヘ
キサン、オクタデシル−２，２−ジメチル−３，４−エ
ポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ｎ−ブチル−
２，２−ジメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート、シクロヘキシル−２−メチル−３，４
−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ｎ−ブチ
ル−２−イソプロピル−３，４−エポキシ−５−メチル
ヘキサンカルボキシレート、オクタデシル−３，４−エ
ポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−エチルヘ
キシル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、４，６−ジメチル−２，３−エポキシシクロ
ヘキシル−３’、４’−エポキシシクロヘキサンカルボ
キシレート、４，５−エポキシ無水テトラヒドロフタル
酸、３−ｔ−ブチル−４，５−エポキシ無水テトラヒド
ロフタル酸、ジエチル−４，５−エポキシ−シス−１，
２−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジ−ｎ−ブチ
ル−３−ｔ−ブチル−４，５−エポキシ−シス−１，２
−シクロヘキサンジカルボキシレート等が挙げられ、こ
れらは単独又は２種以上組み合わせて用いられる。これ
らのうち、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテルが
特に好ましく用いられる。
豆油、エポキシ化アマニ油、フェニルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、ｔ−ブチルフェニルグ
リシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメ
チル−３，４−シクロヘキサンカルボキレート、３，４
−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３，４
−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレー
ト、２，３−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、４−（３，
４−エポキシ−５−メチルシクロヘキシル）−ブチル−
３，４−エポキシシクヘキサンカルボキシレート、３，
４−エポキシシクロヘキシルエチレンオキシド、シクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘ
キシルメチル−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレ
ート、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテル、テト
ラブロモビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテル、フ
タル酸のジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸
のジグリシジルエステル、ビス（エポキシクロペンタジ
フェニル）エーテル、ビスエポキシエチレングリコー
ル、ビス（エポキシシクロヘキシル）アジペート、ブタ
ジエンジエポキシド、テトラフェニルエチレンエポキシ
ド、オクチルエポキシタレート、エポキシ化ポリブタジ
エン、３，４−ジメチル−１，２−エポキシシクロヘキ
サン、３，５−ジメチル−１，２−エポキシシクロヘキ
サン、３−メチル−５−ｔ−ブチル−エポキシシクロヘ
キサン、オクタデシル−２，２−ジメチル−３，４−エ
ポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ｎ−ブチル−
２，２−ジメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート、シクロヘキシル−２−メチル−３，４
−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ｎ−ブチ
ル−２−イソプロピル−３，４−エポキシ−５−メチル
ヘキサンカルボキシレート、オクタデシル−３，４−エ
ポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−エチルヘ
キシル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート、４，６−ジメチル−２，３−エポキシシクロ
ヘキシル−３’、４’−エポキシシクロヘキサンカルボ
キシレート、４，５−エポキシ無水テトラヒドロフタル
酸、３−ｔ−ブチル−４，５−エポキシ無水テトラヒド
ロフタル酸、ジエチル−４，５−エポキシ−シス−１，
