JPH07318657A - 透過型ｘ線ビームモニター方法およびモニター装置 - Google Patents
透過型ｘ線ビームモニター方法およびモニター装置Info
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- JPH07318657A JPH07318657A JP11495094A JP11495094A JPH07318657A JP H07318657 A JPH07318657 A JP H07318657A JP 11495094 A JP11495094 A JP 11495094A JP 11495094 A JP11495094 A JP 11495094A JP H07318657 A JPH07318657 A JP H07318657A
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- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線ビームのモニターと利用が同時にでき、
また、ビームの断面形状にも影響を及ぼすことなく、小
径のビームもモニターすることができる透過型Ｘ線ビー
ムモニター装置を提供する。 【構成】 モニター板２は、Ｘ線ビーム１の入射方向か
らみて、左側の表側に光電膜４が、右側の裏側に光電膜
５が設けられている。それぞれの光電膜４，５を見込む
２次電子増倍管６ａ，６ｂが表側，裏側に配置されてい
る。Ｘ線ビーム１が透過するモニター板２の表面あるい
は裏面から放出された微弱な電子電流は、２次電子増倍
管６ａ，６ｂに入射され、増幅された出力電流は、エレ
クトロメータ８ａ，８ｂで測定される。測定された電流
値の合計値からビームの強度を、また、電流値の差か
ら、ビームの左右への変位を測定することができる。
また、ビームの断面形状にも影響を及ぼすことなく、小
径のビームもモニターすることができる透過型Ｘ線ビー
ムモニター装置を提供する。 【構成】 モニター板２は、Ｘ線ビーム１の入射方向か
らみて、左側の表側に光電膜４が、右側の裏側に光電膜
５が設けられている。それぞれの光電膜４，５を見込む
２次電子増倍管６ａ，６ｂが表側，裏側に配置されてい
る。Ｘ線ビーム１が透過するモニター板２の表面あるい
は裏面から放出された微弱な電子電流は、２次電子増倍
管６ａ，６ｂに入射され、増幅された出力電流は、エレ
クトロメータ８ａ，８ｂで測定される。測定された電流
値の合計値からビームの強度を、また、電流値の差か
ら、ビームの左右への変位を測定することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シンクロトロン放射光
などのＸ線ビームの位置や形状や強度を測定する透過型
のＸ線ビームモニター方法およびモニター装置に関する
ものである。
などのＸ線ビームの位置や形状や強度を測定する透過型
のＸ線ビームモニター方法およびモニター装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線ビームの位置をモニターする従来技
術としては、例えば、「放射光」第２巻第４号（１９８
９年１１月）第４３〜４９頁に示されているように、次
のようなものがある。 蛍光板モニター Ｘ線ビームの端に蛍光板を挿入し、光っている部分を鉛
ガラス越しにＴＶカメラで観察したり、画像処理を行な
ったりする。 分割型電離箱モニター 電離箱の陰極側が対角線に沿って三角形に２分割されて
おり、Ｘ線が電極間を通過するときに出るイオン電流を
上下の分割陰極間で独立に測定する。増幅および電圧変
換後、電極間の差をとり、ビーム位置として検出する。 スリット型モニター Ｘ線ビームがスリットの上下（あるいは左右）の２枚の
刃に当たったときに放出される光電子を電流値として測
定する。ビームの大きさ等を変更するためにスリット幅
を変えると継続的な測定が困難になる。 ２分割光電子型モニター 真空チャンバー中に１対の直角三角形の読み出し電極を
設置し、ビーム端を２〜３ｍｍ切って、電流を計測す
る。
術としては、例えば、「放射光」第２巻第４号（１９８
９年１１月）第４３〜４９頁に示されているように、次
のようなものがある。 蛍光板モニター Ｘ線ビームの端に蛍光板を挿入し、光っている部分を鉛
ガラス越しにＴＶカメラで観察したり、画像処理を行な
ったりする。 分割型電離箱モニター 電離箱の陰極側が対角線に沿って三角形に２分割されて
