JPH07324073A

JPH07324073A - 置換インドール−３−酢酸化合物および置換ベンゾフラニル−３−酢酸化合物の製造方法

Info

Publication number: JPH07324073A
Application number: JP11858194A
Authority: JP
Inventors: Kuniro Ogasawara; 國郎小笠原; Kiyohiro Mitsumizu; 清寛三水
Original assignee: Kawaken Fine Chemicals Co Ltd
Current assignee: Kawaken Fine Chemicals Co Ltd
Priority date: 1994-05-31
Filing date: 1994-05-31
Publication date: 1995-12-12
Anticipated expiration: 2019-02-16
Also published as: JP3496979B2

Abstract

(57)【要約】【目的】置換インドール又はベンゾフラン−３−酢酸
化合物の高収率合成。【構成】式（Ｉ）の化合物と、２，５−ジヒドロ−
２，５−ジメトキシフランとを、パラジウム触媒の存在
下に反応開環させて、式（II）の化合物を合成する。【化１】〔式（Ｉ),（II）中、Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³，Ｒ⁴＝Ｈ，
Ｆ，Ｃｌ，アルキル、アラルキル、アルコキシ、ニト
ロ、アミノ、アミド、シアノ、アルキルチオ、アラルキ
ルチオ、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ア
シル、アルコキシカルボニル、又はアルコキシカルボニ
ルアルキル基、Ｂ＝ＮＨＣＯＯＲ⁵、ＯＣＯＯＲ⁵、Ｎ
Ｈ₂、ＮＨＲ⁶又はＯＨ、Ｒ⁵＝Ｃ_1-4アルキル、Ｒ⁶
＝Ｃ_1-5アルキル、アリル又はベンジル、Ａ＝−ＮＨ
−、−ＮＲ⁶−又は−Ｏ−〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は植物生理活性作用をもつ
置換インドール−３−酢酸化合物および医薬品の原料と
なる置換ベンゾフラニル−３−酢酸誘導体の製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】置換インドール−３−酢酸化合物の製造
方法としては、例えばインドール−３−アセトニトリル
の加水分解（薬誌、７６、４０９（１９５６))、インド
ールとグリコール酸カリウム塩との加熱反応（Ｊ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．，２８，１２４６（１９６３))、アルカ
リの存在下インドールとモノクローナル酢酸との加熱反
応（Ｋｈｉｍ．Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ．Ｓｏｅｄｉ
ｎ．，１９７４，１３７５）、およびフェニルヒドラジ
ンと、３−ホルミルプロピオン酸又は２−オキソグルタ
ル酸とのフイッシャー反応による製造方法（Ｃａｎ．
Ｊ．Ｃｈｅｍ．３５，１５７８（１９５７))などが知ら
れている。

【０００３】一方、置換ベンゾフラニル−３−酢酸の製
造方法としては、ベンゾフランとジアゾ酢酸エステルと
の反応物の加水分解法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４
２，３９４５（１９７７))、ブロモアセチル酢酸エステ
ルとフェノールとのペヒマン反応後、閉環する法（Ｃｈ
ｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，３０，５５２（１９８
２))、ベンゾフラン−３−（２Ｈ）−オンとメトキシカ
ルボニルメチレントリフェニルホスホランとのウイッテ
ィヒ反応（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ＰｅｒｋｉｎＴ
ｒａｎｓ．Ｉ，１９８４，１６０５）、および４−（２
−ヨードフェノキシ）ブテン酸メチルエステルのパラジ
ウム触媒による閉環方法（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，
２８，５５（１９８９))などが知られている。

【０００４】しかしながら、上記の従来の置換インドー
ル−３−酢酸の製造において、原料にインドール−３−
アセトニトリルを用いる方法には、この原料の製造に数
段階の工程が必要という欠点があり、インドールとグリ
コール酸又はモノクロル酢酸との加熱による方法におい
ては、２５０℃以上に加熱することが必要であるという
欠点があり、さらに、フイッシャー法による製造方法に
は収量が低いという難点がある。また、置換ベンゾフラ
ン−３−酢酸化合物の製造方法には、いずれも原料の製
造に数段階の工程を必要とするという欠点、あるいは、
収量が低いという難点がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、生理
活性作用を有する置換インドール−３−酢酸化合物、お
よび医薬品の原料となる置換ベンゾフラン−３−酢酸化
合物を実用的に高収量をもって容易に製造できる方法を
提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らはパ
ラジウム触媒を用いて置換インドール−３−酢酸化合物
および置換ベンゾフラン−３−酢酸化合物の合成反応に
着目し、種々検討した結果、特定化学構造の２−ヨード
アニリンアシル誘導体、又は２−ヨードフェノールアシ
ル誘導体を出発原料として用いることにより、上記課題
を解決し得ることを見出し、本発明を完成させた。

【０００７】本発明方法は、下記一般式（Ｉ）：

【化３】（式中Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³、およびＲ⁴は、それぞれ互に
独立に水素原子、低級アルキル基、アラルキル基、低級
アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、未置
換、および置換アミノ基、未置換、および置換アミド
基、シアノ基、低級アルキルチオ基、アラルキルチオ
基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、アシル基、低級アルコキシカルボニル基、又は低級
アルコキシカルボニル低級アルキル基を表わし、Ｂは、
−ＮＨＣＯＯＲ⁵基又は−ＯＣＯＯＲ⁵基、−ＮＨ基、
−ＮＲ⁶基またはヒドロキシル基を表わし、Ｒ⁵はメチ
ル、エチル、プロピル、又はブチル基を表わし、Ｒ⁶は
１〜５個の炭素原子を有するアルキル基、アリル基また
はベンジル基を表わす。）で示される化合物をパラジウ
ム触媒の存在下、２，５−ジヒドロ−２，５−ジメトキ
シフランと反応させかつこの反応生成物を閉環させ、そ
れによって下記一般式〔II〕：

【化４】〔但し式（II）中、Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³、およびＲ⁵は前
記と同一であり、Ａは−ＮＨ−基、−ＮＲ⁶−基又は酸
素原子を表わし、Ｒ⁶は前記と同一である。〕で示され
る化合物を合成することを特徴とする置換インドール−
３−酢酸化合物、および置換ベンゾフラン−３−酢酸化
合物の製造方法である。

【０００８】上記一般式（Ｉ）および（II）においてＲ
¹，Ｒ²，Ｒ³、およびＲ⁴により示される各基は、具
体的には、それぞれ次の通りである。低級アルキル基と
しては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチ
ル、およびヘキシル基等の炭素数１−６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基を挙げることができる。

【０００９】アラルキル基としては、例えばベンジル、
２−フェニルエチル、１−フェニルエチル、３−フェニ
ルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチ
ル、６−フェニルヘキシル、１，１−ジメチル−２−フ
ェニルエチル、および２−メチル−３−フェニルプロピ
ル基等のように、炭素数１ないし６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基を有するアラルキル基を挙げることができ
る。

【００１０】低級アルコキシ基は、例えば、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イ
ソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、お
よびヘキシルオキシ基等のような炭素数１−６の直鎖ま
たは分枝鎖状アルコキシ基から選ぶことができる。

【００１１】置換アミノ基としては、例えば、メチルア
ミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブチルアミノ、
ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルア
ミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルア
ミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミノ、ジヘキシル
アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチル−
Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ブチルアミノ、
Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ア
セチルアミノ、Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−ホルミルアミ
ノ、Ｎ−プロピオニルアミノ、Ｎ−ブチリルアミノ、Ｎ
−イソブチリルアミノ、Ｎ−ペンタノイルアミノ、Ｎ−
ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、Ｎ−ヘキサノイル
アミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−アセチルアミノ、ベンゾイル
アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−エチル
−Ｎ−ベンゾイルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、
Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トリルスルホ
ニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ｐ−トリルスルホニルア
ミノ、およびＮ−エチル−Ｎ−ｐ−トリルスルホニルア
ミノ基等のように、置換基として炭素数１ないし６の直
鎖または分枝鎖状アルキル基、炭素数１ないし６の直鎖
または分枝鎖状アルカノイル基、ベンゾイル基、フェニ
ルスルホニル基、又はｐ−トリルスルホニル基から選ば
れた１個又は２個の基を有する置換アミノ基を例示する
ことができる。

【００１２】置換アミド基としては、例えば、カルバモ
イル、メチルアミド、エチルアミド、プロピルアミド、
イソプロピルアミド、ブチルアミド、イソブチルアミ
ド、ｔｅｒｔ−ブチルアミド、ペンチルアミド、ヘキシ
ルアミド、ジメチルアミド、ジエチルアミド、ジプロピ
ルアミド、ジブチルアミド、ジペンチルアミド、ジヘキ
シルアミド基等のように炭素数１ないし６の直鎖又は分
枝鎖状アルキル基からなる１個又は２個の置換基を有す
るアミド基を挙げることができる。

【００１３】低級アルキルチオ基としては、例えば、メ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチ
オ、ペンチルチオ、およびヘキシルチオ基等のように、
炭素数１ないし６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を有す
る低級アルキルチオ基を挙げることができる。

【００１４】アラルキルチオ基としては、例えば、ベン
ジルチオ、１−フェニルエチルチオ、２−フェニルエチ
ルチオ、３−フェニルプロピルチオ、４−フェニルブチ
ルチオ、１，１−ジメチル−２−フェニルエチルチオ、
および２−メチル−３−フェニルプロピル基等のよう
に、そのアルキル部分が炭素数１ないし６の直鎖又は分
枝鎖状アルキル基からなるアラルキルチオ基を挙げるこ
とができる。

【００１５】アシル基は、例えば、フォルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノ
イル、ヘキサノイル、およびベンゾイル基等のように、
炭素数１ないし６の直鎖又は分枝鎖状のアシル基および
ベンゾイル基から選ぶことができる。

【００１６】低級アルキルスルホニル基としては、例え
ば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルス
ルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニ
ル、イソブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニ
ル、ペンチルスルホニル、およびヘキシルスルホニル基
等のように、炭素数１ないし６の直鎖又は分枝鎖状アル
キル基を有する低級アルキルスルホニル基を挙げること
ができる。

【００１７】アリールスルホニル基は、未置換アリール
スルホニル基例えば、フェニルスルホニル、並びに置換
アリールスルホニル基、例えばｐ−トリルスルホニル、
ｏ−トリルスルホニル、ｍ−トリルスルホニル、ｐ−メ
トキシフェニルスルホニル、ｏ−メトキシフェニルスル
ホニル、ｍ−メトキシフェニルスルホニル、ｐ−クロロ
フェニルスルホニル、ｏ−クロロフェニルスルホニル、
ｍ−クロロフェニルスルホニル、２，４−ジクロロフェ
ニルスルホニル、ｐ−フロロフェニルスルホニル、ｍ−
フロロフェニルスルホニル、およびｏ−フロロフェニル
スルホニル基等のように、そのフェニル環上に置換基と
して炭素数１ないし６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、
およびアルコキシ基、並びに塩素原子およびフッ素原子
なる群より選ばれた１〜３個の基を有する置換アリール
スルホニル基から選ぶことができる。

【００１８】低級アルコキシカルボニル基としては、例
えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペンチ
ルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等の
ように、炭素数１ないし６の直鎖又は分枝鎖状アルコキ
シル基を有するカルボニル基から選ぶことができる。

【００１９】低級アルコキシカルボニル低級アルキル基
は、例えば、メトキシカルボニルメチル、２−メトキシ
カルボニルエチル、３−メトキシカルボニルプロピル、
エトキシカルボニルメチル、４−エトキシカルボニルブ
チル、１−エトキシカルボニルエチル、１−メトキシカ
ルボニルエチル、ペンチルオキシカルボニルメチル、お
よびヘキシルオキシカルボニルメチル基等のように、低
級アルキル基として炭素数１ないし６の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基を有し、低級アルコキシル基として炭素数
１ないし６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシル基を有する
アルコキシカルボニルアルキル基から選ぶことができ
る。

【００２０】式（Ｉ）において、Ｂは−ＮＨＣＯＯＲ⁵
基、−ＯＣＯＯＲ⁵基、−ＮＨ₂基、−ＮＨＲ⁶基、ま
たはヒドロキシル（−ＯＨ）基を表わす。Ｒ⁵はメチ
ル、エチル、プロピル、又はブチル基を表わし、Ｒ⁶は
１〜５個の炭素原子を有するアルキル基、アリル基、ま
たはベンジル基を表わす。

【００２１】本発明の一般式（Ｉ）で表わされる置換イ
ンドール−３−酢酸化合物（Ａ＝−ＮＨ−）の製造法の
一実施態様は下記反応式（III)で示すことができる。

【００２２】

【化５】

【００２３】〔式中Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³，Ｒ⁴、およびＲ
⁵は前述の定義の通りであり、Ｍｅはメチル基を表わ
す。〕

【００２４】反応式（III)の反応において、常法にした
がって合成したＮ−（２−ヨードアリール）カルバミド
酸エステル誘導体（１）を、適当な溶媒中においてパラ
ジウム化合物からなる触媒の存在下に、かつ塩基の存在
下で、２，５−ジヒドロ−２，５−ジメトキシフラン
（２）上記カルバミド酸エステル誘導体に対して１−５
倍モル当量用いると、室温から使用溶媒沸点温度の範囲
において１−２４時間反応させ、３−アリール−１，２
−ジヒドロ−２，５−ジメトキシフラン（３）を合成す
る。このジヒドロジメトキシフラン誘導体は、単離精製
する事なく次工程の原料とすることができる。

【００２５】上記溶媒としては、塩化メチレン、クロロ
ホルム、アセトニトリル、メタノール、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド等を用いるこ
とができる。また、パラジウム化合物としては、塩化パ
ラジウム、酢酸パラジウム、ジクロロビス（アセトニト
リル）パラジウム、ジクロロビス（ベンゾニトリル）パ
ラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パ
ラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラ
ジウム、トリス（ベンジリデンアセトン）二パラジウム
等を用いることができる。さらに、上記塩基としては、
トリエチルアミン、トリブチルアミン、エチルジイソプ
ロピルアミン、Ｎ−エチルモルホリン、Ｎ−エチルピペ
リジン等の第三級アミンを用いることができる。

【００２６】次に、３−アリール−１，２−ジヒドロ−
２，５−ジメトキシフラン（３）を、室温から溶媒沸点
温度の範囲で酸と３０分−１２時間反応させて１−アル
コキシカルボニルインドール−３−酢酸のエステルを合
成する。このときの反応溶媒としてはベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素、テトラヒドロフラン、ジオキサン等を用いること
ができる。また、上記酸としては塩酸、硫酸、ギ酸、酢
酸、トリクロロ酢酸、トリフロロ酢酸等を用いることが
できる。得られた上記インドール−３−酢酸誘導体は一
般に単離精製する必要はないが、必要により単離精製す
ることができる。

【００２７】かくして得られた置換インドール−３−酢
酸化合物を、室温から溶媒沸点温度の範囲で塩基または
酸と３０分−１２時間反応して置換インドール−３−酢
酸化合物（４）とした。このとき、溶媒としては、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール
等を用いることができる。また塩基としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、等を用いることができ、酸
としては、塩酸、硫酸、燐酸などの無機酸、または、ト
リクロロメチル硫酸、トリクロロ酢酸、等の有機酸を用
いることができる。

【００２８】さらに、本発明の一般式（Ｉ）で表わされ
る置換ベンゾフラニル−３−酢酸化合物（Ａ＝−Ｏ−）
の製造法の一実施態様は下記反応式（IV）で示すことが
できる。

【００２９】

【化６】

【００３０】〔式中Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³，Ｒ⁴およびＭｅ
は前述の定義の通りである。〕

【００３１】式（IV）の反応において、常法にしたがっ
て合成した２−ヨードフェノール誘導体（５）を、適当
な溶媒中、パラジウム化合物を触媒として、塩基の存在
下で、２，５−ジヒドロ−２，５−ジメトキシフラン
（６)(上記２−ヨードフェノール誘導体に対し１−５倍
モル当量用いた）と、室温から使用溶媒沸点温度の範囲
で１−２４時間反応させ、３−アリール−１，２−ジヒ
ドロ−２，５−ジメトキシフラン化合物（７）を合成す
る。このジヒドロジメトキシフラン化合物（７）は、単
離精製する事なく次工程の原料とすることができる。

【００３２】上記溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロロメタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミ
ド等を用いることができる。パラジウム化合物として
は、塩化パラジウム、酢酸パラジウム、ジクロロビス
（アセトニトリル）パラジウム、ジクロロビル（ベンゾ
ニトリル）パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホ
スフィン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホス
フィン）パラジウム、トリス（ジベンジリデンアセト
ン）二パラジウム等を用いることができる。また、塩基
としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、エチ
ルジイソプロピルアミン、Ｎ−エチルモルホリン、Ｎ−
エチルピペリジン等を用いることができる。

【００３３】次にジヒドロジメトキシフラン化合物
（７）と、これに対して、１−３モル当量の三フッ化ホ
ウ素エーテル錯体とを、−１０℃から溶媒沸点温度の範
囲で３０〜１２時間反応させ、化合物（８）を経て置換
ベンゾフラン−３−酢酸化合物（９）を合成する。

【００３４】

【実施例】本発明を下記実施例によりさらに説明する。

【００３５】実施例１インドール−３−酢酸の合成Ｎ−（２−ヨードフェニル）カルバミド酸エチルエステ
ル３０２mg（１．０４mmol）と２，５−ジヒドロ−２，
５−ジメトキシフラン（２．０８mmol）とを、エチルジ
イソプロピルアミン（３．１１mmol）とベンジルトリエ
チルアンモニウムクロリド２３６mg（１．０４mmol）と
を含むジメチルホルムアミド３．０ml中に溶解し、この
溶液に酢酸パラジウム７．０mg（３１mmol）を添加し、
得られた反応混合物を８０℃で１０時間撹拌した。次に
この反応混合物を室温に冷却した後、エーテル抽出に供
した。得られた有機抽出層を水、飽和重曹水、および飽
和食塩水により、この順に洗い、得られた抽出液を乾燥
後濃縮すると、粗３−アリール−１，２−ジヒドロ−
２，５−ジメトキシフランが得られた。この粗３−アリ
ール−１，２−ジヒドロ−２，５−ジメトキシフランを
ジクロロメタン５ml中に溶解し、これにトリフロロ酢酸
０．３mlを加え、この混合物を室温で１．５時間撹拌し
た。この混合物をエーテル抽出に供し、得られた有機抽
出層を飽和重曹水、飽和食塩水により、この順に洗い、
抽出液を乾燥後濃縮し、残渣をシリカカラムクロマトグ
ラフィー（酢酸エチルエステル／ヘキサン＝１／１０）
により精製すると、インドール−３−酢酸エチルエステ
ル１７７mg（６５％）が得られた。

【００３６】¹H−NMR(CDCl₃)δ：8.17(br d,1H,J＝8.1H
z) 7.61(s,1H) 7.53(d,1H,J ＝7.3Hz)7.35(td,1H, J＝
7.7, 1.3Hz) 7.27(td,1H,J＝7.7, 1.1Hz) 4.48(q,2H, J
＝7.0Hz) 3.73(d,2H,J＝0.7Hz) 3.72(s,3H) 1.46(t,3H,
J＝7.1Hz) IRνneat cm^-1：1741 MS (m／z) 261[M⁺], 130(100
％)

【００３７】ここに得られたインドール−３−酢酸エチ
ルエステルを水−メタノール（１：９）中において、５
当量の水酸化カリウムと共に２時間還流すると、インド
ール−３−酢酸（融点１６３〜１６５℃（分解))が、９
８％の収率で得られた。

【００３８】実施例２５−メトキシインドール−３−酢酸の合成Ｎ−２−ヨード−４−メトキシフェニルカルバミド酸ｔ
ｅｒｔ−ブチルエステルと、２，５−ジヒドロ−２，５
−ジメトキシフランとを、実施例１と同様の操作により
反応させ、粗１−ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル−
５−メトキシインドール−３−酢酸メチルエステルを７
６％の収率で得た。

【００３９】¹H−NMR(CDCl₃)δ：8.01(br d,1H,J＝7.7H
z) 7.54(br-s,1H) 6.98(d,1H,J＝2.6Hz) 6.93(dd,1H, J
＝9.0, 2.4Hz) 3.86(s,3H) 3.72(s,3H) 3.69(br-s,2H)
1.65(br-s,9H) IRνneat cm^-1：1730 MS (m／z) 319(M⁺) 263 (100
％)

【００４０】この化合物を、１０％塩酸−ジオキサン
（３：４）の混合溶媒中において、８０℃１時間撹拌し
た後、これに０℃で２０％水酸化ナトリウム水溶液を加
え、目的化合物を得た。融点：１４５℃

【００４１】¹H−NMR(CDCl₃)δ：7.23(d,1H, J＝8.8Hz)
7.13(s,1H) 7.03(d,1H, J＝2.2Hz) 6.76(dd,1H, J＝9.
0 2.4Hz) 6.76(dd,1H,J＝9.2 2.4Hz) 3.81(s,3H) 3.6
9(s,2H) IRνneat cm^-1：3356,1694,1673

【００４２】実施例３ベンゾフラン−３−酢酸メチルエステルの合成ｏ−ヨードフェノール１．０２６ｇ（４．６６４mmo
l）、２，５−ジヒドロ２，５−ジメトキシフラン０．
８５ml（７．０１mmol）、エチルイソプロピルアミン
１．６２ml（９．３０mmol）、およびベンジルトリエチ
ルアンモニウムクロライド１．０６２ｇ（４．６６２mm
ol）をジメチホルムアミド１２ml中に溶解し、この溶液
に、酢酸パラジウム２０．９mgを加え、室温で１０分撹
拌後、さらに７０℃において６時間撹拌した。得られた
反応混合物をエーテル抽出、有機抽出層を水、飽和重曹
水、飽和食塩水により、この順に洗い、抽出液を乾燥
後、濃縮した。残留物をジクロロメタン１５mlに溶か
し、これに０℃でトリフロロホウ素のエーテル錯体０．
５７４ml（４．６６７mmol）を加え、室温で９時間撹拌
した。この混合物を０℃で飽和重曹水により中和後、有
機層を分離し、これを飽和食塩水により洗浄し乾燥後濃
縮した。この濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／８）で精製したとこ
ろ、淡黄色油状のベンゾフラン−３−酢酸メチルエステ
ルが６４％の収率で得られた。

【００４３】¹H−NMR(CDCl₃)δ：7.63(s,1H) 7.56(dd,1
H, J＝7.0 1.8Hz) 7.48(dd,1H, J＝7.3 1.5Hz) 7.31(t
d,1H,J＝7.3 1.5Hz) 7.25(td,1H, J＝7.3 1.5Hz) 3.73
(s,3H) 3.72(s,1H) 3.71(s,1H) IRνneat cm^-1：MS(m／z) 190(M⁺)162 131(100％)103
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Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（Ｉ）：【化１】〔式中、Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³、およびＲ⁴は、それぞれ互
に独立に水素原子、低級アルキル基、アラルキル基、低
級アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、未
置換、および置換アミノ基、アミド基、シアノ基、低級
アルキルチオ基、アラルキルチオ基、低級アルキルスル
ホニル基、未置換、および置換アリールスルホニル基、
アシル基、低級アルコキシカルボニル基、又は低級アル
コキシカルボニル低級アルキル基を表わし、Ｂは、−Ｎ
ＨＣＯＯＲ⁵基、−ＯＣＯＯＲ⁵基、−ＮＨ₂基、−Ｎ
ＨＲ⁶基、またはヒドロキシル基を表わし、Ｒ⁵はメチ
ル、エチル、プロピル、又はブチル基を表わし、Ｒ⁶は
１〜５個の炭素原子を有するアルキル基、アリル基、又
はベンジル基を表わす。〕で示される化合物を、パラジ
ウム触媒の存在下、２，５−ジヒドロ−２，５−ジメト
キシフランと反応させ、かつこの反応生成物を閉環さ
せ、それによって、下記一般式（II）：【化２】〔式中、Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³、およびＲ⁴は、前記と同一
であり、Ａは、−ＮＨ−基、−ＮＲ⁶−基又は酸素原子
を表わし、Ｒ⁶は前記と同一である。〕で示される化合
物を合成することを特徴とする置換インドール−３−酢
酸化合物および置換ベンゾフラン−３−酢酸化合物の製
造方法。