JPH0760462A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents

レ−ザマ−キング装置

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JPH0760462A
JPH0760462A JP5211407A JP21140793A JPH0760462A JP H0760462 A JPH0760462 A JP H0760462A JP 5211407 A JP5211407 A JP 5211407A JP 21140793 A JP21140793 A JP 21140793A JP H0760462 A JPH0760462 A JP H0760462A
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JP
Japan
Prior art keywords
mirror
laser light
lens
cylindrical lens
laser
Prior art date
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Pending
Application number
JP5211407A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuo Sasaki
光夫 佐々木
Hiroshi Ito
弘 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH0760462A publication Critical patent/JPH0760462A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 この発明はマ−キングエリアを拡大できるよ
うにしたレ−ザマ−キング装置を提供することにある。 【構成】 レ−ザ発振器21と、このレ−ザ発振器から
出力されたレ−ザ光を直交するX方向とY方向のうちの
一方の方向に走査させる第1のミラ−23および他方の
方向に走査させる第2のミラ−24と、上記第1のミラ
−で走査されるレ−ザ光を集束する第1のシリンドリカ
ルレンズ27および上記第2のミラ−で走査されるレ−
ザ光を集束する第2のシリンドリカルレンズ28と、上
記第1のシリンドリカルレンズと第2のシリンドリカル
レンズの出射側に配置されたマスク29と、このマスク
を透過したレ−ザ光を被加工物32上に集束する結像レ
ンズ31とを具備し、上記第1のシリンドリカルレンズ
と第2のシリンドリカルレンズとは、上記結像レンズと
上記第1のミラ−および第2のミラ−に対し、それぞれ
共役な位置関係になるようそれぞれの焦点距離が設定さ
れてなることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はレ−ザ光によって被加
工物にマ−クを形成するレ−ザマ−キング装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】被加工物にレ−ザ光によって所定のパタ
−ンをマ−キングする場合、たとえば特公平4−317
97号公報に示されるように、所定のパタ−ンが形成さ
れたマスクをレ−ザ光によって照射し、そのパタ−ンを
透過したレ−ザ光を結像レンズで集束して被加工物に照
射する方法が知られている。
【0003】上記公報に示された従来のレ−ザマ−キン
グ装置を図3に基いて説明する。同図中1はレ−ザ発振
器である。このレ−ザ発振器1から出力されたレ−ザ光
Lは集光レンズ2で集束されて第1のミラ−3と第2の
ミラ−4とで順次反射される。上記第1のミラ−3は第
1のガルバノメ−タスキャナ5によって所定方向(この
方向をX方向とする)に揺動駆動され、上記第2のミラ
−4は第2のガルバノメ−タスキャナ6によって上記第
1のミラ−3と直交するY方向に揺動駆動されるように
なっている。
【0004】上記第2のミラ−4から出射したレ−ザ光
Lはリレ−レンズ8を経てマスク9に入射し、このマス
ク9をラスタスキャンする。したがって、マスク9から
出射したレ−ザ光Lを結像レンズ11で被加工物12上
に結像すれば、この被加工物12にマスク9の像をマ−
キングすることができる。
【0005】上記マスク9の入射側にリレ−レンズ8を
配置したことで、レ−ザ光Lがマスク9上をラスタスキ
ャンする範囲を拡大しても、レ−ザ光Lを結像レンズ1
1に入射させることが可能となる。そのため、リレ−レ
ンズ8がない場合に比べてマ−キングエリアを拡大する
ことができる。
【0006】ところで、上記構成のレ−ザマ−キング装
置においては、第1のミラ−3と第2のミラ−4とで異
なる方向に走査されるレ−ザ光Lを、1つのリレ−レン
ズ8によって集束しなければならない。そのため、どち
らか一方の走査方向に対しては上記リレ−レンズ8によ
り集束されるレ−ザ光Lが結像レンズ11上で振れるこ
とになる。
【0007】この状態を図4(a)、(b)を参照して
説明する。つまり、2つのミラ−3、4に対して1つの
リレ−レンズ8と1つの結像レンズ11とを、同時に共
役な関係とすることができないから、従来はどちらか一
方、この場合にはレ−ザ光LをX方向に走査する、第1
のミラ−3とリレ−レンズ8と結像レンズ11は共役な
位置関係に設定され、レ−ザ光LをY方向に走査する、
第2のミラ−4とリレ−レンズ8と結像レンズ11は共
役な位置関係になっていない。
【0008】その場合、第1のミラ−3を駆動してレ−
ザ光LをX方向に走査させたときには、図4(a)に示
すように上記結像レンズ11上におけるレ−ザ光Lの位
置が動くことがない。しかしながら、第2のミラ−4を
駆動してレ−ザ光LをY方向に走査させた場合、このミ
ラ−4、リレ−レンズ8および結像レンズ11が共役な
位置関係にないため、結像レンズ11上においてレ−ザ
光Lが振られることになる。
【0009】そのため、上記第2のミラ−4の振り角が
大きくなると、レ−ザ光Lが結像レンズ11から外れて
しまう、いわゆる“けられ”が発生する。けられを防止
するためには、上記第2のミラ−4の振れ角を小さくし
なければならないから、マ−キングエリアを十分に拡大
することができなくなるということがあった。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】このように、レ−ザ光
を2つのミラ−によって二方向に走査させる場合、1つ
のリレ−レンズと結像レンズとを、2つのミラ−に対し
てともに共役な関係になるよう、設定できない。そのた
め、どちらか1つのミラ−による走査方向に対しては、
そのミラ−の振れ角を大きくすると、レ−ザ光が結像レ
ンズから外れてしまうから、それによってマ−キングエ
リアが制限を受けるということがあった。
【0011】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、レ−ザ光を2つのミラ−
によって二方向に走査させる場合であっても、レ−ザ光
が結像レンズから外れてマ−キングエリアが制限を受け
ることがないようにしたレ−ザマ−キング装置を提供す
ることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明は、レ−ザ発振器と、このレ−ザ発振器から
出力されたレ−ザ光を直交するX方向とY方向のうちの
一方の方向に走査させる第1のミラ−および他方の方向
に走査させる第2のミラ−と、上記第1のミラ−で走査
されるレ−ザ光を集束する第1のシリンドリカルレンズ
および上記第2のミラ−で走査されるレ−ザ光を集束す
る第2のシリンドリカルレンズと、上記第1のシリンド
リカルレンズと第2のシリンドリカルレンズの出射側に
配置されたマスクと、このマスクを透過したレ−ザ光を
被加工物上に集束する結像レンズとを具備し、上記第1
のシリンドリカルレンズと第2のシリンドリカルレンズ
とは、上記結像レンズと上記第1のミラ−および第2の
ミラ−に対し、それぞれ共役な位置関係になるようそれ
ぞれの焦点距離が設定されいなることを特徴とする。
【0013】
【作用】上記構成によれば、第1のミラ−、第1のシリ
ンドリカルレンズおよび結像レンズが共役な位置関係で
あり、第2のミラ−、第2のシリンドリカルレンズおよ
び結像レンズが共役な位置関係であるから、レ−ザ光を
第1のミラ−と第2のミラ−とによって二方向に走査し
ても、結像レンズ上で振れることがない。
【0014】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1と図2
(a)、(b)を参照して説明する。図1に示すレ−ザ
マ−キング装置はレ−ザ発振器21を備えている。この
レ−ザ発振器21から出力されたレ−ザ光Lは集光レン
ズ22で集束されて第1のミラ−23に入射する。この
第1のミラ−23から出射したレ−ザ光Lは第2のミラ
−24に入射する。上記第1のミラ−23は第1のガル
バノメ−タスキャナ25によって所定方向(この方向を
Xとする。)に揺動駆動され、上記第2のミラ−24は
第2のガルバノメ−タスキャナ26によって上記X方向
と直交するY方向に揺動駆動されるようになっている。
【0015】上記第2のミラ−24から出射したレ−ザ
光Lは第1のシリンドリカルレンズ27と第2のシリン
ドリカルレンズ28とを通過してマスク29に入射す
る。上記第1のシリンドリカルレンズ27は、X方向に
揺動するレ−ザ光Lを集束するよう、その曲面が位置決
め配置され、上記第2のシリンドリカルレンズ28は、
Y方向に揺動するレ−ザ光Lを集束するよう、その曲面
が位置決め配置されている。
【0016】上記マスク29から出射したレ−ザ光Lは
結像レンズ31で集束され、その焦点位置に配置された
被加工物32を照射する。上記第1のシリンドリカルレ
ンズ27の焦点距離f1 と、上記第2のシリンドリカル
レンズ28の焦点距離f2 は下記のごとく設定されてい
る。すなわち、図2(a)に示すように第1のミラ−2
3と第2のミラ−24との間隔をA、第2のミラ−24
と第1のシリンドリカルレンズ27との間隔をB、第1
のシリンドリカルレンズ27と第2のシリンドリカルレ
ンズ28との間隔をC、第2のシリンドリカルレンズ2
8と結像レンズ31との間隔をDとすると、
【0017】
【数1】 に設定されている。つまり、第1のシリンドリカルレン
ズ27と第1のミラ−23と結像レンズ31とは共役な
位置関係に設定され、第2のシリンドリカルレンズ28
と第2のミラ−24と結像レンズ31とは共役な位置関
係に設定されている。
【0018】このように、レ−ザ光LをX方向に走査す
る光学系である、第1のシリンドリカルレンズ27と第
1のミラ−23と結像レンズ31とを共役な位置関係に
設定し、またレ−ザ光LをY方向に走査する光学系であ
る、第2のシリンドリカルレンズ28と第2のミラ−2
4と結像レンズ31とを共役な位置関係に設定したこと
により、レ−ザ光LをX、Yのどちらの方向に走査して
も、結像レンズ31上で振れることがなくなる。
【0019】この状態を図2(a)、(b)に示す。図
2(a)は第1のミラ−23を駆動してレ−ザ光LをX
方向に揺動させた場合であり、図2(b)は第2のミラ
−24を駆動してレ−ザ光LをY方向に揺動させた場合
である。レ−ザ光LをX方向に走査する光学系と、Y方
向に走査する光学系とがそれぞれ共役の位置関係に設定
されているので、いずれの揺動方向においても、レ−ザ
光Lが結像レンズ31上で振れることなく、この結像レ
ンズ31で集束されて被加工物32をマ−キングする。
【0020】レ−ザ光Lが結像レンズ31上で振れなけ
れば、第1のミラ−23と第2のミラ−24との振り角
を大きくしても、そのレ−ザ光Lが結像レンズ31から
外れる、いわゆる“けられ”が生じることがない。その
ため、その“けられ”により、マ−キングエリアが制限
を受けるということがなくなる。つまり、マ−キングエ
リアを拡大することができる。
【0021】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、レ−ザ光
をX方向とY方向とに走査してマ−キング行う装置にお
いて、上記レ−ザ光をX方向に走査させる光学系であ
る、第1のシリンドリカルレンズと第1のミラ−と結像
レンズとを共役な位置関係に設定し、またレ−ザ光をY
方向に走査する光学系である、第2のシリンドリカルレ
ンズと第2のミラ−と結像レンズとを共役な位置関係に
設定した。
【0022】そのため、レ−ザ光LをX、Yのどちらの
方向に走査しても、結像レンズ上で振れ、その結像レン
ズから外れるということがなくなるから、その分、上記
第1のミラ−と第2のミラ−との振れ角を大きくし、マ
−キングエリアを拡大することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示すレ−ザマ−キング装
置の全体構成図。
【図2】(a)は同じくレ−ザ光をX方向に走査させる
場合の光学系の説明図、(b)は図2(a)のX−X方
向から見たレ−ザ光をY方向に走査させる場合の光学系
の説明図。
【図3】従来のレ−ザマ−キング装置の構成図。
【図4】(a)は同じくレ−ザ光をX方向に走査させる
場合の光学系の説明図、(b)は図4(a)のX−X方
向から見たレ−ザ光をY方向に走査させる場合の光学系
の説明図。
【符号の説明】
21…レ−ザ発振器、23…第1のミラ−、24…第2
のミラ−、27…第1のシリンドリカルレンズ、28…
第2のシリンドリカルレンズ、29…マスク、31…結
像レンズ、32…被加工物。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レ−ザ発振器と、このレ−ザ発振器から
    出力されたレ−ザ光を直交するX方向とY方向のうちの
    一方の方向に走査させる第1のミラ−および他方の方向
    に走査させる第2のミラ−と、上記第1のミラ−で走査
    されるレ−ザ光を集束する第1のシリンドリカルレンズ
    および上記第2のミラ−で走査されるレ−ザ光を集束す
    る第2のシリンドリカルレンズと、上記第1のシリンド
    リカルレンズと第2のシリンドリカルレンズの出射側に
    配置されたマスクと、このマスクを透過したレ−ザ光を
    被加工物上に集束する結像レンズとを具備し、上記第1
    のシリンドリカルレンズと第2のシリンドリカルレンズ
    とは、上記結像レンズと上記第1のミラ−および第2の
    ミラ−に対し、それぞれ共役な位置関係になるようそれ
    ぞれの焦点距離が設定されてなることを特徴とするレ−
    ザマ−キング装置。
JP5211407A 1993-08-26 1993-08-26 レ−ザマ−キング装置 Pending JPH0760462A (ja)

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JP5211407A JPH0760462A (ja) 1993-08-26 1993-08-26 レ−ザマ−キング装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101134267B (zh) 2006-08-31 2011-12-28 日立比亚机械股份有限公司 激光加工方法及激光加工装置
US8455790B2 (en) 2005-12-16 2013-06-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and manufacturing method of semiconductor device
CN106862757A (zh) * 2017-03-20 2017-06-20 广东省焊接技术研究所(广东省中乌研究院) 一种双激光束复合焊接方法

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