JPH0732408A - 電子部品の樹脂モールド方法 - Google Patents
電子部品の樹脂モールド方法Info
- Publication number
- JPH0732408A JPH0732408A JP5180160A JP18016093A JPH0732408A JP H0732408 A JPH0732408 A JP H0732408A JP 5180160 A JP5180160 A JP 5180160A JP 18016093 A JP18016093 A JP 18016093A JP H0732408 A JPH0732408 A JP H0732408A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- lead frame
- gate
- resin molding
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子部品の樹脂モールド方法において、樹
脂モールドされた電子部品をリードフレームから分離す
るに際して、樹脂ゲートバリの残留を減少するととも
に、樹脂モールド後の工程における電子部品の搬送不良
を減少し得る、電子部品の樹脂モールド方法を提供する
ことを目的とする。 【構成】 本発明は、リードフレーム上に搭載された半
導体素子の樹脂モールド方法において、前記リードフレ
ームの所定領域にはメッキ層を形成し、該リードフレー
ムのメッキ層を形成していない領域を樹脂モールド用成
形金型のゲート溝に対応する位置に装填して樹脂モール
ドすることを特徴とする電子部品の樹脂モールド方法で
ある。
脂モールドされた電子部品をリードフレームから分離す
るに際して、樹脂ゲートバリの残留を減少するととも
に、樹脂モールド後の工程における電子部品の搬送不良
を減少し得る、電子部品の樹脂モールド方法を提供する
ことを目的とする。 【構成】 本発明は、リードフレーム上に搭載された半
導体素子の樹脂モールド方法において、前記リードフレ
ームの所定領域にはメッキ層を形成し、該リードフレー
ムのメッキ層を形成していない領域を樹脂モールド用成
形金型のゲート溝に対応する位置に装填して樹脂モール
ドすることを特徴とする電子部品の樹脂モールド方法で
ある。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばダイオード、抵
抗器等の電子部品の樹脂モールド方法に関する。
抗器等の電子部品の樹脂モールド方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、ダイオード等の電子部品の製造
に際しては、帯状のリードフレームを使用して、複数個
の電子部品を、このリードフレームの長手方向に一定ピ
ッチの間隔で並べた状態で製造するようにしていること
は周知の通りであり、前記リードフレームにおける各電
子部品の各々に対して密封用の樹脂モールド部を成形す
るに際して、従来は、ダイオードを例にとると、以下に
述べるような方法を採用している。
に際しては、帯状のリードフレームを使用して、複数個
の電子部品を、このリードフレームの長手方向に一定ピ
ッチの間隔で並べた状態で製造するようにしていること
は周知の通りであり、前記リードフレームにおける各電
子部品の各々に対して密封用の樹脂モールド部を成形す
るに際して、従来は、ダイオードを例にとると、以下に
述べるような方法を採用している。
【0003】すなわち、全面にメッキ層が形成されたリ
ードフレームの長手方向に一定ピッチの間隔で半導体素
子を形成し、成形用の上下金型の合わせ面に平行に並べ
て下金型に装填する。次いで、下金型を上昇させて上下
金型を型閉じした後に、下金型に設けられた熱硬化性合
成樹脂の原料タブレットを充填するための充填室におい
て、樹脂タブレットを押圧するためのプランジャーをエ
アーシリンダの作動により上昇させることで、溶融樹脂
を充填室と連通するそれぞれの上下金型間のキャビティ
ー内に注入させる。下金型の充填室とキャビティーとが
連通する箇所には、リードフレームの長手一側縁に沿っ
て延びるように凹み形成されたランナー溝とそれぞれの
キャビティーに直接連通している凹み形成されたゲート
