JPH07314694A - インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置 - Google Patents
インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置Info
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- JPH07314694A JPH07314694A JP11148194A JP11148194A JPH07314694A JP H07314694 A JPH07314694 A JP H07314694A JP 11148194 A JP11148194 A JP 11148194A JP 11148194 A JP11148194 A JP 11148194A JP H07314694 A JPH07314694 A JP H07314694A
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- B41J2/01—Ink jet
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Ink Jet (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 インクを介してキャップゴムとフッ素系高分
子共析メッキ皮膜との密着面で発生するメッキの腐食を
抑え、長期にわたり信頼性のある撥水処理を有するイン
クジェット記録ヘッドを実現し、記録画像の品質の高い
インクジェットヘッドを提供することを目的とする。 【構成】 インクを吐出して記録媒体上に記録を行うイ
ンクジェット記録ヘッドのノズルプレート１表面におい
て、該ノズルプレート１表面にはフッ素系高分子共析メ
ッキが被覆されており、キャップゴムが前記ノズルプレ
ート１面と当接する部分及びそれに連なる部分にフッ素
系高分子共析メッキ未処理部１３を形成することを特徴
とする。
子共析メッキ皮膜との密着面で発生するメッキの腐食を
抑え、長期にわたり信頼性のある撥水処理を有するイン
クジェット記録ヘッドを実現し、記録画像の品質の高い
インクジェットヘッドを提供することを目的とする。 【構成】 インクを吐出して記録媒体上に記録を行うイ
ンクジェット記録ヘッドのノズルプレート１表面におい
て、該ノズルプレート１表面にはフッ素系高分子共析メ
ッキが被覆されており、キャップゴムが前記ノズルプレ
ート１面と当接する部分及びそれに連なる部分にフッ素
系高分子共析メッキ未処理部１３を形成することを特徴
とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、インク滴を飛翔させて
記録媒体上に画像を形成するインクジェット記録ヘッド
に関するものである。
記録媒体上に画像を形成するインクジェット記録ヘッド
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】インクジェット記録装置において、イン
クノズル周縁部に不均一なインクの溜りがあると、吐出
するインク滴が正規の飛翔方向から離脱したり、さらに
は上記インク溜りによりインク滴形成時のメニスカスの
安定性が低下して吐出異常になり良好な記録が行えなく
なる。さらに印字品質を向上するために、単位当りのイ
ンクノズル数を多くしてドット密度を高める場合、これ
に応じてインク滴、インクノズルは小さくなり、インク
ノズル間距離は狭くなる。したがって、インクノズル周
縁部における不均一なインクの溜りの影響はより受けや
すい。また、高速印字を実現するために、高周波数で駆
動する場合も同様に上記影響を受けやすい。
クノズル周縁部に不均一なインクの溜りがあると、吐出
するインク滴が正規の飛翔方向から離脱したり、さらに
は上記インク溜りによりインク滴形成時のメニスカスの
安定性が低下して吐出異常になり良好な記録が行えなく
なる。さらに印字品質を向上するために、単位当りのイ
ンクノズル数を多くしてドット密度を高める場合、これ
に応じてインク滴、インクノズルは小さくなり、インク
ノズル間距離は狭くなる。したがって、インクノズル周
縁部における不均一なインクの溜りの影響はより受けや
すい。また、高速印字を実現するために、高周波数で駆
動する場合も同様に上記影響を受けやすい。
【０００３】そのため、インクノズルの周縁部にインク
を弾く撥水性を有した表面処理を施して上述の問題を解
決し、安定したインク滴の吐出を得ようとする提案が数
多く報告されている。特開平５−１１６３２７号公報
に、ステンレス製ノズルプレートにニッケル金属イオン
とフッ素系高分子の粒子を分散させた電解液の中に浸漬
し、ついで該フッ素系高分子の融点以上の温度で加熱し
て、前記ノズルプレートの該当する部位にフッ素系高分
子共析メッキの撥水性の皮膜を設けて濡れが生じるのを
抑えるようにした技術が示されている。
