JPH07324006A - 過酸化水素組成物 - Google Patents

過酸化水素組成物

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JPH07324006A
JPH07324006A JP6162044A JP16204494A JPH07324006A JP H07324006 A JPH07324006 A JP H07324006A JP 6162044 A JP6162044 A JP 6162044A JP 16204494 A JP16204494 A JP 16204494A JP H07324006 A JPH07324006 A JP H07324006A
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JP
Japan
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hydrogen peroxide
composition
weight
formula
corrosion
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JP6162044A
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Michael V Monticello
ビンセント モンティセロ マイケル
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Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
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Publication date
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    • A61K33/40—Peroxides
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 処理される金属表面への腐蝕を促進すること
なく滅菌剤又は消毒剤活性を与える安定な過酸化水素組
成物を提供する。 【構成】 過酸化水素０．５〜５０％、メチル置換トリ
アゾール誘導体０．５〜５０％及び酸性緩衝剤を含む水
性酸性組成物は高い安定性を有し、金属表面を清浄にす
るのに使用する時に腐蝕を促進しない。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面を清浄にするのに
使用できる過酸化水素組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】過酸化水素は、環境にとって安全で且つ
コスト効率のよい、優れた硬質表面滅菌剤及び消毒剤と
して広く知られている。フェノール類及びアルデヒド類
のような他の滅菌／消毒剤は、環境にとって及び毒物学
的に過酸化水素ほど健全ではない。例えば、グルタルア
ルデヒド組成物は感染制御スタッフの間で広く使用され
ているが、グルタルアルデヒドは、皮膚の感作、毒性及
び化学廃棄物の管理のような欠点を伴う。
【０００３】消毒及び滅菌への使用が優れた有効性を有
するのにもかかわらず、銅及び黄銅のような金属を酸化
するので、過酸化水素はこれまで硬質金属面を清浄にす
るのに医療機関で広く使用されていなかった。多くの診
療器具及びスコープは、銅及び／又は黄銅成分を含み、
それらは、過酸化水素溶液への暴露時に腐蝕によって不
可逆的な損傷を受ける可能性がある。
【０００４】過酸化水素溶液が及ぼす腐蝕の影響を減少
させようとする以前の試みは限られた成功しか得られな
かった。例えば、フェニルスルホン酸、燐酸エステル、
モリブデン酸ナトリウム、アルカノールアミン又はベン
ゾトリアゾールのような公知の腐蝕防止剤を使用する場
合には、防錆活性は短かすぎるか（腐蝕防止剤は過酸化
水素の存在下では不安定であるため）；全く観察されな
いか；あるいは結果として生じる組成物が乾燥時に硬質
表面上に不所望な酸化物フィルム残渣を残す。
【０００５】特に、防錆剤１，２，３−ベンゾトリアゾ
ール及びトリルトリアゾールは過酸化水素の腐蝕活性を
減少させることが知られている。しかしながら、両者と
も、過酸化水素の存在下で不安定であり、短い貯蔵期間
後にその有効性を失う。以下において、比較例は過酸化
水素中における１，２，３−ベンゾトリアゾール及びト
リルトリアゾールの限られた安定性を説明する。これら
の防錆剤を含む過酸化水素組成物は、不安定であるので
極めて貯蔵寿命が短く、組成物は不安定であるので、金
属表面を清浄にするのに有用な組成物とは認められな
い。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】過酸化水素組成物に伴
われる腐蝕は依存として問題である。組成物で処理され
る金属表面への腐蝕を促進せずに滅菌剤又は消毒剤活性
を与える安定な過酸化水素組成物が必要とされる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記問題は、 ａ）以下の式Ｉ
【０００８】
【化４】
【０００９】［式中、ＲはＣ1 〜Ｃ4 直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基であり、且つＲ1 は直鎖又は分枝鎖Ｃ1 〜Ｃ5
アルキル基である］の表されるメチル置換トリアゾール
誘導体０．２５〜２５重量％； ｂ）過酸化水素０．５〜５０重量％；ならびに ｃ）酸性緩衝剤 を含んでなり（重量％は水性組成物の総重量に基づ
く）、pHが１〜５の範囲である、水性組成物の発見によ
って解決された。
【００１０】意外にも、メチル置換トリアゾール誘導体
は過酸化水素と合して貯蔵した後に防錆剤としてのその
有効性を失わない。本発明の組成物は優れた抗微生物活
性と共に高レベルの安定性を示す。重要なことは、組成
物が、長期間の貯蔵後でさえ、金属表面上において腐蝕
を促進しないことである。このように、本発明の組成物
が公知の過酸化水素組成物より優れた重要な商業的利点
を与える特性を示すことは予期されないことである。
【００１１】
【作用】メチル置換トリアゾール誘導体は本明細書中で
式Ｉ（Ｒ及びＲ1 は示される通り）によって前に定義さ
れたものである。より好ましくは、トリアゾール成分は
Ｒが−ＣＨ2 基を表し且つＲ1 が−ＣＨ2 、−ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 又は−ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 基を表すものと定義され
る。最も好ましくは、トリアゾール成分はＲが−ＣＨ2
であり且つＲ1 が−ＣＨ2 ＣＨ2 である式Ｉによって定
義され、例えば、チバガイギー社（Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇ
ｙ），Ｈａｗｔｈｏｒｎｅ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋから得ら
れる２，２’−｛［メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール
−１−イル）メチル］イミノ｝ビス−］の活性成分７５
％を含むエタノール溶液として特定されるＲＥＯＭＥＴ
TM４２として入手できるものである。
【００１２】本発明によれば、メチル置換トリアゾール
誘導体は、室温で少なくとも１ヵ月間過酸化水素と共に
貯蔵された時に防錆剤として作用するのに充分な量で存
在する。高濃度レベルの過酸化水素が存在する場合に
は、メチル置換トリアゾール誘導体の濃度レベルはま
た、比較的に高く、防錆剤としての有効性を保証するも
のであるのが好ましい。好ましくは、トリアゾール誘導
体は０．１〜２５重量％、より好ましくは０．４〜１０
重量％、最も好ましくは０．４５〜１重量％の範囲の量
で使用し、この重量％（１００％活性として示す）は水
性組成物の総重量に基づく。
【００１３】所望の抗微生物活性レベル及び組成物が濃
縮物として製造されるか否かに応じて、組成物の過酸化
水素成分は広範囲の濃度で使用できる。過酸化水素の好
ましい濃度範囲は０．５〜５０重量％、より好ましくは
１〜１０重量％、最も好ましくは７〜９重量％であり、
この重量％（１００％活性として示す）は水性組成物の
総重量に基づく。
【００１４】本発明の組成物は好ましくは、１〜５、よ
り好ましくは３未満、最も好ましくは１〜２の範囲内の
pHを有する。このpHレベルへの組成物の調整は、種々の
公知の方法によって達成できる。例えば、有機及び無機
酸、例えば、ヒドロキシ酢酸、ベンゼンスルホン酸、ト
リフルオロ酢酸、塩酸、硝酸、燐酸、硫酸、スルファミ
ン酸、蓚酸などをpHレベルの調整に使用できる。特に好
ましい酸は、低コスト及び入手し易さのために、スルフ
ァミン酸、蓚酸、燐酸及びそれらの混合物であり、燐酸
が最も好ましい。
【００１５】本発明の組成物には場合によっては、酸性
水性媒体中で過酸化水素と相溶性である、第三アミンの
水性アルコール溶液、脂肪酸アルカノールアミド、界面
活性剤、又はそれらの混合物のような他の成分が存在す
ることができる。本明細書中で定義される相溶性は、定
義される任意成分が過酸化水素の酸性水溶液の存在下に
おいて酸化及び分解に対して比較的安定性であることを
示す。
【００１６】更に詳しくは、酸性水性媒体中で過酸化水
素と相溶性である適当な界面活性剤としては、非イオ
ン、陰イオン、両性及び陽イオン界面活性剤及びそれら
の混合物が挙げられ、それらは市販されており、公知で
ある。含まれる場合には、界面活性剤は組成物の総重量
に基づき好ましくは０．０１〜３０重量％、より好まし
くは０．１〜１０重量％、最も好ましくは０．７５〜
１．２５重量％の範囲の量で使用する。
【００１７】使用する場合には、適当な非イオン界面活
性剤の例としては、例えば、以下の１種又はそれ以上が
挙げられる：（１）アルコール中に１１〜１５個の炭素
原子及び３〜４０モルのエチレンオキシドを含む、市販
のエトキシル化脂肪族アルコール、例えば、炭素原子１
１〜１５個及びエチレンオキシド９モルを有する異性体
直鎖第２アルコールならびに炭素原子１２〜１５個及び
エチレンオキシド９モルを有する直鎖第１アルコール；
（２）ポリオキシエチレンとポリオキシプロピレンのエ
チレンジアミン反応コポリマーのようなブロックコポリ
マー非イオン界面活性剤；（３）エチレングリコール反
応ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンコポリマ
ー；（４）アルキルフェノールエトキシレート、例え
ば、エチレンオキシド９〜１０モルを有するノニル−フ
ェノキシポリエトキシエタノール；（５）アルカノール
アミド、例えば、１又は２個のヒドロキシエチル又はヒ
ドロキシプロピル基を有する脂肪酸アルカノールアミ
ド、例えば、ヤシ及び牛脂脂肪酸エタノールアミド及び
ジエタノールアミド；ならびにオレイン酸ジエタノール
アミド；ならびに（６）アミンオキシドなど。非イオン
界面活性剤として特に好ましいのは、ポリオキシエチレ
ンとポリオキシプロピレンとのエチレンジアミン反応コ
ポリマーである。使用できる適当な陰イオン界面活性剤
の例としては、例えば、以下のものが挙げられる：
（１）アルキル硫酸塩、（２）アルキルスルホン酸塩、
（３）アルカリ金属アルキルスルホネート及び（４）ア
ルキルアリールスルホン酸塩。使用できる適当な両性界
面活性剤の例としては、例えば、脂肪酸イミダゾリン誘
導体が挙げられる。使用できる適当な陽イオン界面活性
剤としては、例えば、エトキシル化アミン及び第四アン
モニウム化合物、ならびにジアルキル第四アンモニウム
化合物などが挙げられ、それらは当業者にはよく知られ
ている。
【００１８】
【発明の効果】本発明の組成物は種々の表面を清浄にす
るのに使用できる。組成物は、医療及び非医療の状況に
おいて細菌性、真菌性及びウィルス性微生物及び／又は
微生物胞子で汚染された、生物及び無生物の表面を消毒
及び滅菌するのに特に有用である。組成物はヒト用医薬
品及び家畜用医薬品ならびに手術及び歯科の器械及び対
象の表面を清浄にする公知の方法の優れた代替法を提供
する。この組成物ではこのような対象を室温又は高温で
処理できる。この組成物は優れた消毒能力を有するた
め、組成物の適当な用途は工業及び家庭環境も含む。
【００１９】本発明の組成物を使用することによって達
成される抗微生物活性のレベルは、接触時間、温度及び
過酸化水素の濃度レベルのような多数の要因に依存し、
それは当業者に公知である。代表的には、清浄にされ、
消毒され且つ／又は滅菌される対象は、浸漬し、噴霧
し、綿棒で塗るなどのような種々の公知の技術によって
接触させることができる。極めて安定な本発明の組成物
は、腐蝕を促進しないので、浸漬技術には特に有利であ
る。医療の分野において使用される、対象を処理するた
めの特に好ましい方法は、室温又は高温、好ましくは２
０〜５０℃において対象を本発明の組成物中に浸漬する
ことによる。この好ましい方法において、滅菌又は消毒
を行うのに必要な浸漬時間は温度依存性であり、温度が
上昇するにつれて必要な時間は次第に短くなる。例え
ば、好ましい高レベルの消毒剤活性は室温においては接
触時間わずか１０分で達成される。比較的高レベルの殺
胞子活性は、室温においては接触時間わずか６時間で、
又は５０℃においては接触時間わずか１０分で達成でき
る。
【００２０】当業者の技術の範囲内であるが、組成物は
また、濃縮物として製造でき、それを後で使用前に水で
希釈することができる。表面を処理するための組成物の
有効量は、所望の抗微生物活性のレベル及び組成物中に
存在する過酸化水素の量に依存して非常に変化し得る。
【００２１】意外にも、組成物は安定で、先行技術の同
様な組成物よりも長期間貯蔵できる。例えば、組成物は
５０℃において例えば１〜６ヵ月（又は室温で貯蔵した
時には１〜２年又はそれ以上）の貯蔵期間の間、安定性
を保持する。従って、本発明の組成物は増大した安定性
を示し、そのために、銅、黄銅、チタン、亜鉛などのよ
うな金属を腐蝕することなく、これらの金属の表面用の
洗浄剤としての組成物の使用が可能になる。本発明を以
下の実施例によって説明するが、これらに限定されるも
のではない。
【００２２】
【実施例】組成物を、Ｍｅｔａｓｐｅｃ Ｃｏ., Ｓａ
ｎ Ａｎｔｏｎｉｏ，ＴＸによって供給された金属クー
ポン（ディスク）を用いる腐蝕分析に供した。銅クーポ
ンは全て銅からなるものであった。黄銅クーポンは銅７
０％及び亜鉛３０％からなるものであった。全てのクー
ポンは１×２×１／８”であった。腐蝕の目視観察の結
果として、「なし」、「わずか」、「中等度」又は「ひ
どい」のような尺度として腐蝕を記録した。
【００２３】組成物Ａ〜Ｄを、以下に示す量の成分を用
いて調製した。Ａ及びＢの両組成物においては、防錆剤
として以下のような構造式で示されるメチル置換トリア
ゾール誘導体ＲＥＯＭＥＴTM（チバガイギー，Ｈａｗｔ
ｈｏｒｎｅ，ＮＹから入手）を用いた：
【００２４】
【化５】
【００２５】メチル置換トリアゾール誘導体 分
子量＝２５０ 比較組成物Ｃにおいては、防錆剤として以下のような構
造式で示される１，２，３−ベンゾトリアゾール（ＰＭ
Ｃ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ Ｇｒｏｕｐから入手され
るＣＯＢＲＡＴＥＣTM９９）を用いた：
【００２６】
【化６】
【００２７】１，２，３−ベンゾトリアゾール 分
子量＝１１９ 比較例Ｄにおいては防錆剤として以下のような構造式で
示されるトリルトリアゾール（ＰＭＣ Ｓｐｅｃｉａｌ
ｔｉｅｓ Ｇｒｏｕｐから入手されるＣＯＢＲＡＴＥＣ
TMＴＴ−１００）を用いた：
【００２８】
【化７】
【００２９】トリルトリアゾール 分
子量＝１３３ 試験した配合は以下に示すものである。重量％は水性組
成物の総重量に基づく。 本発明の組成物Ａ 成分 重量％ 脱イオン水 適量 ＴＥＴＲＯＮＩＣTM９０８1.（１００％） １ ＲＥＯＭＥＴTM４２2.（７５％） ０．９ 燐酸3.（８５％） １ 過酸化水素4.（５０％） １５pH＝１．８ 1. アルコキシル化ジアミン非イオン界面活性剤，ＢＡ
ＳＦ Ｃｏｒｐ., Ｐａｒｓｉｐｐａｎｙ，ＮＪ。2. 活性成分の７５重量％の２，２’［｛（メチル−１
Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル］メチル｝イミノ］
ビス−，チバガイギー，Ｈａｗｔｈｏｍｅ，ＮＹ（１０
０％の活性成分に基づき約０．７重量％）を含むエタノ
ール溶液3. モンサント（Ｍｏｎｓａｎｔｏ），Ｓｔ．Ｌｏｕｉ
ｓ，ＭＯ。4. ＦＭＣ Ｃｏｒｐ., Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ，ＮＪ。
（１００％の活性成分に基づき７．５重量％）
【００３０】 本発明の組成物Ｂ 成分 重量％ 脱イオン水 適量 ＴＥＴＲＯＮＩＣTM９０８1.（１００％） １ ＲＥＯＭＥＴTM４２2.（７５％） ０．６５ 燐酸3.（８５％） １ 過酸化水素4.（５０％） １５pH＝１．８ 1. アルコキシル化ジアミン非イオン界面活性剤，ＢＡ
ＳＦ Ｃｏｒｐ., Ｐａｒｓｉｐｐａｎｙ，ＮＪ。2. 活性成分の７５重量％の２，２’［｛（メチル−１
Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イル］メチル｝イミノ］
ビス−，チバガイギー，Ｈａｗｔｈｏｍｅ，ＮＹ（１０
０％の活性成分に基づき約０．５重量％）を含むエタノ
ール溶液3. モンサント，Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ。4. ＦＭＣ Ｃｏｒｐ., Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ，ＮＪ。
（１００％の活性成分に基づき７．５重量％）
【００３１】 比較組成物Ｃ 成分 重量％ 脱イオン水 適量 ＴＥＴＲＯＮＩＣTM９０８1.（１００％） ０．９ ＣＯＢＲＡＴＥＣTM９９2.（１００％） ０．７ 燐酸 ８５％3. １ 過酸化水素 ５０％4. １５1. アルコキシル化ジアミン非イオン界面活性剤，ＢＡ
ＳＦ，Ｐａｒｓｉｐｐａｎｙ，ＮＪ。2. １，２，３−ベンゾトリアゾール（ＰＭＣ Ｓｐｅ
ｃｉａｌｔｉｅｓ Ｇｒｏｕｐ，Ｃｉｎｃｉｎｎａｔ
ｉ，Ｏｈｉｏから購入）3. モンサント，Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ。4. ＦＭＣ Ｃｏｒｐ., Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ，ＮＪ。
（１００％の活性成分に基づき７．５重量％）
【００３２】 比較組成物Ｄ 成分 重量％ 脱イオン水 適量 ＴＥＴＲＯＮＩＣTM９０８1.（１００％） １ ＣＯＢＲＡＴＥＣTMＴＴ−１００2.（１００％） ０．５ ＡＣＩＴＲＯＬTM５１０１3. ０．５ 燐酸 ８５％4. １ 過酸化水素 ５０％5. １５1. アルコキシル化ジアミン非イオン界面活性剤，ＢＡ
ＳＦ，Ｐａｒｓｉｐｐａｎｙ，ＮＪ。2. トリルトリアゾール，ＰＭＣ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉ
ｅｓ／Ｃｉｎｃｉｎｎａｔｉ，ＯＨ。3. 水性イソプロピルアルコール性（約５％）メテンア
ミン（約２０％）−脂肪酸アルカノールアミド（約３０
％）混合物，Ｅ．Ｆ．Ｈｏｕｇｈｔｏｎ ＆ Ｃｏｍｐ
ａｎｙ，Ｖａｌｌｅｙ Ｆｏｒｇｅ，Ｐｅｎｎ。4. モンサント，Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，ＭＯ。5. ＦＭＣ Ｃｏｒｐ., Ｐｒｉｎｃｅｔｏｎ，ＮＪ。
（１００％の活性成分に基づき７．５重量％）
【００３３】例Ｉ 組成物Ａを室温で２ヵ月間貯蔵した。次いで、組成物を
（希釈せずに）、Ｏｆｆｉｃｉａｌ Ｍｅｔｈｏｄｓ
ｏｆ Ａｎａｌｙｓｉｓ ｏｆ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏ
ｎ ｏｆ Ｏｆｆｉｃｉａｌ Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ
Ｃｈｅｍｉｓｔｓ：６２〜６３，１１ｔｈ Ｅｄ., Ｗ
ａｓｈｉｎｇｔｏｎ，Ｄ．Ｃ．（１９７０年）に記載さ
れた“Ｕｓｅ Ｄｉｌｕｔｉｏｎ Ｍｅｔｈｏｄ”−Ｏ
ｆｆｉｃｉａｌ−を用いてチオグリコール酸塩液体培地
の存在下において抗微生物活性に関して試験した。試験
温度は２０℃であった。試験した微生物はＳｔａｐｈｙ
ｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ（ＡＴＣＣ ６５３
８）、Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓｏ
（ＡＴＣＣ １５４４２）及びＳａｌｍｏｎｅｌｌａＣ
ｈｏｌｅｒａｅｓｕｉｓ（ＡＴＣＣ １０７０８）であ
った。各微生物に関して６０回の反復試験を行い、キャ
リアーの数を＋／１０とした。試験した全ての反復試験
は０であった。Ｓ．Ｃｈｏｌｅｒａｅｓｕｉｓに関して
は２回継代培養を用い、その結果も６０回の反復試験に
関して０を示した。
【００３４】例ＩＩ 組成物Ａ及びＢに関する腐蝕分析を、各組成物を５０℃
の高温で１ヵ月間貯蔵した後に実施した。銅及び黄銅ク
ーポンを全て、組成物Ａ及びＢの試験溶液（希釈せず）
中に浸漬した。腐蝕に関する目視観察を２４時間、４８
時間及び１週間の間隔で記録した。２４時間、４８時間
及び１週間の期間において組成物Ａ又は組成物Ｂのいず
れについてもクーポンのいずれにも腐蝕は観察されなか
った（「なし」）。結果を表中に要約する。
【００３５】例ＩＩＩ 例ＩＩの手法を、５０℃の高温で２ヵ月間貯蔵した後の
組成物Ａ及びＢに関して繰り返した。２４時間、４８時
間及び１週間の期間で組成物Ａ及びＢ中で試験したクー
ポンのいずれにも腐蝕は観察されなかった（「な
し」）。結果を表中に要約する。
【００３６】例ＩＶ 例ＩＩの手法を、室温で２ヵ月間貯蔵した後の組成物Ａ
及びＢに関して繰り返した。２４時間、４８時間及び１
週間の期間で組成物Ａ及びＢ中で組成物Ａ及びＢ中で試
験したクーポンのいずれにも腐蝕は観察されなかった
（「なし」）。
【００３７】比較例Ｉ 銅クーポンのみを試験した以外は例ＩＩに記載した方法
を用いて、５０℃において１ヵ月間貯蔵した後の組成物
Ｃに関する腐蝕分析を行った。腐蝕に関する目視観察時
に、２４時間で「わずかな」腐蝕が、４８時間で「中等
度の」腐蝕が、そして１週間で「ひどい」腐蝕が観察さ
れた。結果を表中に要約する。
【００３８】比較例ＩＩ 組成物Ｄを、５０℃において２ヵ月間貯蔵した後に腐蝕
活性に関して試験した。試験方法は、銅クーポンのみを
試験した以外は例ＩＩにおいて前記した通りであった。
表中に示されるように、２４時間で「ひどい」腐蝕が観
察された。２４時間を超えるそれ以上の観察は行わなか
った。
【００３９】 表 銅の腐蝕 接触時間 ２４時間 ４８時間 １週間 組成物Ａ，例ＩＩ （本発明，５０℃，１ヵ月） なし なし なし 組成物Ｂ，例ＩＩ （本発明，５０℃，１ヵ月） なし なし なし 組成物Ａ，例ＩＩＩ （本発明，５０℃，２ヵ月） なし なし なし 組成物Ｂ，例ＩＩＩ （本発明，５０℃，２ヵ月） なし なし なし 組成物Ａ，例ＩＶ （本発明，室温，２ヵ月） なし なし なし 組成物Ｂ，例ＩＶ （本発明，室温，２ヵ月） なし なし なし 組成物Ｃ，比較例Ｉ （比較，５０℃，１ヵ月） わずか 中等度 ひどい 組成物Ｄ，比較例ＩＩ （比較，５０℃，２ヵ月） ひどい ― ―

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ａ）式Ｉ 【化１】 ［式中、ＲはＣ1 〜Ｃ4 直鎖又は分枝鎖アルキル基であ
    り、且つＲ1 は直鎖又は分枝鎖Ｃ1 〜Ｃ5 アルキル基で
    ある］によって表されるメチル置換トリアゾール誘導体
    ０．２５〜２５重量％； ｂ）過酸化水素０．５〜５０重量％；ならびに ｃ）酸性緩衝剤 を含んでなり（重量％は水性組成物の総重量に基づ
    く）、pHが１〜５の範囲である水性組成物。
  2. 【請求項２】 本質的に ａ）式Ｉ 【化２】 ［式中、ＲはＣ1 〜Ｃ4 直鎖又は分枝鎖アルキル基であ
    り、且つＲ1 は直鎖又は分枝鎖Ｃ1 〜Ｃ5 アルキル基で
    ある］によって表されるメチル置換トリアゾール誘導体
    ０．２５〜２５重量％； ｂ）過酸化水素０．５〜５０重量％；ならびに ｃ）酸性緩衝剤 を含んでなり（重量％は水性組成物の総重量に基づ
    く）、pHが１〜５の範囲である水性組成物。
  3. 【請求項３】 ａ）式Ｉ 【化３】 ［式中、ＲはＣ1 〜Ｃ4 直鎖又は分枝鎖アルキル基であ
    り、且つＲ1 は直鎖又は分枝鎖Ｃ1 〜Ｃ5 アルキル基で
    ある］によって表されるメチル置換トリアゾール誘導体
    ０．２５〜２５重量％； ｂ）過酸化水素０．５〜５０重量％；ならびに ｃ）酸性緩衝剤 を含んでなり（重量％は水性組成物の総重量に基づ
    く）、pHが１〜５の範囲である水性組成物の有効量を表
    面に接触させることを含んでなる表面を消毒又は滅菌す
    る方法。
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