２−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジ−ｎ−ブチ
ル−３−ｔ−ブチル−４，５−エポキシ−シス−１，２
−シクロヘキサンジカルボキシレート等が挙げられ、こ
れらは単独又は２種以上組み合わせて用いられる。これ
らのうち、ビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテルが
特に好ましく用いられる。
【００２７】安定剤の添加量は、生成ポリエステル１０
０重量部に対して、０．００００１〜１重量部、より好
ましくは０．０００５〜０．０５重量部である。０．０
０００１重量部未満では効果が充分でなく、生成ポリエ
ステルや成形時に着色を生じる可能性が大きい。一方、
１重量部を越えると効果が飽和に達したり、成形品の表
面不良や、耐熱変形性、剛性、表面硬度等の低下が生じ
る。安定剤は重合時の任意の時点で添加することができ
るが、好ましくは反応開始時に添加する。反応開始時に
添加することにより、生成するポリエステルが受ける熱
に対する劣化を抑制でき、また添加の方法もより簡便に
なる。
０重量部に対して、０．００００１〜１重量部、より好
ましくは０．０００５〜０．０５重量部である。０．０
０００１重量部未満では効果が充分でなく、生成ポリエ
ステルや成形時に着色を生じる可能性が大きい。一方、
１重量部を越えると効果が飽和に達したり、成形品の表
面不良や、耐熱変形性、剛性、表面硬度等の低下が生じ
る。安定剤は重合時の任意の時点で添加することができ
るが、好ましくは反応開始時に添加する。反応開始時に
添加することにより、生成するポリエステルが受ける熱
に対する劣化を抑制でき、また添加の方法もより簡便に
なる。
【００２８】本発明においては、異なる温度での２段階
の工程で反応を行うことが好ましい。第１工程では、２
００〜３００℃、より好ましくは２５０〜３００℃で加
熱する。この工程では、エステル交換反応によりポリカ
ーボネートが解重合し、ジアルキルカーボネートが生成
する。第２工程では２８０〜３５０℃、より好ましくは
３００〜３５０℃で減圧（０．０５〜１．０Torr）下で
加熱する。この工程では、生成したジアルキルカーボネ
ートの残留部分を除去することで、高分子量のポリエス
テルが得られる。しかし乍ら、本発明は上記２段階工程
での反応に何ら限定されるものではなく、多段階の温度
及び減圧度で反応させてもよいし、また反応を通して同
一温度条件で反応させてもよい。
の工程で反応を行うことが好ましい。第１工程では、２
００〜３００℃、より好ましくは２５０〜３００℃で加
熱する。この工程では、エステル交換反応によりポリカ
ーボネートが解重合し、ジアルキルカーボネートが生成
する。第２工程では２８０〜３５０℃、より好ましくは
３００〜３５０℃で減圧（０．０５〜１．０Torr）下で
加熱する。この工程では、生成したジアルキルカーボネ
ートの残留部分を除去することで、高分子量のポリエス
テルが得られる。しかし乍ら、本発明は上記２段階工程
での反応に何ら限定されるものではなく、多段階の温度
及び減圧度で反応させてもよいし、また反応を通して同
一温度条件で反応させてもよい。
【００２９】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらにより何ら制限を受けるもの
ではなく、その要旨を変更しない範囲において、適宜変
更実施可能である。なお、ポリマーの特性は次に示す方
法に従って測定した。 （１）ポリマーの重量平均分子量〔Ｍｗ〕 Ｗａｔｅｒｓ社製５１０型ＧＰＣシステムを用い、クロ
ロホルムを移動相とし、ポリマー濃度２mg／mlでカラム
温度３５℃で測定した。重量平均分子量はポリスチレン
を標準試料として用い算出した。 （２）ポリマーのガラス転移温度〔Ｔｇ〕 Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７示差走査熱量
計を用い、窒素気流中、昇温速度２０℃／min の条件で
測定した。 （３）ポリマーの黄色度指数〔ＹＩ〕 得られたポリマーを１／８インチ厚みにプレスしたサン
プルを用い、日本電色工業製Ｚ−Σ８０色差計を用い、
ＪＩＳ Ｋ ７０１３に基づき透過法により測定した。
明するが、本発明はこれらにより何ら制限を受けるもの
ではなく、その要旨を変更しない範囲において、適宜変
更実施可能である。なお、ポリマーの特性は次に示す方
法に従って測定した。 （１）ポリマーの重量平均分子量〔Ｍｗ〕 Ｗａｔｅｒｓ社製５１０型ＧＰＣシステムを用い、クロ
ロホルムを移動相とし、ポリマー濃度２mg／mlでカラム
温度３５℃で測定した。重量平均分子量はポリスチレン
を標準試料として用い算出した。 （２）ポリマーのガラス転移温度〔Ｔｇ〕 Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ社製ＤＳＣ−７示差走査熱量
計を用い、窒素気流中、昇温速度２０℃／min の条件で
測定した。 （３）ポリマーの黄色度指数〔ＹＩ〕 得られたポリマーを１／８インチ厚みにプレスしたサン