おり、Ｘ線が電極間を通過するときに出るイオン電流を
上下の分割陰極間で独立に測定する。増幅および電圧変
換後、電極間の差をとり、ビーム位置として検出する。 スリット型モニター Ｘ線ビームがスリットの上下（あるいは左右）の２枚の
刃に当たったときに放出される光電子を電流値として測
定する。ビームの大きさ等を変更するためにスリット幅
を変えると継続的な測定が困難になる。 ２分割光電子型モニター 真空チャンバー中に１対の直角三角形の読み出し電極を
設置し、ビーム端を２〜３ｍｍ切って、電流を計測す
る。
【０００３】また、Ｘ線ビームの形状をモニターできる
従来装置としては、蛍光板を用いる方法や、「応用物
理」第６２巻第７号（１９９３年）第７２０〜７２１頁
に示されているようなＸ線カメラがある。
従来装置としては、蛍光板を用いる方法や、「応用物
理」第６２巻第７号（１９９３年）第７２０〜７２１頁
に示されているようなＸ線カメラがある。
【０００４】さらに、超高真空中で利用できるＸ線ビー
ムの強度モニターとしては、”Ｘ−ｒａｙ Ａｂｓｏｒ
ｐｔｉｏｎ”第４７６〜４７７頁に示されているよう
に、金属メッシュや金属箔からの光電流を計測する方法
などが知られている。
ムの強度モニターとしては、”Ｘ−ｒａｙ Ａｂｓｏｒ
ｐｔｉｏｎ”第４７６〜４７７頁に示されているよう
に、金属メッシュや金属箔からの光電流を計測する方法
などが知られている。
【０００５】このような従来の装置や方法は、Ｘ線ビー
ムの全部あるいは一部を切りとって測定していたり、電
離箱モニターのようにガスを使っているものである。
ムの全部あるいは一部を切りとって測定していたり、電
離箱モニターのようにガスを使っているものである。
【０００６】Ｘ線ビームの全部を測定に使う場合には、
ビームの利用とモニターを同時に行なうことはできな
い。また、２枚の対向した電極を用いて、Ｘ線ビームの
一部を切りとって測定する場合には、径の小さなビーム
の測定が困難であるという問題がある。
ビームの利用とモニターを同時に行なうことはできな
い。また、２枚の対向した電極を用いて、Ｘ線ビームの
一部を切りとって測定する場合には、径の小さなビーム
の測定が困難であるという問題がある。
【０００７】電離箱モニターの場合には、真空中に置か
れた試料の直前や直後での測定ができないといった問題
もあった。さらに、金属メッシュや金属箔からの光電流
の計測では、ビームの位置や形状の測定ができなかっ
た。
れた試料の直前や直後での測定ができないといった問題
もあった。さらに、金属メッシュや金属箔からの光電流
の計測では、ビームの位置や形状の測定ができなかっ
た。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した事
情に鑑みてなされたもので、Ｘ線ビームのモニターと利
用が同時にでき、また、ビームの断面形状にも影響を及
ぼすことなく、小径のビームもモニターすることができ
る透過型Ｘ線ビームモニター方法およびモニター装置を
提供することを目的とするものである。
情に鑑みてなされたもので、Ｘ線ビームのモニターと利
用が同時にでき、また、ビームの断面形状にも影響を及
ぼすことなく、小径のビームもモニターすることができ
る透過型Ｘ線ビームモニター方法およびモニター装置を
提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、透過型Ｘ線ビ
ームモニター方法において、Ｘ線透過性の基板の表側お
よび裏側にＸ線を吸収して電子を放出する光電効果を有
する光電膜を同一でない範囲に設けたモニター板を用
い、該モニター板にＸ線を入射させ、該モニター板から
放出される電子の電流をモニター板の表裏を区別して測
定することを特徴とするものである。
ームモニター方法において、Ｘ線透過性の基板の表側お
よび裏側にＸ線を吸収して電子を放出する光電効果を有
する光電膜を同一でない範囲に設けたモニター板を用
い、該モニター板にＸ線を入射させ、該モニター板から
放出される電子の電流をモニター板の表裏を区別して測
定することを特徴とするものである。
【００１０】また、本発明は、透過型Ｘ線ビームモニタ
ー装置において、Ｘ線透過性の基板の表側および裏側に
Ｘ線を吸収して電子を放出する光電効果を有する光電膜
を同一でない範囲に設けたモニター板と、該モニター板
の表裏から放出される電子の電流を別々に検出する検出
器を有することを特徴とするものである。
ー装置において、Ｘ線透過性の基板の表側および裏側に
