JPH07311153A - シュリーレン法による均質性検査装置 - Google Patents

シュリーレン法による均質性検査装置

Info

Publication number
JPH07311153A
JPH07311153A JP6105824A JP10582494A JPH07311153A JP H07311153 A JPH07311153 A JP H07311153A JP 6105824 A JP6105824 A JP 6105824A JP 10582494 A JP10582494 A JP 10582494A JP H07311153 A JPH07311153 A JP H07311153A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
knife edge
striae
parallel light
light beam
optical axis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6105824A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanao Kagaya
政直 加賀谷
Hideji Sawada
秀治 沢田
Yumiko Tanihira
由美子 谷平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP6105824A priority Critical patent/JPH07311153A/ja
Publication of JPH07311153A publication Critical patent/JPH07311153A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 シュリーレン法を用いた光学材料の均質性検
査装置において、ナイフエッジの調整作業をせずに、脈
理等を常に安定した状態で観察でき、検査時間の短縮と
作業者の負担を軽減させる。 【構成】ランダム偏光のレーザ光源1から出射された光
束を、レンズ2および3によって、ビーム径の拡がった
平行光束とする。偏光板4を回転することにより、平行
光束の偏光方向を決められる。被検物12を透過した平
行光束は、レンズ5により焦点位置に集光される。ナイ
フエッジ6を焦点近傍に設置すれば、被検物12に脈理
等があった場合、コントラストのついた像が得られる。
これを電荷結合素子カメラ8によって取り込み、画像処
理ユニット10で画像処理してから、モニター11に出
力する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、脈理、泡等の含有率
や、異物の混入率等によって表される、光学材料の均質
性検査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光学材料において、脈理等の含有率によ
って表される均質性を検査する方法として、シュリーレ
ン法があり、それを利用した検査装置も使用されてい
る。シュリーレン法では、図2に示すような光学系の構
成によって、検査が行われる。レーザ光源1からの光束
をレンズ2に入射させる。これを透過した光束は、光束
を拡大されて、コリメータレンズ3に入射する。 ここ
で、平行光束にされて、被検物12に入射する。被検物
12を透過した平行光束は、レンズ5に入射する。これ
を透過した平行光束は、レンズ5の焦点位置a1に収束
する。このとき、焦点の近傍にナイフエッジ13を置
く。ナイフエッジ13は、焦点近傍において光軸を外れ
た光束を遮り、コントラストを強める働きをする。すな
わち、ナイフエッジ13に近づいていく方向に屈折され
た部分は暗くなり、遠ざかっていく方向に屈折された部
分は明るくなる。これにより、被検物12の屈折率分布
を明暗のコントラストとして、観察点14で観察でき
る。
【0003】被検物12に脈理b1があれば、そこを透
過した光束は、被検物12の他の部分を透過した光束
と、異なる光路を通る。このため、レンズ5の焦点位置
a1とは異なる位置a2に焦点を結ぶ。ここで、焦点a
2を遮るように、ナイフエッジ13を焦点a1に近づけ
て設置すれば、脈理の部分だけが暗くなった像が、観察
点14において観察される。また、焦点a1を遮るよう
に、ナイフエッジ13を焦点a2に近づけて設置すれ
ば、脈理の部分だけが明るくなった像が、観察点14に
おいて観察される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記シュリーレン法を
用いた検査装置においては、ナイフエッジ13の角度に
よって、脈理等の観察像が異なって見えてしまう。この
ため、最適の観察像を探すためには、ナイフエッジ13
の角度調整をしなければならず、検査に多くの時間を必
要としていた。また、レーザ光の偏光方向によっても、
観察像が異なって見えてしまうという問題もあった。
【0005】本発明の目的は、脈理等の観察像を常に安
定した状態で観察でき、さらにナイフエッジ13の調整
を容易にし、検査時間の短縮と作業者の負担を軽減でき
る検査装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は、シ
ュリーレン法を用いた光学材料の均質性検査装置を、レ
ーザ光源1の偏光方向と、ナイフエッジ6の向きの関係
が常に垂直に保たれるように、偏光板4とナイフエッジ
6を同期させながら回転させる。このとき、偏光板4
は、光軸aを回転軸とし、ナイフッジ6は、光軸a、あ
るいはそれと平行な軸を回転軸とする。
【0007】
【作用】本発明による光学材料の均質性検査装置おい
て、レーザ光源の偏光方向とナイフエッジの向きの関係
を常に最適の状態に保ちながら検査すれば、観察像を常
に安定した状態で観察できる。(請求項2の発明)そう