プルを用い、日本電色工業製Ｚ−Σ８０色差計を用い、
ＪＩＳ Ｋ ７０１３に基づき透過法により測定した。
【００３０】実施例１ ポリカーボネート（帝人株式会社製、パンライトＬ−１
２５０Ｗ、Ｍｖ＝２５０００）２５４ｇ、ジメチルテレ
フタレート１０７ｇ（０．５５モル）、ジメチルイソフ
タレート１０７ｇ（０．５５モル）、チタニウムテトラ
−ｎ−ブチル１．１ｇ（３．３ミリモル）、トリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト０．
１８ｇ（０．２８ミリモル）を攪拌翼、窒素導入口、減
圧口、蒸留口を取り付けた２００ｍｌ四口丸底フラスコ
に仕込み、窒素置換した後、窒素フローの状態で２８０
℃に加熱した。１時間そのままの温度で保持し、その後
２０分かけて３００℃まで昇温した。１時間かけて生成
したジメチルカーボネートを蒸留口から留出した。留出
量は４９．６ｇ（理論量の５５％）であった。反応系を
ゆっくりと減圧（３０分で１Torr）にし、３２０℃まで
昇温し、そのまま１時間保持した。攪拌停止後、反応混
合物を払い出し、３８．８ｇのポリマーを得た。ポリマ
ー特性の測定結果を表１に示す。
２５０Ｗ、Ｍｖ＝２５０００）２５４ｇ、ジメチルテレ
フタレート１０７ｇ（０．５５モル）、ジメチルイソフ
タレート１０７ｇ（０．５５モル）、チタニウムテトラ
−ｎ−ブチル１．１ｇ（３．３ミリモル）、トリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト０．
１８ｇ（０．２８ミリモル）を攪拌翼、窒素導入口、減
圧口、蒸留口を取り付けた２００ｍｌ四口丸底フラスコ
に仕込み、窒素置換した後、窒素フローの状態で２８０
℃に加熱した。１時間そのままの温度で保持し、その後
２０分かけて３００℃まで昇温した。１時間かけて生成
したジメチルカーボネートを蒸留口から留出した。留出
量は４９．６ｇ（理論量の５５％）であった。反応系を
ゆっくりと減圧（３０分で１Torr）にし、３２０℃まで
昇温し、そのまま１時間保持した。攪拌停止後、反応混
合物を払い出し、３８．８ｇのポリマーを得た。ポリマ
ー特性の測定結果を表１に示す。
【００３１】実施例２ 触媒を酢酸リチウム０．３４ｇ（３．３ミリモル）に変
更した他は実施例１と同様に行った。ポリマー特性の測
定結果を表１に示す。
更した他は実施例１と同様に行った。ポリマー特性の測
定結果を表１に示す。
【００３２】実施例３ 触媒を二酢酸ジブチルスズ１．２ｇ（３．３ミリモル）
に変更した他は実施例１と同様に行った。ポリマー特性
の測定結果を表１に示す。
に変更した他は実施例１と同様に行った。ポリマー特性
の測定結果を表１に示す。
【００３３】比較例１ トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイ
トを用いなかった他は実施例１と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表１に示す。
トを用いなかった他は実施例１と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表１に示す。
【００３４】比較例２ トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイ
トを用いなかった他は実施例２と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表１に示す。
トを用いなかった他は実施例２と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表１に示す。
【００３５】比較例３ トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイ
トを用いなかった他は実施例３と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表１に示す。
トを用いなかった他は実施例３と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表１に示す。
【００３６】
【表１】
【００３７】実施例４ ポリカーボネート（帝人株式会社製、パンライトＬ−１
２５０Ｗ、Ｍｖ＝２５０００）２５４ｇ、ジメチルテレ
フタレート６４ｇ（０．３３モル）、ジメチルイソフタ
レート６４ｇ（０．３３モル）、ナフタレン−２，６−
ジカルボン酸ジメチルエステル９５ｇ（０．４４モ
ル）、チタニウムテトラ−ｎ−ブチル１．１ｇ（３．３
ミリモル）、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ホスファイト０．１８ｇ（０．２８ミリモル）を攪
拌翼、窒素導入口、減圧口、蒸留口を取り付けた２００
ｍｌ四口丸底フラスコに仕込み、窒素置換した後、窒素
フローの状態で２８０℃に加熱した。１時間そのままの
温度で保持し、その後２０分かけて３００℃まで昇温し