Ｘ線を吸収して電子を放出する光電効果を有する光電膜
を同一でない範囲に設けたモニター板と、該モニター板
の表裏から放出される電子の電流を別々に検出する検出
器を有することを特徴とするものである。
【００１１】入射されるＸ線の吸収および散乱がほとん
ど無視できる程度に前記基板および前記光電膜の厚さを
薄くしたこと、前記光電膜の光電効果に伴って発生する
光電子、オージェ電子、２次電子のうちのほとんどが透
過できない程度に前記基板を厚くしたことも特徴とする
ものである。
ど無視できる程度に前記基板および前記光電膜の厚さを
薄くしたこと、前記光電膜の光電効果に伴って発生する
光電子、オージェ電子、２次電子のうちのほとんどが透
過できない程度に前記基板を厚くしたことも特徴とする
ものである。
【００１２】また、前記基板としてベリリウム箔，グラ
ファィト薄板，アルミ泊等、軽金属薄板を用いること、
前記基板として、カーボン，アルミ等のコーティングな
どによる表面導電化処理が施された有機物フィルムある
いはダイヤモンド，水晶，サファイヤ，窒化硼素，窒化
アルミ，窒化珪素等の無機物薄板を用いたことも特徴と
するものである。
ファィト薄板，アルミ泊等、軽金属薄板を用いること、
前記基板として、カーボン，アルミ等のコーティングな
どによる表面導電化処理が施された有機物フィルムある
いはダイヤモンド，水晶，サファイヤ，窒化硼素，窒化
アルミ，窒化珪素等の無機物薄板を用いたことも特徴と
するものである。
【００１３】また、前記光電膜として銀，金，銅等の金
属膜を用いたことも特徴とするものであり、前記光電膜
の厚さを２ｎｍ〜１００ｎｍとすること、あるいは、前
記光電膜の厚さを１０ｎｍ〜５０ｎｍとすることができ
る。
属膜を用いたことも特徴とするものであり、前記光電膜
の厚さを２ｎｍ〜１００ｎｍとすること、あるいは、前
記光電膜の厚さを１０ｎｍ〜５０ｎｍとすることができ
る。
【００１４】
【作用】モニター板として入射Ｘ線ビームが透過できる
ものを用いるため、ビームのモニターを行なうととも
に、ビームの利用が同時にできる。また、モニター板を
用いたことにより、ビームの断面形状も変化しない。さ
らに、ビームを構成するすべてのＸ線光子がモニター板
に入射するため、どんなに小さな径のビームもモニター
することができる。
ものを用いるため、ビームのモニターを行なうととも
に、ビームの利用が同時にできる。また、モニター板を
用いたことにより、ビームの断面形状も変化しない。さ
らに、ビームを構成するすべてのＸ線光子がモニター板
に入射するため、どんなに小さな径のビームもモニター
することができる。
【００１５】モニター板の表側と裏側の同一でない範囲
に設けた光電膜から放出される電子を表裏を区別して検
出することによって、２種類のビーム強度信号を同時に
得ることができ、信号を演算処理するなどしてビームの
位置や形状の情報に変換することができる。
に設けた光電膜から放出される電子を表裏を区別して検
出することによって、２種類のビーム強度信号を同時に
得ることができ、信号を演算処理するなどしてビームの
位置や形状の情報に変換することができる。
【００１６】光電膜は、基板上にコーティングするなど
によって形成することができ、厚い光電物質を用いる必
要がなく、モニター板による入射Ｘ線の吸収および散乱
を必要最小限に抑えることができる。
によって形成することができ、厚い光電物質を用いる必
要がなく、モニター板による入射Ｘ線の吸収および散乱
を必要最小限に抑えることができる。
【００１７】物質中の電子の飛程は、Ｘ線のそれよりも
ずっと短いため、Ｘ線は透過するが、光電効果にともな
って発生する光電子、オージェ電子、２次電子のうちの
ほとんどが透過できないほどモニター板を厚くすること
ができ、モニター板の表側付近で発生した電子と裏側付
近で発生した電子のそれぞれを区別して検出することが
できる。
ずっと短いため、Ｘ線は透過するが、光電効果にともな
って発生する光電子、オージェ電子、２次電子のうちの
ほとんどが透過できないほどモニター板を厚くすること
ができ、モニター板の表側付近で発生した電子と裏側付
近で発生した電子のそれぞれを区別して検出することが
できる。
【００１８】基板上の全面ではなく一部に、特定の形状
を持たせて、光電膜をコーティングすることにより、表
面と裏面からの２種類のビーム強度信号に、特定の意味
を持たせることができる。
を持たせて、光電膜をコーティングすることにより、表
