JPH0732363B2 - 半導体集積回路 - Google Patents
半導体集積回路Info
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- JPH0732363B2 JPH0732363B2 JP3092114A JP9211491A JPH0732363B2 JP H0732363 B2 JPH0732363 B2 JP H0732363B2 JP 3092114 A JP3092114 A JP 3092114A JP 9211491 A JP9211491 A JP 9211491A JP H0732363 B2 JPH0732363 B2 JP H0732363B2
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- bit line
- transistor
- nmos transistor
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- Semiconductor Memories (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体集積回路に関
し、特に、論理回路の所定位置のノードを観測する機能
を有する半導体集積回路において、ノード観測のために
必要な配線等に使用される領域の低減を図ったものであ
る。
し、特に、論理回路の所定位置のノードを観測する機能
を有する半導体集積回路において、ノード観測のために
必要な配線等に使用される領域の低減を図ったものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来から、例えばFPGA(Field Prog
rammable Gate Array )等のように、ユーザーが使用条
件に応じて自身で論理回路を設計し且つ配線できる汎用
性の高い半導体集積回路にあっては、ユーザーがどのよ
うな論理回路に配線しても正常に動作することが保証さ
れるように、メーカーでは、多くの使用状況を想定して
テストを行う必要があるが、通常容易される外部ピンだ
けでは充分なテストが行えないので、内部ノード観測の
ための専用の配線を設けることにより、ユーザー領域の
配線等の内部ノードを直接観測するようにしている。
rammable Gate Array )等のように、ユーザーが使用条
件に応じて自身で論理回路を設計し且つ配線できる汎用
性の高い半導体集積回路にあっては、ユーザーがどのよ
うな論理回路に配線しても正常に動作することが保証さ
れるように、メーカーでは、多くの使用状況を想定して
テストを行う必要があるが、通常容易される外部ピンだ
けでは充分なテストが行えないので、内部ノード観測の
ための専用の配線を設けることにより、ユーザー領域の
配線等の内部ノードを直接観測するようにしている。
【0003】従って、そのような半導体集積回路には、
予め内部ノードを観測するための配線等を作り込んでお
く必要があり、図2は、ユーザー領域の内部ノードを観
測する機能を有する半導体集積回路の一例を示す回路図
である。
予め内部ノードを観測するための配線等を作り込んでお
く必要があり、図2は、ユーザー領域の内部ノードを観
測する機能を有する半導体集積回路の一例を示す回路図
である。
【0004】即ち、この半導体集積回路は、データの書
き換えが自由に行える記憶セル1を利用して論理回路の
配線を行うものであって、記憶セル1は、フリップフロ
ップ2の互いに拘束し合う二つの記憶ノードQ1 ,Q0
によって1ビットの情報を記憶することができる。
き換えが自由に行える記憶セル1を利用して論理回路の
配線を行うものであって、記憶セル1は、フリップフロ
ップ2の互いに拘束し合う二つの記憶ノードQ1 ,Q0
によって1ビットの情報を記憶することができる。
【0005】二つの記憶ノードQ1 ,Q0 の内、一方の
記憶ノードQ1 は、NMOSトランジスタ(Nチャネル
MOSトランジスタ)N1 を介してビット線Bに接続さ
れ、そのNMOSトランジスタN1 のゲートは、ワード
線Wに接続されている。
記憶ノードQ1 は、NMOSトランジスタ(Nチャネル
MOSトランジスタ)N1 を介してビット線Bに接続さ
れ、そのNMOSトランジスタN1 のゲートは、ワード
線Wに接続されている。
【0006】そして、他方の記憶ノードQ0 は、ユーザ
ー領域内に設けられた論理回路を構成するNMOSトラ
ンジスタN2 のゲートに接続されている。従って、この
NMOSトランジスタN2 は、記憶ノードQ0 に記憶さ
れている情報に応じてオン又はオフとなり、また、記憶
ノードQ0 に記憶されている情報は、記憶ノードQ1 に
記憶されている情報を反転した情報であって、その記憶
ノードQ1 の状態は、ワード線W及びビット線Bを図示
しないワード線ドライバやビット線ドライバ等で適宜制
御することにより自由に変更できるから、結局、このよ
うなNMOSトランジスタN2 を含む論理回路の状態は
ユーザーが自由に設定でき、所望の論理回路を構成する
ことができる。
ー領域内に設けられた論理回路を構成するNMOSトラ
ンジスタN2 のゲートに接続されている。従って、この
NMOSトランジスタN2 は、記憶ノードQ0 に記憶さ
れている情報に応じてオン又はオフとなり、また、記憶
ノードQ0 に記憶されている情報は、記憶ノードQ1 に
記憶されている情報を反転した情報であって、その記憶
ノードQ1 の状態は、ワード線W及びビット線Bを図示
しないワード線ドライバやビット線ドライバ等で適宜制
御することにより自由に変更できるから、結局、このよ
うなNMOSトランジスタN2 を含む論理回路の状態は
ユーザーが自由に設定でき、所望の論理回路を構成する
ことができる。
【0007】ここで、そのような論理回路が正常に動作
するためには、それを構成する個々のNMOSトランジ
スタN2 の入力側LINと出力側LOUT との間が、正確に
NMOSトランジスタN2 のオン時に導通し且つオフ時
に切り離されることが必要不可欠である。
するためには、それを構成する個々のNMOSトランジ
スタN2 の入力側LINと出力側LOUT との間が、正確に
NMOSトランジスタN2 のオン時に導通し且つオフ時
に切り離されることが必要不可欠である。
【0008】そこで、NMOSトランジスタN2 が正常
に動作しているか否かを確認できるように、その出力側
LOUT を、パストランジスタとしてのNMOSトランジ
スタN3 を介して内部ノード確認用のビット線Bt に接
続するとともに、そのNMOSトランジスタN3 のゲー
トを内部ノード確認用のワード線Wt に接続するという
構成を、論理回路内の要所毎に設けている。
に動作しているか否かを確認できるように、その出力側
LOUT を、パストランジスタとしてのNMOSトランジ
スタN3 を介して内部ノード確認用のビット線Bt に接
続するとともに、そのNMOSトランジスタN3 のゲー
トを内部ノード確認用のワード線Wt に接続するという
構成を、論理回路内の要所毎に設けている。
【0009】そして、テストの際に、ワード線Wt を立
ち上げて出力側LOUT の電位をビット線Bt に転送し、
ビット線Bt の電位をセンスアンプで測定して出力側L
OUT の電位を認識し、その認識された電位に基づいて、
NMOSトランジスタN2 が正常に動作しているか否か
を確認していた。
ち上げて出力側LOUT の電位をビット線Bt に転送し、
ビット線Bt の電位をセンスアンプで測定して出力側L
OUT の電位を認識し、その認識された電位に基づいて、
NMOSトランジスタN2 が正常に動作しているか否か
を確認していた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図2に
示すような従来の構成では、記憶セル1への情報の書き
込み及び記憶セル1からの情報の読み出しのために使用
するワード線W及びビット線Bとは別に、論理回路の内
部ノードを確認するためのワード線Wt 及びビット線B
t を配線する必要があったため、集積回路内における配
線領域が大きくなってしまい、高集積度化を妨げる一つ
の要因となっていた。
示すような従来の構成では、記憶セル1への情報の書き
込み及び記憶セル1からの情報の読み出しのために使用
するワード線W及びビット線Bとは別に、論理回路の内
部ノードを確認するためのワード線Wt 及びビット線B
t を配線する必要があったため、集積回路内における配
線領域が大きくなってしまい、高集積度化を妨げる一つ
の要因となっていた。
【0011】この発明は、このような従来の技術が有す
る未解決の課題に着目してなされたものであって、内部
ノードを直接確認する機能を備えた半導体集積回路を、
配線領域の増加を低く抑えつつ実現することを目的とし
ている。
る未解決の課題に着目してなされたものであって、内部
ノードを直接確認する機能を備えた半導体集積回路を、
配線領域の増加を低く抑えつつ実現することを目的とし
ている。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、記憶セルの記憶ノードをスイッチングト
ランジスタを介してビット線に接続し、前記スイッチン
グトランジスタのゲートをワード線に接続する構造を有
する半導体集積回路において、ソース・ドレインの一方
が任意のノードに接続されたパストランジスタと、内部
ノード観測モード選択時に前記ワード線と前記スイッチ
ングトランジスタのゲートとの間を切り離し且つ前記ワ
ード線と前記パストランジスタのゲートとの間を導通さ
せるワード線導通状態切換手段と、内部ノード観測モー
ド選択時に前記ビット線と前記スイッチングトランジス
タとの間を切り離し且つ前記ビット線と前記パストラン
ジスタのソース・ドレインの他方との間を導通させるビ
ット線導通状態切換手段と、を設けた。
に、本発明は、記憶セルの記憶ノードをスイッチングト
ランジスタを介してビット線に接続し、前記スイッチン
グトランジスタのゲートをワード線に接続する構造を有
する半導体集積回路において、ソース・ドレインの一方
が任意のノードに接続されたパストランジスタと、内部
ノード観測モード選択時に前記ワード線と前記スイッチ
ングトランジスタのゲートとの間を切り離し且つ前記ワ
ード線と前記パストランジスタのゲートとの間を導通さ
せるワード線導通状態切換手段と、内部ノード観測モー
ド選択時に前記ビット線と前記スイッチングトランジス
タとの間を切り離し且つ前記ビット線と前記パストラン
ジスタのソース・ドレインの他方との間を導通させるビ
ット線導通状態切換手段と、を設けた。
【0013】
【作用】内部ノード観測モードが選択されていない時に
は、ワード線導通状態切換手段及びビット線導通状態切
換手段は所定の動作を行わないため、ワード線とスイッ
チングトランジスタのゲートとは導通状態にあり、ビッ
ト線とスイッチングトランジスタとは導通状態にある。
は、ワード線導通状態切換手段及びビット線導通状態切
換手段は所定の動作を行わないため、ワード線とスイッ
チングトランジスタのゲートとは導通状態にあり、ビッ
ト線とスイッチングトランジスタとは導通状態にある。
【0014】従って、それらワード線及びビット線を適
宜制御することにより、記憶セルへの情報の書き込み又
は記憶セルからの情報の読み出しが行われる。そして、
内部ノード観測モードが選択されると、ワード線導通状
態切換手段によって、ワード線とスイッチングトランジ
スタのゲートとの間が切り離されるとともに、ワード線
とパストランジスタのゲートとの間が導通し、また、ビ
ット線導通状態切換手段によって、ビット線とスイッチ
ングトランジスタとの間が切り離されるとともに、ビッ
ト線とパストランジスタのソース・ドレインの他方との
間が導通する。
宜制御することにより、記憶セルへの情報の書き込み又
は記憶セルからの情報の読み出しが行われる。そして、
内部ノード観測モードが選択されると、ワード線導通状
態切換手段によって、ワード線とスイッチングトランジ
スタのゲートとの間が切り離されるとともに、ワード線
とパストランジスタのゲートとの間が導通し、また、ビ
ット線導通状態切換手段によって、ビット線とスイッチ
ングトランジスタとの間が切り離されるとともに、ビッ
ト線とパストランジスタのソース・ドレインの他方との
間が導通する。
【0015】この状態では、ワード線の電位がパストラ
ンジスタのゲートに供給されることから、ワード線を制
御することによりパストランジスタがオン又はオフとな
り、そして、ビット線とパストランジスタのソース・ド
レインの他方とが導通していることから、パストランジ
スタがオンであれば、パストランジスタのソース・ドレ
インの一方に接続された任意のノードの電位は、パスト
ランジスタを介してビット線に転送される。
ンジスタのゲートに供給されることから、ワード線を制
御することによりパストランジスタがオン又はオフとな
り、そして、ビット線とパストランジスタのソース・ド
レインの他方とが導通していることから、パストランジ
スタがオンであれば、パストランジスタのソース・ドレ
インの一方に接続された任意のノードの電位は、パスト
ランジスタを介してビット線に転送される。
【0016】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説
明する。図1は、本発明の一実施例の構成を示す回路図
である。なお、上記従来の技術で説明した図2の構成と
同等の部位には、同じ符号を付し、その重複する説明は
省略する。
明する。図1は、本発明の一実施例の構成を示す回路図
である。なお、上記従来の技術で説明した図2の構成と
同等の部位には、同じ符号を付し、その重複する説明は
省略する。
【0017】先ず、構成を説明すると、本実施例では、
記憶セル1とワード線Wとの間に、第1の切換回路3を
設けるとともに、記憶セル1とビット線Bとの間に、第
2の切換回路4を設けている。
記憶セル1とワード線Wとの間に、第1の切換回路3を
設けるとともに、記憶セル1とビット線Bとの間に、第
2の切換回路4を設けている。
【0018】第1の切換回路3は、内部ノード観測モー
ド選択時に立ち上がるモード選択線Sの電位に応じて、
ワード線Wを、NMOSトランジスタN1 のゲート又は
NMOSトランジスタN3 のゲートの何れか一方に導通
させる回路であって、NMOSトランジスタN1 のゲー
トとワード線Wとの間に介在するNMOSトランジスタ
N4 と、このNMOSトランジスタN4 と並列に配設さ
れ且つNMOSトランジスタN3 のゲートとワード線W
との間に介在するNMOSトランジスタN5とを有して
いる。
ド選択時に立ち上がるモード選択線Sの電位に応じて、
ワード線Wを、NMOSトランジスタN1 のゲート又は
NMOSトランジスタN3 のゲートの何れか一方に導通
させる回路であって、NMOSトランジスタN1 のゲー
トとワード線Wとの間に介在するNMOSトランジスタ
N4 と、このNMOSトランジスタN4 と並列に配設さ
れ且つNMOSトランジスタN3 のゲートとワード線W
との間に介在するNMOSトランジスタN5とを有して
いる。
【0019】そして、モード選択線Sの電位が、NMO
SトランジスタN4のゲートにはインバータ5を介して
供給され、NMOSトランジスタN5 のゲートには直接
供給されている。
SトランジスタN4のゲートにはインバータ5を介して
供給され、NMOSトランジスタN5 のゲートには直接
供給されている。
【0020】一方、第2の切換回路4は、モード選択線
Sの電位に応じて、ビット線Bを、NMOSトランジス
タN1 又はNMOSトランジスタN3 の何れか一方に導
通させる回路であって、NMOSトランジスタN1 とビ
ット線Bとの間に介在するNMOSトランジスタN
6 と、このNMOSトランジスタN6 と並列に配設され
且つNMOSトランジスタN3 とビット線Bとの間に介
在するNMOSトランジスタN7 とを有している。
Sの電位に応じて、ビット線Bを、NMOSトランジス
タN1 又はNMOSトランジスタN3 の何れか一方に導
通させる回路であって、NMOSトランジスタN1 とビ
ット線Bとの間に介在するNMOSトランジスタN
6 と、このNMOSトランジスタN6 と並列に配設され
且つNMOSトランジスタN3 とビット線Bとの間に介
在するNMOSトランジスタN7 とを有している。
【0021】そして、モード選択線Sの電位が、NMO
SトランジスタN6のゲートにはインバータ6を介して
供給され、NMOSトランジスタN7 のゲートには直接
供給されている。
SトランジスタN6のゲートにはインバータ6を介して
供給され、NMOSトランジスタN7 のゲートには直接
供給されている。
【0022】次に、本実施例の作用を説明する。記憶セ
ル1への情報の書き込み又は記憶セル1からの情報の読
み出しを行う通常モード時には、モード選択線Sの電位
を低レベルのままとする。
ル1への情報の書き込み又は記憶セル1からの情報の読
み出しを行う通常モード時には、モード選択線Sの電位
を低レベルのままとする。
【0023】すると、モード選択線Sの電位がインバー
タ5又は6を介して供給されるNMOSトランジスタN
4 及びN6 はオンとなるが、モード選択線Sの電位が直
接供給されるNMOSトランジスタN5 及びN7 はオフ
となるので、ワード線WとNMOSトランジスタN1 の
ゲートとの間及びビット線BとNMOSトランジスタN
1 との間のそれぞれが導通状態となる一方、ワード線W
とNMOSトランジスタN3 のゲートとの間及びビット
線BとNMOSトランジスタN3との間がそれぞれ切り
離された状態となる。
タ5又は6を介して供給されるNMOSトランジスタN
4 及びN6 はオンとなるが、モード選択線Sの電位が直
接供給されるNMOSトランジスタN5 及びN7 はオフ
となるので、ワード線WとNMOSトランジスタN1 の
ゲートとの間及びビット線BとNMOSトランジスタN
1 との間のそれぞれが導通状態となる一方、ワード線W
とNMOSトランジスタN3 のゲートとの間及びビット
線BとNMOSトランジスタN3との間がそれぞれ切り
離された状態となる。
【0024】従って、NMOSトランジスタN1 は、ワ
ード線Wの電位に応じてオン又はオフとなるから、通常
のスタティックRAMと同様に、ワード線W及びビット
線Bを適宜制御することにより、記憶セル1への情報の
書き込み又は記憶セル1からの情報の読み出しが行われ
る。
ード線Wの電位に応じてオン又はオフとなるから、通常
のスタティックRAMと同様に、ワード線W及びビット
線Bを適宜制御することにより、記憶セル1への情報の
書き込み又は記憶セル1からの情報の読み出しが行われ
る。
【0025】そして、記憶セル1の記憶ノードQ0 の電
位が高レベルであれば、NMOSトランジスタN2 はオ
ンとなって、その入力側LIN及び出力側LOUT 間が導通
するし、記憶ノードQ0 の電位が低レベルであれば、N
MOSトランジスタN2 はオフとなって、その入力側L
IN及び出力側LOUT 間は切り離されるから、記憶セル1
に記憶される情報を適宜書き換えることにより、論理回
路内の配線の接続状態が決定され、所望の論理回路が構
成される。
位が高レベルであれば、NMOSトランジスタN2 はオ
ンとなって、その入力側LIN及び出力側LOUT 間が導通
するし、記憶ノードQ0 の電位が低レベルであれば、N
MOSトランジスタN2 はオフとなって、その入力側L
IN及び出力側LOUT 間は切り離されるから、記憶セル1
に記憶される情報を適宜書き換えることにより、論理回
路内の配線の接続状態が決定され、所望の論理回路が構
成される。
【0026】一方、NMOSトランジスタN2 のオン又
はオフによってその入力側LIN及び出力側LOUT 間が正
確に接続又は遮断されているか否かを確認する内部ノー
ド観測モードが選択された時には、モード選択線Sが立
ち上がるため、今度は、モード選択線Sの電位が直接供
給されるNMOSトランジスタN5 及びN7 がオンとな
り、モード選択線Sの電位がインバータ5又は6を介し
て供給されるNMOSトランジスタN4 及びN6 がオフ
となる。
はオフによってその入力側LIN及び出力側LOUT 間が正
確に接続又は遮断されているか否かを確認する内部ノー
ド観測モードが選択された時には、モード選択線Sが立
ち上がるため、今度は、モード選択線Sの電位が直接供
給されるNMOSトランジスタN5 及びN7 がオンとな
り、モード選択線Sの電位がインバータ5又は6を介し
て供給されるNMOSトランジスタN4 及びN6 がオフ
となる。
【0027】すると、ワード線WとNMOSトランジス
タN3 のゲートとの間及びビット線BとNMOSトラン
ジスタN3 との間がそれぞれ導通状態となる一方、ワー
ド線WとNMOSトランジスタN1 のゲートとの間及び
ビット線BとNMOSトランジスタN1 との間のそれぞ
れが切り離された状態となる。
タN3 のゲートとの間及びビット線BとNMOSトラン
ジスタN3 との間がそれぞれ導通状態となる一方、ワー
ド線WとNMOSトランジスタN1 のゲートとの間及び
ビット線BとNMOSトランジスタN1 との間のそれぞ
れが切り離された状態となる。
【0028】従って、記憶セル1は、ワード線W及びビ
ット線Bから切り離されたことになるが、フリップフロ
ップ2に電源を投入している間は、記憶ノードQ1 及び
Q0 は互いに拘束し合って安定した状態を保つため、記
憶セル1に記憶されている情報が消去されてしまうよう
なことはない。
ット線Bから切り離されたことになるが、フリップフロ
ップ2に電源を投入している間は、記憶ノードQ1 及び
Q0 は互いに拘束し合って安定した状態を保つため、記
憶セル1に記憶されている情報が消去されてしまうよう
なことはない。
【0029】よって、NMOSトランジスタN2 は、記
憶セル1に記憶されている情報に応じて、オン状態又は
オフ状態を保持することができる。そして、NMOSト
ランジスタN3 は、ワード線Wの電位に応じてオン又は
オフとなるから、NMOSトランジスタN2 の出力側L
OUT のノードは、ワード線Wの電位を適宜制御すること
により、ビット線Bに転送することができる。
憶セル1に記憶されている情報に応じて、オン状態又は
オフ状態を保持することができる。そして、NMOSト
ランジスタN3 は、ワード線Wの電位に応じてオン又は
オフとなるから、NMOSトランジスタN2 の出力側L
OUT のノードは、ワード線Wの電位を適宜制御すること
により、ビット線Bに転送することができる。
【0030】つまり、本実施例の構成であれば、論理回
路の内部ノードを、記憶セル1へのアクセスのために使
用するワード線W及びビット線Bを利用して読み出すこ
とができる。
路の内部ノードを、記憶セル1へのアクセスのために使
用するワード線W及びビット線Bを利用して読み出すこ
とができる。
【0031】このため、従来のように、ワード線W及び
ビット線Bとは別個にワード線及びビット線を配線する
必要はなく、モード選択線Sを配線するとともに、第1
の切換回路3及び第2の切換回路4に必要なトランジス
タを作り込むだけで済む。
ビット線Bとは別個にワード線及びビット線を配線する
必要はなく、モード選択線Sを配線するとともに、第1
の切換回路3及び第2の切換回路4に必要なトランジス
タを作り込むだけで済む。
【0032】そして、モード選択線Sは、この半導体集
積回路内に作り込まれた全ての切換回路(第1の切換回
路3,第2の切換回路4)で共通であるから一種類の配
線で済むし、集積回路内でトランジスタが占める面積は
配線が占める面積に比べて格段に小さくて済むから、結
局、本実施例のような構成を採ることにより、内部ノー
ドの観測のために必要な配線等に使用される面積が低減
し、集積度の向上が図られる。
積回路内に作り込まれた全ての切換回路(第1の切換回
路3,第2の切換回路4)で共通であるから一種類の配
線で済むし、集積回路内でトランジスタが占める面積は
配線が占める面積に比べて格段に小さくて済むから、結
局、本実施例のような構成を採ることにより、内部ノー
ドの観測のために必要な配線等に使用される面積が低減
し、集積度の向上が図られる。
【0033】また、記憶セル1へのアクセスと、内部ノ
ードの読み出しとは、同時に行われることはないから、
本実施例のような構成にしても、特に不具合は生じな
い。ここで、本実施例では、NMOSトランジスタN1
がスイッチングトランジスタに対応し、NMOSトラン
ジスタN3 がパストランジスタに対応し、第1の切換回
路3がワード線導通状態切換手段に対応し、第2の切換
回路4がビット線導通状態切換手段に対応する。
ードの読み出しとは、同時に行われることはないから、
本実施例のような構成にしても、特に不具合は生じな
い。ここで、本実施例では、NMOSトランジスタN1
がスイッチングトランジスタに対応し、NMOSトラン
ジスタN3 がパストランジスタに対応し、第1の切換回
路3がワード線導通状態切換手段に対応し、第2の切換
回路4がビット線導通状態切換手段に対応する。
【0034】なお、切換回路3及び4の構成は、上記実
施例に限定されるものではなく、要は、導通状態を切換
られる機能を有していればよい。例えば、インバータ5
及び6を共有することもできる。
施例に限定されるものではなく、要は、導通状態を切換
られる機能を有していればよい。例えば、インバータ5
及び6を共有することもできる。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
内部ノードの観測を、記憶セルに対するアクセスのため
のワード線及びビット線によって行うことができるの
で、内部ノード観測のために必要な配線等に使用される
面積が低減し、半導体集積回路の集積度の向上が図られ
るという効果がある。
内部ノードの観測を、記憶セルに対するアクセスのため
のワード線及びビット線によって行うことができるの
で、内部ノード観測のために必要な配線等に使用される
面積が低減し、半導体集積回路の集積度の向上が図られ
るという効果がある。
【図1】本発明の一実施例の構成を示す回路図である。
【図2】従来例を示す回路図である。
1 記憶セル 3 第1の切換回路(ワード線導通状態切換
手段) 4 第2の切換回路(ビット線導通状態切換
手段) 5,6 インバータ W ワード線 B ビット線 S モード選択線 N1 NMOSトランジスタ(スイッチングト
ランジスタ) N3 NMOSトランジスタ(パストランジス
タ) Q1 ,Q0 記憶ノード
手段) 4 第2の切換回路(ビット線導通状態切換
手段) 5,6 インバータ W ワード線 B ビット線 S モード選択線 N1 NMOSトランジスタ(スイッチングト
ランジスタ) N3 NMOSトランジスタ(パストランジス
タ) Q1 ,Q0 記憶ノード
Claims (1)
- 【請求項1】 記憶セルの記憶ノードをスイッチングト
ランジスタを介してビット線に接続し、前記スイッチン
グトランジスタのゲートをワード線に接続する構造を有
する半導体集積回路において、ソース・ドレインの一方
が任意のノードに接続されたパストランジスタと、内部
ノード観測モード選択時に前記ワード線と前記スイッチ
ングトランジスタのゲートとの間を切り離し且つ前記ワ
ード線と前記パストランジスタのゲートとの間を導通さ
せるワード線導通状態切換手段と、内部ノード観測モー
ド選択時に前記ビット線と前記スイッチングトランジス
タとの間を切り離し且つ前記ビット線と前記パストラン
ジスタのソース・ドレインの他方との間を導通させるビ
ット線導通状態切換手段と、を設けたことを特徴とする
半導体集積回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3092114A JPH0732363B2 (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | 半導体集積回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3092114A JPH0732363B2 (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | 半導体集積回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04324199A JPH04324199A (ja) | 1992-11-13 |
| JPH0732363B2 true JPH0732363B2 (ja) | 1995-04-10 |
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ID=14045409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP3092114A Expired - Fee Related JPH0732363B2 (ja) | 1991-04-23 | 1991-04-23 | 半導体集積回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0732363B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12377581B2 (en) | 2018-08-29 | 2025-08-05 | Erema Engineering Recycling Maschinen Und Anlagen Gesellschaft, M.B.H. | Method and apparatus for processing and/or recycling of materials |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5627624B2 (ja) * | 2012-03-16 | 2014-11-19 | 株式会社東芝 | プログラマブルロジックデバイス |
-
1991
- 1991-04-23 JP JP3092114A patent/JPH0732363B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US12377581B2 (en) | 2018-08-29 | 2025-08-05 | Erema Engineering Recycling Maschinen Und Anlagen Gesellschaft, M.B.H. | Method and apparatus for processing and/or recycling of materials |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04324199A (ja) | 1992-11-13 |
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