た。１時間かけて生成したジメチルカーボネートを蒸留
口から留出した。留出量は４６．９ｇ（理論量の５２
％）であった。反応系を減圧（３０分で１Torr）にし、
３２０℃まで昇温し、そのまま１時間保持した。攪拌停
止後、反応混合物を払い出し、３５．６ｇのポリマーを
得た。ポリマー特性の測定結果を表２に示す。
２５０Ｗ、Ｍｖ＝２５０００）２５４ｇ、ジメチルテレ
フタレート６４ｇ（０．３３モル）、ジメチルイソフタ
レート６４ｇ（０．３３モル）、ナフタレン−２，６−
ジカルボン酸ジメチルエステル９５ｇ（０．４４モ
ル）、チタニウムテトラ−ｎ−ブチル１．１ｇ（３．３
ミリモル）、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ホスファイト０．１８ｇ（０．２８ミリモル）を攪
拌翼、窒素導入口、減圧口、蒸留口を取り付けた２００
ｍｌ四口丸底フラスコに仕込み、窒素置換した後、窒素
フローの状態で２８０℃に加熱した。１時間そのままの
温度で保持し、その後２０分かけて３００℃まで昇温し
た。１時間かけて生成したジメチルカーボネートを蒸留
口から留出した。留出量は４６．９ｇ（理論量の５２
％）であった。反応系を減圧（３０分で１Torr）にし、
３２０℃まで昇温し、そのまま１時間保持した。攪拌停
止後、反応混合物を払い出し、３５．６ｇのポリマーを
得た。ポリマー特性の測定結果を表２に示す。
【００３８】実施例５ 触媒を酢酸リチウム０．３４ｇ（３．３ミリモル）に変
更した他は実施例４と同様に行った。ポリマー特性の測
定結果を表２に示す。
更した他は実施例４と同様に行った。ポリマー特性の測
定結果を表２に示す。
【００３９】実施例６ 触媒を二酢酸ジブチルスズ１．２ｇ（３．３ミリモル）
に変更した他は実施例４と同様に行った。ポリマー特性
の測定結果を表２に示す。
に変更した他は実施例４と同様に行った。ポリマー特性
の測定結果を表２に示す。
【００４０】比較例４ トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイ
トを用いなかった他は実施例４と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表２に示す。
トを用いなかった他は実施例４と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表２に示す。
【００４１】比較例５ トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイ
トを用いなかった他は実施例５と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表２に示す。
トを用いなかった他は実施例５と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表２に示す。
【００４２】比較例６ トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイ
トを用いなかった他は実施例６と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表２に示す。
トを用いなかった他は実施例６と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表２に示す。
【００４３】
【表２】
【００４４】実施例７ ポリカーボネート（帝人株式会社製、パンライトＬ−１
２５０Ｗ、Ｍｖ＝２５０００）２５４ｇ、ジメチルテレ
フタレート１０７ｇ（０．５５モル）、ジメチルイソフ
タレート１０７ｇ（０．５５モル）、二酢酸ジブチルス
ズ１．２ｇ（３．３ミリモル）、ペンタエリスリチル−
テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕（１）０．３８ｇ
（０．２８ミリモル）を攪拌翼、窒素導入口、減圧口、
蒸留口を取り付けた２００ｍｌ四口丸底フラスコに仕込
み、窒素置換した後、窒素フローの状態で２８０℃に加
熱した。１時間そのままの温度で保持し、その後２０分
かけて３００℃まで昇温した。１時間かけて生成したジ
メチルカーボネートを蒸留口から留出した。留出量は４
６．９ｇ（理論量の５２％）であった。反応系を減圧
（３０分で１Torr）にし、３２０℃まで昇温し、そのま
ま１時間保持した。攪拌停止後、反応混合物を払い出
し、４２．６ｇのポリマーを得た。ポリマー特性の測定
結果を表２に示す。
２５０Ｗ、Ｍｖ＝２５０００）２５４ｇ、ジメチルテレ
フタレート１０７ｇ（０．５５モル）、ジメチルイソフ
タレート１０７ｇ（０．５５モル）、二酢酸ジブチルス
ズ１．２ｇ（３．３ミリモル）、ペンタエリスリチル−
テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕（１）０．３８ｇ
（０．２８ミリモル）を攪拌翼、窒素導入口、減圧口、
蒸留口を取り付けた２００ｍｌ四口丸底フラスコに仕込
