JPH0731909B2 - Method of operating semiconductor memory device - Google Patents
Method of operating semiconductor memory deviceInfo
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- JPH0731909B2 JPH0731909B2 JP61142821A JP14282186A JPH0731909B2 JP H0731909 B2 JPH0731909 B2 JP H0731909B2 JP 61142821 A JP61142821 A JP 61142821A JP 14282186 A JP14282186 A JP 14282186A JP H0731909 B2 JPH0731909 B2 JP H0731909B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は、半導体記憶装置の動作方法に於いて、メモリ
・セルに蓄積された情報を読み出すことによって発生す
るビット線間の微少な差電圧をセンス増幅器に取り込ん
だ後は、読み出しを行ったメモリ・セルが接続されてい
る側のビット線のみを動作させることに依り、ビット線
の充放電電流を略1/2に低減させるようにしたものであ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Outline] The present invention relates to a method of operating a semiconductor memory device, wherein a minute difference voltage between bit lines generated by reading information stored in a memory cell is applied to a sense amplifier. After capturing, the charge / discharge current of the bit line is reduced to about 1/2 by operating only the bit line on the side to which the read memory cell is connected.
本発明は、1トランジスタ・1キャパシタ型ダイナミッ
ク・ランダム・アクセス・メモリ(dynamic random a
ccess memory:DRAM)として知られている半導体記憶装
置を動作させる方法の改良に関する。The present invention is a one-transistor / one-capacitor type dynamic random access memory.
The present invention relates to improvement of a method of operating a semiconductor memory device known as ccess memory (DRAM).
一般に、1トランジスタ・1キャパシタ型DRAMに於いて
は、微小な信号を一対のビット線間の差電圧として読み
出している為、ビット線等は電気的に、また、パターン
的に対称に形成されている。Generally, in a one-transistor / one-capacitor type DRAM, a minute signal is read as a difference voltage between a pair of bit lines, so that bit lines are formed electrically and symmetrically. There is.
第5図は従来の半導体記憶装置を説明する為の要部回路
説明図を表している。FIG. 5 is an explanatory diagram of a main circuit for explaining a conventional semiconductor memory device.
図に於いて、BL及び▲▼はビット線、WL0及びWL1は
ワード線、MC1及びMC2はメモリ・セル、C1及びC2は情報
蓄積キャパシタ、SAはセンス増幅器をそれぞれ示してい
る。In the figure, BL and ▲ ▼ are bit lines, WL 0 and WL 1 are word lines, MC 1 and MC 2 are memory cells, C 1 and C 2 are information storage capacitors, and SA is a sense amplifier. There is.
第6図は第5図に見られる半導体記憶装置の動作タイミ
ングを説明する為のタイミング・チャートを表し、第5
図に於いて用いた記号と同記号は同部分を示すか或いは
同じ意味を持つものとする。FIG. 6 is a timing chart for explaining the operation timing of the semiconductor memory device shown in FIG.
The same symbols as those used in the drawings indicate the same parts or have the same meanings.
図に於いて、VCCは正側電源電圧、VSSは接地側電源電圧
をそれぞれ示している。In the figure, V CC is the positive power supply voltage, and V SS is the ground power supply voltage.
このような半導体記憶装置に於ける情報の読み出し動作
は良く知られているが、その概略を第5図及び第6図を
参照しつつ記述すると次の通りである。The information read operation in such a semiconductor memory device is well known, and its outline will be described below with reference to FIGS. 5 and 6.
当初、ビット線BL及び▲▼を1/2VCCにプリ・チャー
ジする。Initially, precharge bit line BL and ▲ ▼ to 1 / 2V CC .
次に、例えばワード線WL0のレベルを上昇させ、メモリ
・セルMC1を選択する。Next, for example, the level of the word line WL 0 is raised and the memory cell MC 1 is selected.