を弾く撥水性を有した表面処理を施して上述の問題を解
決し、安定したインク滴の吐出を得ようとする提案が数
多く報告されている。特開平５−１１６３２７号公報
に、ステンレス製ノズルプレートにニッケル金属イオン
とフッ素系高分子の粒子を分散させた電解液の中に浸漬
し、ついで該フッ素系高分子の融点以上の温度で加熱し
て、前記ノズルプレートの該当する部位にフッ素系高分
子共析メッキの撥水性の皮膜を設けて濡れが生じるのを
抑えるようにした技術が示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ノズル
でのインク目詰まりによる吐出不良を防いだり、吐出不
能時に回復させる手段としてキャップを用いることが一
般に行われており、キャップの材質及びインクの種類に
よっては、前記共析メッキの皮膜がキャップゴムとの当
接部分で腐食し、それが進行してノズル近傍まで達し撥
水性を損なうことがある。
でのインク目詰まりによる吐出不良を防いだり、吐出不
能時に回復させる手段としてキャップを用いることが一
般に行われており、キャップの材質及びインクの種類に
よっては、前記共析メッキの皮膜がキャップゴムとの当
接部分で腐食し、それが進行してノズル近傍まで達し撥
水性を損なうことがある。
【０００５】腐食は共析メッキの孔食という形態で発生
するが、水溶液中で保護皮膜をもち、環境中に十分の濃
度のハロゲンイオン（実際上、塩化物イオン）が存在す
ると、局部的な皮膜貫通がおこりうる状態となる。しか
も、このとき金属の電極電位が孔食電位より貴である
と、皮膜貫通部分は食孔として成長を続けるようにな
る。
するが、水溶液中で保護皮膜をもち、環境中に十分の濃
度のハロゲンイオン（実際上、塩化物イオン）が存在す
ると、局部的な皮膜貫通がおこりうる状態となる。しか
も、このとき金属の電極電位が孔食電位より貴である
と、皮膜貫通部分は食孔として成長を続けるようにな
る。
【０００６】実際に、塩素元素を含むゴムの材質はその
傾向が著しく、ブチル、塩素化ブチルゴムが相当する。
反面、ブチルゴムは気密性及び耐薬品性に優れ、インク
ジェット記録装置に広く使用されている。インク中にも
塩化物イオンは十分含まれているが、キャップとの繰り
返しの密着動作のほうが支配的であった。
傾向が著しく、ブチル、塩素化ブチルゴムが相当する。
反面、ブチルゴムは気密性及び耐薬品性に優れ、インク
ジェット記録装置に広く使用されている。インク中にも
塩化物イオンは十分含まれているが、キャップとの繰り
返しの密着動作のほうが支配的であった。
【０００７】また、ノズル部を保護する目的でノズル面
を凹部に形成するためにノズルプレート表面に１０〜２
０μ厚の金属メッキを形成した後、前記共析メッキを被
覆した場合では、下地のメッキまで腐食が進行して、キ
ャップのシール性が確保できないという事態にもなる。
を凹部に形成するためにノズルプレート表面に１０〜２
０μ厚の金属メッキを形成した後、前記共析メッキを被
覆した場合では、下地のメッキまで腐食が進行して、キ
ャップのシール性が確保できないという事態にもなる。
【０００８】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
もので、その目的とするところは、長期において信頼性
のあるノズルプレートを有するインクジェット記録ヘッ
ドを提供することにある。
もので、その目的とするところは、長期において信頼性
のあるノズルプレートを有するインクジェット記録ヘッ
ドを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】このような問題を解消す
るために本発明のインクジェット記録ヘッドは、ノズル
プレート表面にフッ素系高分子共析メッキが被覆されて
いるインクジェット記録ヘッドにおいて、キャップゴム
が前記ノズルプレート面と当接する部分にフッ素系共析
メッキ未処理部を形成する構成としたことを特徴とす
る。
るために本発明のインクジェット記録ヘッドは、ノズル
プレート表面にフッ素系高分子共析メッキが被覆されて
いるインクジェット記録ヘッドにおいて、キャップゴム
が前記ノズルプレート面と当接する部分にフッ素系共析
メッキ未処理部を形成する構成としたことを特徴とす
る。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００１１】図１は、本発明の第１実施例であるインク
ジェト記録装置におけるノズルプレートの構造の平面図
を示す。また図２はそのノズルプレートの製造工程を示
したものである。
ジェト記録装置におけるノズルプレートの構造の平面図
を示す。また図２はそのノズルプレートの製造工程を示
したものである。
【００１２】はじめに、図２によりこのノズルプレート
の製造方法について説明する。図において符号１で示し
たノズルプレート１はステンレス鋼で形成されていて、
裏面２側に大きく開口した漏斗状部分３と、表面４側に