溝とが設けられている。
ードフレームの長手方向に一定ピッチの間隔で半導体素
子を形成し、成形用の上下金型の合わせ面に平行に並べ
て下金型に装填する。次いで、下金型を上昇させて上下
金型を型閉じした後に、下金型に設けられた熱硬化性合
成樹脂の原料タブレットを充填するための充填室におい
て、樹脂タブレットを押圧するためのプランジャーをエ
アーシリンダの作動により上昇させることで、溶融樹脂
を充填室と連通するそれぞれの上下金型間のキャビティ
ー内に注入させる。下金型の充填室とキャビティーとが
連通する箇所には、リードフレームの長手一側縁に沿っ
て延びるように凹み形成されたランナー溝とそれぞれの
キャビティーに直接連通している凹み形成されたゲート
溝とが設けられている。
【0004】この溶融樹脂が硬化した際に、上記の箇所
において(充填室からキャビティーに連通する部位)、
キャビティー内で成形される樹脂モールド部とつながっ
た状態で、各ダイオードから最終的に切離されるロス樹
脂部が成形される。このロス樹脂部のゲート溝部分(ゲ
ート樹脂)では、ロス樹脂部とリードフレームとが融着
されている。次いで、ロス樹脂部をリードフレームから
除去するために、リードフレームを固定するための上下
一対のクランプをエアーシリンダの作動によりリードフ
レームを挟み、この状態で充填室に成形された部位のロ
ス樹脂部を押圧するためのラムを同じくエアーシリンダ
の作動により、リードフレーム上方から下降させる。す
ると、このラムにより押圧されたロス樹脂部は、リード
フレームからゲート樹脂を剥しながら、リードフレーム
の下方へ切り放し除去されている。
において(充填室からキャビティーに連通する部位)、
キャビティー内で成形される樹脂モールド部とつながっ
た状態で、各ダイオードから最終的に切離されるロス樹
脂部が成形される。このロス樹脂部のゲート溝部分(ゲ
ート樹脂)では、ロス樹脂部とリードフレームとが融着
されている。次いで、ロス樹脂部をリードフレームから
除去するために、リードフレームを固定するための上下
一対のクランプをエアーシリンダの作動によりリードフ
レームを挟み、この状態で充填室に成形された部位のロ
ス樹脂部を押圧するためのラムを同じくエアーシリンダ
の作動により、リードフレーム上方から下降させる。す
ると、このラムにより押圧されたロス樹脂部は、リード
フレームからゲート樹脂を剥しながら、リードフレーム
の下方へ切り放し除去されている。
【0005】以上のような工程を繰り返し、順次リード
フレーム上におけるダイオードの樹脂モールドが行われ
ている。
フレーム上におけるダイオードの樹脂モールドが行われ
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来の成
形方法は、以下に述べるような問題があった。
形方法は、以下に述べるような問題があった。
【0007】すなわち、全面にメッキ層が形成されてい
るリードフレームにおいて、樹脂モールド部を成形した
後に、ロス樹脂部を除去する際に、リードフレームに融
着しているゲート樹脂は、リードフレームとの密着性が
非常に強く除去しにくいため、ゲート樹脂バリが樹脂モ
ールド部につながった状態で残留する場合が極めて多か
った。
るリードフレームにおいて、樹脂モールド部を成形した
後に、ロス樹脂部を除去する際に、リードフレームに融
着しているゲート樹脂は、リードフレームとの密着性が
非常に強く除去しにくいため、ゲート樹脂バリが樹脂モ
ールド部につながった状態で残留する場合が極めて多か
った。
【0008】また、ゲート樹脂バリの残留にともなっ
て、リードフレームからダイオードを個別に分離した後
の個別ダイオードを搬送する搬送工程等において、ゲー
ト樹脂バリの部位が個別ダイオードを搬送する搬送台上
で搬送詰まり等が著しく多発していた。
て、リードフレームからダイオードを個別に分離した後
の個別ダイオードを搬送する搬送工程等において、ゲー
ト樹脂バリの部位が個別ダイオードを搬送する搬送台上
で搬送詰まり等が著しく多発していた。
【0009】本発明は以上のような状況下で考え出され
たもので、電子部品の樹脂モールド方法において、樹脂
モールドされた電子部品をリードフレームから分離する
に際して、樹脂モールド部にゲート樹脂バリが残留する
ことを無くすとともに、樹脂モールド後の工程における
電子部品の搬送不良を減少し得る、電子部品の樹脂モー
ルド方法を提供することを課題とする。
たもので、電子部品の樹脂モールド方法において、樹脂
モールドされた電子部品をリードフレームから分離する
に際して、樹脂モールド部にゲート樹脂バリが残留する
ことを無くすとともに、樹脂モールド後の工程における
電子部品の搬送不良を減少し得る、電子部品の樹脂モー
ルド方法を提供することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、リードフレーム上に搭載された半導体素
子の樹脂モールド方法において、リードフレームの所定
領域にメッキ層を形成し、該リードフレームのメッキ層
を形成していない領域を樹脂モールド用成形金型のゲー
ト溝に対応する位置に装填して樹脂モールドすることを
特徴とする電子部品の樹脂モールド方法、を提供するも
のである。
決するために、リードフレーム上に搭載された半導体素
子の樹脂モールド方法において、リードフレームの所定
領域にメッキ層を形成し、該リードフレームのメッキ層
を形成していない領域を樹脂モールド用成形金型のゲー
ト溝に対応する位置に装填して樹脂モールドすることを
特徴とする電子部品の樹脂モールド方法、を提供するも
のである。
【0011】
【作用】リードフレームのメッキ層が形成されていない
領域に沿って、成形金型のゲート溝から注入する樹脂
を、リードフレーム上に搭載された半導体素子を樹脂モ
ールドすることにより樹脂モールド部を成形するため
に、前記ゲート溝により成形されるゲート樹脂とリード
フレームとの間の密着性が、メッキ層が形成されている
領域のリードフレームと樹脂モールド部との密着性に比
べて弱いため、リードフレームからゲート樹脂を除去す
る際に、樹脂モールド部にゲート樹脂バリを残留させる
ことなく除去することができる。
領域に沿って、成形金型のゲート溝から注入する樹脂
を、リードフレーム上に搭載された半導体素子を樹脂モ
ールドすることにより樹脂モールド部を成形するため
に、前記ゲート溝により成形されるゲート樹脂とリード
フレームとの間の密着性が、メッキ層が形成されている
領域のリードフレームと樹脂モールド部との密着性に比
べて弱いため、リードフレームからゲート樹脂を除去す
る際に、樹脂モールド部にゲート樹脂バリを残留させる
ことなく除去することができる。
【0012】
【実施例】以下、本発明の一実施例を、ダイオードの樹
脂モールド方法を例にとり、図1乃至図5を参照しつつ
説明する。
脂モールド方法を例にとり、図1乃至図5を参照しつつ
説明する。
【0013】図1は本発明に用いられるリードフレーム
のメッキ層を形成すべき領域とその関連部分を示す。A
は例えばNi−Feから成るリードフレームであり、領
域I(図1中の斜線部)は、Cuメッキ層を形成する部
位であり、領域IIは、メッキ層を形成しない部位であ
る。
のメッキ層を形成すべき領域とその関連部分を示す。A
は例えばNi−Feから成るリードフレームであり、領
域I(図1中の斜線部)は、Cuメッキ層を形成する部
位であり、領域IIは、メッキ層を形成しない部位であ
る。
【0014】すなわち、このリードフレームは、同図に
示すように、リードフレームA上の長手方向に一定間隔
毎にダイオードを配設すべきそれぞれの部位において、
リードフレーム上下面に亘って、ダイオードが樹脂によ
りモールドされる部分であるモールド部Bの幅寸法Cと
同一幅の寸法を有するCuメッキ層を形成すべき領域I
と、ダイオードを配設しない部位としてのメッキ層を形
成しない領域IIとからなるものである。
示すように、リードフレームA上の長手方向に一定間隔
毎にダイオードを配設すべきそれぞれの部位において、
リードフレーム上下面に亘って、ダイオードが樹脂によ
りモールドされる部分であるモールド部Bの幅寸法Cと
同一幅の寸法を有するCuメッキ層を形成すべき領域I
と、ダイオードを配設しない部位としてのメッキ層を形
成しない領域IIとからなるものである。
【0015】このメッキ層形成は、モールド部Bで成形
される樹脂とリードフレームAとの密着性を高めるため
に行うものである。また、この樹脂は、リードフレーム
の領域IIのゲート部Dに沿ってモールド部Bへ注入さ
れる。
される樹脂とリードフレームAとの密着性を高めるため
に行うものである。また、この樹脂は、リードフレーム
の領域IIのゲート部Dに沿ってモールド部Bへ注入さ
れる。
【0016】本実施例では、メッキ層を形成する領域
が、図1に示す領域としているが、ゲート部Dがこのメ
ッキ層を形成する領域以外に位置していれば、これを限
定するものでない。
が、図1に示す領域としているが、ゲート部Dがこのメ
ッキ層を形成する領域以外に位置していれば、これを限
定するものでない。
【0017】また、一つのゲート部Dに沿って二つのモ
ールド部Bへ樹脂が注入されるが、これに限るものでな
い。また、リードフレームの材質はNi−Feである
が、同様に、これに限るものでない。
ールド部Bへ樹脂が注入されるが、これに限るものでな
い。また、リードフレームの材質はNi−Feである
が、同様に、これに限るものでない。
【0018】上記のリードフレームを用いた本発明の樹
脂モールド方法は、以下に示す樹脂モールド装置により
実施される。
脂モールド方法は、以下に示す樹脂モールド装置により
実施される。
【0019】この樹脂モールド装置は、図2及び図3に
示すように、二本のリードフレームA1、A2を装着さ
せるモールド成形用の下金型1と上金型2とからなる。
示すように、二本のリードフレームA1、A2を装着さ
せるモールド成形用の下金型1と上金型2とからなる。
【0020】この下金型1には、その略中心の部位に熱
硬化性合成樹脂の原料タブレットEを充填させる充填室
3と、下金型1に装着させる両リードフレームA1、A
2における各素子a1、a2の箇所にモールド部成形用
に凹み形成されたキャビティー4、5と、充填室3に連
通する凹み形成された分配室6とそれぞれのゲート溝7
を介したキャビティー4、5とをさらに連通させるため
に両リードフレームA1、A2における長手一側縁に沿
って延びるように凹み形成されたランナー溝8、9とが
設けられている。
硬化性合成樹脂の原料タブレットEを充填させる充填室
3と、下金型1に装着させる両リードフレームA1、A
2における各素子a1、a2の箇所にモールド部成形用
に凹み形成されたキャビティー4、5と、充填室3に連
通する凹み形成された分配室6とそれぞれのゲート溝7
を介したキャビティー4、5とをさらに連通させるため
に両リードフレームA1、A2における長手一側縁に沿
って延びるように凹み形成されたランナー溝8、9とが
設けられている。
【0021】これらのリードフレームA1、A2は、下
金型1のキャビティー4、5がリードフレームA1,A
2のCuメッキ層を形成する領域Iに位置し、ゲート溝
7がリードフレームのメッキ層を形成していない領域I
Iに沿ってそれぞれ位置するように下金型1に装着され
る。
金型1のキャビティー4、5がリードフレームA1,A
2のCuメッキ層を形成する領域Iに位置し、ゲート溝
7がリードフレームのメッキ層を形成していない領域I
Iに沿ってそれぞれ位置するように下金型1に装着され
る。
【0022】この樹脂モールド装置を用いて以下のよう
に樹脂モールド方法を実施する。
に樹脂モールド方法を実施する。
【0023】まず、樹脂成形用の下金型1と上金型2と
が型開きしている際に、長手方向に一定ピッチの間隔で
ダイオードを形成した二本のリードフレームA1、A2
を、図2及び図3に示すように、下金型1と上金型2と
の合わせ面に平行に並べた状態で下金型1に装着する。
この際に、前記下金型1には、原料タブレットEが従来
の方法により充填室3に充填されている。次いで、下金
型1を図示しない油圧シリンダの作動により上昇させ
て、下金型1と上金型2とを型閉じさせる。
が型開きしている際に、長手方向に一定ピッチの間隔で
ダイオードを形成した二本のリードフレームA1、A2
を、図2及び図3に示すように、下金型1と上金型2と
の合わせ面に平行に並べた状態で下金型1に装着する。
この際に、前記下金型1には、原料タブレットEが従来
の方法により充填室3に充填されている。次いで、下金
型1を図示しない油圧シリンダの作動により上昇させ
て、下金型1と上金型2とを型閉じさせる。
【0024】その後、前記充填室3内に充填した原料タ
ブレットEを図示しない手段を用いて加熱溶融し、プラ
ンジャー10にて押圧することで、溶融樹脂を分配室6
から各ランナー溝8、9へと注入させる。そして、各ラ
ンナー溝8、9へと注入された溶融樹脂は、更に、リー
ドフレームのメッキ処理されていない下面の領域IIと
接触しつつゲート溝7に沿ってそれぞれのキャビティー
4、5内へ注入し、両リードフレームA1,A2におけ
る各ダイオードa1,a2の各々に樹脂モールド部B
1,B2を成形する。この時、各樹脂モールド部B1、
B2は、リードフレームのCuメッキ層を形成する領域
Iに成形され、一方で、ゲート樹脂D1、D2は、リー
ドフレームのメッキ層を形成していない領域IIに成形
されるのである。
ブレットEを図示しない手段を用いて加熱溶融し、プラ
ンジャー10にて押圧することで、溶融樹脂を分配室6
から各ランナー溝8、9へと注入させる。そして、各ラ
ンナー溝8、9へと注入された溶融樹脂は、更に、リー
ドフレームのメッキ処理されていない下面の領域IIと
接触しつつゲート溝7に沿ってそれぞれのキャビティー
4、5内へ注入し、両リードフレームA1,A2におけ
る各ダイオードa1,a2の各々に樹脂モールド部B
1,B2を成形する。この時、各樹脂モールド部B1、
B2は、リードフレームのCuメッキ層を形成する領域
Iに成形され、一方で、ゲート樹脂D1、D2は、リー
ドフレームのメッキ層を形成していない領域IIに成形
されるのである。
【0025】この成形が終わると、下金型1を上金型2
から離すように上昇させることにより、前記両リードフ
レームA1,A2を、図4に示すように、上下両金型
1、2の間から取り出し、次いで、図5に示すように、
両リードフレームA1,A2の各々を、図示しないエア
ーシリンダの作動により上下一対のクランプ11、12
にて挟んだ状態で、その間におけるラム13を下降動す
ることにより、上述した成形工程に際して前記分配室6
内で成形された板状のロス樹脂部Fと各ランナー溝8、
9内で成形された棒状のロス樹脂部G1,G2とをラム
13で押圧させて両リードフレームA1,A2から上記
ロス樹脂部とゲート樹脂D1,D2とを切り放し除去す
るようにしている。
から離すように上昇させることにより、前記両リードフ
レームA1,A2を、図4に示すように、上下両金型
1、2の間から取り出し、次いで、図5に示すように、
両リードフレームA1,A2の各々を、図示しないエア
ーシリンダの作動により上下一対のクランプ11、12
にて挟んだ状態で、その間におけるラム13を下降動す
ることにより、上述した成形工程に際して前記分配室6
内で成形された板状のロス樹脂部Fと各ランナー溝8、
9内で成形された棒状のロス樹脂部G1,G2とをラム
13で押圧させて両リードフレームA1,A2から上記
ロス樹脂部とゲート樹脂D1,D2とを切り放し除去す
るようにしている。
【0026】この時、ゲート樹脂D1,D2は、リード
フレームのメッキ層を形成していない領域IIに成形さ
れており、樹脂とリードフレーム(材質Ni−Fe)と
の密着性は、樹脂とCuメッキ層を形成するリードフレ
ームとの密着性に比べ劣るために、上記除去作業におい
て、リードフレームA1,A2からゲート樹脂D1,D
2のみを確実に除去して樹脂モールド部B1、B2から
切り放すことが容易になるのである。
フレームのメッキ層を形成していない領域IIに成形さ
れており、樹脂とリードフレーム(材質Ni−Fe)と
の密着性は、樹脂とCuメッキ層を形成するリードフレ
ームとの密着性に比べ劣るために、上記除去作業におい
て、リードフレームA1,A2からゲート樹脂D1,D
2のみを確実に除去して樹脂モールド部B1、B2から
切り放すことが容易になるのである。
【0027】以上のような工程を繰り返し行い、順次リ
ードフレーム上のダイオードにゲート樹脂バリの残留し
ない、樹脂モールド部を成形していく。
ードフレーム上のダイオードにゲート樹脂バリの残留し
ない、樹脂モールド部を成形していく。
【0028】本発明においては、リードフレームに対
し、Cuメッキ層の形成を行っているが、これに限るも
のでなく、メッキ層を形成していない領域のリードフレ
ームと樹脂との密着性に比べて優れているものであれ
ば、これを限定するものでない。
し、Cuメッキ層の形成を行っているが、これに限るも
のでなく、メッキ層を形成していない領域のリードフレ
ームと樹脂との密着性に比べて優れているものであれ
ば、これを限定するものでない。
【0029】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、電子部
品を樹脂モールドする際に、リードフレームを、そのメ
ッキ層を形成しない領域を成形金型におけるゲート溝に
対応する位置に装填しているので、以下のような効果を
奏する。
品を樹脂モールドする際に、リードフレームを、そのメ
ッキ層を形成しない領域を成形金型におけるゲート溝に
対応する位置に装填しているので、以下のような効果を
奏する。
【0030】(a) 電子部品の樹脂モールド後、ゲート溝
において成形されるゲート樹脂は、リードフレームのメ
ッキ層を形成していない領域に融着されているので、リ
ードフレームのメッキ層を形成する領域に融着されてい
るモールド樹脂に比べ、リードフレームとの密着性が弱
いので、該リードフレームからゲート樹脂を除去しやす
く、ゲート樹脂バリが樹脂モールド部に残留することが
著しく減少する。
において成形されるゲート樹脂は、リードフレームのメ
ッキ層を形成していない領域に融着されているので、リ
ードフレームのメッキ層を形成する領域に融着されてい
るモールド樹脂に比べ、リードフレームとの密着性が弱
いので、該リードフレームからゲート樹脂を除去しやす
く、ゲート樹脂バリが樹脂モールド部に残留することが
著しく減少する。
【0031】(b) ゲート樹脂バリの残留が著しく減少す
るために、リードフレームから電子部品を個別に分離し
た後の搬送工程や把持工程において、ゲート樹脂バリに
よる搬送詰まりや把持不良が著しく減少する。
るために、リードフレームから電子部品を個別に分離し
た後の搬送工程や把持工程において、ゲート樹脂バリに
よる搬送詰まりや把持不良が著しく減少する。
【図1】本発明に用いるリードフレームの被メッキ領域
とこのリードフレーム上の半導体素子を樹脂モールドす
る際の樹脂の注入路を示す背面図である。
とこのリードフレーム上の半導体素子を樹脂モールドす
る際の樹脂の注入路を示す背面図である。
【図2】本発明に用いるリードフレームが装填された樹
脂成形下金型を示す平面図である。
脂成形下金型を示す平面図である。
【図3】本発明に用いるリードフレームが装填された樹
脂成形金型を示すX−X視断面図である。
脂成形金型を示すX−X視断面図である。
【図4】本発明に用いるリードフレームに樹脂モールド
部を成形したあとの平面図である。
部を成形したあとの平面図である。
【図5】本発明に用いるリードフレームに樹脂モールド
部を成形したあとのY−Y視断面図である。
部を成形したあとのY−Y視断面図である。
1 下金型1 2 上金型 3 充填室 4 キャビティー 5 キャビティー 6 分配室 7 ゲート溝 8 ランナー溝 9 ランナー溝 10 プランジャー 11 クランプ 12 クランプ 13 ラム A リードフレーム B モールド部 D ゲート部 E タブレット F ロス樹脂部 H ロス樹脂部 I メッキ処理領域 II 非メッキ処理領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/28 A 8617−4M 23/48 F // B29L 31:34
Claims (1)
- 【請求項1】 リードフレーム上に搭載された半導体素
子の樹脂モールド方法において、 前記リードフレームの所定領域にメッキ層を形成し、該
リードフレームのメッキ層を形成していない領域を樹脂
モールド用成形金型のゲート溝に対応する位置に装填し
て樹脂モールドすることを特徴とする電子部品の樹脂モ