メモリ・セルMC1に於ける情報蓄積キャパシタC1のレベ
ルは、情報“0"が蓄積されている場合にはVVSS、例えば
0〔V〕に、そして、情報“1"が蓄積されている場合に
はVCC、例えば5〔V〕になっている。The level of the information storage capacitor C 1 in the memory cell MC 1 is VV SS , for example, 0 [V] when the information “0” is stored, and the information “1” is stored. In this case, it is V CC , for example, 5 [V].
その情報はビット線BL及び▲▼に微小な差電圧とし
て読み出され、その後、センス増幅器SAが動作して該差
電圧を増幅する。The information is read out as a minute difference voltage to the bit lines BL and {circle around ()}, and then the sense amplifier SA operates to amplify the difference voltage.
前記説明から判るように、従来の半導体記憶装置に於い
ては、例えばビット線BLに接続されているメモリ・セル
を読み出しの対象として選択した場合であっても、ビッ
ト線BLもビット線▲▼と同様に充放電させている。As can be seen from the above description, in the conventional semiconductor memory device, even if a memory cell connected to the bit line BL is selected as a read target, the bit line BL and the bit line BL It is charged and discharged in the same manner as.
そのようにする理由は、前記したように、ワード線WL0
を立ち上げてから或る時間たつとビット線BL及び▲
▼間に差電圧を生ずるが、その差電圧が極めて微小であ
ることに依る。The reason for doing so is that the word line WL 0
Bit line BL and ▲
▼ A difference voltage is generated between the two, but this is because the difference voltage is extremely small.
即ち、一般に、ビット線の容量は、メモリ・セルに於け
る容量の10倍程度もあるので、読み出しの場合、メモリ
・セルの蓄積電荷をビット線に放出してもビット線間の
差電圧は僅かであり、従って、雑音に埋もれてしまう虞
が大きい。That is, in general, the capacity of the bit line is about 10 times as large as the capacity of the memory cell. Therefore, even if the accumulated charge of the memory cell is discharged to the bit line, the difference voltage between the bit lines does not change during reading. It is small, and therefore, there is a high possibility that it will be buried in noise.
そこでビット線BL及び▲▼を折り返しにして対称的
に動作させているものであり、従って、情報の読み出し
自体には不必要なビット線も動作させるようになってい
る。Therefore, the bit lines BL and {circle around ()} are folded and operated symmetrically. Therefore, the bit lines which are unnecessary for reading information itself are also operated.
然しながら、近年、市販されようとしている1Mビットの
DRAMに於いては、ビット線が例えば約4000対、即ち、80
00本もあるので、その充放電に依る消費電流は極めて大
きいものとなり、しかも、そのうち4000本分は情報の読
み出し自体には直接関与しないものである。However, in recent years, the 1M-bit
In DRAM, there are about 4000 pairs of bit lines, that is, 80
Since there are as many as 00 lines, the current consumption due to charging and discharging is extremely large, and 4000 of them are not directly involved in reading information.
本発明は、読み出されようとするメモリ・セルが接続さ
れているビット線と対になっているビット線の動作を或
る時点から禁止することができる構成にして消費電流を
低減させた半導体記憶装置を提供する。The present invention has a structure in which the operation of a bit line paired with a bit line to which a memory cell to be read is connected can be prohibited from a certain point in time to reduce current consumption. Provide a storage device.