狭く開口したオリフィス部分５とからなる複数のノズル
孔６が設けられている。
の製造方法について説明する。図において符号１で示し
たノズルプレート１はステンレス鋼で形成されていて、
裏面２側に大きく開口した漏斗状部分３と、表面４側に
狭く開口したオリフィス部分５とからなる複数のノズル
孔６が設けられている。
【００１３】ノズルプレート１の表裏両面にドライフィ
ルムレジスト７ａ、７ｂをラミネートする。そしてつぎ
に、この上をマスク部材８ａ、８ｂで覆って、ノズルプ
レート１の裏面２の漏斗状部分３とその周囲部分９以外
の部分及びノズルプレート１表面４の共析メッキ未処理
部を露光し、現像除去することで共析メッキ未処理部の
マスキング層１０ａ、１０ｂが形成される。
ルムレジスト７ａ、７ｂをラミネートする。そしてつぎ
に、この上をマスク部材８ａ、８ｂで覆って、ノズルプ
レート１の裏面２の漏斗状部分３とその周囲部分９以外
の部分及びノズルプレート１表面４の共析メッキ未処理
部を露光し、現像除去することで共析メッキ未処理部の
マスキング層１０ａ、１０ｂが形成される。
【００１４】このようにしてマスキング層１０ａ、１０
ｂが形成されたノズルプレート１は、一旦酸で洗浄した
の上、ニッケルイオンとポリテトラフルオエチレン等の
撥水性高分子樹脂を電荷により分散させた電解液中に浸
漬し、ついで、電解液を攪拌しながらその表面に共析メ
ッキ１１を施す。
ｂが形成されたノズルプレート１は、一旦酸で洗浄した
の上、ニッケルイオンとポリテトラフルオエチレン等の
撥水性高分子樹脂を電荷により分散させた電解液中に浸
漬し、ついで、電解液を攪拌しながらその表面に共析メ
ッキ１１を施す。
【００１５】この共析メッキ処理に使用されるフッ素系
高分子としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリパ
ーフルオロアルコキシブタジエン、ポリフルオロビニリ
デン、ポリフルオロビニル、ポリジパーフルオロアルキ
ルフマレートを単独及び混合したものが用いられる。
高分子としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリパ
ーフルオロアルコキシブタジエン、ポリフルオロビニリ
デン、ポリフルオロビニル、ポリジパーフルオロアルキ
ルフマレートを単独及び混合したものが用いられる。
【００１６】これにより、ポリテトラフルオロエチレン
の粒子は、ニッケルイオンを媒介としてマスキング層１
０ａ、１０ｂで被覆されていないノズルプレート１の表
裏面とノズル孔６の内面に均一の層となって付着する。
共析メッキの方法としては、インクジェット記録用イン
ク中にはＬｉ+、Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｃｌ-、Ｓ
Ｏ4 2 -、ＳＯ3 2-、ＮＯ3 -、ＮＯ2 -等のイオンが不純物と
して混入しているため、これらのイオン種の影響を受け
にくくかつ耐久性の高い電解法が適している。
の粒子は、ニッケルイオンを媒介としてマスキング層１
０ａ、１０ｂで被覆されていないノズルプレート１の表
裏面とノズル孔６の内面に均一の層となって付着する。
共析メッキの方法としては、インクジェット記録用イン
ク中にはＬｉ+、Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｃｌ-、Ｓ
Ｏ4 2 -、ＳＯ3 2-、ＮＯ3 -、ＮＯ2 -等のイオンが不純物と
して混入しているため、これらのイオン種の影響を受け
にくくかつ耐久性の高い電解法が適している。
【００１７】つぎに、マスキング層１０ａ、１０ｂを剥
離液にて溶融除去する。つぎに、ノズルプレート１に荷
重を加えて反りの発生を抑えながら、これをポリテトラ
フルオロエチレンの融点以上の温度、例えば、３５０℃
以上の温度で加熱する。この時の荷重は、０．９８N/cm
2以上、好ましくは、４．９N/cm2の圧力をかけるとよ
い。
離液にて溶融除去する。つぎに、ノズルプレート１に荷
重を加えて反りの発生を抑えながら、これをポリテトラ
フルオロエチレンの融点以上の温度、例えば、３５０℃
以上の温度で加熱する。この時の荷重は、０．９８N/cm
2以上、好ましくは、４．９N/cm2の圧力をかけるとよ
い。
【００１８】これにより、ポリテトラフルオロエチレン
の粒子は、マスキング層１０ａ、１０ｂで被覆されてい
ないノズルプレート１の表裏面とノズル孔６の内面に融
着し、そこに平滑でしかも硬度の大なる撥インク性のメ
ッキ皮膜１２を形成する。
の粒子は、マスキング層１０ａ、１０ｂで被覆されてい
ないノズルプレート１の表裏面とノズル孔６の内面に融
着し、そこに平滑でしかも硬度の大なる撥インク性のメ
ッキ皮膜１２を形成する。
【００１９】フッ素系高分子共析メッキ層は、膜厚が薄
すぎるとインク吐出口を有する面の撥インク性が不十分
となり、厚すぎるとインク吐出口の径の精度へ影響がで
るから、メッキ層の膜厚は１〜１０μｍの範囲に抑える