み、窒素置換した後、窒素フローの状態で２８０℃に加
熱した。１時間そのままの温度で保持し、その後２０分
かけて３００℃まで昇温した。１時間かけて生成したジ
メチルカーボネートを蒸留口から留出した。留出量は４
６．９ｇ（理論量の５２％）であった。反応系を減圧
（３０分で１Torr）にし、３２０℃まで昇温し、そのま
ま１時間保持した。攪拌停止後、反応混合物を払い出
し、４２．６ｇのポリマーを得た。ポリマー特性の測定
結果を表２に示す。
【００４５】実施例８ 安定剤をペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（ｎ−
ドデシルチオ）プロピオネート〕（２）０．３２ｇ
（０．２８ミリモル）に変更した他は実施例７と同様に
行った。ポリマー特性の測定結果を表３に示す。
ドデシルチオ）プロピオネート〕（２）０．３２ｇ
（０．２８ミリモル）に変更した他は実施例７と同様に
行った。ポリマー特性の測定結果を表３に示す。
【００４６】実施例９ 安定剤をビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート（３）０．１３ｇ（０．２８ミリ
モル）に変更した他は実施例７と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表３に示す。
ペリジル）セバケート（３）０．１３ｇ（０．２８ミリ
モル）に変更した他は実施例７と同様に行った。ポリマ
ー特性の測定結果を表３に示す。
【００４７】実施例１０ 安定剤を２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α
−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール（４）０．１３ｇ（０．２８ミリモル）に変更し
た他は実施例７と同様に行った。ポリマー特性の測定結
果を表３に示す。
−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール（４）０．１３ｇ（０．２８ミリモル）に変更し
た他は実施例７と同様に行った。ポリマー特性の測定結
果を表３に示す。
【００４８】実施例１１ 安定剤をビスフェノールＡ−ジグリシジルエーテル
（５）０．１０ｇ（０．２８ミリモル）に変更した他は
実施例７と同様に行った。ポリマー特性の測定結果を表
３に示す。
（５）０．１０ｇ（０．２８ミリモル）に変更した他は
実施例７と同様に行った。ポリマー特性の測定結果を表
３に示す。
【００４９】
【表３】
【００５０】実施例１２ ポリカーボネート（帝人株式会社製、パンライトＬ−１
２５０Ｗ、Ｍｖ＝２５０００）２５４ｇ、ジメチルテレ
フタレート１０７ｇ（０．５５モル）、ジメチルイソフ
タレート１０７ｇ（０．５５モル）、チタニウムテトラ
−ｎ−ブチル１．１ｇ（３．３ミリモル）、トリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト０．
１８ｇ（０．２８ミリモル）を攪拌翼、窒素導入口、減
圧口、蒸留口を取り付けた２００ｍｌ四口丸底フラスコ
に仕込み、窒素置換した後、窒素フローの状態で３２０
℃に加熱した。１時間そのままの温度で保持した。１時
間かけて生成したジメチルカーボネートを蒸留口から留
出した。留出量は５２．３ｇ（理論量の５８％）であっ
た。反応系を３２０℃のままでゆっくりと減圧（３０分
で１Torr）にし、そのまま３時間保持した。攪拌停止
後、反応混合物を払い出し、４２．４ｇのポリマーを得
た。得られたポリマーの分子量（重量平均分子量）はＧ
ＰＣ測定より４９０００（ポリスチレン換算）、ガラス
転移温度（Ｔｇ）はＤＳＣ測定から１９１℃であった。
また、得られたポリエステルの１／８インチ成形品の黄
色度指数（Ｙ．Ｉ．）は７４であった。
２５０Ｗ、Ｍｖ＝２５０００）２５４ｇ、ジメチルテレ
フタレート１０７ｇ（０．５５モル）、ジメチルイソフ
タレート１０７ｇ（０．５５モル）、チタニウムテトラ
−ｎ−ブチル１．１ｇ（３．３ミリモル）、トリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト０．
１８ｇ（０．２８ミリモル）を攪拌翼、窒素導入口、減
圧口、蒸留口を取り付けた２００ｍｌ四口丸底フラスコ
に仕込み、窒素置換した後、窒素フローの状態で３２０
℃に加熱した。１時間そのままの温度で保持した。１時
間かけて生成したジメチルカーボネートを蒸留口から留
出した。留出量は５２．３ｇ（理論量の５８％）であっ
た。反応系を３２０℃のままでゆっくりと減圧（３０分
で１Torr）にし、そのまま３時間保持した。攪拌停止
後、反応混合物を払い出し、４２．４ｇのポリマーを得
た。得られたポリマーの分子量（重量平均分子量）はＧ
ＰＣ測定より４９０００（ポリスチレン換算）、ガラス
転移温度（Ｔｇ）はＤＳＣ測定から１９１℃であった。
また、得られたポリエステルの１／８インチ成形品の黄