本発明に依る半導体記憶装置の動作方法に於いては、メ
モリ・セル(例えばメモリ・セルMC1MC2)が接続され且
つ電源電圧の中間電位に充電される2本のビット線(例
えばビット線BL及び▲▼)をセンス増幅器(例えば
センス増幅器SA)と結ぶゲート・トランジスタ(例えば
ビット線切断及び接続用トランジスタQ1及びQ2)をメモ
リ・セルの読み出し時にはオン状態として該ビット線を
2本ともセンス増幅器と導通させ、次いで、前記ゲート
・トランジスタをオフにした状態で前記センス増幅器に
て差電圧(例えば1/2VCC±αに於けるα)の増幅を行
い、その後、読み出しが行われたメモリ・セル(例えば
メモリ・セルMC1)が接続されている側のビット線(例
えばビット線BL)のみをセンス増幅器と導通させる為に
対応する側の前記ゲート・トランジスタ(例えばビット
切断及び接続用トランジスタQ1)をオンにするようにし
ている。In the method of operating a semiconductor memory device according to the present invention, two bit lines (for example, bit lines) to which memory cells (for example, memory cells MC 1 MC 2 ) are connected and which are charged to an intermediate potential of a power supply voltage. BL and ▲ ▼) are connected to a sense amplifier (for example, sense amplifier SA) and gate transistors (for example, bit line disconnection and connection transistors Q1 and Q2) are turned on at the time of reading a memory cell to sense both bit lines. A memory which is electrically connected to an amplifier and then amplified with a difference voltage (eg, α in 1 / 2V CC ± α) in the sense amplifier with the gate transistor turned off, and then read cells (e.g., memory cell MC 1) is the gate tiger side corresponding in order to conduct only the bit lines of the side connected (eg, bit line BL) and the sense amplifier Register (e.g. bit cutting and connection transistors Q1) is to be turned on.
前記手段を採ることに依り、メモリ・セルに蓄積された
情報を読み出すことによって発生するビット線間の微少
な差電圧をセンス増幅器に取り込んだ後は、読み出しを
行ったメモリ・セルが接続されている側のビット線のみ
を動作させることになるから、ビット線の充放電電流を
略1/2に低減させることが可能であり、大規模の半導体
記憶装置を動作させる場合に好適である。By adopting the above-mentioned means, after the minute difference voltage between the bit lines generated by reading the information stored in the memory cell is taken into the sense amplifier, the read memory cell is connected. Since only the bit line on the operating side is operated, the charge / discharge current of the bit line can be reduced to about 1/2, which is suitable for operating a large-scale semiconductor memory device.
第1図は本発明一実施例の要部回路説明図を表し、第5
図に於いて用いた記号と同記号は同部分を示すか或いは
同じ意味も持つものとする。FIG. 1 is a circuit diagram of an essential part of an embodiment of the present invention.
The same symbols as those used in the figures indicate the same parts or have the same meanings.
図に於いて、Q1及びQ2はビット線切断及び接続用トラン
ジスタ、φLはトランジスタQ1の制御信号、φRはトラ
ンジスタQ2の制御信号、N1及びN2はノードをそれぞれ示
している。In the figure, Q1 and Q2 are bit line disconnection and connection transistors, φL is a control signal for the transistor Q1, φR is a control signal for the transistor Q2, and N1 and N2 are nodes.
図から明らかなように、本実施例に於いては、センス増
幅器SAとビット線BL及び▲▼との間にトランジスタ
Q1及びQ2を介在させ、そのトランジスタQ1及びQ2をオン
・オフさせることに依り、ビット線BL及び▲▼をセ
ンス増幅器SAと接続したり或いは遮断したりすることが
できるようになっている点で第5図に見られる従来例と
相違している。As is clear from the figure, in this embodiment, a transistor is provided between the sense amplifier SA and the bit line BL and ▲ ▼.
By interposing Q1 and Q2 and turning on / off the transistors Q1 and Q2, the bit lines BL and ▲ ▼ can be connected to or cut off from the sense amplifier SA. This is different from the conventional example shown in FIG.
第2図は第1図に見られる本発明一実施例に於ける動作
タイミングを説明する為のタイミング・チャートを表
し、第1図、第5図、第6図に於いて用いた記号と同記
号は同部分を示すか或いは同じ意味を持つものとする。FIG. 2 shows a timing chart for explaining the operation timing in the embodiment of the present invention shown in FIG. 1, which is the same as the symbols used in FIGS. 1, 5, and 6. Symbols indicate the same part or have the same meaning.