ように制御する。また、メッキ層中のフッ素系高分子の
共析量は、メッキ層中１０〜５０vol％になるようにす
ることが好ましい。
すぎるとインク吐出口を有する面の撥インク性が不十分
となり、厚すぎるとインク吐出口の径の精度へ影響がで
るから、メッキ層の膜厚は１〜１０μｍの範囲に抑える
ように制御する。また、メッキ層中のフッ素系高分子の
共析量は、メッキ層中１０〜５０vol％になるようにす
ることが好ましい。
【００２０】さらにノズルプレート１の裏面２に図示し
ないインク流路の形成された基体を接合することによ
り、インクジェット記録ヘッドの形成される。
ないインク流路の形成された基体を接合することによ
り、インクジェット記録ヘッドの形成される。
【００２１】このように、ノズルプレート１の表面４と
ノズル孔６の内面に形成された共析メッキ皮膜１２は撥
インク性が高いために、インクがノズル孔周縁部に不均
一なインク溜りとなって残ることはない。したがって、
吐出するインク滴が正規の飛翔方向から離脱したり、さ
らには上記インク溜りによりインク滴形成時のメニスカ
スの安定性が低下することもないため、安定して、高周
波数での記録書き込みを可能にする。
ノズル孔６の内面に形成された共析メッキ皮膜１２は撥
インク性が高いために、インクがノズル孔周縁部に不均
一なインク溜りとなって残ることはない。したがって、
吐出するインク滴が正規の飛翔方向から離脱したり、さ
らには上記インク溜りによりインク滴形成時のメニスカ
スの安定性が低下することもないため、安定して、高周
波数での記録書き込みを可能にする。
【００２２】ノズルプレートには図１で示すとおり、キ
ャップゴムが当接する部位には共析メッキ未処理部１３
が形成されていて、安定したステンレス鋼面のためイン
ク介在下でのキャップゴムとの繰り返しの密着動作によ
って腐食が発生することはない。したがって、キャップ
ゴムとの密着性が損なわれることはなく、信頼性の高い
シール性を確保できる。また、キャップゴムとの密着部
に発生した腐食がトリガーとなってノズル近傍の撥水を
低下させることもないため、長期にわたって高い撥イン
ク性を維持することが可能となる。
ャップゴムが当接する部位には共析メッキ未処理部１３
が形成されていて、安定したステンレス鋼面のためイン
ク介在下でのキャップゴムとの繰り返しの密着動作によ
って腐食が発生することはない。したがって、キャップ
ゴムとの密着性が損なわれることはなく、信頼性の高い
シール性を確保できる。また、キャップゴムとの密着部
に発生した腐食がトリガーとなってノズル近傍の撥水を
低下させることもないため、長期にわたって高い撥イン
ク性を維持することが可能となる。
【００２３】図３は本発明の第２の実施例を示すもので
ある。ノズルプレートの製造方法は第１の実施例と同様
であり、図中のノズルプレート１表面の共析メッキ皮膜
１２及び未処理部１３ａ、１３ｂのパターンをフォトリ
ソにより形成する。
ある。ノズルプレートの製造方法は第１の実施例と同様
であり、図中のノズルプレート１表面の共析メッキ皮膜
１２及び未処理部１３ａ、１３ｂのパターンをフォトリ
ソにより形成する。
【００２４】複数のノズル孔６を有するノズル列１４は
３列あり、カラー色のイエロー、マゼンタ、シアンのイ
ンクを吐出するように割り当てられている。そのノズル
列１４間に、共析メッキ未処理部１３ａがキャップゴム
が当接する共析メッキ未処理部１３ｂに連なる構成で形
成されている。したがって、第１の実施例と同様、キャ
ップゴムが当接する部位には共析メッキ未処理部１３が
形成されていて、安定したステンレス鋼面のためインク
介在下でのキャップゴムとの繰り返しの密着動作によっ
て腐食が発生することはない。したがって、キャップゴ
ムとの密着性が損なわれることはない。
３列あり、カラー色のイエロー、マゼンタ、シアンのイ
ンクを吐出するように割り当てられている。そのノズル
列１４間に、共析メッキ未処理部１３ａがキャップゴム
が当接する共析メッキ未処理部１３ｂに連なる構成で形
成されている。したがって、第１の実施例と同様、キャ
ップゴムが当接する部位には共析メッキ未処理部１３が
形成されていて、安定したステンレス鋼面のためインク
介在下でのキャップゴムとの繰り返しの密着動作によっ
て腐食が発生することはない。したがって、キャップゴ
ムとの密着性が損なわれることはない。
【００２５】また、このようなカラーヘッドの場合、ノ
ズルプレート１表面に付着した付着物及び残インクを除
去するために弾性体のクリーニング部材で摺擦すると
き、特に、ノズル列の並び方向へ摺擦するとき、その動
作により残インク及び先行して当たるノズル列のノズル
から引き出したインクが、それ以降のノズル列へ達す
る。ノズル部ではそのインクメニスカスを安定に保持す
るために負圧がかかっており、前記インクはノズル内へ
引っ張られ、インクが混色する。
ズルプレート１表面に付着した付着物及び残インクを除
去するために弾性体のクリーニング部材で摺擦すると