色度指数（Ｙ．Ｉ．）は７４であった。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
着色度が少ないポリエステルが簡便でかつ安価な方法で
製造可能である。
着色度が少ないポリエステルが簡便でかつ安価な方法で
製造可能である。
Claims (18)
- 【請求項１】 エステル化又はエステル交換触媒の存在
下で、ジカルボン酸のジアルキルエステルと、ポリカー
ボネート及び／又は芳香族ジアルキルジカーボネートを
反応させてポリエステルを製造するに際し、安定剤を添
加することを特徴とするポリエステルの製造方法。 - 【請求項２】 安定剤がリン系化合物、フェノール系化
合物、チオエーテル系化合物、アミン系化合物、ベンゾ
トリアゾール系化合物、及びエポキシ系化合物から選ば
れる少なくとも１種の化合物である請求項１記載の製造
方法。 - 【請求項３】 リン系化合物がトリス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）ホスファイトである請求項２記載の
製造方法。 - 【請求項４】 フェノール系化合物がペンタエリスリチ
ル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕である請求項２
記載の製造方法。 - 【請求項５】 チオエーテル系化合物がペンタエリスリ
チル−テトラキス〔３−（ｎ−ドデシルチオ）プロピオ
ネート〕である請求項２記載の製造方法。 - 【請求項６】 アミン系化合物がビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートである請
求項２記載の製造方法。 - 【請求項７】 ベンゾトリアゾール系化合物が２−〔２
−ヒドロキシ−３，５−ビス（α、α−ジメチルベンジ
ル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである請求
項２記載の製造方法。 - 【請求項８】 エポキシ系化合物がビスフェノールＡ−
ジグリシジルエーテルである請求項２記載の製造方法。 - 【請求項９】 安定剤を生成ポリエステル１００重量部
に対して、０．００００１〜１重量部添加する請求項１
〜８記載の製造方法。 - 【請求項１０】 反応の後半部分において、減圧度を高
めて反応を行わせる請求項１〜９記載の製造方法。 - 【請求項１１】 ポリカーボネートが下記一般式（Ｉ）
で示される請求項１〜１０記載の製造方法。 【化１】 〔一般式（Ｉ）中のＲ1 は２価の芳香族炭化水素基、Ｒ
2 −Ｘ−Ｒ3 基（但し、Ｒ2 及びＲ3 は２価の芳香族炭
化水素基であり、Ｘは酸素原子、スルホニル基、カルボ
ニル基、炭化水素基、エステル基又は直接結合を示
す。）を示し（但し、芳香族環の水素原子はハロゲン原
子、炭化水素基、アルコキシ基又はフェノキシ基等で置
換されていてもよい。）、ａは正の整数を示す。但しＲ
1 は一種に限定されるものではなく、２種以上の共重合
体であってもよい。〕 - 【請求項１２】 芳香族ジアルキルジカーボネートが下
記一般式（II）で示される請求項１〜１１記載の製造方
法。 【化２】 〔一般式（II）中のＲ4 は２価の芳香族炭化水素基、Ｒ
6 −Ｘ−Ｒ7 基（但し、Ｒ6 及びＲ7 は２価の芳香族炭
化水素基であり、Ｘは酸素原子、スルホニル基、カルボ
ニル基、炭化水素基、エステル基又は直接結合を示
す。）を示し（但し、芳香族環の水素原子はハロゲン原
子、炭化水素基、アルコキシ基又はフェノキシ基等で置
換されていてもよい。）、Ｒ5 は炭素数１〜４の脂肪族
炭化水素基又は炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基を示
す。〕 - 【請求項１３】 ジカルボン酸のジアルキルエステルが
下記一般式（III)で示される請求項１〜１２記載の製造
方法。 【化３】 〔一般式（III)中のＲ8 は炭素数６〜１０の２価の芳香
族炭化水素基（但し、芳香族環の水素原子はハロゲン原
子、炭化水素基、アルコキシ基又はフェノキシ基等で置
換されていてもよい。）、又は炭素数２〜２０の脂肪族
又は脂環式炭化水素基を示し、Ｒ9 は炭素数１〜４の脂
肪族炭化水素基又は炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基
を示す。〕 - 【請求項１４】 ポリカーボネートの芳香族炭化水素基
が２，２′−ビス（４−ヒドロキシフェニルプロパン）
（ビスフェノールＡ）残基である請求項１〜１３記載の
製造方法。 - 【請求項１５】 芳香族ジアルキルジカーボネートの芳
香族炭化水素基が２，２′−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニルプロパン）（ビスフェノールＡ）残基である請求項
１〜１４記載の製造方法。 - 【請求項１６】 ジカルボン酸のジアルキルエステルが
ジメチルテレフタレート、ジメチルイソフタレート及び
ナフタレン−２，６−ジカルボン酸ジメチルエステルか
ら選ばれる少なくとも１種である請求項１〜１５記載の
製造方法。 - 【請求項１７】 エステル化又はエステル交換触媒が、
チタン系触媒、スズ系触媒、アンチモン系触媒、ジルコ
ニウム系触媒及び亜鉛系触媒から選ばれる少なくとも１
種である請求項１〜１６記載の製造方法。 - 【請求項１８】 エステル化又はエステル交換触媒を生
成ポリエステル１００重量部に対して０．０００１〜１
重量部使用する請求項１〜１７記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12702794A JPH07309937A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | ポリエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12702794A JPH07309937A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | ポリエステルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07309937A true JPH07309937A (ja) | 1995-11-28 |
Family
ID=14949866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12702794A Withdrawn JPH07309937A (ja) | 1994-05-16 | 1994-05-16 | ポリエステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07309937A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002193882A (ja) * | 2000-10-16 | 2002-07-10 | Nof Corp | エステルの製造方法 |
| US6617289B2 (en) | 2000-10-16 | 2003-09-09 | Nof Corporation | Method for producing ester |
| JP2004523637A (ja) * | 2001-03-28 | 2004-08-05 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 安定化されたポリエステルの調製方法 |
| WO2011083000A1 (de) | 2009-12-16 | 2011-07-14 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von polyesterpolyolen, die damit hergestellten polyesterpolyole und daraus erhaltene polyurethane |
| JP2013249482A (ja) * | 2005-10-28 | 2013-12-12 | Eastman Chemical Co | シクロブタンジオール並びにある種の熱安定剤及び／又はそれらの反応生成物を含むポリエステル組成物 |
-
1994
- 1994-05-16 JP JP12702794A patent/JPH07309937A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002193882A (ja) * | 2000-10-16 | 2002-07-10 | Nof Corp | エステルの製造方法 |
| US6617289B2 (en) | 2000-10-16 | 2003-09-09 | Nof Corporation | Method for producing ester |
| JP2004523637A (ja) * | 2001-03-28 | 2004-08-05 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 安定化されたポリエステルの調製方法 |
| JP2013249482A (ja) * | 2005-10-28 | 2013-12-12 | Eastman Chemical Co | シクロブタンジオール並びにある種の熱安定剤及び／又はそれらの反応生成物を含むポリエステル組成物 |
| WO2011083000A1 (de) | 2009-12-16 | 2011-07-14 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von polyesterpolyolen, die damit hergestellten polyesterpolyole und daraus erhaltene polyurethane |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010731 |