第1図に見られる本発明一実施例の動作を第2図に見ら
れるタイミング・チャートを参照しつつ説明する。尚、
本実施例に於いては、情報読み出しの為に選択されるメ
モリ・セルMC1の情報蓄積キャパシタC1には情報“0"、
即ち、レベルとしてはVSS(例えば0〔V〕)が蓄積さ
れているものとする。The operation of the embodiment of the present invention shown in FIG. 1 will be described with reference to the timing chart shown in FIG. still,
In the present embodiment, information “0” is stored in the information storage capacitor C 1 of the memory cell MC 1 selected for reading information,
That is, it is assumed that V SS (for example, 0 [V]) is accumulated as the level.
当初、制御信号φL及びφRのレベルをVCC+Vth以上に
上昇させてトランジスタQ1及びQ2をオン状態にする。Initially, the levels of the control signals φL and φR are raised to V CC + Vth or more to turn on the transistors Q1 and Q2.
次に、プリ・チャージを行い、ビット線BL及び▲
▼、ノードN1及びN2を1/2VCCのレベルにする。Next, pre-charge is performed and bit line BL and ▲
▼ Bring nodes N1 and N2 to the level of 1/2 V CC .
次に、ワード線WL0のレベルを上昇させてメモリ・セルM
C1を選択する。Next, the level of the word line WL 0 is raised and the memory cell M
Select C 1 .
情報蓄積キャパシタC1のレベルはVSSであるから、メモ
リ・セルMC1にはビット線BLから電荷が流れ込み、従っ
て、ビット線BLのレベルは僅かに下降し、また、トラン
ジスタQ1がオンになっていることから、ビット線BLとノ
ードN1とは接続された状態にあり、従って、ノードN1の
レベルも同様に下降する。Since the level of the information storage capacitor C 1 is V SS , the charge flows into the memory cell MC 1 from the bit line BL, so that the level of the bit line BL is slightly lowered and the transistor Q 1 is turned on. Therefore, the bit line BL and the node N1 are connected to each other, and thus the level of the node N1 also drops.
このような状態になると、ノードN1とN2との間に差電圧
が発生する。In such a state, a differential voltage is generated between the nodes N1 and N2.
次に、制御信号φL及びφRのレベルを下降させ、それ
に依り、トランジスタQ1及びQ2をオフ状態にする。Next, the levels of the control signals φL and φR are lowered, and accordingly the transistors Q1 and Q2 are turned off.
次にセンス増幅器SAを活性化し、ノードN1及びN2間の差
電圧を増幅する。Next, the sense amplifier SA is activated to amplify the voltage difference between the nodes N1 and N2.
この動作に依り、ノードN1のレベルはVSSになり、ま
た、ノードN2のレベルは1/2VCCを維持する。Due to this operation, the level of the node N1 becomes V SS , and the level of the node N2 maintains 1 / 2V CC .
次に、アクティブ・リストア回路(図示せず)を活性化
し、ノードN2に於けるレベルを引き上げでVCCとする。Next, the active restore circuit (not shown) is activated to raise the level at the node N2 to V CC .
次に、選択されたメモリ・セルMC1が接続されている側
のビット線BLに介在するトランジスタQ1をオンにする
為、制御信号φLを再び上昇させる。尚、このように制
御信号φLのみを選択して上昇させるには、メモリ・セ
ルMC1を選択したアドレス信号をもとにすれば簡単に実
施することができる。Next, in order to turn on the transistor Q1 interposed bit line BL on the side where the memory cell MC 1 selected connected again raises the control signal .phi.L. Incidentally, in order to select and raise only the control signal φL in this way, it can be easily carried out if the memory cell MC 1 is selected based on the selected address signal.
ビット線BLに於けるレベルは、前記したように、1/2VCC
より僅かに低下した状態にあるが、ノードN1に於けるレ
ベルはVSSであり、そこでトランジスタQ1がオンになる
とビット線BLからノードN1に対して電荷が流れ込み、そ
の結果、ビット線BLのレベルもVSSになるので、メモリ
・セルMC1には再び情報“0"が書き込まれるものであ
る。The level at the bit line BL is 1 / 2V CC as described above.