すれば、レーザ光源の偏光方向とナイフエッジの向き
が、脈理の観察をする上で、最適となるように、調整す
る必要もない。
【0008】脈理等は目視で観察してもよいが、電荷結
合素子カメラによって、画像データを取り込み、画像処
理ユニット10によって、数個の画像データを重ね合わ
せてモニター11に出力してもよい。(請求項3の発
明)これを用いれば、エッジ強調や階調の補正等の画像
処理が行えるので、解像度の高い像が得られる。以下、
実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明
はこれに限られるものではない。
【0009】
【実施例1】図1は、本発明の一実施例を示す、光学材
料の均質性検査装置の全体構成を示すブロック図であ
る。1はレーザ光源、2、3、5と7はレンズ、4は偏
向板、6はナイフエッジ、8は電荷結合素子カメラ、9
は制御ユニット、10は画像処理ユニット、11はモニ
ター、12は被検物である。
【0010】ランダム偏光のレーザ光源1から出射され
た光束は、レンズ2によって光束を拡大され、さらにコ
リメータレンズ3によって平行光束となる。そして、偏
向板4に入射した平行光束は、偏光板4の回転角度によ
って、偏光方向が任意に決められる。偏向方向の決めら
れた平行光束は、被検物12とレンズ5を透過して、レ
ンズ5の焦点位置に集光される。このとき、被検物12
に脈理等があれば、ナイフエッジ6により、脈理等を透
過してきた光束は光路を遮られる。このため、レンズ7
を透過して電荷結合素子カメラ8に入射した平行光束
は、コントラストのついた像として、モニター11に表
示される。
【0011】図3はナイフエッジ6の垂直断面図であ
る。ナイフエッジ6は、回転中心に半円の切り取り部を
設けてある。これはナイフエッジ6を回転した場合に、
通過させたい光束を、遮らないようにするためである。
ナイフエッジ6は、光軸a方向(X軸)、光軸aの左右
方向(Y軸)、光軸aの上下方向(Z軸)への移動と、
座標値の記憶が可能である。また、これは、光軸a、あ
るいは光軸aと平行な軸を回転軸にした回転が可能であ
る。偏光板4は、光軸aを回転軸にした回転が可能であ
る。また、制御ユニット9による自動制御によって、偏
光板4とナイフエッジ6は、一定の相関関係を保ちなが
ら回転させることができる。
【0012】回転のステップ角度およびステップ数は、
任意の値に設定することが可能であり、各角度における
画像は電荷結合素子カメラ8によって取り込まれる。取
り込まれた数個の画像は、画像処理ユニット10によっ
て重ね合わせが行われ、平均化した画像がモニター11
に表示される。また、脈理等を観察しやすくするため
に、平均化した画像データはエッジ強調や階調の補正等
の画像処理を行ってから出力するとよい。
【0013】これにより、レーザ1の偏光方向とナイフ
エッジ6の向きを常に最適の位置関係に保ったまま、検
査することができ、脈理等の観察像を常に安定した状態
で観察できる。また、レーザ光源1の偏光方向と、ナイ
フエッジ6の向きの関係と、被検物12の脈理の入り方
が、最適の角度関係になるように、偏光板4と、ナイフ
エッジ6の向きを探しながら、調整する必要がなくな
り、検査にかかる手間が軽減される。
【0014】また、脈理等が微細で検査が困難な場合に
は、モニター11を見ながら、偏向板4とナイフエッジ
6の向きを、脈理等の見え方が最適になるように調整
し、数個の画像データを取り込む。この数個の画像デー
タを重ね合わせ、画像処理をすることによって、鮮明な
画像を得ることができる。なお、図1の構成において、
レーザ光源1を直線偏光特性のものにすれば、偏光板4
を設置しなくても、レーザ光源1をナイフエッジ6と所
定の相関関係を持たせて回転させるだけで、同様の効果
を得ることができる。
【0015】
【実施例2】図1において、電荷結合素子カメラ8は、
1フレーム毎の画像蓄積時間を任意に設定することがで
きる。前記設定された1フレーム毎の画像蓄積時間内
に、偏光板4とナイフエッジ6を任意の角度だけ、所定
の相関関係を持たせて回転させる。そのときの画像デー
タを電荷結合素子カメラ8から取り込む。取り込まれ
て、蓄積されている1フレーム毎の画像データは、画像
処理ユニット10において、エッジ強調や階調の補正等
の画像処理が行われ、モニター11に出力される。
【0016】このとき、偏光板4と、ナイフエッジ6
は、レーザ光源1の偏光方向と、ナイフエッジ6の向き
を垂直に保ちながら回転する。偏光板4は、光軸aを軸
とし、ナイフエッジ6は、光軸a、あるいは光軸aと平
行な軸を回転軸とする。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レーザ光源の偏光方向と、ナイフエッジの向きが、常に
最適な角度を保って検査が行えるため、観察像を常に安
定した状態で観察できる。また、前記の調整に要する手
間が省けるので、検査作業の効率も向上させることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】は本実施例1および2にかかわる光学材料の均
質性検査装置の全体構成を示すブロック図である。
【図2】は従来の光学材料の均質性検査装置の全体構成
を示すブロック図である。
【図3】はナイフエッジ6の垂直断面図である。
【符号の説明】
1・・・レーザ光源(ランダム偏光) 2、3、5、7・・・レンズ 4・・・偏光板 6・・・ナイフエッジユニット 8・・・電荷結合素子カメラ 9・・・制御ユニット 10・・・画像処理ユニット 11・・・モニター 12・・・被検物 13・・・ナイフエッジ 14・・・観察点 15・・・ナイフエッジ(垂直断面形状) 16・・・半円切り取り部 a・・・光軸 a1・・・光軸上の焦点 a2・・・光軸を外れる焦点 b1・・・脈理 b2・・・脈理により屈折した光束 以上

