JPH0732169A - レーザマーキング装置 - Google Patents
レーザマーキング装置Info
- Publication number
- JPH0732169A JPH0732169A JP5200461A JP20046193A JPH0732169A JP H0732169 A JPH0732169 A JP H0732169A JP 5200461 A JP5200461 A JP 5200461A JP 20046193 A JP20046193 A JP 20046193A JP H0732169 A JPH0732169 A JP H0732169A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- scanning
- laser
- focused
- light
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 title claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 被加工物に対する加工面積を拡大する。
【構成】 レーザマーキング装置１０は、レーザ光６０
ａを発生するレーザ発振器５０と、レーザ光６０ａを被
加工物６２上で集光する集束光６０ｂに変換する集束レ
ンズ系１２と、集束光６０ｂを被加工物６２上に走査す
る走査光学系１４とを備えている。集束レンズ系１２は
光軸調整ミラー５２ｈ、５２ｉとビームエキスパンダ２
０とにより構成されている。また、走査光学系１４は、
スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋ等により構成されて
いる。
ａを発生するレーザ発振器５０と、レーザ光６０ａを被
加工物６２上で集光する集束光６０ｂに変換する集束レ
ンズ系１２と、集束光６０ｂを被加工物６２上に走査す
る走査光学系１４とを備えている。集束レンズ系１２は
光軸調整ミラー５２ｈ、５２ｉとビームエキスパンダ２
０とにより構成されている。また、走査光学系１４は、
スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋ等により構成されて
いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザマーキング装置
に係り、詳しくは被加工物上の広い面積にわたってレー
ザ光を走査することに適したレーザマーキング装置に関
する。
に係り、詳しくは被加工物上の広い面積にわたってレー
ザ光を走査することに適したレーザマーキング装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来例を示す構成図である。従来
のレーザマーキング装置４８は、レーザ発振器５０と、
光軸調整ミラー５２ｈ、５２ｉと、ビームエキスパンダ
５４と、スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋと、ｆθレ
ンズ５８とを有している。
のレーザマーキング装置４８は、レーザ発振器５０と、
光軸調整ミラー５２ｈ、５２ｉと、ビームエキスパンダ
５４と、スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋと、ｆθレ
ンズ５８とを有している。
【０００３】レーザ発振器５０より出射されたレーザ光
６０ａは、光軸調整ミラー５２ｈ、５２ｉにより軸合わ
せされ、ビームエキスパンダ５４によりビーム径を大き
く、且つ平行光６０ｄにされる。そして、平行光６０ｄ
は、スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋを介して、ｆθ
レンズ５８で集束光６０ｅに変換され、被加工物６２上
に焦点６０ｓを結ぶ。
６０ａは、光軸調整ミラー５２ｈ、５２ｉにより軸合わ
せされ、ビームエキスパンダ５４によりビーム径を大き
く、且つ平行光６０ｄにされる。そして、平行光６０ｄ
は、スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋを介して、ｆθ
レンズ５８で集束光６０ｅに変換され、被加工物６２上
に焦点６０ｓを結ぶ。
【０００４】ビームエキスパンダ５４は、ビーム径が小
さいと焦点６０ｓが光の回折のために広がってしまうこ
とを防いでいる。スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋ
は、平行光６０ｄを縦横に振ることによって、焦点６０
ｓを二次元的に走査して被加工物６２上に文字、図形等
を描くものである。ｆθレンズ５８は、スキャニングミ
ラー５６ｊ、５６ｋで走査された平行光６０ｄを受光面
５８ｍのどの位置で受光しても、被加工物６２上に焦点
を結ぶように設計されたものである。
さいと焦点６０ｓが光の回折のために広がってしまうこ
とを防いでいる。スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋ
は、平行光６０ｄを縦横に振ることによって、焦点６０
ｓを二次元的に走査して被加工物６２上に文字、図形等