Although it is in a slightly lower state, the level at the node N1 is V SS , and when the transistor Q1 is turned on, electric charge flows from the bit line BL to the node N1. As a result, the level of the bit line BL is increased. Since it also becomes V SS , the information “0” is written again in the memory cell MC 1 .
また、ビット線▲▼側に於いては、制御信号φRの
レベルがVSSであることからトランジスタQ2はカット・
オフのままであり、レベルは変化することなく1/2VCCを
維持し、充放電は行わないから消費電流は低減される。On the bit line ▲ ▼ side, since the level of the control signal φR is V SS , the transistor Q2 is cut off.
It remains off, the level remains unchanged at 1/2 V CC , and charging / discharging is not performed, so current consumption is reduced.
ところで、第1図に見られる半導体記憶装置に於けるセ
ンス増幅器SAは、実際には、フリップ・フロップであ
り、それに依ってビット線BL及び▲▼間の差電圧を
増幅するようにしている。By the way, the sense amplifier SA in the semiconductor memory device shown in FIG. 1 is actually a flip-flop, so that the difference voltage between the bit line BL and {circle around (1)} is amplified.
そのフリップ・フロップは、ビット線BL及び▲▼の
うち、ハイ・レベル(“H"レベル)側はそのままにし、
ロー・レベル(“L"レベル)側をVSSにすることができ
る構成になっている。従って、通常の半導体記憶装置で
は、“H"レベル側のビット線は、後に、レベル上昇させ
る必要があり、それを行うのがアクティブ・リストア回
路である。The flip-flop leaves the high level (“H” level) side of the bit lines BL and ▲ ▼,
The low level (“L” level) side can be set to V SS . Therefore, in a normal semiconductor memory device, it is necessary to raise the level of the bit line on the "H" level side later, and the active restore circuit does this.
従来、アクティブ・リストア回路は、センス増幅器内に
設けられるようになっていて、図示していないが、第1
図に見られる実施例に於いても、センス増幅器SA内に設
置してある。Conventionally, the active restore circuit is provided in the sense amplifier, and although not shown,
In the embodiment shown in the figure, it is also installed in the sense amplifier SA.
このような構成にした場合、トランジスタQ1及びQ2を動
作させる為の制御信号φL及びφRのレベルをVCC+Vth
以上にする必要がある。With such a configuration, the levels of the control signals φL and φR for operating the transistors Q1 and Q2 are set to V CC + Vth
It is necessary to be above.
その理由は、前記第1図及び第2図に関して説明した半
導体記憶装置の動作に於いて、ノードN1に於けるレベル
がVCCになった場合、そのVCCなるレベルをビット線BLに
伝える為、トランジスタQ1をオンにするには、そのゲー
トに印加する制御信号φLをVCC+Vth以上にしなければ
ならないからである。The reason is, at operation of the Figure 1 and the semiconductor memory device described in regard to FIG. 2, if at the level at the node N1 becomes V CC, to convey the level comprising the V CC to the bit lines BL In order to turn on the transistor Q1, the control signal φL applied to the gate of the transistor Q1 must be V CC + Vth or more.
然しながら、そのように、電源電圧以上の電圧を得るに
は、ブートストラップ回路を用いるなど厄介なことにな
る。However, it is troublesome to use a bootstrap circuit to obtain a voltage higher than the power supply voltage.
第1図に見られる実施例に於いて、そのような煩雑さを
回避したければ、次に説明する実施例を用いると良い。In order to avoid such complication in the embodiment shown in FIG. 1, the embodiment described below may be used.
第3図は本発明に於ける他の実施例の要部回路説明図を
表し、第1図及び第2図に於いて用いた記号と同記号は
同部分を示すか或いは同じ意味を持つものとする。FIG. 3 is a circuit diagram for explaining a main part of another embodiment of the present invention. The same symbols as those used in FIGS. 1 and 2 indicate the same parts or have the same meanings. And
図に於いて、AR1及びAR2はアクティブ・リストア回路、
φARL及びφARRはアクティブ・リストア回路の制御信号
をそれぞれ示している。In the figure, AR 1 and AR 2 are active restore circuits,
φARL and φARR indicate control signals of the active restore circuit, respectively.
