JPH07330648A - ビスフェノールａの製造方法 - Google Patents
ビスフェノールａの製造方法Info
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- JPH07330648A JPH07330648A JP13212494A JP13212494A JPH07330648A JP H07330648 A JPH07330648 A JP H07330648A JP 13212494 A JP13212494 A JP 13212494A JP 13212494 A JP13212494 A JP 13212494A JP H07330648 A JPH07330648 A JP H07330648A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ビスフェノールＡとフェノールとの付加物結
晶を、温度７０℃〜９８℃で不活性気体と接触させるこ
とにより、固体状態のままアダクトからフェノールを分
離除去してビスフェノールＡを得ることを特徴とするビ
スフェノールＡの製造方法。 【効果】 簡易な方法で、且つ、高純度で色相の良いビ
スフェノールＡを製造することができる。
晶を、温度７０℃〜９８℃で不活性気体と接触させるこ
とにより、固体状態のままアダクトからフェノールを分
離除去してビスフェノールＡを得ることを特徴とするビ
スフェノールＡの製造方法。 【効果】 簡易な方法で、且つ、高純度で色相の良いビ
スフェノールＡを製造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビスフェノールＡとフ
ェノールとの付加物結晶からフェノールを分離除去して
無色で高純度のビスフェノールＡを得る方法に関する。
ビスフェノールＡはエポキシ樹脂やポリカーボネート樹
脂の原料として有用な化合物である。
ェノールとの付加物結晶からフェノールを分離除去して
無色で高純度のビスフェノールＡを得る方法に関する。
ビスフェノールＡはエポキシ樹脂やポリカーボネート樹
脂の原料として有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】ビスフェノールＡ〔２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン〕は、一般に、フェノー
ルとアセトンを酸性触媒の存在下に反応させて得られた
生成物からビスフェノールＡとフェノールとの等モルの
付加物結晶（アダクト）を析出させ、得られたアダクト
からフェノールを除去することにより製造される。一
方、ビスフェノールＡを原料とする樹脂の高品質化の要
求に応えるために、無色で高純度のビスフェノールＡが
必要とされている。
ヒドロキシフェニル）プロパン〕は、一般に、フェノー
ルとアセトンを酸性触媒の存在下に反応させて得られた
生成物からビスフェノールＡとフェノールとの等モルの
付加物結晶（アダクト）を析出させ、得られたアダクト
からフェノールを除去することにより製造される。一
方、ビスフェノールＡを原料とする樹脂の高品質化の要
求に応えるために、無色で高純度のビスフェノールＡが
必要とされている。
【０００３】上記の方法において、製品ビスフェノール
Ａの純度及び色相は、アダクトからの脱フェノールの過
程にも依存するため、純度、色相を悪化させることなく
ビスフェノールＡを分離する方法として、例えば、溶融
させたアダクトを１８０℃以上で減圧下に０．１〜３０
分間気化させて、ビスフェノールＡとフェノールを分別
凝縮させる方法（特公昭５２−４２７９０号公報）や、
減圧蒸留、水蒸気ストリッピング等により製造する方法
が検討されている。しかし、これらの方法は、アダクト
の溶融温度以上で処理するためイソプロペニルフェノー
ル等の着色原因物質が生成する等により、製品ビスフェ
ノールＡの色相の悪化を十分抑えることができないとい
う問題がある。
Ａの純度及び色相は、アダクトからの脱フェノールの過
程にも依存するため、純度、色相を悪化させることなく
ビスフェノールＡを分離する方法として、例えば、溶融
させたアダクトを１８０℃以上で減圧下に０．１〜３０
分間気化させて、ビスフェノールＡとフェノールを分別
凝縮させる方法（特公昭５２−４２７９０号公報）や、
減圧蒸留、水蒸気ストリッピング等により製造する方法
が検討されている。しかし、これらの方法は、アダクト
の溶融温度以上で処理するためイソプロペニルフェノー
ル等の着色原因物質が生成する等により、製品ビスフェ
ノールＡの色相の悪化を十分抑えることができないとい
う問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ビスフェノ
ールＡとフェノールとの付加物結晶から、簡易な方法
で、且つ、高純度で色相の良いビスフェノールＡを製造
する方法を提供しようとするものである。
ールＡとフェノールとの付加物結晶から、簡易な方法
で、且つ、高純度で色相の良いビスフェノールＡを製造
する方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、ビスフェノー
ルＡとフェノールとの付加物結晶を、温度７０℃〜９８
℃で、不活性気体と接触させて脱フェノールすることを
特徴とする、高純度で色相の良い、ビスフェノールＡの
製造方法を提供するものである。
ルＡとフェノールとの付加物結晶を、温度７０℃〜９８
℃で、不活性気体と接触させて脱フェノールすることを
特徴とする、高純度で色相の良い、ビスフェノールＡの
製造方法を提供するものである。
【０００６】ビスフェノールＡとフェノールとの付加物
結晶は、通常、過剰のフェノールとアセトンを酸性触媒
の存在下で反応させて得られるビスフェノールＡを含む
反応生成物を晶析処理することによって得る。この付加
物結晶（アダクト）は１モルのビスフェノールＡに対し
約１モルのフェノールが付加した結晶であり、濾別後の
フェノール含有量は理論値約２９重量％であるが、結晶
表面への母液の付着等によりフェノール含有量は増加す
るので、一般に、２９〜５０重量％である。
結晶は、通常、過剰のフェノールとアセトンを酸性触媒
の存在下で反応させて得られるビスフェノールＡを含む
反応生成物を晶析処理することによって得る。この付加
物結晶（アダクト）は１モルのビスフェノールＡに対し
約１モルのフェノールが付加した結晶であり、濾別後の
フェノール含有量は理論値約２９重量％であるが、結晶
表面への母液の付着等によりフェノール含有量は増加す
るので、一般に、２９〜５０重量％である。
【０００７】アダクトは針状結晶であり、一般に、長さ
０．０５〜２．０ｍｍ、幅０．０１〜０．５ｍｍ、好ま
しくは、長さ０．１〜１．５ｍｍ、幅０．１〜０．３ｍ
ｍの結晶を本発明の方法に供する。結晶が小さすぎると
付着している晶析母液に含まれる不純物の除去が困難に
なるので好ましくなく、又、大きな結晶は、晶析処理の
効率低下をまねくので、工業的な方法としては適さな
い。
０．０５〜２．０ｍｍ、幅０．０１〜０．５ｍｍ、好ま
しくは、長さ０．１〜１．５ｍｍ、幅０．１〜０．３ｍ
ｍの結晶を本発明の方法に供する。結晶が小さすぎると
付着している晶析母液に含まれる不純物の除去が困難に
なるので好ましくなく、又、大きな結晶は、晶析処理の
効率低下をまねくので、工業的な方法としては適さな
い。
【０００８】又、必要に応じてアダクト結晶を精製フェ
ノールで洗浄処理して純度及び色相を向上させることが
でき、アダクトの色相は溶融色１５ＡＰＨＡ以下である
ことが望ましく、精製フェノールの溶融色相が５ＡＰＨ
Ａ以下であればアダクトに付着していても得られるビス
フェノールＡの色相を特に悪化させることはない。
ノールで洗浄処理して純度及び色相を向上させることが
でき、アダクトの色相は溶融色１５ＡＰＨＡ以下である
ことが望ましく、精製フェノールの溶融色相が５ＡＰＨ
Ａ以下であればアダクトに付着していても得られるビス
フェノールＡの色相を特に悪化させることはない。
【０００９】不活性気体としては、ヘリウム、窒素、ア
ルゴン等の、処理温度においてビスフェノールＡに対し
反応性を有しない気体であり、窒素を用いるのが一般的
である。アダクトに不活性気体を接触させてフェノール
を除去する温度は、７０〜９８℃、好ましくは８０〜９
５℃である。低温ではフェノールの除去速度が遅いため
効率が悪く、９８℃を超える高温ではアダクトが融解し
て不活性気体の流通が困難になり接触処理圧力が上昇
し、又、色相も悪化するので好ましくない。加熱方法
は、不活性気体を加熱して接触させる直接加熱でも、間
接加熱でも、これらの併用であってもよい。
ルゴン等の、処理温度においてビスフェノールＡに対し
反応性を有しない気体であり、窒素を用いるのが一般的
である。アダクトに不活性気体を接触させてフェノール
を除去する温度は、７０〜９８℃、好ましくは８０〜９
５℃である。低温ではフェノールの除去速度が遅いため
効率が悪く、９８℃を超える高温ではアダクトが融解し
て不活性気体の流通が困難になり接触処理圧力が上昇
し、又、色相も悪化するので好ましくない。加熱方法
は、不活性気体を加熱して接触させる直接加熱でも、間
接加熱でも、これらの併用であってもよい。
【００１０】不活性気体をアダクトに接触させる方法と
しては、回分法でも連続法でもよく、連続法の場合は向
流操作でも並流操作でもよい。具体的には、一般に粉粒
体の乾燥に用いられる各種の方法が適用でき、例えば、
箱型乾燥器、充填型乾燥器、回転乾燥器、流動層乾燥
器、気流乾燥器等によりアダクトに連続的に不活性気体
を通気接触させる方法、不活性気体流通下にアダクトを
供給し気流中に分散させる噴霧乾燥器類似の方法等によ
り行うことができる。
しては、回分法でも連続法でもよく、連続法の場合は向
流操作でも並流操作でもよい。具体的には、一般に粉粒
体の乾燥に用いられる各種の方法が適用でき、例えば、
箱型乾燥器、充填型乾燥器、回転乾燥器、流動層乾燥
器、気流乾燥器等によりアダクトに連続的に不活性気体
を通気接触させる方法、不活性気体流通下にアダクトを
供給し気流中に分散させる噴霧乾燥器類似の方法等によ
り行うことができる。
【００１１】アダクトに接触させる不活性気体の流通量
と接触時間は、アダクトの大きさ、フェノール含有量、
温度、接触方法等により変わるが、回分式充填型乾燥器
で行う場合、アダクト１Ｋｇ当たり、０．１〜２００Ｎ
ｍ3 ／Ｈｒ、好ましくは０．５〜５０Ｎｍ3 ／Ｈｒで、
又、回分式流動層乾燥器で行う場合は、流動層底面積１
ｍ2 当たり、１０〜５０００Ｎｍ3 ／Ｈｒ、好ましくは
１００〜３０００Ｎｍ 3 ／Ｈｒで、接触時間は流通量が
多いほど、又、温度が高いほど短いが、流動層静止時層
高さ０．１ｍの場合、０．２分〜５０時間、好ましくは
２分〜２０時間である。連続法の場合は、予備実験によ
って脱フェノール特性を推定し、乾燥特性曲線を求めて
おくことが望ましい。
と接触時間は、アダクトの大きさ、フェノール含有量、
温度、接触方法等により変わるが、回分式充填型乾燥器
で行う場合、アダクト１Ｋｇ当たり、０．１〜２００Ｎ
ｍ3 ／Ｈｒ、好ましくは０．５〜５０Ｎｍ3 ／Ｈｒで、
又、回分式流動層乾燥器で行う場合は、流動層底面積１
ｍ2 当たり、１０〜５０００Ｎｍ3 ／Ｈｒ、好ましくは
１００〜３０００Ｎｍ 3 ／Ｈｒで、接触時間は流通量が
多いほど、又、温度が高いほど短いが、流動層静止時層
高さ０．１ｍの場合、０．２分〜５０時間、好ましくは
２分〜２０時間である。連続法の場合は、予備実験によ
って脱フェノール特性を推定し、乾燥特性曲線を求めて
おくことが望ましい。
【００１２】不活性気体の流通圧力は、用いる乾燥器の
使用可能圧力範囲によって定まるが、一般的な乾燥器を
使用する場合、絶対圧力で０．２〜５Ｋｇ／ｃｍ2 であ
る。不活性気体と共に蒸発したフェノールは、冷却、吸
収、膜分離等により気流から分離回収され、ビスフェノ
ールＡ製造の反応系あるいは晶析系へ循環再使用するこ
とができる。
使用可能圧力範囲によって定まるが、一般的な乾燥器を
使用する場合、絶対圧力で０．２〜５Ｋｇ／ｃｍ2 であ
る。不活性気体と共に蒸発したフェノールは、冷却、吸
収、膜分離等により気流から分離回収され、ビスフェノ
ールＡ製造の反応系あるいは晶析系へ循環再使用するこ
とができる。
【００１３】
【作用】本発明の方法によりアダクトから脱フェノール
が行われる機構は明確ではないが、アダクトの熱重量測
定（ＴＧ）に於いて６０〜１１０℃の範囲に急激なフェ
ノールの重量減少がみられること、アダクトと生成ビス
フェノールＡのＸ線回折測定（ＸＲＤ）結果から両者の
結晶形に違いがみられることから、アダクトの結晶構造
の崩壊と気流によるアダクト中のフェノールの蒸発に伴
いビスフェノールＡ単独の結晶が成長するものと推測さ
れる。
が行われる機構は明確ではないが、アダクトの熱重量測
定（ＴＧ）に於いて６０〜１１０℃の範囲に急激なフェ
ノールの重量減少がみられること、アダクトと生成ビス
フェノールＡのＸ線回折測定（ＸＲＤ）結果から両者の
結晶形に違いがみられることから、アダクトの結晶構造
の崩壊と気流によるアダクト中のフェノールの蒸発に伴
いビスフェノールＡ単独の結晶が成長するものと推測さ
れる。
【００１４】
【発明の効果】本発明の方法によれば、固体状態のまま
アダクトからフェノールを分離除去してビスフェノール
Ａを得ることができるので、アダクトからフェノールを
除去する過程における着色原因物質等不純物の生成が低
減されるので、高純度で色相の良いビスフェノールＡを
得ることができる。
アダクトからフェノールを分離除去してビスフェノール
Ａを得ることができるので、アダクトからフェノールを
除去する過程における着色原因物質等不純物の生成が低
減されるので、高純度で色相の良いビスフェノールＡを
得ることができる。
【００１５】
【実施例】次に、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。尚、例中、％は特記のない限り重量％を示す。
ビスフェノールＡ、フェノール、不純物の量は高速液体
クロマトグラフィーを用いて定量した。熱重量測定（Ｔ
Ｇ）は熱重量測定装置を用い、流速６０ｍｌ／ｍｉｎの
ヘリウム雰囲気下、試料量約６〜１０ｍｇをアルミパン
に採取し、昇温速度１０℃／ｍｉｎで、測定温度範囲３
０〜２００℃で行った。Ｘ線回折測定（ＸＲＤ）はＸ線
回折装置を用い測定角度５〜７０°（２θ値）の範囲で
行った。アダクト結晶およびビスフェノールＡの色相は
５０％エタノール溶液を分光光度計を用いて測定した値
である。
明する。尚、例中、％は特記のない限り重量％を示す。
ビスフェノールＡ、フェノール、不純物の量は高速液体
クロマトグラフィーを用いて定量した。熱重量測定（Ｔ
Ｇ）は熱重量測定装置を用い、流速６０ｍｌ／ｍｉｎの
ヘリウム雰囲気下、試料量約６〜１０ｍｇをアルミパン
に採取し、昇温速度１０℃／ｍｉｎで、測定温度範囲３
０〜２００℃で行った。Ｘ線回折測定（ＸＲＤ）はＸ線
回折装置を用い測定角度５〜７０°（２θ値）の範囲で
行った。アダクト結晶およびビスフェノールＡの色相は
５０％エタノール溶液を分光光度計を用いて測定した値
である。
【００１６】実施例１ 公知の方法で製造された、長さ１．５ｍｍ、幅０．３ｍ
ｍの針状結晶アダクト（色相：５ＡＰＨＡ、ビスフェノ
ールＡ：６７．９５％フェノール：３２．０１％、その
他不純物：０．０４％）５ｇを直径１０ｍｍ、長さ１３
０ｍｍの空カラムに充填し（充填密度０．５ｇ／ｃ
ｍ3 ）、９５℃に加熱したガスクロマトグラフィー用オ
ーブンに入れ、ヘリウムガスを１８０ｍｌ／ｍｉｎで５
時間流通した。ヘリウムガスの供給圧は絶対圧力で２．
０ｋｇ／ｃｍ2 であった。
ｍの針状結晶アダクト（色相：５ＡＰＨＡ、ビスフェノ
ールＡ：６７．９５％フェノール：３２．０１％、その
他不純物：０．０４％）５ｇを直径１０ｍｍ、長さ１３
０ｍｍの空カラムに充填し（充填密度０．５ｇ／ｃ
ｍ3 ）、９５℃に加熱したガスクロマトグラフィー用オ
ーブンに入れ、ヘリウムガスを１８０ｍｌ／ｍｉｎで５
時間流通した。ヘリウムガスの供給圧は絶対圧力で２．
０ｋｇ／ｃｍ2 であった。
【００１７】得られたビスフェノールＡは、純度：９
９．９４％、色相：８ＡＰＨＡ、フェノール含有量：
０．００９％、その他不純物：０．０５％であった。用
いたアダクトのＴＧ曲線を図１に、ＸＲＤチャートを図
２に、得られたビスフェノールＡのＸＲＤチャートを図
３に示した。。
９．９４％、色相：８ＡＰＨＡ、フェノール含有量：
０．００９％、その他不純物：０．０５％であった。用
いたアダクトのＴＧ曲線を図１に、ＸＲＤチャートを図
２に、得られたビスフェノールＡのＸＲＤチャートを図
３に示した。。
【００１８】実施例２ 実施例１において、ヘリウムを窒素に代えた他は実施例
１と同様にして、純度：９９．９４％、色相：８ＡＰＨ
Ａ、フェノール含有量：０．００８％、その他不純物：
０．０５％のビスフェノールＡを得た。
１と同様にして、純度：９９．９４％、色相：８ＡＰＨ
Ａ、フェノール含有量：０．００８％、その他不純物：
０．０５％のビスフェノールＡを得た。
【００１９】実施例３ 実施例１において、温度を８０℃、流通時間を１０時間
とした他は実施例１と同様にして、純度：９９．９４
％、色相：８ＡＰＨＡ、フェノール含有量：０．０１
％、その他不純物：０．０５％のビスフェノールＡを得
た。
とした他は実施例１と同様にして、純度：９９．９４
％、色相：８ＡＰＨＡ、フェノール含有量：０．０１
％、その他不純物：０．０５％のビスフェノールＡを得
た。
【００２０】比較例１ 実施例１において、温度を１００℃とした他は実施例１
と同様にしてヘリウムガスを流通したところ、２０分経
過時点で圧力上昇が起こり、供給圧６．０ｋｇ／ｃｍ2
でガス流通不能となったため中断した。抜き出した物は
一部溶融しておりフェノールを２５．５％含有してい
た。
と同様にしてヘリウムガスを流通したところ、２０分経
過時点で圧力上昇が起こり、供給圧６．０ｋｇ／ｃｍ2
でガス流通不能となったため中断した。抜き出した物は
一部溶融しておりフェノールを２５．５％含有してい
た。
【００２１】比較例２ 実施例３において、温度を６０℃とした他は実施例３と
同様に行ったが、処理物のフェノール含有量は２２．４
％であった。
同様に行ったが、処理物のフェノール含有量は２２．４
％であった。
【００２２】比較例３ 実施例１と同一の結晶アダクトを溶融し、１５ｍｍＨ
ｇ、１７０℃に操作された蒸留塔に送り、大部分のフェ
ノールを留去回収した。塔底からビスフェノールＡを抜
き出し、スチームストリッピングにより残留フェノール
を除去して、ビスフェノールＡを得た。得られたビスフ
ェノールＡは、純度：９９．９５％、色相：１５ＡＰＨ
Ａ、フェノール含有量：０．００２％、その他不純物：
０．０５％であった。
ｇ、１７０℃に操作された蒸留塔に送り、大部分のフェ
ノールを留去回収した。塔底からビスフェノールＡを抜
き出し、スチームストリッピングにより残留フェノール
を除去して、ビスフェノールＡを得た。得られたビスフ
ェノールＡは、純度：９９．９５％、色相：１５ＡＰＨ
Ａ、フェノール含有量：０．００２％、その他不純物：
０．０５％であった。
【００２３】
【図１】は、実施例１で用いたアダクトのＴＧ曲線を示
す図である。
す図である。
【図２】は、実施例１で用いたアダクトのＸＲＤチャー
トを示す図である。
トを示す図である。
【図３】は、実施例１で得られたビスフェノールＡのＸ
ＲＤチャートを示す図である。
ＲＤチャートを示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 酒谷 高司 三重県四日市市東邦町１番地 三菱油化株 式会社四日市総合究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 ビスフェノールＡとフェノールとの付加
物結晶を、温度７０℃〜９８℃で、不活性気体と接触さ
せて脱フェノールすることを特徴とするビスフェノール
Ａの製造方法。 - 【請求項２】 付加物結晶のフェノール含有量が、２９
〜５０重量％である請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 付加物結晶の色相が、溶融色１５ＡＰＨ
Ａ以下である請求項１に記載の方法。 - 【請求項４】 付加物結晶が、針状結晶である請求項１
に記載の方法。 - 【請求項５】 不活性気体が窒素である請求項１に記載
の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13212494A JPH07330648A (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | ビスフェノールａの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13212494A JPH07330648A (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | ビスフェノールａの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07330648A true JPH07330648A (ja) | 1995-12-19 |
Family
ID=15073974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13212494A Pending JPH07330648A (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | ビスフェノールａの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07330648A (ja) |
-
1994
- 1994-06-14 JP JP13212494A patent/JPH07330648A/ja active Pending
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