き、特に、ノズル列の並び方向へ摺擦するとき、その動
作により残インク及び先行して当たるノズル列のノズル
から引き出したインクが、それ以降のノズル列へ達す
る。ノズル部ではそのインクメニスカスを安定に保持す
るために負圧がかかっており、前記インクはノズル内へ
引っ張られ、インクが混色する。
【００２６】本発明の場合、各ノズル列１４が独立した
共析メッキ皮膜１２域に形成されていて、その間及びそ
の外側には未処理部１３ａ、１３ｂが設けられているた
め、クリーニング部材で運ばれるインクは、未処理部の
もつ親水性により貯留され、それ以降へ持ち越すインク
量が抑えられる。したがってインクの混色が低減され、
その回復手段として行う非印字時のインク吐出動作の吐
出数を低減することができる。
共析メッキ皮膜１２域に形成されていて、その間及びそ
の外側には未処理部１３ａ、１３ｂが設けられているた
め、クリーニング部材で運ばれるインクは、未処理部の
もつ親水性により貯留され、それ以降へ持ち越すインク
量が抑えられる。したがってインクの混色が低減され、
その回復手段として行う非印字時のインク吐出動作の吐
出数を低減することができる。
【００２７】ここでは、ノズル列が３列のカラーヘッド
の場合について説明したが、ブラックインクも含めた４
列の４色カラーヘッドの構成の場合でも同様の効果が得
られる。
の場合について説明したが、ブラックインクも含めた４
列の４色カラーヘッドの構成の場合でも同様の効果が得
られる。
【００２８】図４は本発明の他の実施例を示すものであ
る。
る。
【００２９】ノズルプレート１のノズル孔６形成面は他
の部分に比べ凹部１５であり、ノズル孔６を中心とした
同心円形状及び、１つのノズル列全体を含む長穴となっ
ている。キャップゴムが当接する部位もノズル形成面と
同一面上にある。そして、キャップゴムが当接する部位
は共析メッキ未処理部１３ｂが形成されており、それ以
外の部位は前述の実施例と同様に共析メッキ皮膜１２が
施されている。ノズル孔６形成面及びキャップゴムが当
接する部位の凹部は通常のニッケルメッキにより形成さ
れており、印字媒体等との接触によるノズルの保護及び
その周囲の撥水性確保の目的から５〜１５μｍの段差が
必要である。
の部分に比べ凹部１５であり、ノズル孔６を中心とした
同心円形状及び、１つのノズル列全体を含む長穴となっ
ている。キャップゴムが当接する部位もノズル形成面と
同一面上にある。そして、キャップゴムが当接する部位
は共析メッキ未処理部１３ｂが形成されており、それ以
外の部位は前述の実施例と同様に共析メッキ皮膜１２が
施されている。ノズル孔６形成面及びキャップゴムが当
接する部位の凹部は通常のニッケルメッキにより形成さ
れており、印字媒体等との接触によるノズルの保護及び
その周囲の撥水性確保の目的から５〜１５μｍの段差が
必要である。
【００３０】ノズルプレート１の製造方法は共析メッキ
を被覆する前に、フォトリソにより凹部パターンを形成
する。さらに前述と同様の方法で共析メッキ及び未処理
部を形成する。本実施例でも第１の実施例と同様、キャ
ップゴムが当接する部位には共析メッキ未処理部１３が
形成されていて、安定したステンレス鋼面のためインク
介在下でのキャップゴムとの繰り返しの密着動作によっ
て腐食が発生することはない。
を被覆する前に、フォトリソにより凹部パターンを形成
する。さらに前述と同様の方法で共析メッキ及び未処理
部を形成する。本実施例でも第１の実施例と同様、キャ
ップゴムが当接する部位には共析メッキ未処理部１３が
形成されていて、安定したステンレス鋼面のためインク
介在下でのキャップゴムとの繰り返しの密着動作によっ
て腐食が発生することはない。
【００３１】本発明では、共析メッキ未処理部１３ｂを
積極的に凹部に設けることにより、第２の実施例で述べ
た、クリーニング部材で運ばれるインクを、未処理部の
もつ親水性により貯留する機能がアップし、それ以降へ
持ち越すインク量がさらに抑えられる。また、その段差
部にクリーニング部材が押しつけられることにより、そ
れ自体も清浄化される。したがってインクの混色をより
低減することができる。カラーインクジェットヘッドで
は、インクを紙へ積極的に浸透させて速乾性を得ている
が、この種のインクは濡れ性が高く特に効果的である。
ノズル形成面の凹部には撥水処理が施されているため、
クリーニング部材により多量のインクを拭き残すことは
ない。
積極的に凹部に設けることにより、第２の実施例で述べ
た、クリーニング部材で運ばれるインクを、未処理部の
もつ親水性により貯留する機能がアップし、それ以降へ
持ち越すインク量がさらに抑えられる。また、その段差
部にクリーニング部材が押しつけられることにより、そ
れ自体も清浄化される。したがってインクの混色をより
低減することができる。カラーインクジェットヘッドで
は、インクを紙へ積極的に浸透させて速乾性を得ている
が、この種のインクは濡れ性が高く特に効果的である。
ノズル形成面の凹部には撥水処理が施されているため、