ールド方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5180160A JPH0732408A (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 電子部品の樹脂モールド方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5180160A JPH0732408A (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 電子部品の樹脂モールド方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0732408A true JPH0732408A (ja) | 1995-02-03 |
Family
ID=16078453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5180160A Pending JPH0732408A (ja) | 1993-07-21 | 1993-07-21 | 電子部品の樹脂モールド方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0732408A (ja) |
-
1993
- 1993-07-21 JP JP5180160A patent/JPH0732408A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4442056A (en) | Encapsulation mold with gate plate and method of using same | |
| US20080020510A1 (en) | Fabrication method of semiconductor device | |
| EP0101630B1 (en) | Method and system for encapsulating electronic components into plastic material | |
| EP1100122A2 (en) | Die used for resin-sealing and molding an electronic component | |
| JPWO2002011966A1 (ja) | 成形金型クリーニング用シートおよびそれを用いた半導体装置の製造方法 | |
| JP2567603B2 (ja) | 連続自動樹脂封止方法 | |
| CN100511609C (zh) | 电子元件的树脂密封成形方法及装置 | |
| JPH0732408A (ja) | 電子部品の樹脂モールド方法 | |
| JPH0738405B2 (ja) | 発光ダイオードの製造装置 | |
| JP4202632B2 (ja) | 一括封止型半導体パッケージの樹脂封止構造およびその製造装置 | |
| US5071612A (en) | Method for sealingly molding semiconductor electronic components | |
| CN100511610C (zh) | 电子元件的树脂密封成形方法及装置 | |
| JPH08288326A (ja) | 電子部品の樹脂封止成形方法及び金型 | |
| CN113410143A (zh) | 一种面板式塑封模具及其封装方法 | |
| JPH11330112A (ja) | 半導体装置の製造方法およびトランスファモールド装置 | |
| JPS5933838A (ja) | 半導体樹脂封止用金型装置 | |
| JPH1187433A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JPH0637129A (ja) | モールド金型、リードフレーム及び半導体装置の製造方法 | |
| JP2004179283A (ja) | 樹脂成形用金型への供給方法と取出方法及び供給機構と取出機構 | |
| JPH0153501B2 (ja) | ||
| JP3575592B2 (ja) | リードフレーム組立体の樹脂モールド用成形型及び樹脂モールド成形法 | |
| JPH058106Y2 (ja) | ||
| JPH07137082A (ja) | 樹脂成形用金型 | |
| JPH01297225A (ja) | 電子部品の樹脂封止成形方法とその成形用金型 | |
| JP2998077B2 (ja) | 電子部品の樹脂封止成形方法及び金型 |