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ光源と、該光源からの光束を平行
    光束に変換する手段と、前記平行光束を集束させる手段
    と、光軸回りに回転する偏光板と、回転中心を半円状に
    くり抜いたナイフエッジからなることを特徴とする均質
    性検査装置。
  2. 【請求項2】 前記偏光板と、前記ナイフエッジを所定
    の相関関係を持たせながら、光軸回りに回転させる手段
    を付加したことを特徴とする請求項1記載の均質性検査
    装置。
  3. 【請求項3】 電荷結合素子カメラと、該電荷結合素子
    カメラによって取り込んだ画像データ及び前記ナイフエ
    ッジを所定の相関関係を持たせながら、光軸回りに回転
    させる手段からのデータを処理した後、出力させる手段
    を付加したことを特徴とする請求項2記載の均質性検査
    装置。
JP6105824A 1994-05-20 1994-05-20 シュリーレン法による均質性検査装置 Pending JPH07311153A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6105824A JPH07311153A (ja) 1994-05-20 1994-05-20 シュリーレン法による均質性検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6105824A JPH07311153A (ja) 1994-05-20 1994-05-20 シュリーレン法による均質性検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07311153A true JPH07311153A (ja) 1995-11-28

Family

ID=14417818

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6105824A Pending JPH07311153A (ja) 1994-05-20 1994-05-20 シュリーレン法による均質性検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07311153A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107655857A (zh) * 2017-10-27 2018-02-02 南方电网科学研究院有限责任公司 管式定量纹影系统及其调节装置
RU2656408C1 (ru) * 2017-08-31 2018-06-05 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тверской государственный университет" Способ оптической томографии прозрачных материалов
CN115979591A (zh) * 2022-12-13 2023-04-18 南京南智先进光电集成技术研究院有限公司 一种热透镜测量装置和方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2656408C1 (ru) * 2017-08-31 2018-06-05 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Тверской государственный университет" Способ оптической томографии прозрачных материалов
CN107655857A (zh) * 2017-10-27 2018-02-02 南方电网科学研究院有限责任公司 管式定量纹影系统及其调节装置
CN115979591A (zh) * 2022-12-13 2023-04-18 南京南智先进光电集成技术研究院有限公司 一种热透镜测量装置和方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7973921B2 (en) Dynamic illumination in optical inspection systems
US7697746B2 (en) Inspection system and inspection method
EP0856728B1 (en) Optical method and apparatus for detecting defects
US6248995B1 (en) Confocal microscopic equipment
WO2006059647A1 (ja) 表面検査装置及び表面検査方法
JP2008502929A (ja) 反射または透過赤外光による微細構造の検査装置または検査方法
JPS6345543A (ja) 透明材料要素の表面の不整及び吸蔵の試験装置
KR101863752B1 (ko) 광학적 웨이퍼 검사 장치의 해상력 강화 방법 및 이를 이용한 tsom 영상 획득 방법
US6167148A (en) Method and system for inspecting the surface of a wafer
FR2562249A1 (fr) Cellule humide tres radio-active, blindee, pour une installation nucleaire, avec un dispositif pour la reconnaissance des fuites et procede pour l'utilisation d'une telle cellule
JPS6352032A (ja) 透明材料要素を表面の不整及び吸蔵について試験するために照明する装置
US5414458A (en) Semiconductor device lead inspection system
JPH07311153A (ja) シュリーレン法による均質性検査装置
JPH07324923A (ja) 被験表面にテストパターンを投影する装置
KR102237593B1 (ko) 글라스 표면 검사용 광학 장치
KR102336453B1 (ko) 복수의 fov 구현이 가능한 결함 판별장치
CN117554387A (zh) 一种透明半透明晶圆瑕疵检测设备
JPH10506710A (ja) 映像面の変調パターンを認識するための方法および装置
JPH10260359A (ja) 像回転装置
JPH03246861A (ja) 透過型電子顕微鏡
JPH0961370A (ja) 微分干渉顕微鏡及び該顕微鏡を使った欠陥検査装置
JPH0915095A (ja) 光学材料の均質性検査装置
JPH04297810A (ja) 光学検査装置
JP6286428B2 (ja) 光アイソレータを含むレーザ走査モジュール
US11885738B1 (en) Reflectometer, spectrophotometer, ellipsometer or polarimeter system including sample imaging system that simultaneously meet the scheimpflug condition and overcomes keystone error