面と裏面からの２種類のビーム強度信号に、特定の意味
を持たせることができる。
【００１９】ベリリウム箔，グラファィト薄板，アルミ
箔等、軽金属薄板は、一般にＸ線を良く透過するので基
板の材料として適している。
箔等、軽金属薄板は、一般にＸ線を良く透過するので基
板の材料として適している。
【００２０】有機物フィルム、あるいは、ダイヤモン
ド，水晶，サファイヤ，窒化硼素，窒化アルミ，窒化珪
素等の無機物薄板なども、一般にＸ線を良く透過するの
で基板に用いることができるが、絶縁体であるので、表
面がむき出しであると、Ｘ線照射による電子放出等で帯
電し、光電膜から放出された電子を吸収するなどの妨害
をするため、カーボン，アルミ等のコーティングなどに
よる表面導電化処理を施して、帯電を防止するのがよ
い。
ド，水晶，サファイヤ，窒化硼素，窒化アルミ，窒化珪
素等の無機物薄板なども、一般にＸ線を良く透過するの
で基板に用いることができるが、絶縁体であるので、表
面がむき出しであると、Ｘ線照射による電子放出等で帯
電し、光電膜から放出された電子を吸収するなどの妨害
をするため、カーボン，アルミ等のコーティングなどに
よる表面導電化処理を施して、帯電を防止するのがよ
い。
【００２１】光電膜としては、光電効果の顕著な物質で
あれば何でもよいわけであるが、銀，金，銅等の金属膜
は、導電性でしかも安定であるため、優れている。しか
し、Ｘ線の透過度や光電効果は、Ｘ線のエネルギーに依
存するため、基板および光電膜の材料については、測定
しようとするＸ線のエネルギー範囲によって、適当な物
質を使い分けることが効果的である。
あれば何でもよいわけであるが、銀，金，銅等の金属膜
は、導電性でしかも安定であるため、優れている。しか
し、Ｘ線の透過度や光電効果は、Ｘ線のエネルギーに依
存するため、基板および光電膜の材料については、測定
しようとするＸ線のエネルギー範囲によって、適当な物
質を使い分けることが効果的である。
【００２２】光電膜の厚さは、薄すぎると放出電子電流
が微弱になって測定が困難になる。また、厚すぎても光
電膜の深いところで発生した電子が光電膜の外まで脱出
できないので無駄であり、そればかりでなく、２次Ｘ線
である蛍光Ｘ線の発生がバックグラウンドとなり、放出
電子電流測定のＳ／Ｎを悪くする。したがって、光電膜
の材料や測定しようとするＸ線のエネルギー範囲にもよ
るが、光電膜の厚さとしては、２ｎｍ〜１００ｎｍ、好
ましくは、１０ｎｍ〜５０ｎｍが、一般的な目安であ
る。
が微弱になって測定が困難になる。また、厚すぎても光
電膜の深いところで発生した電子が光電膜の外まで脱出
できないので無駄であり、そればかりでなく、２次Ｘ線
である蛍光Ｘ線の発生がバックグラウンドとなり、放出
電子電流測定のＳ／Ｎを悪くする。したがって、光電膜
の材料や測定しようとするＸ線のエネルギー範囲にもよ
るが、光電膜の厚さとしては、２ｎｍ〜１００ｎｍ、好
ましくは、１０ｎｍ〜５０ｎｍが、一般的な目安であ
る。
【００２３】
【実施例】図１は、本発明の透過型Ｘ線ビームモニター
装置の一実施例の概略構成図である。図中、１はＸ線ビ
ーム、２はモニター板、３は基板、４，５は光電膜、６
ａ．６ｂは２次電子増倍管、７ａ，７ｂは電極、８ａ，
８ｂはエレクトロメータである。モニター板２は、基板
３の両面に光電膜４，５がコーティングされている。光
電膜４は表側に、光電膜５は裏側に設けられており、こ
の実施例では、Ｘ線ビーム１の入射方向を水平方向とす
れば、基板３のほぼ中央の垂直線を境にして、入射方向
からみて、左側の表側に光電膜４が、右側の裏側に光電
膜５が設けられている。それぞれの光電膜４，５を見込
む２次電子増倍管６ａ，６ｂが表側，裏側に配置されて
いる。電極７ａ，７ｂは、２次電子増倍管６ａ，６ｂか
ら真空中に出力される電子を吸収する。エレクトロメー
タ８ａ，８ｂは、微小な電流値が測定できるものであ
り、他の測定手段でもよいことはもちろんである。
装置の一実施例の概略構成図である。図中、１はＸ線ビ
ーム、２はモニター板、３は基板、４，５は光電膜、６
ａ．６ｂは２次電子増倍管、７ａ，７ｂは電極、８ａ，
８ｂはエレクトロメータである。モニター板２は、基板
３の両面に光電膜４，５がコーティングされている。光
電膜４は表側に、光電膜５は裏側に設けられており、こ
の実施例では、Ｘ線ビーム１の入射方向を水平方向とす
れば、基板３のほぼ中央の垂直線を境にして、入射方向
からみて、左側の表側に光電膜４が、右側の裏側に光電
膜５が設けられている。それぞれの光電膜４，５を見込
む２次電子増倍管６ａ，６ｂが表側，裏側に配置されて
いる。電極７ａ，７ｂは、２次電子増倍管６ａ，６ｂか
ら真空中に出力される電子を吸収する。エレクトロメー
タ８ａ，８ｂは、微小な電流値が測定できるものであ
り、他の測定手段でもよいことはもちろんである。
【００２４】Ｘ線ビーム１は、モニター板２を表側から
裏側に透過している。入射したＸ線ビーム１が透過する
モニター板の表面あるいは裏面から放出された微弱な電
子電流は、それぞれの面を見込む表側と裏側の２次電子
増倍管６ａ，６ｂに入射される。
裏側に透過している。入射したＸ線ビーム１が透過する
モニター板の表面あるいは裏面から放出された微弱な電
子電流は、それぞれの面を見込む表側と裏側の２次電子
増倍管６ａ，６ｂに入射される。
【００２５】入口に電子補集用のバイアス電圧Ｖ1 のか
かった表側と裏側の２次電子増倍管６ａ，６ｂは、それ
ぞれ放出電子電流を集め、出口に印加された高電圧Ｖ2
による加速と壁面との衝突による２次電子発生を繰り返
して増幅される。増幅された出力電流は、出口の電位Ｖ
1 ＋Ｖ2 よりも高電位（Ｖ3 ＞Ｖ1 ＋Ｖ2 ）に保たれた
電極７ａ，７ｂに流れ込み、エレクトロメータ８ａ，８
ｂで測定される。
かった表側と裏側の２次電子増倍管６ａ，６ｂは、それ
ぞれ放出電子電流を集め、出口に印加された高電圧Ｖ2
による加速と壁面との衝突による２次電子発生を繰り返
して増幅される。増幅された出力電流は、出口の電位Ｖ
1 ＋Ｖ2 よりも高電位（Ｖ3 ＞Ｖ1 ＋Ｖ2 ）に保たれた
電極７ａ，７ｂに流れ込み、エレクトロメータ８ａ，８
ｂで測定される。
【００２６】エレクトロメータ８ａ，８ｂによる測定電
流値をＩFL，ＩRRとすると、 Ｉ＝ＩFL＋ＩRR なる電流値Ｉからビームの強度を測定することができ
る。また、下記の演算結果Ｉより、ビームの左右への変
位を測定することができる。 Ｉ＝（ＩFL−ＩRR）／（ＩFL＋ＩRR）
流値をＩFL，ＩRRとすると、 Ｉ＝ＩFL＋ＩRR なる電流値Ｉからビームの強度を測定することができ
る。また、下記の演算結果Ｉより、ビームの左右への変
位を測定することができる。 Ｉ＝（ＩFL−ＩRR）／（ＩFL＋ＩRR）
【００２７】この場合、基板３の厚さを、表側で発生し
た電子が裏側から放出されたり、裏側で発生した電子が
表側から放出されたりすることが無視できるように、電
子の飛程よりも厚くする。それにより、表側と裏側から
放出される電子は、確実に分離して検出することができ
る。
た電子が裏側から放出されたり、裏側で発生した電子が
表側から放出されたりすることが無視できるように、電
子の飛程よりも厚くする。それにより、表側と裏側から
放出される電子は、確実に分離して検出することができ
る。
【００２８】モニター板２の表側付近で発生した電子と
裏側付近で発生した電子の区別を一層明確にするために
は、ベリリウム箔や有機物フィルム等、Ｘ線の吸収や散
乱のほとんどない基板を用いて、その表面と裏面に銀な
どのＸ線を吸収して電子を放出する光電効果の顕著な物
質を薄くコーティングするとよい。
裏側付近で発生した電子の区別を一層明確にするために
は、ベリリウム箔や有機物フィルム等、Ｘ線の吸収や散
乱のほとんどない基板を用いて、その表面と裏面に銀な
どのＸ線を吸収して電子を放出する光電効果の顕著な物
質を薄くコーティングするとよい。
【００２９】上述した実施例では、入射Ｘ線ビーム１の
左右方向の位置を検出できるものである。このモニター
板２をその平面内で９０度回転させることにより、上下
方向の位置を検出することができる。上述した実施例の
モニター板と、これを９０度回転させたモニター板とを
組み合わせることにより、左右方向および上下方向の位
置、すなわち、入射Ｘ線ビーム１に直角な平面内での２
次元的な位置を検出することができ、入射Ｘ線ビームあ
るいはモニター板を２次元的に振らせることにより、ビ
ームの断面形状を推測することは、十分とはいえない
が、ある程度は可能である。
左右方向の位置を検出できるものである。このモニター
板２をその平面内で９０度回転させることにより、上下
方向の位置を検出することができる。上述した実施例の
モニター板と、これを９０度回転させたモニター板とを
組み合わせることにより、左右方向および上下方向の位
置、すなわち、入射Ｘ線ビーム１に直角な平面内での２
次元的な位置を検出することができ、入射Ｘ線ビームあ
るいはモニター板を２次元的に振らせることにより、ビ