図から明らかなように、本実施例に於いては、アクティ
ブ・リストア回路AR1及びAR2をセンス増幅器SAの外に出
し、それぞれ対応するビット線BL及び▲▼に接続し
た点で第1図に見られる実施例と相違している。As is apparent from the figure, in this embodiment, the active restore circuits AR 1 and AR 2 are provided outside the sense amplifier SA and connected to the corresponding bit lines BL and ▲ ▼, respectively. It differs from the example found in.
第4図は第3図に見られる実施例に於ける動作タイミン
グを説明する為のタイミング・チャートを表し、第1図
乃至第3図に於いて用いた記号と同記号は同部分を示す
か或いは同じ意味を持つものとする。FIG. 4 shows a timing chart for explaining the operation timing in the embodiment shown in FIG. 3, and whether the same symbols as those used in FIGS. 1 to 3 indicate the same parts. Or they have the same meaning.
第4図に見られる本発明一実施例の動作を第3図に見ら
れるタイミング・チャートを参照しつつ説明する。尚、
本実施例に於いては、情報読み出しの為に選択されるメ
モリ・セルMC1の情報蓄積キャパシタC1には情報“1"、
即ち、レベルとしてはVCC(例えば5〔V〕)が蓄積さ
れているものとする。The operation of the embodiment of the present invention shown in FIG. 4 will be described with reference to the timing chart shown in FIG. still,
In this embodiment, information "1" is stored in the information storage capacitor C 1 of the memory cell MC 1 selected for reading information.
That is, it is assumed that V CC (for example, 5 [V]) is accumulated as the level.
当初、制御信号φL及びφRのレベルをVCCに上昇させ
てトランジスタQ1及びQ2をオン状態にする。Initially, the levels of the control signals φL and φR are raised to V CC to turn on the transistors Q1 and Q2.
次に、プリ・チャージを行い、ビット線BL及び▲
▼、ノードN1及びN2を1/2VCCのレベルにする。Next, pre-charge is performed and bit line BL and ▲
▼ Bring nodes N1 and N2 to the level of 1/2 V CC .
次に、ワード線WL0のレベルを上昇させてメモリ・セルM
C1を選択する。Next, the level of the word line WL 0 is raised and the memory cell M
Select C 1 .
情報蓄積キャパシタC1のレベルはVCCであるから、メモ
リ・セルMC1からビット線BLに対して電荷が放出され、
従って、ビット線BLのレベルは僅かに上昇し、また、ト
ランジスタQ1がオンになっていることから、ビット線BL
とノードN1とは接続された状態にあり、従って、ノード
N1のレベルも同様に上昇する。Since the level of the information storage capacitor C 1 is V CC , the charge is discharged from the memory cell MC 1 to the bit line BL,
Therefore, the level of the bit line BL rises slightly, and since the transistor Q1 is turned on, the bit line BL
And node N1 are connected and therefore node
The N1 level will increase as well.
このような状態になると、ノードN1とN2との間に差電圧
が発生する。In such a state, a differential voltage is generated between the nodes N1 and N2.
次に、制御信号φL及びφRのレベルを下降させ、それ
に依り、トランジスタQ1及びQ2をオフ状態にする。Next, the levels of the control signals φL and φR are lowered, and accordingly the transistors Q1 and Q2 are turned off.
次に、センス増幅器SAを活性化し、ノードN1及びN2間の
差電圧を増幅する。Next, the sense amplifier SA is activated to amplify the difference voltage between the nodes N1 and N2.
この動作に依り、ノードN2のレベルはVSSになり、ま
た、ノードN1のレベルは1/2VCC+αを維持する。Due to this operation, the level of the node N2 becomes V SS , and the level of the node N1 maintains 1 / 2V CC + α.
次に、選択されたメモリ・セルMC1が接続されている側
のビット線BLに介在するトランジスタQ1をオンにする
為、制御信号φLを再び上昇させる。尚、制御信号φL
のレベルがVCCであることは云うまでもない。Next, in order to turn on the transistor Q1 interposed bit line BL on the side where the memory cell MC 1 selected connected again raises the control signal .phi.L. The control signal φL
It goes without saying that the level of is V CC .
ビット線BLに於けるレベルは、1/2VCCより僅かに上昇し
た状態にあり、また、ノードN1に於けるレベルも1/2VCC
より僅かに高い状態にあるからトランジスタQ1がオンに
なってもビット線BLのレベルに変化はない。The level at bit line BL is slightly higher than 1 / 2V CC , and the level at node N1 is also 1 / 2V CC.
Since it is in a slightly higher state, the level of the bit line BL does not change even if the transistor Q1 is turned on.
次に、選択されたメモリ・セルMC1が接続されている側
のビット線BLのレベルを上昇させる為、制御信号φARL
を上昇させてアクティブ・リストア回路AR1を活性化す
る。Next, in order to raise the level of the bit line BL on the side to which the selected memory cell MC 1 is connected, the control signal φARL
To activate the active restore circuit AR 1 .
このアクティブ・リストア回路AR1の作用に依り、ビッ
ト線BLは1/2VCC+αからVCCにチャージ・アップされ、
メモリ・セルMC1には再び情報“1"であるVCCが蓄積され
る。Due to the action of the active restore circuit AR 1 , the bit line BL is charged up from 1 / 2V CC + α to V CC ,
Information "1", V CC, is stored again in the memory cell MC 1 .
前記のような動作を行っている間中、ビット線▲▼
側に於いては、制御信号φRのレベルがVSSであること
からトランジスタQ2はカット・オフのままであり、ま
た、制御信号φARRのレベルもVSSであるから、レベルは
1/2VCCを維持し続けて充放電は行われない。Bit line ▲ ▼
On the side, since the level of the control signal φR is V SS , the transistor Q2 remains cut off, and the level of the control signal φARR is also V SS , so the level is
Charging / discharging is not performed while maintaining 1 / 2V CC .
本発明に依る半導体記憶装置の動作方法に於いては、メ
モリ・セルが接続され且つ電源電圧の中間電位に充電さ
れる2本のビット線をセンス増幅器と結ぶゲート・トラ
ンジスタをメモリ・セルの読み出し時にはオン状態とし
て該ビット線を2本ともセンス増幅器と導通させ、次い
で、前記ゲート・トランジスタをオフにした状態で前記
センス増幅器にて差電圧の増幅を行い、その後、読み出
しが行われたメモリ・セルが接続されている側のビット
線のみをセンス増幅器と導通させる為に対応する側の前
記ゲート・トランジスタをオンにするようにしている。In a method of operating a semiconductor memory device according to the present invention, a memory cell is connected and a gate transistor connecting two bit lines charged to an intermediate potential of a power supply voltage to a sense amplifier is read out from the memory cell. Sometimes it is turned on to bring both of the bit lines into conduction with the sense amplifier, and then the sense amplifier amplifies the difference voltage with the gate transistor turned off, after which the memory In order to make only the bit line on the side to which the cell is connected conductive with the sense amplifier, the gate transistor on the corresponding side is turned on.
前記構成を採ることに依り、メモリ・セルに蓄積された
情報を読み出すことによって発生するビット線間の微少
な差電圧をセンス増幅器に取り込んだ後は、読み出しを
行ったメモリ・セルが接続されている側のビット線のみ
を動作させることになるから、ビット線の充放電電流を
略1/2に低減させることが可能であり、大規模の半導体
記憶装置を動作させる場合に好適である。By adopting the above configuration, after the minute difference voltage between the bit lines generated by reading the information stored in the memory cell is taken into the sense amplifier, the read memory cell is connected. Since only the bit line on the operating side is operated, the charge / discharge current of the bit line can be reduced to about 1/2, which is suitable for operating a large-scale semiconductor memory device.
第1図は本発明一実施例の要部回路説明図、第2図は第
1図に見られる実施例に於ける動作タイミングを説明す
る為のタイミング・チャート、第3図は本発明に於ける
他の実施例の要部回路説明図、第4図は第3図に見られ
る実施例に於ける動作タイミングを説明する為のタイミ
ング・チャート、第5図は従来例の要部回路説明図、第
6図は第5図に見られる従来例に於ける動作タイミング
を説明する為のタイミング・チャートをそれぞれ示して
いる。 図に於いて、BL及び▲▼はビット線、WL0及びWL1は
ワード線、MC1及びMC2はメモリ・セル、C1及びC2は情報
蓄積キャパシタ、SAはセンス増幅器、Q1及びQ2はビット
線切断及び接続用トランジスタ、φLはトランジスタQ1
の制御信号、φRはトランジスタQ2の制御信号、N1及び
N2はノードをそれぞれ示している。FIG. 1 is an explanatory diagram of a main circuit of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a timing chart for explaining operation timing in the embodiment shown in FIG. 1, and FIG. 3 is an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a timing chart for explaining the operation timing in the embodiment shown in FIG. 3, and FIG. 5 is a main circuit diagram for the conventional example. , FIG. 6 are timing charts for explaining the operation timing in the conventional example shown in FIG. In the figure, BL and ▲ ▼ are bit lines, WL 0 and WL 1 are word lines, MC 1 and MC 2 are memory cells, C 1 and C 2 are information storage capacitors, SA is a sense amplifier, Q1 and Q2. Is a transistor for disconnecting and connecting the bit line, φL is a transistor Q1
Control signal, φR is the control signal for transistor Q2, N1 and
N2 indicates each node.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−171789(JP,A) 特開 昭60−239993(JP,A) 特開 昭60−256998(JP,A) 特開 昭61−5496(JP,A) 特開 昭60−212894(JP,A) 特開 昭54−101229(JP,A)Continuation of the front page (56) Reference JP-A-58-171789 (JP, A) JP-A-60-239993 (JP, A) JP-A-60-256998 (JP, A) JP-A-61-5496 (JP , A) JP 60-212894 (JP, A) JP 54-101229 (JP, A)
Claims (1)
間電位に充電される2本のビット線をセンス増幅器と結
ぶゲート・トランジスタをメモリ・セルの読み出し時に
はオン状態として該ビット線を2本ともセンス増幅器と
導通させ、 次いで、前記ゲート・トランジスタをオフにした状態で
前記センス増幅器にて差電圧の増幅を行い、 その後、読み出しが行われたメモリ・セルが接続されて
いる側のビット線のみをセンス増幅器と導通させる為に
対応する側の前記ゲート・トランジスタをオンにするこ
と を特徴とする半導体記憶装置の動作方法。1. A gate transistor that connects two bit lines connected to a memory cell and charged to an intermediate potential of a power supply voltage to a sense amplifier is turned on when the memory cell is read, and the two bit lines are turned on. And the bit line on the side to which the read memory cell is connected, after which the differential voltage is amplified by the sense amplifier with the gate transistor turned off. A method for operating a semiconductor memory device, characterized in that the gate transistor on the corresponding side is turned on in order to bring only the gate transistor into conduction with the sense amplifier.
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61142821A JPH0731909B2 (en) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | Method of operating semiconductor memory device |
Publications (2)
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|---|---|
| JPS63896A JPS63896A (en) | 1988-01-05 |
| JPH0731909B2 true JPH0731909B2 (en) | 1995-04-10 |
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ID=15324407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61142821A Expired - Fee Related JPH0731909B2 (en) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | Method of operating semiconductor memory device |
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| JP (1) | JPH0731909B2 (en) |
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-
1986
- 1986-06-20 JP JP61142821A patent/JPH0731909B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPS63896A (en) | 1988-01-05 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |