JPH07326320A - イオン注入装置のメンテナンス方法 - Google Patents
イオン注入装置のメンテナンス方法Info
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- JPH07326320A JPH07326320A JP6138091A JP13809194A JPH07326320A JP H07326320 A JPH07326320 A JP H07326320A JP 6138091 A JP6138091 A JP 6138091A JP 13809194 A JP13809194 A JP 13809194A JP H07326320 A JPH07326320 A JP H07326320A
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- JP
- Japan
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- source chamber
- ion
- residual gas
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- Pending
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 23
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- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
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- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 イオン源をイオン源チャンバーから取り外す
際に、イオン源チャンバーから残留ガスがその周りの大
気中に放出されるのを防止することができるメンテナン
ス方法を提供する。 【構成】 イオン源チャンバー４に排気管２６、２８等
を介して排気装置３４を接続し、イオン源チャンバー４
内を大気圧状態に戻した状態で、排気装置３４によって
イオン源チャンバー４内の残留ガス２０を排気ダクト４
２へ強制的に排出しながら、イオン源２をイオン源チャ
ンバー４から取り外す。
際に、イオン源チャンバーから残留ガスがその周りの大
気中に放出されるのを防止することができるメンテナン
ス方法を提供する。 【構成】 イオン源チャンバー４に排気管２６、２８等
を介して排気装置３４を接続し、イオン源チャンバー４
内を大気圧状態に戻した状態で、排気装置３４によって
イオン源チャンバー４内の残留ガス２０を排気ダクト４
２へ強制的に排出しながら、イオン源２をイオン源チャ
ンバー４から取り外す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、イオン源を真空に排
気されるイオン源チャンバーに着脱可能に取り付けてい
るイオン注入装置においてイオン源をイオン源チャンバ
ーから取り外してメンテナンスを行うメンテナンス方法
に関し、より具体的には、イオン源をイオン源チャンバ
ーから取り外す際に、イオン源チャンバー内の残留ガス
がその周りの大気中に放出されるのを防止する方法に関
する。
気されるイオン源チャンバーに着脱可能に取り付けてい
るイオン注入装置においてイオン源をイオン源チャンバ
ーから取り外してメンテナンスを行うメンテナンス方法
に関し、より具体的には、イオン源をイオン源チャンバ
ーから取り外す際に、イオン源チャンバー内の残留ガス
がその周りの大気中に放出されるのを防止する方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】図２は、イオン注入装置の一例を部分的
に示す概略図である。
に示す概略図である。
【０００３】このイオン注入装置においては、イオンビ
ームを射出するイオン源２は、イオン源チャンバー４
に、矢印Ａの部分で着脱可能に取り付けられている。
ームを射出するイオン源２は、イオン源チャンバー４
に、矢印Ａの部分で着脱可能に取り付けられている。
【０００４】イオン源チャンバー４は、真空弁６を介し
て、図示しない質量分析電磁石等につながる接続管８に
接続されている。このイオン源チャンバー４または接続
管８には、図示しない主ポンプが接続されており、これ
によって、イオン源チャンバー４内は所要の真空度（例
えば１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度）に排気される。
て、図示しない質量分析電磁石等につながる接続管８に
接続されている。このイオン源チャンバー４または接続
管８には、図示しない主ポンプが接続されており、これ
によって、イオン源チャンバー４内は所要の真空度（例
えば１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度）に排気される。
【０００５】イオン源チャンバー４には、粗引き・ベン
ト配管１０が接続されている。この粗引き・ベント配管
１０には、粗引き弁１２を介して、図示しない粗引きポ
ンプが接続されており、これによって、イオン源チャン
バー４内を上記主ポンプが動作可能になる圧力まで排気
することができる。またこのイオン源チャンバー４に
は、ベント弁１４が接続されており、イオン源チャンバ
ー４内を大気圧状態に戻す際は、このベント弁１４を経
由してイオン源チャンバー４内に窒素ガス等のベントガ
スを導入することができる。
ト配管１０が接続されている。この粗引き・ベント配管
１０には、粗引き弁１２を介して、図示しない粗引きポ
ンプが接続されており、これによって、イオン源チャン
バー４内を上記主ポンプが動作可能になる圧力まで排気
することができる。またこのイオン源チャンバー４に
は、ベント弁１４が接続されており、イオン源チャンバ
ー４内を大気圧状態に戻す際は、このベント弁１４を経
由してイオン源チャンバー４内に窒素ガス等のベントガ
スを導入することができる。
【０００６】上記イオン源２およびイオン源チャンバー
４等は、この例では台車１６に乗せられて、大地電位部
から高電圧（例えば数十ＫＶ〜数百ＫＶ）の加速電圧が
印加される高電圧ボックス１８内に収納されている。
４等は、この例では台車１６に乗せられて、大地電位部
から高電圧（例えば数十ＫＶ〜数百ＫＶ）の加速電圧が
印加される高電圧ボックス１８内に収納されている。
【０００７】イオン源２から引き出されたイオンビーム
は、接続管８内を通り、上記質量分析電磁石等を経由し
て、下流側のターゲット（例えばウェーハ。図示省略）
に照射され、当該ターゲットに対するイオン注入が行わ
れる。
は、接続管８内を通り、上記質量分析電磁石等を経由し
て、下流側のターゲット（例えばウェーハ。図示省略）
に照射され、当該ターゲットに対するイオン注入が行わ
れる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記イオン源２は、パ
ーティクル（微小なゴミ）除去等のために、時々、イオ
ン源チャンバー４から取り外してメンテナンス（保守点
検等の作業）を行う必要がある。その場合は、通常は真
空状態にあるイオン源チャンバー４内にベントガスを導
入してイオン源チャンバー４内を大気圧状態に戻した
後、イオン源２を、矢印Ａに示す個所でイオン源チャン
バー４から取り外してメンテナンスを行う。
ーティクル（微小なゴミ）除去等のために、時々、イオ
ン源チャンバー４から取り外してメンテナンス（保守点
検等の作業）を行う必要がある。その場合は、通常は真
空状態にあるイオン源チャンバー４内にベントガスを導
入してイオン源チャンバー４内を大気圧状態に戻した
後、イオン源２を、矢印Ａに示す個所でイオン源チャン
バー４から取り外してメンテナンスを行う。
【０００９】ところが、イオン源２を取り外すときに、
イオン注入時にイオン源２に供給したイオン源ガス（例
えばＢＦ3 、ＡsＨ3 、ＰＨ3 等）の残留分である残留
ガス２０が、イオン源チャンバー４からその周りの大気
中に放出され、この残留ガス２０の臭気がその付近に漂
い、これが作業者に不快感を与えるという問題がある。
イオン注入時にイオン源２に供給したイオン源ガス（例
えばＢＦ3 、ＡsＨ3 、ＰＨ3 等）の残留分である残留
ガス２０が、イオン源チャンバー４からその周りの大気
中に放出され、この残留ガス２０の臭気がその付近に漂
い、これが作業者に不快感を与えるという問題がある。
【００１０】そこでこの発明は、イオン源をイオン源チ
ャンバーから取り外す際に、イオン源チャンバーから残
留ガスがその周りの大気中に放出されるのを防止するこ
とができるメンテナンス方法を提供することを主たる目
的とする。
ャンバーから取り外す際に、イオン源チャンバーから残
留ガスがその周りの大気中に放出されるのを防止するこ
とができるメンテナンス方法を提供することを主たる目
的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のメンテナンス方法は、イオン源を真空に
排気されるイオン源チャンバーに着脱可能に取り付けて
いるイオン注入装置においてイオン源をイオン源チャン
バーから取り外してメンテナンスを行う際に、イオン源
チャンバーに排気装置を接続し、イオン源チャンバー内
を大気圧状態に戻した状態で、排気装置によってイオン
源チャンバー内の残留ガスを他の場所へ強制的に排出し
ながら、イオン源をイオン源チャンバーから取り外すこ
とを特徴とする。
め、この発明のメンテナンス方法は、イオン源を真空に
排気されるイオン源チャンバーに着脱可能に取り付けて
いるイオン注入装置においてイオン源をイオン源チャン
バーから取り外してメンテナンスを行う際に、イオン源
チャンバーに排気装置を接続し、イオン源チャンバー内
を大気圧状態に戻した状態で、排気装置によってイオン
源チャンバー内の残留ガスを他の場所へ強制的に排出し
ながら、イオン源をイオン源チャンバーから取り外すこ
とを特徴とする。
【００１２】
【作用】上記方法によれば、イオン源をイオン源チャン
バーから取り外す際に、イオン源チャンバー内の残留ガ
スは排気装置によって強制的に他の場所へ排出されるの
で、イオン源チャンバーから残留ガスがその周りの大気
中に放出されるのを防止することができる。
バーから取り外す際に、イオン源チャンバー内の残留ガ
スは排気装置によって強制的に他の場所へ排出されるの
で、イオン源チャンバーから残留ガスがその周りの大気
中に放出されるのを防止することができる。
【００１３】
【実施例】図１は、この発明に係るメンテナンス方法を
実施するイオン注入装置の一例を部分的に示す概略図で
ある。図２の例と同一または相当する部分には同一符号
を付し、以下においてはそれとの相違点を主に説明す
る。
実施するイオン注入装置の一例を部分的に示す概略図で
ある。図２の例と同一または相当する部分には同一符号
を付し、以下においてはそれとの相違点を主に説明す
る。
【００１４】この例では、前述した粗引き・ベント配管
１０にＴ字状に分岐部２２を設け、それに手動弁２４を
介して、排気管２６を接続している。この排気管２６
は、例えばホースのようなフレキシブルなものとするの
が、取り扱いやすいので好ましい。
１０にＴ字状に分岐部２２を設け、それに手動弁２４を
介して、排気管２６を接続している。この排気管２６
は、例えばホースのようなフレキシブルなものとするの
が、取り扱いやすいので好ましい。
【００１５】また、大地電位部に排気装置３４を設けて
おり、その吸入口３６に接続した排気管２８を、接続部
３０によって、上記排気管２６に着脱可能に接続するこ
とができるようにしている。排気管２８も、例えばホー
スのようなフレシキブルなものとするのが、取り扱いや
すいので好ましい。接続部３０には、この例では、排気
管２６と２８とが確実に接続されたことを検出するスイ
ッチ３２が設けられているが、これは無くても良い。
おり、その吸入口３６に接続した排気管２８を、接続部
３０によって、上記排気管２６に着脱可能に接続するこ
とができるようにしている。排気管２８も、例えばホー
スのようなフレシキブルなものとするのが、取り扱いや
すいので好ましい。接続部３０には、この例では、排気
管２６と２８とが確実に接続されたことを検出するスイ
ッチ３２が設けられているが、これは無くても良い。
【００１６】排気装置３４の排気口３８は、この例で
は、排気管４０を経由して、このイオン注入装置に設置
されている建物内に設けられている排気ダクト４２に接
続している。
は、排気管４０を経由して、このイオン注入装置に設置
されている建物内に設けられている排気ダクト４２に接
続している。
【００１７】イオン注入を行うときは、前述したように
高電圧ボックス１８には高電圧が印加されるので、電気
絶縁のために、接続部３０を切り離しておく。
高電圧ボックス１８には高電圧が印加されるので、電気
絶縁のために、接続部３０を切り離しておく。
【００１８】イオン源２をイオン源チャンバー４から取
り外して当該イオン源２のメンテナンスを行う際は、例
えば次の手順で作業を行う。なお、メンテナンス時は、
当然のことながら、高電圧ボックス１８への電圧印加は
中止されている。
り外して当該イオン源２のメンテナンスを行う際は、例
えば次の手順で作業を行う。なお、メンテナンス時は、
当然のことながら、高電圧ボックス１８への電圧印加は
中止されている。
【００１９】まず、真空弁６を閉じ、ベント弁１４を開
いて、ベントガスをイオン源チャンバー４内に導入し
て、イオン源チャンバー４内を大気圧状態に戻す。
いて、ベントガスをイオン源チャンバー４内に導入し
て、イオン源チャンバー４内を大気圧状態に戻す。
【００２０】次いで、接続部３０で排気管２６と排気管
２８とを接続する。これによって、イオン源チャンバー
４に排気装置３４を接続したことになる。その状態で排
気装置３４を作動させ、そして手動弁２４を開く。
２８とを接続する。これによって、イオン源チャンバー
４に排気装置３４を接続したことになる。その状態で排
気装置３４を作動させ、そして手動弁２４を開く。
【００２１】これによって、メンテナンス時にイオン源
チャンバー４内に前述したような残留ガス２０が残って
いても、当該残留ガス２０は、排気管２６および２８を
経由して排気装置３４に吸引され、かつ排気管４０を経
由して排気ダクト４２へ強制的に排出される。
チャンバー４内に前述したような残留ガス２０が残って
いても、当該残留ガス２０は、排気管２６および２８を
経由して排気装置３４に吸引され、かつ排気管４０を経
由して排気ダクト４２へ強制的に排出される。
【００２２】従って、メンテナンス時に、イオン源チャ
ンバー４から残留ガス２０がその周りの大気中に放出さ
れるのを防止することができる。その結果、残留ガス２
０の臭気によって作業者に不快感を与えるのを防止する
ことができ、良好な環境下でのメンテナンス作業が可能
になる。
ンバー４から残留ガス２０がその周りの大気中に放出さ
れるのを防止することができる。その結果、残留ガス２
０の臭気によって作業者に不快感を与えるのを防止する
ことができ、良好な環境下でのメンテナンス作業が可能
になる。
【００２３】なお、イオン源チャンバー４内の残留ガス
２０は、少なくとも他の場所へ、例えばメンテナンスの
作業者のいない所へ、排気装置３４によって強制的に排
出すれば上記効果を奏することができるが、この残留ガ
ス２０の排出を排気ダクト４２へ行えば、残留ガス２０
をより確実かつ安全に処理することができる。
２０は、少なくとも他の場所へ、例えばメンテナンスの
作業者のいない所へ、排気装置３４によって強制的に排
出すれば上記効果を奏することができるが、この残留ガ
ス２０の排出を排気ダクト４２へ行えば、残留ガス２０
をより確実かつ安全に処理することができる。
【００２４】また、メンテナンス時に、イオン源チャン
バー４内を大気圧状態に戻すことおよび接続部３０を接
続すること等の順序は、必ずしも上述した順序に限られ
るものではなく、要は、イオン源チャンバー４内を大気
圧状態に戻した状態で、排気装置３４によってイオン源
チャンバー４内を排気することができれば良い。
バー４内を大気圧状態に戻すことおよび接続部３０を接
続すること等の順序は、必ずしも上述した順序に限られ
るものではなく、要は、イオン源チャンバー４内を大気
圧状態に戻した状態で、排気装置３４によってイオン源
チャンバー４内を排気することができれば良い。
【００２５】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、イオン
源をイオン源チャンバーから取り外す際に、イオン源チ
ャンバー内の残留ガスは排気装置によって強制的に他の
場所へ排出されるので、イオン源チャンバーから残留ガ
スがその周りの大気中に放出されるのを防止することが
できる。その結果、残留ガスの臭気によって作業者に不
快感を与えるのを防止することができ、良好な環境下で
のメンテナンス作業が可能になる。
源をイオン源チャンバーから取り外す際に、イオン源チ
ャンバー内の残留ガスは排気装置によって強制的に他の
場所へ排出されるので、イオン源チャンバーから残留ガ
スがその周りの大気中に放出されるのを防止することが
できる。その結果、残留ガスの臭気によって作業者に不
快感を与えるのを防止することができ、良好な環境下で
のメンテナンス作業が可能になる。
【００２６】また、排気装置によってイオン源チャンバ
ー内の残留ガスを排気ダクトへ強制的に排出すれば、残
留ガスをより確実かつ安全に処理することができる。
ー内の残留ガスを排気ダクトへ強制的に排出すれば、残
留ガスをより確実かつ安全に処理することができる。
【図１】この発明に係るメンテナンス方法を実施するイ
オン注入装置の一例を部分的に示す概略図である。
オン注入装置の一例を部分的に示す概略図である。
【図２】イオン注入装置の一例を部分的に示す概略図で
ある。
ある。
２ イオン源 ４ イオン源チャンバー ２０ 残留ガス ２６，２８ 排気管 ３０ 接続部 ３４ 排気装置 ４０ 排気管 ４２ 排気ダクト
Claims (2)
- 【請求項１】 イオン源を真空に排気されるイオン源チ
ャンバーに着脱可能に取り付けているイオン注入装置に
おいてイオン源をイオン源チャンバーから取り外してメ
ンテナンスを行う際に、イオン源チャンバーに排気装置
を接続し、イオン源チャンバー内を大気圧状態に戻した
状態で、排気装置によってイオン源チャンバー内の残留
ガスを他の場所へ強制的に排出しながら、イオン源をイ
オン源チャンバーから取り外すことを特徴とするイオン
注入装置のメンテナンス方法。 - 【請求項２】 前記排気装置によってイオン源チャンバ
ー内の残留ガスを排気ダクトへ強制的に排出する請求項
１記載のイオン注入装置のメンテナンス方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6138091A JPH07326320A (ja) | 1994-05-27 | 1994-05-27 | イオン注入装置のメンテナンス方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6138091A JPH07326320A (ja) | 1994-05-27 | 1994-05-27 | イオン注入装置のメンテナンス方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07326320A true JPH07326320A (ja) | 1995-12-12 |
Family
ID=15213747
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6138091A Pending JPH07326320A (ja) | 1994-05-27 | 1994-05-27 | イオン注入装置のメンテナンス方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07326320A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017528000A (ja) * | 2014-09-05 | 2017-09-21 | ホワ キム，テ | 半導体製造チャンバー用のヒューム除去装置 |
-
1994
- 1994-05-27 JP JP6138091A patent/JPH07326320A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017528000A (ja) * | 2014-09-05 | 2017-09-21 | ホワ キム，テ | 半導体製造チャンバー用のヒューム除去装置 |
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