ームの断面形状を推測することは、十分とはいえない
が、ある程度は可能である。
【００３０】図２は、本発明の透過型Ｘ線ビームモニタ
ー装置に用いられるモニター板の他の実施例の斜視図で
ある。図中、２はモニター板、３は基板、９，１０は光
電膜である。光電膜９は、小径の点状のものであり、基
板３の表側にコーティングされている。光電膜１０は、
基板３の裏側の全面にコーティングされている。光電膜
９，１０からそれぞれ放出される電子は、上述の実施例
と同様に、別々の検出手段、例えば、２次電子増倍管で
検出される。入射Ｘ線ビームあるいはモニター板を入射
方向に垂直な面内で２次元走査して、両光電膜から放出
された電子を検出することにより、ビームの形状測定と
全強度測定を同時に行なうことが可能である。測定する
ビームの大きさにもよるが、光電膜９として、例えば、
直径が１μｍ程度の大きさのものを用いることにより、
精度よく、ビームプロファイルの検出ができる。
ー装置に用いられるモニター板の他の実施例の斜視図で
ある。図中、２はモニター板、３は基板、９，１０は光
電膜である。光電膜９は、小径の点状のものであり、基
板３の表側にコーティングされている。光電膜１０は、
基板３の裏側の全面にコーティングされている。光電膜
９，１０からそれぞれ放出される電子は、上述の実施例
と同様に、別々の検出手段、例えば、２次電子増倍管で
検出される。入射Ｘ線ビームあるいはモニター板を入射
方向に垂直な面内で２次元走査して、両光電膜から放出
された電子を検出することにより、ビームの形状測定と
全強度測定を同時に行なうことが可能である。測定する
ビームの大きさにもよるが、光電膜９として、例えば、
直径が１μｍ程度の大きさのものを用いることにより、
精度よく、ビームプロファイルの検出ができる。
【００３１】なお、２次電子増倍管等による検出電流
は、微小電流計を用いることに限られず、パルス計数回
路等、適宜の方法で測定される。測定値をマイクロコン
ピュータにより処理することによって、ビーム強度、ビ
ーム位置、ビーム形状等を、より迅速に検出することが
可能である。
は、微小電流計を用いることに限られず、パルス計数回
路等、適宜の方法で測定される。測定値をマイクロコン
ピュータにより処理することによって、ビーム強度、ビ
ーム位置、ビーム形状等を、より迅速に検出することが
可能である。
【００３２】光電膜の形状は、上述した実施例に限られ
るものではない。その形状や位置関係を適当に選ぶこと
によりＸ線ビームの強度だけではなく、位置や形状等を
測定することができる。
るものではない。その形状や位置関係を適当に選ぶこと
によりＸ線ビームの強度だけではなく、位置や形状等を
測定することができる。
【００３３】なお、超高真空中で測定を行なう場合に
は、ベリリウム箔や銀コーティングなどガス放出のない
材料を選ぶのがよい。
は、ベリリウム箔や銀コーティングなどガス放出のない
材料を選ぶのがよい。
【００３４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、Ｘ線ビームモニターが透過型であるため、ビ
ームのモニターとビームの利用を同時に行なうことが可
能であり、また、ビームの断面形状にも影響を与えるこ
ともない。また、どんなに小さな径のビームもモニター
でき、さらに、ビームの吸収による熱負荷も小さいとい
う効果がある。さらに、ビームの強度だけでなく、位置
や形状の測定も可能であり、超高真空中でも使用できる
という利点がある。
によれば、Ｘ線ビームモニターが透過型であるため、ビ
ームのモニターとビームの利用を同時に行なうことが可
能であり、また、ビームの断面形状にも影響を与えるこ
ともない。また、どんなに小さな径のビームもモニター
でき、さらに、ビームの吸収による熱負荷も小さいとい
う効果がある。さらに、ビームの強度だけでなく、位置
や形状の測定も可能であり、超高真空中でも使用できる
という利点がある。
【００３５】したがって、シンクロトロン放射光用ビー
ムラインのＸ線ビームモニターとして利用すると効果的
である。
ムラインのＸ線ビームモニターとして利用すると効果的
である。
【図１】本発明の透過型Ｘ線ビームモニター装置の一実
施例の概略構成図である。
施例の概略構成図である。
【図２】本発明の透過型Ｘ線ビームモニター装置に用い
られるモニター板の他の実施例の斜視図である。
られるモニター板の他の実施例の斜視図である。