クリーニング部材により多量のインクを拭き残すことは
ない。
【００３２】図５は本発明の他の実施例を示すものであ
る。ノズルプレートの製造方法は第１の実施例と同様で
あり、図中のノズルプレート１表面の共析メッキ皮膜１
２及び未処理部１３ｂ、１３ｃのパターンをフォトリソ
により形成する。本実施例でも第１の実施例と同様、キ
ャップゴムが当接する部位には共析メッキ未処理部１３
が形成されていて、安定したステンレス鋼面のためイン
ク介在下でのキャップゴムとの繰り返しの密着動作によ
って腐食が発生することはない。
る。ノズルプレートの製造方法は第１の実施例と同様で
あり、図中のノズルプレート１表面の共析メッキ皮膜１
２及び未処理部１３ｂ、１３ｃのパターンをフォトリソ
により形成する。本実施例でも第１の実施例と同様、キ
ャップゴムが当接する部位には共析メッキ未処理部１３
が形成されていて、安定したステンレス鋼面のためイン
ク介在下でのキャップゴムとの繰り返しの密着動作によ
って腐食が発生することはない。
【００３３】本発明では、図で示すとおり、共析メッキ
未処理部に局部的に面積の広い部分１３ｃが形成されて
いて、キャップ１６内に設けられた多孔質部材１７が前
記未処理部１３ｃに当接する構成となっている。インク
流路内へのインク充填のために、キャップ１６内をバル
ブ１８及びポンプ１９の作用により負圧にしてノズル孔
よりインクを吸引する復帰動作の際に、親水性の共析メ
ッキ未処理部１３ｃに優先的に残存したインクを多孔質
部材１７を介して、積極的に吸収除去する。本実施例で
は濡れ性の高いインクを用いる場合に、とくに効果的で
ある。
未処理部に局部的に面積の広い部分１３ｃが形成されて
いて、キャップ１６内に設けられた多孔質部材１７が前
記未処理部１３ｃに当接する構成となっている。インク
流路内へのインク充填のために、キャップ１６内をバル
ブ１８及びポンプ１９の作用により負圧にしてノズル孔
よりインクを吸引する復帰動作の際に、親水性の共析メ
ッキ未処理部１３ｃに優先的に残存したインクを多孔質
部材１７を介して、積極的に吸収除去する。本実施例で
は濡れ性の高いインクを用いる場合に、とくに効果的で
ある。
【００３４】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、キャ
ップゴム部材が当接する部位には共析メッキ未処理部が
形成されているため、インク介在下でのキャップゴムと
の繰り返しの密着動作によって腐食が発生することはな
い。したがって、キャップゴムとの密着性が損なわれる
ことはなく、信頼性の高いシール性を確保できる。ま
た、キャップゴムとの密着部に発生した腐食がトリガー
となってノズル近傍の撥水を低下させることもないた
め、長期にわたって高い撥インク性を維持することが可
能となる。
ップゴム部材が当接する部位には共析メッキ未処理部が
形成されているため、インク介在下でのキャップゴムと
の繰り返しの密着動作によって腐食が発生することはな
い。したがって、キャップゴムとの密着性が損なわれる
ことはなく、信頼性の高いシール性を確保できる。ま
た、キャップゴムとの密着部に発生した腐食がトリガー
となってノズル近傍の撥水を低下させることもないた
め、長期にわたって高い撥インク性を維持することが可
能となる。
【００３５】また、共析メッキ未処理部は他の部分に比
べて親水性があるため、キャップゴムとの接触において
インクが介在した状態となり、密着性が高い。このため
にシール性に優れるという効果が得られる。
べて親水性があるため、キャップゴムとの接触において
インクが介在した状態となり、密着性が高い。このため
にシール性に優れるという効果が得られる。
【００３６】さらに、共析メッキ未処理部ではステンレ
ス鋼が露出している。共析メッキ面ではそのメッキ層中
にフッ素系高分子を１０〜５０vol％含有しているた
め、ステンレス鋼面に比べてやや硬度が劣る。キャップ
ゴム当接部を共析メッキ未処理部としたため、印字動作
中の紙擦り等のトラブルに伴う外傷のダメージもなく、
キャッピング時のシール性の信頼性が向上する。
ス鋼が露出している。共析メッキ面ではそのメッキ層中
にフッ素系高分子を１０〜５０vol％含有しているた
め、ステンレス鋼面に比べてやや硬度が劣る。キャップ
ゴム当接部を共析メッキ未処理部としたため、印字動作
中の紙擦り等のトラブルに伴う外傷のダメージもなく、
キャッピング時のシール性の信頼性が向上する。
【図１】本発明におけるインクジェット記録ヘッドのノ
ズルプレートを示した平面図である。
ズルプレートを示した平面図である。
【図２】（ａ）乃至（ｇ）は、ノズルプレートに撥水性
皮膜を形成する各工程を示した図である。
皮膜を形成する各工程を示した図である。
【図３】本発明の第２の実施例におけるンクジェット記
録ヘッドのノズルプレートを示した平面図である。
録ヘッドのノズルプレートを示した平面図である。
【図４】本発明の第３の実施例におけるンクジェット記
録ヘッドのノズルプレートを示した断面図である。
録ヘッドのノズルプレートを示した断面図である。
【図５】（ａ）は本発明の第４の実施例におけるンクジ
ェット記録ヘッドのノズルプレートを示した平面図、
（ｂ）はキャップとの構成を示した断面図である。
ェット記録ヘッドのノズルプレートを示した平面図、
（ｂ）はキャップとの構成を示した断面図である。
１ ノズルプレート ２ 裏面 ３ 漏斗状部分 ４ 表面 ５ オリフィス部分 ６ ノズル孔 ７ａ、７ｂ ドライフィルムレジスト ８ａ、８ｂ マスク部材 ９ 漏斗状部周囲 １０ａ、１０ｂ マスキング層 １１ 共析メッキ １２ 共析メッキ皮膜 １３、１３ｂ、１３ｃ 共析メッキ未処理部 １４ ノズル列 １５ 凹部 １６ キャップ １７ 多孔質部材 １８ バルブ １９ ポンプ
Claims (4)
- 【請求項１】 インク吐出のためのノズル開口が穿設さ
れ、表面にフッ素系高分子共析メッキが被覆されたノズ
ルプレートを有するインクジェット記録ヘッドであっ
て、 前記ノズルプレート表面のキャップゴムが当接する部分
にフッ素系共析メッキ未処理部を形成したことを特徴と
するインクジェット記録ヘッド。 - 【請求項２】 複数のノズル開口よりなるノズル列を複
数列有するノズルプレートを備えたインクジェット記録
ヘッドにおいて、 前記ノズルプレート表面は、フッ素系高分子共析メッキ
が被覆され、前記ノズル列間に所定の幅で帯状の共析メ
ッキ未処理部がキャップゴムと当接する共析メッキ未処
理部に連なる構成で形成されていることを特徴とするイ
ンクジェット記録ヘッド。 - 【請求項３】 前記共析メッキ未処理部の一部およびす
べてがノズルプレート表面に対し凹状に形成されている
ことを特徴とする請求項１もしくは請求項２に記載のイ
ンクジェット記録ヘッド。 - 【請求項４】 インク吐出のためのノズル開口が穿設さ
れたノズルプレートを有するインクジェット記録ヘッド
と、この記録ヘッドの前記ノズル開口部を覆うように選
択的に密着可能なキャップ部材とを有するインクジェッ
ト記録装置であって、 前記記録ヘッドのノズルプレート表面は、フッ素系高分
子共析メッキ及び共析メッキ未処理部が形成されてお
り、非印字時に前記共析メッキ未処理部の一部に当接す
る多孔質部材を前記キャップ部材内に設けたことを特徴
とするインクジェット記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11148194A JP3590420B2 (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11148194A JP3590420B2 (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07314694A true JPH07314694A (ja) | 1995-12-05 |
| JP3590420B2 JP3590420B2 (ja) | 2004-11-17 |
Family
ID=14562356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11148194A Expired - Fee Related JP3590420B2 (ja) | 1994-05-25 | 1994-05-25 | インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3590420B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2747960A1 (fr) * | 1996-04-24 | 1997-10-31 | Toxot Sciences & Applic | Dispositif a buse(s) pour imprimante a jet d'encre protege(s) de la pollution par un traitement de non-mouillabilite et procede de fabritcation |
| JPH1071721A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法並びにインクジェット記録装置 |
| WO2001034398A1 (en) * | 1999-11-11 | 2001-05-17 | Seiko Epson Corporation | Ink jet printer head and production method thereof, and polycyclic thiol compound |
| JP2006088389A (ja) * | 2004-09-21 | 2006-04-06 | Ricoh Co Ltd | 画像記録装置及びそれに搭載される記録液カートリッジ |
| JP2008100445A (ja) * | 2006-10-19 | 2008-05-01 | Sharp Corp | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置および液体吐出ヘッドの製造方法 |
| US8152984B2 (en) | 2007-06-12 | 2012-04-10 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing nozzle plate |
| US9006509B2 (en) | 2003-07-18 | 2015-04-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Absorbent article with high quality ink jet image produced at line speed |
| JP2017007118A (ja) * | 2015-06-17 | 2017-01-12 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | インクジェットヘッド、液体噴射記録装置、およびインクジェットヘッドの製造方法 |
-
1994
- 1994-05-25 JP JP11148194A patent/JP3590420B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2747960A1 (fr) * | 1996-04-24 | 1997-10-31 | Toxot Sciences & Applic | Dispositif a buse(s) pour imprimante a jet d'encre protege(s) de la pollution par un traitement de non-mouillabilite et procede de fabritcation |
| JPH1071721A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Ricoh Co Ltd | インクジェットヘッド及びその製造方法並びにインクジェット記録装置 |
| WO2001034398A1 (en) * | 1999-11-11 | 2001-05-17 | Seiko Epson Corporation | Ink jet printer head and production method thereof, and polycyclic thiol compound |
| US6629754B1 (en) | 1999-11-11 | 2003-10-07 | Seiko Epson Corporation | Ink jet printer head manufacturing method thereof, and polycyclic thiol compounds |
| US9006509B2 (en) | 2003-07-18 | 2015-04-14 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Absorbent article with high quality ink jet image produced at line speed |
| US9901492B2 (en) | 2003-07-18 | 2018-02-27 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Absorbent article with high quality ink jet image produced at line speed |
| JP2006088389A (ja) * | 2004-09-21 | 2006-04-06 | Ricoh Co Ltd | 画像記録装置及びそれに搭載される記録液カートリッジ |
| JP2008100445A (ja) * | 2006-10-19 | 2008-05-01 | Sharp Corp | 液体吐出ヘッド、液体吐出装置および液体吐出ヘッドの製造方法 |
| US8152984B2 (en) | 2007-06-12 | 2012-04-10 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing nozzle plate |
| JP2017007118A (ja) * | 2015-06-17 | 2017-01-12 | エスアイアイ・プリンテック株式会社 | インクジェットヘッド、液体噴射記録装置、およびインクジェットヘッドの製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3590420B2 (ja) | 2004-11-17 |
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