を描くものである。ｆθレンズ５８は、スキャニングミ
ラー５６ｊ、５６ｋで走査された平行光６０ｄを受光面
５８ｍのどの位置で受光しても、被加工物６２上に焦点
を結ぶように設計されたものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
レーザマーキング装置４８では、被加工物６２の加工面
積がｆθレンズ５８の設計値で制限され、加工面積を拡
大することが困難であるという問題点があった。
レーザマーキング装置４８では、被加工物６２の加工面
積がｆθレンズ５８の設計値で制限され、加工面積を拡
大することが困難であるという問題点があった。
【０００６】
【発明の目的】そこで、この発明は、被加工物に対する
加工面積を拡大することの容易なレーザマーキング装置
を提供することにある。
加工面積を拡大することの容易なレーザマーキング装置
を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係るレーザマ
ーキング装置は、上記目的を達成するためになされたも
のであり、レーザ光を発生するレーザ発振器と、前記レ
ーザ光を被加工物上で集光する集束光に変換する集束レ
ンズ系と、前記集束光を前記被加工物上に走査する走査
光学系とを備えたものとした。
ーキング装置は、上記目的を達成するためになされたも
のであり、レーザ光を発生するレーザ発振器と、前記レ
ーザ光を被加工物上で集光する集束光に変換する集束レ
ンズ系と、前記集束光を前記被加工物上に走査する走査
光学系とを備えたものとした。
【０００８】また、前記走査光学系は、スキャニングミ
ラーと、このスキャニングミラーを連結したガルバノメ
ータと、このガルバノメータを制御するコントローラと
により構成されたものとした。
ラーと、このスキャニングミラーを連結したガルバノメ
ータと、このガルバノメータを制御するコントローラと
により構成されたものとした。
【０００９】
【作用】レーザ発振器から出力されたレーザ光は、最初
に集束レンズ系で集束光に変換される。このとき、集束
光は被加工物上で集光する角度に変換される。続いて、
集束光は、走査光学系によって縦横に振られ、被加工物
上を走査される。また、スキャニングミラーは、コント
ローラによって制御されたガルバノメータにより、集束
光を縦横に振る。
に集束レンズ系で集束光に変換される。このとき、集束
光は被加工物上で集光する角度に変換される。続いて、
集束光は、走査光学系によって縦横に振られ、被加工物
上を走査される。また、スキャニングミラーは、コント
ローラによって制御されたガルバノメータにより、集束
光を縦横に振る。
【００１０】
【発明の実施例】図１は、本発明の一実施例を示す構成
図である。図２と同一部分には同一符号を付し説明を省
略する。以下、本発明について図１に基づき説明する。
図である。図２と同一部分には同一符号を付し説明を省
略する。以下、本発明について図１に基づき説明する。
【００１１】レーザマーキング装置１０は、レーザ光６
０ａを発生するレーザ発振器５０と、レーザ光６０ａを
被加工物６２上で集光する集束光６０ｂに変換する集束
レンズ系１２と、集束光６０ｂを被加工物６２上に走査
する走査光学系１４とを備えている。集束レンズ系１２
は光軸調整ミラー５２ｈ、５２ｉとビームエキスパンダ
２０とにより構成されている。また、走査光学系１４
は、スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋと、これらを連
結したガルバノメータ（図示せず）と、このガルバノメ
ータを制御するコントローラ（図示せず）とにより構成
されている。
０ａを発生するレーザ発振器５０と、レーザ光６０ａを
被加工物６２上で集光する集束光６０ｂに変換する集束
レンズ系１２と、集束光６０ｂを被加工物６２上に走査
する走査光学系１４とを備えている。集束レンズ系１２
は光軸調整ミラー５２ｈ、５２ｉとビームエキスパンダ
２０とにより構成されている。また、走査光学系１４
は、スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋと、これらを連
結したガルバノメータ（図示せず）と、このガルバノメ
ータを制御するコントローラ（図示せず）とにより構成
されている。
【００１２】レーザ発振器５０より出射されたレーザ光
６０ａは、光軸調整ミラー５２ｈ、５２ｉにより軸合わ
せされる。続いて、レーザ光６０ａは、ビームエキスパ
ンダ２０により、ビーム径が拡大されると共にある位置
において集光するよう平行でなく負の拡がり角を持つよ
うな集束光６０ｂに調整される。次に、集束光６０ｂ
は、スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋにより被加工物
６２上を二次元的に走査される。このとき、スキャニン
グミラー５６ｊ、５６ｋは、従来のようにｆθレンズに
より制限されないので、被加工物６２に対する加工面積
が拡大する。
６０ａは、光軸調整ミラー５２ｈ、５２ｉにより軸合わ
せされる。続いて、レーザ光６０ａは、ビームエキスパ
ンダ２０により、ビーム径が拡大されると共にある位置
において集光するよう平行でなく負の拡がり角を持つよ
うな集束光６０ｂに調整される。次に、集束光６０ｂ
は、スキャニングミラー５６ｊ、５６ｋにより被加工物
６２上を二次元的に走査される。このとき、スキャニン
グミラー５６ｊ、５６ｋは、従来のようにｆθレンズに
より制限されないので、被加工物６２に対する加工面積
が拡大する。
【００１３】ビームエキスパンダ２０の上記機能は、例
えば複数のレンズを組み合わせることにより実現でき
る。
えば複数のレンズを組み合わせることにより実現でき
る。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るレー
ザマーキング装置によれば、レーザ光を集束レンズ系に
よって集束光に変換して、この集束光を走査光学系によ
って縦横に振って被加工物上を走査するようにしたの
で、ｆθレンズを不要にできる。したがって、ｆθレン
ズの制限を受けないので、走査光学系での集束光の振れ
角を大きくでき、被加工物に対する加工面積を拡大でき
る。
ザマーキング装置によれば、レーザ光を集束レンズ系に
よって集束光に変換して、この集束光を走査光学系によ
って縦横に振って被加工物上を走査するようにしたの
で、ｆθレンズを不要にできる。したがって、ｆθレン
ズの制限を受けないので、走査光学系での集束光の振れ
角を大きくでき、被加工物に対する加工面積を拡大でき
る。
【００１５】また、走査光学系での集束光の振れ角を大
きくできる結果、振れ角速度を大きくでき、加工速度を
増大できる。
きくできる結果、振れ角速度を大きくでき、加工速度を
増大できる。
【図１】本発明の一実施例の構成図である。
【図２】従来例の構成図である。
１０ レーザマーキング装置 １２ 集束レンズ系 １４ 走査光学系 ５０ レーザ発振器 ６０ａ レーザ光 ６０ｂ 集束光 ６２ 被加工物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 26/10 １０１
Claims (2)
- 【請求項１】 レーザ光を発生するレーザ発振器と、前
記レーザ光を被加工物上で集光する集束光に変換する集
束レンズ系と、前記集束光を前記被加工物上に走査する
走査光学系とを備えたことを特徴とするレーザマーキン
グ装置。 - 【請求項２】前記走査光学系は、スキャニングミラー
と、このスキャニングミラーを連結したガルバノメータ
と、このガルバノメータを制御するコントローラとによ
り構成されたことを特徴とするレーザマーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5200461A JPH0732169A (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | レーザマーキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5200461A JPH0732169A (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | レーザマーキング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0732169A true JPH0732169A (ja) | 1995-02-03 |
Family
ID=16424697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5200461A Pending JPH0732169A (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | レーザマーキング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0732169A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0215887A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-19 | Toshiba Corp | レーザマーキング装置 |
| JPH02121789A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-09 | Komatsu Ltd | 光走査レーザー加工装置 |
-
1993
- 1993-07-20 JP JP5200461A patent/JPH0732169A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0215887A (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-19 | Toshiba Corp | レーザマーキング装置 |
| JPH02121789A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-09 | Komatsu Ltd | 光走査レーザー加工装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19960430 |