１…Ｘ線ビーム、２…モニター板、３…基板、４，５…
光電膜、６ａ．６ｂ…２次電子増倍管、７ａ，７ｂ…電
極、８ａ，８ｂ…エレクトロメータ、９，１０…光電
膜。
光電膜、６ａ．６ｂ…２次電子増倍管、７ａ，７ｂ…電
極、８ａ，８ｂ…エレクトロメータ、９，１０…光電
膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芳賀 孝吉 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内
Claims (12)
- 【請求項１】 Ｘ線透過性の基板の表側および裏側にＸ
線を吸収して電子を放出する光電効果を有する光電膜を
同一でない範囲に設けたモニター板を用い、該モニター
板にＸ線を入射させ、該モニター板から放出される電子
の電流をモニター板の表裏を区別して測定することを特
徴とする透過型Ｘ線ビームモニター方法。 - 【請求項２】 入射されるＸ線の吸収および散乱がほと
んど無視できる程度に前記基板および前記光電膜の厚さ
を薄くしたことを特徴とする請求項１に記載の透過型Ｘ
線ビームモニター方法。 - 【請求項３】 前記光電膜の光電効果に伴って発生する
光電子、オージェ電子、２次電子のうちのほとんどが透
過できない程度に前記基板を厚くしたことを特徴とする
請求項１または２に記載の透過型Ｘ線ビームモニター方
法。 - 【請求項４】 前記基板としてベリリウム箔，グラファ
ィト薄板，アルミ泊等、軽金属薄板を用いることを特徴
とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の透過型
Ｘ線ビームモニター方法。 - 【請求項５】 前記基板として、カーボン，アルミ等の
コーティングなどによる表面導電化処理が施された有機
物フィルムあるいはダイヤモンド，水晶，サファイヤ，
窒化硼素，窒化アルミ，窒化珪素等の無機物薄板を用い
たことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に
記載の透過型Ｘ線ビームモニター方法。 - 【請求項６】 前記光電膜として銀，金，銅等の金属膜
を用いたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか
１項に記載の透過型Ｘ線ビームモニター方法。 - 【請求項７】 Ｘ線透過性の基板の表側および裏側にＸ
線を吸収して電子を放出する光電効果を有する光電膜を
同一でない範囲に設けたモニター板と、該モニター板の
表裏から放出される電子の電流を別々に検出する検出器
を有することを特徴とする透過型Ｘ線ビームモニター装
置。 - 【請求項８】 入射されるＸ線の吸収および散乱がほと
んど無視できる程度に前記基板および前記光電膜の厚さ
を薄くしたことを特徴とする請求項７に記載の透過型Ｘ
線ビームモニター装置。 - 【請求項９】 前記光電膜の光電効果に伴って発生する
光電子、オージェ電子、２次電子のうちのほとんどが透
過できない程度に前記基板を厚くしたことを特徴とする
請求項７または８に記載の透過型Ｘ線ビームモニター装
置。 - 【請求項１０】 前記基板としてベリリウム箔，グラフ
ァィト薄板，アルミ泊等、軽金属薄板を用いることを特
徴とする請求項７ないし９のいずれか１項に記載の透過
型Ｘ線ビームモニター装置。 - 【請求項１１】 前記基板として、カーボン，アルミ等
のコーティングなどによる表面導電化処理が施された有
機物フィルムあるいはダイヤモンド，水晶，サファイ
ヤ，窒化硼素，窒化アルミ，窒化珪素等の無機物薄板を
用いたことを特徴とする請求項７ないし９のいずれか１
項に記載の透過型Ｘ線ビームモニター装置。 - 【請求項１２】 前記光電膜として銀，金，銅等の金属
膜を用いたことを特徴とする請求項７ないし１１のいず
れか１項に記載の透過型Ｘ線ビームモニター装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11495094A JP3603111B2 (ja) | 1994-05-27 | 1994-05-27 | 透過型ｘ線ビームモニター方法およびモニター装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11495094A JP3603111B2 (ja) | 1994-05-27 | 1994-05-27 | 透過型ｘ線ビームモニター方法およびモニター装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07318657A true JPH07318657A (ja) | 1995-12-08 |
| JP3603111B2 JP3603111B2 (ja) | 2004-12-22 |
Family
ID=14650672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11495094A Expired - Lifetime JP3603111B2 (ja) | 1994-05-27 | 1994-05-27 | 透過型ｘ線ビームモニター方法およびモニター装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3603111B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007183142A (ja) * | 2006-01-06 | 2007-07-19 | Japan Synchrotron Radiation Research Inst | 高耐熱・高速放射光モニター |
| WO2007099973A1 (ja) | 2006-03-02 | 2007-09-07 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | ビーム検出部材およびそれを用いたビーム検出器 |
| JP2010066071A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Hirec Corp | オフアングル中性子積分フラックス測定演算装置及びその方法 |
| DE102018115113A1 (de) * | 2018-06-22 | 2019-12-24 | Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh | Röntgenstrahldetektor |
| CN111337970A (zh) * | 2018-12-18 | 2020-06-26 | 核工业西南物理研究院 | 基于能量粒子穿透特性测量离子束粒子成分的能量分析器 |
-
1994
- 1994-05-27 JP JP11495094A patent/JP3603111B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007183142A (ja) * | 2006-01-06 | 2007-07-19 | Japan Synchrotron Radiation Research Inst | 高耐熱・高速放射光モニター |
| WO2007099973A1 (ja) | 2006-03-02 | 2007-09-07 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | ビーム検出部材およびそれを用いたビーム検出器 |
| JP2010066071A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Hirec Corp | オフアングル中性子積分フラックス測定演算装置及びその方法 |
| DE102018115113A1 (de) * | 2018-06-22 | 2019-12-24 | Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh | Röntgenstrahldetektor |
| DE102018115113B4 (de) * | 2018-06-22 | 2025-12-31 | Helmholtz-Zentrum Berlin für Materialien und Energie Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Röntgenstrahldetektor |
| CN111337970A (zh) * | 2018-12-18 | 2020-06-26 | 核工业西南物理研究院 | 基于能量粒子穿透特性测量离子束粒子成分的能量分析器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3603111B2 (ja) | 2004-12-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |