JPH0732263A - 研磨液飛散防止機構付き平面研磨装置 - Google Patents
研磨液飛散防止機構付き平面研磨装置Info
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- JPH0732263A JPH0732263A JP20040993A JP20040993A JPH0732263A JP H0732263 A JPH0732263 A JP H0732263A JP 20040993 A JP20040993 A JP 20040993A JP 20040993 A JP20040993 A JP 20040993A JP H0732263 A JPH0732263 A JP H0732263A
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims description 63
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 title abstract 4
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 34
- 238000011084 recovery Methods 0.000 abstract description 11
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract description 8
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 8
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 定盤から流れ落ちる研磨液の飛散を確実に防
止することができると共に、ワークの供給時や取出時、
保守点検時等の邪魔にならない、簡単な構成の飛散防止
機構を得る。 【構成】 定盤１１の外周に、該定盤１１を取り囲む短
円筒状の研磨液飛散防止治具２４を、定盤外周との間に
所要の間隔Ｌを保った状態で一体に取り付け、定盤の周
縁部から流れ落ちる研磨液を該防止治具２４で受け止め
て回収溝１８内に落下させるようにした。
止することができると共に、ワークの供給時や取出時、
保守点検時等の邪魔にならない、簡単な構成の飛散防止
機構を得る。 【構成】 定盤１１の外周に、該定盤１１を取り囲む短
円筒状の研磨液飛散防止治具２４を、定盤外周との間に
所要の間隔Ｌを保った状態で一体に取り付け、定盤の周
縁部から流れ落ちる研磨液を該防止治具２４で受け止め
て回収溝１８内に落下させるようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハやガラス
板、金属板等の各種ワークを研磨加工するための平面研
磨装置に関するものであり、更に詳しくは、ワークの研
磨加工時に研磨液が周囲に飛散するのを防止する飛散防
止機構を備えた平面研磨装置に関するものである。
板、金属板等の各種ワークを研磨加工するための平面研
磨装置に関するものであり、更に詳しくは、ワークの研
磨加工時に研磨液が周囲に飛散するのを防止する飛散防
止機構を備えた平面研磨装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ラッピング装置やポリッシング装置等の
平面研磨装置は、一般に、水平面内で回転する定盤に半
導体ウエハやガラス板、金属板等の各種ワークを押し付
け、研磨液を供給しながら該ワークを研磨加工するもの
である。このとき、定盤上に供給された研磨液は、定盤
の回転に伴う遠心力によって周囲に飛散し、装置の色々
な部分や装置の周囲等に付着してその部分を汚染した
り、回転部分に付着して部材同士を固着させる等の不都
合を生じていた。
平面研磨装置は、一般に、水平面内で回転する定盤に半
導体ウエハやガラス板、金属板等の各種ワークを押し付
け、研磨液を供給しながら該ワークを研磨加工するもの
である。このとき、定盤上に供給された研磨液は、定盤
の回転に伴う遠心力によって周囲に飛散し、装置の色々
な部分や装置の周囲等に付着してその部分を汚染した
り、回転部分に付着して部材同士を固着させる等の不都
合を生じていた。
【０００３】そこで従来では、例えば図３に示すよう
に、定盤１の側部から上部を覆うように防塵カバー２を
設けたり、図４に示すように、機体３に設けた研磨液回
収溝４に沿って定盤１を取り囲むようにカウル５を取り
付けたりしていたが、前者の場合には、防塵カバー２が
大掛かりでコスト高になるばかりでなく、ワーク６の供
給時や取出時、保守点検時等に該防塵カバー２が邪魔に
なって作業をやりにくいという欠点があり、後者におい
ては、カウル５が機体３側に取り付けられることにより
固定的に配置されているため、回転する定盤１から勢い
良く流れ落ちた研磨液が該カウル５に当ると、該研磨液
が周囲に飛び散って機体を汚染し易く、しかも、定盤１
から流れ落ちる研磨液は、定盤１から遠ざかるほど細粒
化して拡散する範囲も広がるため、定盤１から距離をお
いて取り付けられている上記カウル５では、十分な拡散
防止効果を得ることができず、更に、上記カウル５が定
盤１よりも上方に突出するように取り付けられているた
め、ワーク６の供給時や取出時、保守点検時等に邪魔に
なり、作業性が悪いという欠点があった。
に、定盤１の側部から上部を覆うように防塵カバー２を
設けたり、図４に示すように、機体３に設けた研磨液回
収溝４に沿って定盤１を取り囲むようにカウル５を取り
付けたりしていたが、前者の場合には、防塵カバー２が
大掛かりでコスト高になるばかりでなく、ワーク６の供
給時や取出時、保守点検時等に該防塵カバー２が邪魔に
なって作業をやりにくいという欠点があり、後者におい
ては、カウル５が機体３側に取り付けられることにより
固定的に配置されているため、回転する定盤１から勢い
良く流れ落ちた研磨液が該カウル５に当ると、該研磨液
が周囲に飛び散って機体を汚染し易く、しかも、定盤１
から流れ落ちる研磨液は、定盤１から遠ざかるほど細粒
化して拡散する範囲も広がるため、定盤１から距離をお
いて取り付けられている上記カウル５では、十分な拡散
防止効果を得ることができず、更に、上記カウル５が定
盤１よりも上方に突出するように取り付けられているた
め、ワーク６の供給時や取出時、保守点検時等に邪魔に
なり、作業性が悪いという欠点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、定盤
から流れ落ちる研磨液の飛散を確実に防止することがで
きると共に、ワークの供給時や取出時、保守点検時等の
邪魔にならない、簡単な構成の飛散防止機構を得ること
にある。
から流れ落ちる研磨液の飛散を確実に防止することがで
きると共に、ワークの供給時や取出時、保守点検時等の
邪魔にならない、簡単な構成の飛散防止機構を得ること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、水平面内で回転する定盤にワークを押し
付け、研磨液を供給しながら該ワークを研磨加工する平
面研磨装置において、上記定盤の外周に、該定盤を取り
囲む短円筒状の研磨液飛散防止治具を、定盤外周との間
に所要の間隔を保った状態で該定盤に一体に取り付けた
ことを特徴とするものである。
め、本発明は、水平面内で回転する定盤にワークを押し
付け、研磨液を供給しながら該ワークを研磨加工する平
面研磨装置において、上記定盤の外周に、該定盤を取り
囲む短円筒状の研磨液飛散防止治具を、定盤外周との間
に所要の間隔を保った状態で該定盤に一体に取り付けた
ことを特徴とするものである。
【０００６】
【作用】定盤の回転により該定盤外周から流れ落ちる研
磨液は、飛散防止治具に当って回収溝内に落下し、回収
される。このとき、該飛散防止治具が定盤と一緒に回転
しているため、研磨液がある程度の勢いをもって該防止
治具に当っても、該防止治具が機体側に取り付けられて
いる場合のように液が飛び散ることはない。また、研磨
液は定盤から水平方向に勢い良く飛び出すことなく、水
平よりもやや下向きに流れ落ちるため、上記防止治具を
定盤よりも高くする必要がなく、このため、該防止治具
がワークの供給や取り出し、保守点検等の作業の邪魔に
なることがない。
磨液は、飛散防止治具に当って回収溝内に落下し、回収
される。このとき、該飛散防止治具が定盤と一緒に回転
しているため、研磨液がある程度の勢いをもって該防止
治具に当っても、該防止治具が機体側に取り付けられて
いる場合のように液が飛び散ることはない。また、研磨
液は定盤から水平方向に勢い良く飛び出すことなく、水
平よりもやや下向きに流れ落ちるため、上記防止治具を
定盤よりも高くする必要がなく、このため、該防止治具
がワークの供給や取り出し、保守点検等の作業の邪魔に
なることがない。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳
細に説明するに、図１及び図２は片面研磨装置を示し、
図中１０は機体、１１は該機体１０の所定の位置に水平
面内において回転自在なるように配設された研磨加工用
の定盤であって、該定盤１１は、図示しないモータに連
結され、所要の速度で駆動回転されるようになってい
る。該定盤１１の上部には、シリンダにより上下動自在
の加圧ヘッド１２が所要の配置で複数配設され、各加圧
ヘッド１２の下面にワーク１３を装着して定盤１１の上
面に押し付けるようになっており、該定盤１１の中央部
上方位置には、研磨加工時に該定盤１１上に研磨液を供
給する給液パイプ１４が配設され、定盤１１の上面中央
部には、上記給液パイプ１４により供給された研磨液を
均等に分散させるための円錐状のコーン１５が配設され
ている。
細に説明するに、図１及び図２は片面研磨装置を示し、
図中１０は機体、１１は該機体１０の所定の位置に水平
面内において回転自在なるように配設された研磨加工用
の定盤であって、該定盤１１は、図示しないモータに連
結され、所要の速度で駆動回転されるようになってい
る。該定盤１１の上部には、シリンダにより上下動自在
の加圧ヘッド１２が所要の配置で複数配設され、各加圧
ヘッド１２の下面にワーク１３を装着して定盤１１の上
面に押し付けるようになっており、該定盤１１の中央部
上方位置には、研磨加工時に該定盤１１上に研磨液を供
給する給液パイプ１４が配設され、定盤１１の上面中央
部には、上記給液パイプ１４により供給された研磨液を
均等に分散させるための円錐状のコーン１５が配設され
ている。
【０００８】上記機体１０には、定盤１１の外周に沿う
ように、該定盤１１の周縁部から流れ落ちる研磨液を受
けるための回収溝１８が形成され、該回収溝１８が回収
管１９を介して回収タンク２０に接続されており、該回
収タンク２０内に回収された研磨液は、ポンプ２１で循
環的に再使用されるようになっている。
ように、該定盤１１の周縁部から流れ落ちる研磨液を受
けるための回収溝１８が形成され、該回収溝１８が回収
管１９を介して回収タンク２０に接続されており、該回
収タンク２０内に回収された研磨液は、ポンプ２１で循
環的に再使用されるようになっている。
【０００９】上記定盤１１の周縁部から流れ落ちる研磨
液の飛散を防止するため、該定盤１１の外周には、該定
盤１１を取り囲む短円筒状の飛散防止治具２４が、円周
方向の複数か所に設けた取付治具２５により、定盤１１
外周との間に所要の間隔を保った状態で、該定盤１１と
一体となって回転するように取り付けられている。該飛
散防止治具２４と定盤１１との間の最適な間隔Ｌは、定
盤１１から流れ落ちる研磨液が飛散防止治具２４に当た
って一旦受け止められたあと、該飛散防止治具２４を伝
って回収溝１８内に落下するような大きさであって、そ
れは、定盤１１の回転数や研磨液の供給量等の加工条件
や、飛散防止治具２４の定盤１１に対する取り付け高さ
等によっても若干異なるが、該飛散防止治具２４をその
上端部が定盤１１の上面とほぼ同じ高さになるように取
り付けて、通常の条件下で加工を行う場合には、５〜２
０ｍｍ程度の間隔である。
液の飛散を防止するため、該定盤１１の外周には、該定
盤１１を取り囲む短円筒状の飛散防止治具２４が、円周
方向の複数か所に設けた取付治具２５により、定盤１１
外周との間に所要の間隔を保った状態で、該定盤１１と
一体となって回転するように取り付けられている。該飛
散防止治具２４と定盤１１との間の最適な間隔Ｌは、定
盤１１から流れ落ちる研磨液が飛散防止治具２４に当た
って一旦受け止められたあと、該飛散防止治具２４を伝
って回収溝１８内に落下するような大きさであって、そ
れは、定盤１１の回転数や研磨液の供給量等の加工条件
や、飛散防止治具２４の定盤１１に対する取り付け高さ
等によっても若干異なるが、該飛散防止治具２４をその
上端部が定盤１１の上面とほぼ同じ高さになるように取
り付けて、通常の条件下で加工を行う場合には、５〜２
０ｍｍ程度の間隔である。
【００１０】本発明者が行った実験によると、定盤１１
上に供給された研磨液は、定盤１１の回転に伴う遠心力
により定盤周縁部から外方に向けて流れ落ちるが、通常
の研磨を行うときの定盤回転数（２０〜１００ｒｐｍ）
や研磨液供給量（１００〜４００ｃｃ／ｍｉｎ）等の範
囲内では、研磨液が定盤１１から水平方向に勢い良く飛
び出すことはなく、水平よりもやや下向きに飛び出すこ
とが分った。従って、定盤１１との間に適当な間隔さえ
保っておけば、上記飛散防止治具２４を定盤１１より高
くする必要はなく、定盤１１の上面とほぼ同じ高さかそ
れよりやや低めに取り付けることにより、研磨液を確実
に受け止めることができる。しかも、該飛散防止治具２
４がワーク１３の供給や取り出し、保守点検等の作業の
邪魔になることもない。もちろん、ワーク１３の供給や
取り出し、保守点検等の作業の邪魔にならない範囲内で
あれば、該飛散防止治具２４を定盤１１上面よりも若干
高くすることもできる。
上に供給された研磨液は、定盤１１の回転に伴う遠心力
により定盤周縁部から外方に向けて流れ落ちるが、通常
の研磨を行うときの定盤回転数（２０〜１００ｒｐｍ）
や研磨液供給量（１００〜４００ｃｃ／ｍｉｎ）等の範
囲内では、研磨液が定盤１１から水平方向に勢い良く飛
び出すことはなく、水平よりもやや下向きに飛び出すこ
とが分った。従って、定盤１１との間に適当な間隔さえ
保っておけば、上記飛散防止治具２４を定盤１１より高
くする必要はなく、定盤１１の上面とほぼ同じ高さかそ
れよりやや低めに取り付けることにより、研磨液を確実
に受け止めることができる。しかも、該飛散防止治具２
４がワーク１３の供給や取り出し、保守点検等の作業の
邪魔になることもない。もちろん、ワーク１３の供給や
取り出し、保守点検等の作業の邪魔にならない範囲内で
あれば、該飛散防止治具２４を定盤１１上面よりも若干
高くすることもできる。
【００１１】なお、上記飛散防止治具２４の下端は回収
溝１８内に垂下していれば良いが、落下する研磨液が溝
底に当たって跳ね散るのを防止する意味で、できるだけ
低くしておくことが望ましい。
溝１８内に垂下していれば良いが、落下する研磨液が溝
底に当たって跳ね散るのを防止する意味で、できるだけ
低くしておくことが望ましい。
【００１２】上記飛散防止治具２４の円筒形は、図示の
ように均一直径であっても、下狭まり状又は下広がり状
をなすものであっても、あるいはその他の筒状であって
も良い。
ように均一直径であっても、下狭まり状又は下広がり状
をなすものであっても、あるいはその他の筒状であって
も良い。
【００１３】上記構成を有する平面研磨装置において、
研磨対象であるワーク１３は、各加圧ヘッド１２の下面
に適宜手段により装着、保持され、該加圧ヘッド１２で
回転する定盤１１に押し付けられて研磨加工される。こ
のとき定盤１１の上面中央部には、給液パイプ１４を通
じて研磨液が供給され、コーン１５で放射方向に均等に
分散されている。
研磨対象であるワーク１３は、各加圧ヘッド１２の下面
に適宜手段により装着、保持され、該加圧ヘッド１２で
回転する定盤１１に押し付けられて研磨加工される。こ
のとき定盤１１の上面中央部には、給液パイプ１４を通
じて研磨液が供給され、コーン１５で放射方向に均等に
分散されている。
【００１４】定盤１１上に供給された研磨液は、該定盤
１１の回転に伴う遠心力により定盤周縁部から外方に向
けて流れ落ちるが、上述したように、通常の加工条件下
においては研磨液が水平方向に勢い良く飛び出すことは
なく、水平よりもやや下向きに流れ落ちるため、該研磨
液は、確実に飛散防止治具２４に当って受け止められた
あと、該飛散防止治具２４を伝って回収溝１８内に落下
することになり、該飛散防止治具２４を飛び越えて周囲
に飛び散ったり、直接回収溝１８の溝底等に当たって飛
び散るようなことはない。しかも、該飛散防止治具２４
が定盤１１と一緒に回転しているため、研磨液がある程
度の勢いをもって該防止治具２４に当っても、該防止治
具２４が機体１０側に固定されている場合のように液が
飛び散ることはない。
１１の回転に伴う遠心力により定盤周縁部から外方に向
けて流れ落ちるが、上述したように、通常の加工条件下
においては研磨液が水平方向に勢い良く飛び出すことは
なく、水平よりもやや下向きに流れ落ちるため、該研磨
液は、確実に飛散防止治具２４に当って受け止められた
あと、該飛散防止治具２４を伝って回収溝１８内に落下
することになり、該飛散防止治具２４を飛び越えて周囲
に飛び散ったり、直接回収溝１８の溝底等に当たって飛
び散るようなことはない。しかも、該飛散防止治具２４
が定盤１１と一緒に回転しているため、研磨液がある程
度の勢いをもって該防止治具２４に当っても、該防止治
具２４が機体１０側に固定されている場合のように液が
飛び散ることはない。
【００１５】また、定盤１１から流れ落ちる研磨液は、
定盤１１から遠ざかるほど細粒化して拡散する範囲も広
がるが、防止治具２４を定盤１１に直接取り付けること
により、比較的定盤１１に近い位置において、研磨液が
細粒化して拡散する前に受け止めるようにしているた
め、研磨液の飛散をより効率的且つ確実に防止すること
ができる。
定盤１１から遠ざかるほど細粒化して拡散する範囲も広
がるが、防止治具２４を定盤１１に直接取り付けること
により、比較的定盤１１に近い位置において、研磨液が
細粒化して拡散する前に受け止めるようにしているた
め、研磨液の飛散をより効率的且つ確実に防止すること
ができる。
【００１６】なお、上記実施例では片面研磨装置につい
て説明したが、両面研磨装置であっても同様に構成し得
ることはもちろんである。
て説明したが、両面研磨装置であっても同様に構成し得
ることはもちろんである。
【００１７】
【発明の効果】このように本発明によれば、定盤の外周
に短円筒状の飛散防止治具を所要の間隔をおいて取り付
けただけの簡単な構成により、定盤から流れ落ちる研磨
液を確実に受け止めて飛散するのを防止することがで
き、しかも、該飛散防止治具を定盤と一緒に回転させる
ようにしているため、研磨液がある程度の勢いをもって
該防止治具に当っても、該防止治具が機体側に固定され
ている場合のように液が飛び散ることもない。また、研
磨液は定盤から水平方向に勢い良く飛び出すことなく、
水平よりもやや下向きに流れ落ちるため、上記防止治具
を定盤よりも高くする必要がなく、このため、該防止治
具がワークの供給や取り出し、保守点検等の作業の邪魔
にならないように取り付けることもできる。
に短円筒状の飛散防止治具を所要の間隔をおいて取り付
けただけの簡単な構成により、定盤から流れ落ちる研磨
液を確実に受け止めて飛散するのを防止することがで
き、しかも、該飛散防止治具を定盤と一緒に回転させる
ようにしているため、研磨液がある程度の勢いをもって
該防止治具に当っても、該防止治具が機体側に固定され
ている場合のように液が飛び散ることもない。また、研
磨液は定盤から水平方向に勢い良く飛び出すことなく、
水平よりもやや下向きに流れ落ちるため、上記防止治具
を定盤よりも高くする必要がなく、このため、該防止治
具がワークの供給や取り出し、保守点検等の作業の邪魔
にならないように取り付けることもできる。
【図１】本発明に係る平面研磨装置の一実施例を示す要
部断面図である。
部断面図である。
【図２】図１の平面研磨装置の要部拡大図である。
【図３】従来の平面研磨装置の一例を示す要部断面図で
ある。
ある。
【図４】従来の平面研磨装置の他例を示す要部断面図で
ある。
ある。
１１ 定盤 １３ ワーク ２４ 防止治具 Ｌ 間隔
Claims (1)
- 【請求項１】 水平面内で回転する定盤にワークを押し
付け、研磨液を供給しながら該ワークを研磨加工する平
面研磨装置において、 上記定盤の外周に、該定盤を取り囲む短円筒状の研磨液
飛散防止治具を、定盤外周との間に所要の間隔を保った
状態で該定盤に一体に取り付けたことを特徴とする研磨
液飛散防止機構付き平面研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20040993A JP3502124B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 研磨液飛散防止機構付き平面研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20040993A JP3502124B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 研磨液飛散防止機構付き平面研磨装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0732263A true JPH0732263A (ja) | 1995-02-03 |
| JP3502124B2 JP3502124B2 (ja) | 2004-03-02 |
Family
ID=16423841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20040993A Expired - Fee Related JP3502124B2 (ja) | 1993-07-20 | 1993-07-20 | 研磨液飛散防止機構付き平面研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3502124B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013188686A (ja) * | 2012-03-14 | 2013-09-26 | Ebara Corp | 気液分離器及び研磨装置 |
| US9381854B2 (en) | 2013-11-13 | 2016-07-05 | Hyundai Motor Company | Vehicle for supporting lighting control function |
| JP2017039193A (ja) * | 2015-08-21 | 2017-02-23 | 信越半導体株式会社 | 研磨装置 |
| JP2019181689A (ja) * | 2018-04-02 | 2019-10-24 | 株式会社荏原製作所 | 研磨装置及び基板処理装置 |
| JP2019188480A (ja) * | 2018-04-18 | 2019-10-31 | 株式会社荏原製作所 | 研磨装置及び基板処理装置 |
| CN113286681A (zh) * | 2018-08-14 | 2021-08-20 | 伊利诺斯工具制品有限公司 | 用于研磨机和抛光机的防溅罩以及具有防溅罩的研磨机和抛光机 |
| CN115488708A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-12-20 | 北京航天控制仪器研究所 | 一种内圆磨床的排屑组件和内圆磨床 |
-
1993
- 1993-07-20 JP JP20040993A patent/JP3502124B2/ja not_active Expired - Fee Related
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