JPH0760462A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents
レ−ザマ−キング装置Info
- Publication number
- JPH0760462A JPH0760462A JP5211407A JP21140793A JPH0760462A JP H0760462 A JPH0760462 A JP H0760462A JP 5211407 A JP5211407 A JP 5211407A JP 21140793 A JP21140793 A JP 21140793A JP H0760462 A JPH0760462 A JP H0760462A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- laser light
- lens
- cylindrical lens
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明はマ−キングエリアを拡大できるよ
うにしたレ−ザマ−キング装置を提供することにある。 【構成】 レ−ザ発振器21と、このレ−ザ発振器から
出力されたレ−ザ光を直交するX方向とY方向のうちの
一方の方向に走査させる第1のミラ−23および他方の
方向に走査させる第2のミラ−24と、上記第1のミラ
−で走査されるレ−ザ光を集束する第1のシリンドリカ
ルレンズ27および上記第2のミラ−で走査されるレ−
ザ光を集束する第2のシリンドリカルレンズ28と、上
記第1のシリンドリカルレンズと第2のシリンドリカル
レンズの出射側に配置されたマスク29と、このマスク
を透過したレ−ザ光を被加工物32上に集束する結像レ
ンズ31とを具備し、上記第1のシリンドリカルレンズ
と第2のシリンドリカルレンズとは、上記結像レンズと
上記第1のミラ−および第2のミラ−に対し、それぞれ
共役な位置関係になるようそれぞれの焦点距離が設定さ
れてなることを特徴とする。
うにしたレ−ザマ−キング装置を提供することにある。 【構成】 レ−ザ発振器21と、このレ−ザ発振器から
出力されたレ−ザ光を直交するX方向とY方向のうちの
一方の方向に走査させる第1のミラ−23および他方の
方向に走査させる第2のミラ−24と、上記第1のミラ
−で走査されるレ−ザ光を集束する第1のシリンドリカ
ルレンズ27および上記第2のミラ−で走査されるレ−
ザ光を集束する第2のシリンドリカルレンズ28と、上
記第1のシリンドリカルレンズと第2のシリンドリカル
レンズの出射側に配置されたマスク29と、このマスク
を透過したレ−ザ光を被加工物32上に集束する結像レ
ンズ31とを具備し、上記第1のシリンドリカルレンズ
と第2のシリンドリカルレンズとは、上記結像レンズと
上記第1のミラ−および第2のミラ−に対し、それぞれ
共役な位置関係になるようそれぞれの焦点距離が設定さ
れてなることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はレ−ザ光によって被加
工物にマ−クを形成するレ−ザマ−キング装置に関す
る。
工物にマ−クを形成するレ−ザマ−キング装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】被加工物にレ−ザ光によって所定のパタ
−ンをマ−キングする場合、たとえば特公平4−317
97号公報に示されるように、所定のパタ−ンが形成さ
れたマスクをレ−ザ光によって照射し、そのパタ−ンを
透過したレ−ザ光を結像レンズで集束して被加工物に照
射する方法が知られている。
−ンをマ−キングする場合、たとえば特公平4−317
97号公報に示されるように、所定のパタ−ンが形成さ
れたマスクをレ−ザ光によって照射し、そのパタ−ンを
透過したレ−ザ光を結像レンズで集束して被加工物に照
射する方法が知られている。
【0003】上記公報に示された従来のレ−ザマ−キン
グ装置を図3に基いて説明する。同図中1はレ−ザ発振
器である。このレ−ザ発振器1から出力されたレ−ザ光
Lは集光レンズ2で集束されて第1のミラ−3と第2の
ミラ−4とで順次反射される。上記第1のミラ−3は第
1のガルバノメ−タスキャナ5によって所定方向(この
方向をX方向とする)に揺動駆動され、上記第2のミラ
−4は第2のガルバノメ−タスキャナ6によって上記第
1のミラ−3と直交するY方向に揺動駆動されるように
なっている。
グ装置を図3に基いて説明する。同図中1はレ−ザ発振
器である。このレ−ザ発振器1から出力されたレ−ザ光
Lは集光レンズ2で集束されて第1のミラ−3と第2の
ミラ−4とで順次反射される。上記第1のミラ−3は第
1のガルバノメ−タスキャナ5によって所定方向(この
方向をX方向とする)に揺動駆動され、上記第2のミラ
−4は第2のガルバノメ−タスキャナ6によって上記第
1のミラ−3と直交するY方向に揺動駆動されるように
なっている。
【0004】上記第2のミラ−4から出射したレ−ザ光
Lはリレ−レンズ8を経てマスク9に入射し、このマス
ク9をラスタスキャンする。したがって、マスク9から
出射したレ−ザ光Lを結像レンズ11で被加工物12上
に結像すれば、この被加工物12にマスク9の像をマ−
キングすることができる。
Lはリレ−レンズ8を経てマスク9に入射し、このマス
ク9をラスタスキャンする。したがって、マスク9から
出射したレ−ザ光Lを結像レンズ11で被加工物12上
に結像すれば、この被加工物12にマスク9の像をマ−
キングすることができる。
【0005】上記マスク9の入射側にリレ−レンズ8を
配置したことで、レ−ザ光Lがマスク9上をラスタスキ
ャンする範囲を拡大しても、レ−ザ光Lを結像レンズ1
1に入射させることが可能となる。そのため、リレ−レ
ンズ8がない場合に比べてマ−キングエリアを拡大する
ことができる。
配置したことで、レ−ザ光Lがマスク9上をラスタスキ
ャンする範囲を拡大しても、レ−ザ光Lを結像レンズ1
1に入射させることが可能となる。そのため、リレ−レ
ンズ8がない場合に比べてマ−キングエリアを拡大する
ことができる。
【0006】ところで、上記構成のレ−ザマ−キング装
置においては、第1のミラ−3と第2のミラ−4とで異
なる方向に走査されるレ−ザ光Lを、1つのリレ−レン
ズ8によって集束しなければならない。そのため、どち
らか一方の走査方向に対しては上記リレ−レンズ8によ
り集束されるレ−ザ光Lが結像レンズ11上で振れるこ
とになる。
置においては、第1のミラ−3と第2のミラ−4とで異
なる方向に走査されるレ−ザ光Lを、1つのリレ−レン
ズ8によって集束しなければならない。そのため、どち
らか一方の走査方向に対しては上記リレ−レンズ8によ
り集束されるレ−ザ光Lが結像レンズ11上で振れるこ
とになる。
【0007】この状態を図4(a)、(b)を参照して
説明する。つまり、2つのミラ−3、4に対して1つの
リレ−レンズ8と1つの結像レンズ11とを、同時に共
役な関係とすることができないから、従来はどちらか一
方、この場合にはレ−ザ光LをX方向に走査する、第1
のミラ−3とリレ−レンズ8と結像レンズ11は共役な
位置関係に設定され、レ−ザ光LをY方向に走査する、
第2のミラ−4とリレ−レンズ8と結像レンズ11は共
役な位置関係になっていない。
説明する。つまり、2つのミラ−3、4に対して1つの
リレ−レンズ8と1つの結像レンズ11とを、同時に共
役な関係とすることができないから、従来はどちらか一
方、この場合にはレ−ザ光LをX方向に走査する、第1
のミラ−3とリレ−レンズ8と結像レンズ11は共役な
位置関係に設定され、レ−ザ光LをY方向に走査する、
第2のミラ−4とリレ−レンズ8と結像レンズ11は共
役な位置関係になっていない。
【0008】その場合、第1のミラ−3を駆動してレ−
ザ光LをX方向に走査させたときには、図4(a)に示
すように上記結像レンズ11上におけるレ−ザ光Lの位
置が動くことがない。しかしながら、第2のミラ−4を
駆動してレ−ザ光LをY方向に走査させた場合、このミ
ラ−4、リレ−レンズ8および結像レンズ11が共役な
位置関係にないため、結像レンズ11上においてレ−ザ
光Lが振られることになる。
ザ光LをX方向に走査させたときには、図4(a)に示
すように上記結像レンズ11上におけるレ−ザ光Lの位
置が動くことがない。しかしながら、第2のミラ−4を
駆動してレ−ザ光LをY方向に走査させた場合、このミ
ラ−4、リレ−レンズ8および結像レンズ11が共役な
位置関係にないため、結像レンズ11上においてレ−ザ
光Lが振られることになる。
【0009】そのため、上記第2のミラ−4の振り角が
大きくなると、レ−ザ光Lが結像レンズ11から外れて
しまう、いわゆる“けられ”が発生する。けられを防止
するためには、上記第2のミラ−4の振れ角を小さくし
なければならないから、マ−キングエリアを十分に拡大
することができなくなるということがあった。
大きくなると、レ−ザ光Lが結像レンズ11から外れて
しまう、いわゆる“けられ”が発生する。けられを防止
するためには、上記第2のミラ−4の振れ角を小さくし
なければならないから、マ−キングエリアを十分に拡大
することができなくなるということがあった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】このように、レ−ザ光
を2つのミラ−によって二方向に走査させる場合、1つ
のリレ−レンズと結像レンズとを、2つのミラ−に対し
てともに共役な関係になるよう、設定できない。そのた
め、どちらか1つのミラ−による走査方向に対しては、
そのミラ−の振れ角を大きくすると、レ−ザ光が結像レ
ンズから外れてしまうから、それによってマ−キングエ
リアが制限を受けるということがあった。
を2つのミラ−によって二方向に走査させる場合、1つ
のリレ−レンズと結像レンズとを、2つのミラ−に対し
てともに共役な関係になるよう、設定できない。そのた
め、どちらか1つのミラ−による走査方向に対しては、
そのミラ−の振れ角を大きくすると、レ−ザ光が結像レ
ンズから外れてしまうから、それによってマ−キングエ
リアが制限を受けるということがあった。
【0011】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、レ−ザ光を2つのミラ−
によって二方向に走査させる場合であっても、レ−ザ光
が結像レンズから外れてマ−キングエリアが制限を受け
ることがないようにしたレ−ザマ−キング装置を提供す
ることにある。
で、その目的とするところは、レ−ザ光を2つのミラ−
によって二方向に走査させる場合であっても、レ−ザ光
が結像レンズから外れてマ−キングエリアが制限を受け
ることがないようにしたレ−ザマ−キング装置を提供す
ることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明は、レ−ザ発振器と、このレ−ザ発振器から
出力されたレ−ザ光を直交するX方向とY方向のうちの
一方の方向に走査させる第1のミラ−および他方の方向
に走査させる第2のミラ−と、上記第1のミラ−で走査
されるレ−ザ光を集束する第1のシリンドリカルレンズ
および上記第2のミラ−で走査されるレ−ザ光を集束す
る第2のシリンドリカルレンズと、上記第1のシリンド
リカルレンズと第2のシリンドリカルレンズの出射側に
配置されたマスクと、このマスクを透過したレ−ザ光を
被加工物上に集束する結像レンズとを具備し、上記第1
のシリンドリカルレンズと第2のシリンドリカルレンズ
とは、上記結像レンズと上記第1のミラ−および第2の
ミラ−に対し、それぞれ共役な位置関係になるようそれ
ぞれの焦点距離が設定されいなることを特徴とする。
にこの発明は、レ−ザ発振器と、このレ−ザ発振器から
出力されたレ−ザ光を直交するX方向とY方向のうちの
一方の方向に走査させる第1のミラ−および他方の方向
に走査させる第2のミラ−と、上記第1のミラ−で走査
されるレ−ザ光を集束する第1のシリンドリカルレンズ
および上記第2のミラ−で走査されるレ−ザ光を集束す
る第2のシリンドリカルレンズと、上記第1のシリンド
リカルレンズと第2のシリンドリカルレンズの出射側に
配置されたマスクと、このマスクを透過したレ−ザ光を
被加工物上に集束する結像レンズとを具備し、上記第1
のシリンドリカルレンズと第2のシリンドリカルレンズ
とは、上記結像レンズと上記第1のミラ−および第2の
ミラ−に対し、それぞれ共役な位置関係になるようそれ
ぞれの焦点距離が設定されいなることを特徴とする。
【0013】
【作用】上記構成によれば、第1のミラ−、第1のシリ
ンドリカルレンズおよび結像レンズが共役な位置関係で
あり、第2のミラ−、第2のシリンドリカルレンズおよ
び結像レンズが共役な位置関係であるから、レ−ザ光を
第1のミラ−と第2のミラ−とによって二方向に走査し
ても、結像レンズ上で振れることがない。
ンドリカルレンズおよび結像レンズが共役な位置関係で
あり、第2のミラ−、第2のシリンドリカルレンズおよ
び結像レンズが共役な位置関係であるから、レ−ザ光を
第1のミラ−と第2のミラ−とによって二方向に走査し
ても、結像レンズ上で振れることがない。
【0014】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1と図2
(a)、(b)を参照して説明する。図1に示すレ−ザ
マ−キング装置はレ−ザ発振器21を備えている。この
レ−ザ発振器21から出力されたレ−ザ光Lは集光レン
ズ22で集束されて第1のミラ−23に入射する。この
第1のミラ−23から出射したレ−ザ光Lは第2のミラ
−24に入射する。上記第1のミラ−23は第1のガル
バノメ−タスキャナ25によって所定方向(この方向を
Xとする。)に揺動駆動され、上記第2のミラ−24は
第2のガルバノメ−タスキャナ26によって上記X方向
と直交するY方向に揺動駆動されるようになっている。
(a)、(b)を参照して説明する。図1に示すレ−ザ
マ−キング装置はレ−ザ発振器21を備えている。この
レ−ザ発振器21から出力されたレ−ザ光Lは集光レン
ズ22で集束されて第1のミラ−23に入射する。この
第1のミラ−23から出射したレ−ザ光Lは第2のミラ
−24に入射する。上記第1のミラ−23は第1のガル
バノメ−タスキャナ25によって所定方向(この方向を
Xとする。)に揺動駆動され、上記第2のミラ−24は
第2のガルバノメ−タスキャナ26によって上記X方向
と直交するY方向に揺動駆動されるようになっている。
【0015】上記第2のミラ−24から出射したレ−ザ
光Lは第1のシリンドリカルレンズ27と第2のシリン
ドリカルレンズ28とを通過してマスク29に入射す
る。上記第1のシリンドリカルレンズ27は、X方向に
揺動するレ−ザ光Lを集束するよう、その曲面が位置決
め配置され、上記第2のシリンドリカルレンズ28は、
Y方向に揺動するレ−ザ光Lを集束するよう、その曲面
が位置決め配置されている。
光Lは第1のシリンドリカルレンズ27と第2のシリン
ドリカルレンズ28とを通過してマスク29に入射す
る。上記第1のシリンドリカルレンズ27は、X方向に
揺動するレ−ザ光Lを集束するよう、その曲面が位置決
め配置され、上記第2のシリンドリカルレンズ28は、
Y方向に揺動するレ−ザ光Lを集束するよう、その曲面
が位置決め配置されている。
【0016】上記マスク29から出射したレ−ザ光Lは
結像レンズ31で集束され、その焦点位置に配置された
被加工物32を照射する。上記第1のシリンドリカルレ
ンズ27の焦点距離f1 と、上記第2のシリンドリカル
レンズ28の焦点距離f2 は下記のごとく設定されてい
る。すなわち、図2(a)に示すように第1のミラ−2
3と第2のミラ−24との間隔をA、第2のミラ−24
と第1のシリンドリカルレンズ27との間隔をB、第1
のシリンドリカルレンズ27と第2のシリンドリカルレ
ンズ28との間隔をC、第2のシリンドリカルレンズ2
8と結像レンズ31との間隔をDとすると、
結像レンズ31で集束され、その焦点位置に配置された
被加工物32を照射する。上記第1のシリンドリカルレ
ンズ27の焦点距離f1 と、上記第2のシリンドリカル
レンズ28の焦点距離f2 は下記のごとく設定されてい
る。すなわち、図2(a)に示すように第1のミラ−2
3と第2のミラ−24との間隔をA、第2のミラ−24
と第1のシリンドリカルレンズ27との間隔をB、第1
のシリンドリカルレンズ27と第2のシリンドリカルレ
ンズ28との間隔をC、第2のシリンドリカルレンズ2
8と結像レンズ31との間隔をDとすると、
【0017】
【数1】 に設定されている。つまり、第1のシリンドリカルレン
ズ27と第1のミラ−23と結像レンズ31とは共役な
位置関係に設定され、第2のシリンドリカルレンズ28
と第2のミラ−24と結像レンズ31とは共役な位置関
係に設定されている。
ズ27と第1のミラ−23と結像レンズ31とは共役な
位置関係に設定され、第2のシリンドリカルレンズ28
と第2のミラ−24と結像レンズ31とは共役な位置関
係に設定されている。
【0018】このように、レ−ザ光LをX方向に走査す
る光学系である、第1のシリンドリカルレンズ27と第
1のミラ−23と結像レンズ31とを共役な位置関係に
設定し、またレ−ザ光LをY方向に走査する光学系であ
る、第2のシリンドリカルレンズ28と第2のミラ−2
4と結像レンズ31とを共役な位置関係に設定したこと
により、レ−ザ光LをX、Yのどちらの方向に走査して
も、結像レンズ31上で振れることがなくなる。
る光学系である、第1のシリンドリカルレンズ27と第
1のミラ−23と結像レンズ31とを共役な位置関係に
設定し、またレ−ザ光LをY方向に走査する光学系であ
る、第2のシリンドリカルレンズ28と第2のミラ−2
4と結像レンズ31とを共役な位置関係に設定したこと
により、レ−ザ光LをX、Yのどちらの方向に走査して
も、結像レンズ31上で振れることがなくなる。
【0019】この状態を図2(a)、(b)に示す。図
2(a)は第1のミラ−23を駆動してレ−ザ光LをX
方向に揺動させた場合であり、図2(b)は第2のミラ
−24を駆動してレ−ザ光LをY方向に揺動させた場合
である。レ−ザ光LをX方向に走査する光学系と、Y方
向に走査する光学系とがそれぞれ共役の位置関係に設定
されているので、いずれの揺動方向においても、レ−ザ
光Lが結像レンズ31上で振れることなく、この結像レ
ンズ31で集束されて被加工物32をマ−キングする。
2(a)は第1のミラ−23を駆動してレ−ザ光LをX
方向に揺動させた場合であり、図2(b)は第2のミラ
−24を駆動してレ−ザ光LをY方向に揺動させた場合
である。レ−ザ光LをX方向に走査する光学系と、Y方
向に走査する光学系とがそれぞれ共役の位置関係に設定
されているので、いずれの揺動方向においても、レ−ザ
光Lが結像レンズ31上で振れることなく、この結像レ
ンズ31で集束されて被加工物32をマ−キングする。
【0020】レ−ザ光Lが結像レンズ31上で振れなけ
れば、第1のミラ−23と第2のミラ−24との振り角
を大きくしても、そのレ−ザ光Lが結像レンズ31から
外れる、いわゆる“けられ”が生じることがない。その
ため、その“けられ”により、マ−キングエリアが制限
を受けるということがなくなる。つまり、マ−キングエ
リアを拡大することができる。
れば、第1のミラ−23と第2のミラ−24との振り角
を大きくしても、そのレ−ザ光Lが結像レンズ31から
外れる、いわゆる“けられ”が生じることがない。その
ため、その“けられ”により、マ−キングエリアが制限
を受けるということがなくなる。つまり、マ−キングエ
リアを拡大することができる。
【0021】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、レ−ザ光
をX方向とY方向とに走査してマ−キング行う装置にお
いて、上記レ−ザ光をX方向に走査させる光学系であ
る、第1のシリンドリカルレンズと第1のミラ−と結像
レンズとを共役な位置関係に設定し、またレ−ザ光をY
方向に走査する光学系である、第2のシリンドリカルレ
ンズと第2のミラ−と結像レンズとを共役な位置関係に
設定した。
をX方向とY方向とに走査してマ−キング行う装置にお
いて、上記レ−ザ光をX方向に走査させる光学系であ
る、第1のシリンドリカルレンズと第1のミラ−と結像
レンズとを共役な位置関係に設定し、またレ−ザ光をY
方向に走査する光学系である、第2のシリンドリカルレ
ンズと第2のミラ−と結像レンズとを共役な位置関係に
設定した。
【0022】そのため、レ−ザ光LをX、Yのどちらの
方向に走査しても、結像レンズ上で振れ、その結像レン
ズから外れるということがなくなるから、その分、上記
第1のミラ−と第2のミラ−との振れ角を大きくし、マ
−キングエリアを拡大することができる。
方向に走査しても、結像レンズ上で振れ、その結像レン
ズから外れるということがなくなるから、その分、上記
第1のミラ−と第2のミラ−との振れ角を大きくし、マ
−キングエリアを拡大することができる。
【図1】この発明の一実施例を示すレ−ザマ−キング装
置の全体構成図。
置の全体構成図。
【図2】(a)は同じくレ−ザ光をX方向に走査させる
場合の光学系の説明図、(b)は図2(a)のX−X方
向から見たレ−ザ光をY方向に走査させる場合の光学系
の説明図。
場合の光学系の説明図、(b)は図2(a)のX−X方
向から見たレ−ザ光をY方向に走査させる場合の光学系
の説明図。
【図3】従来のレ−ザマ−キング装置の構成図。
【図4】(a)は同じくレ−ザ光をX方向に走査させる
場合の光学系の説明図、(b)は図4(a)のX−X方
向から見たレ−ザ光をY方向に走査させる場合の光学系
の説明図。
場合の光学系の説明図、(b)は図4(a)のX−X方
向から見たレ−ザ光をY方向に走査させる場合の光学系
の説明図。
21…レ−ザ発振器、23…第1のミラ−、24…第2
のミラ−、27…第1のシリンドリカルレンズ、28…
第2のシリンドリカルレンズ、29…マスク、31…結
像レンズ、32…被加工物。
のミラ−、27…第1のシリンドリカルレンズ、28…
第2のシリンドリカルレンズ、29…マスク、31…結
像レンズ、32…被加工物。
Claims (1)
- 【請求項1】 レ−ザ発振器と、このレ−ザ発振器から
出力されたレ−ザ光を直交するX方向とY方向のうちの
一方の方向に走査させる第1のミラ−および他方の方向
に走査させる第2のミラ−と、上記第1のミラ−で走査
されるレ−ザ光を集束する第1のシリンドリカルレンズ
および上記第2のミラ−で走査されるレ−ザ光を集束す
る第2のシリンドリカルレンズと、上記第1のシリンド
リカルレンズと第2のシリンドリカルレンズの出射側に
配置されたマスクと、このマスクを透過したレ−ザ光を
被加工物上に集束する結像レンズとを具備し、上記第1
のシリンドリカルレンズと第2のシリンドリカルレンズ
とは、上記結像レンズと上記第1のミラ−および第2の
ミラ−に対し、それぞれ共役な位置関係になるようそれ
ぞれの焦点距離が設定されてなることを特徴とするレ−
ザマ−キング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5211407A JPH0760462A (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | レ−ザマ−キング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5211407A JPH0760462A (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | レ−ザマ−キング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0760462A true JPH0760462A (ja) | 1995-03-07 |
Family
ID=16605451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5211407A Pending JPH0760462A (ja) | 1993-08-26 | 1993-08-26 | レ−ザマ−キング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0760462A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101134267B (zh) | 2006-08-31 | 2011-12-28 | 日立比亚机械股份有限公司 | 激光加工方法及激光加工装置 |
| US8455790B2 (en) | 2005-12-16 | 2013-06-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and manufacturing method of semiconductor device |
| CN106862757A (zh) * | 2017-03-20 | 2017-06-20 | 广东省焊接技术研究所(广东省中乌研究院) | 一种双激光束复合焊接方法 |
-
1993
- 1993-08-26 JP JP5211407A patent/JPH0760462A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8455790B2 (en) | 2005-12-16 | 2013-06-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and manufacturing method of semiconductor device |
| KR101371265B1 (ko) * | 2005-12-16 | 2014-03-07 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 레이저 조사 장치, 레이저 조사 방법, 및 반도체 장치 제조방법 |
| CN101134267B (zh) | 2006-08-31 | 2011-12-28 | 日立比亚机械股份有限公司 | 激光加工方法及激光加工装置 |
| CN106862757A (zh) * | 2017-03-20 | 2017-06-20 | 广东省焊接技术研究所(广东省中乌研究院) | 一种双激光束复合焊接方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH01306088A (ja) | 可変ビームレーザ加工装置 | |
| JP4987199B2 (ja) | 光伝送装置、レーザ光発生・伝送装置及びレーザ加工装置 | |
| JP4972289B2 (ja) | レーザマーキング装置 | |
| JPH11156567A (ja) | レーザ印字装置 | |
| JPH0760462A (ja) | レ−ザマ−キング装置 | |
| JPH10239036A (ja) | 3次元計測用光学装置 | |
| TWI871387B (zh) | 雷射照射裝置 | |
| JP2001265000A (ja) | レーザー露光装置 | |
| JP2003088966A (ja) | レーザマーキング装置 | |
| JP3237832B2 (ja) | レーザ加工装置及びレーザ穴あけ加工方法 | |
| US7274498B2 (en) | Post-objective scanning device | |
| JP3935735B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
| JP3181407B2 (ja) | レーザマーキング方法 | |
| JPH0618802A (ja) | 光走査装置 | |
| JP3299144B2 (ja) | 近接露光に適用される位置検出装置及び位置検出方法 | |
| US6052212A (en) | Method and apparatus for correcting coma in a high resolution scanner | |
| JPS58171611A (ja) | 形状検出装置 | |
| JP2003287692A (ja) | 光線束走査装置 | |
| JP3678810B2 (ja) | レーザ走査光学系 | |
| JPS61205808A (ja) | 形状検出装置 | |
| JPH10296475A (ja) | レーザ加工機 | |
| JP3008133B2 (ja) | ビームスキャナ | |
| JPS61267728A (ja) | 高速作動に好適な投光用光学装置 | |
| JPH055854A (ja) | レーザービーム走査光学系 | |
| JPH05172511A (ja) | 走査型検出装置 |