JPH07333399A

JPH07333399A - Ｘ線透過窓部材

Info

Publication number: JPH07333399A
Application number: JP6131964A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Takahashi; 進一高橋
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1994-06-14
Filing date: 1994-06-14
Publication date: 1995-12-22

Abstract

(57)【要約】【目的】Ｘ線透過窓の面積が大きくても、機械的な強
度に優れ、Ｘ線透過率の良いＸ線透過窓部材を提供す
る。【構成】チップ２３には、Ｘ線を透過させる物質で構
成されるＸ線透過窓２３ａと、Ｘ線透過窓２３ａ上に突
設され、このＸ線透過窓２３ａを補強するサポート２３
ｂが設けられている。２つのチップ２３の間にスペーサ
ー１２が介装されることにより、スペーサー１２とＸ線
透過窓２３ａの間に試料室１３が画成される。サポート
２３ｂは格子状に設けられ、Ｘ線透過窓２３ａを構成す
る物質は、Ｘ線透過率の高い物質Ｓｉ₃Ｎ₄，ＳｉＣ，Ｓ
ｉＯ₂，ＢＮまたはＢｅのうち少なくとも一つから形成
されることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線顕微鏡に用いられ
る試料容器やＸ線が透過する真空隔壁などに用いられる
Ｘ線透過窓部材に関する。

【０００２】

【従来の技術】医学や生物学の分野では、一般的に光学
顕微鏡により生体試料の観察が行われているが、光学顕
微鏡では観察に可視光を用いているため、高い分解能で
観察をすることができない。一方、高い分解能で観察が
できる電子顕微鏡では、生体試料を直接真空中に置かな
ければならず、生体のままで観察することができなかっ
た。このため、波長が約２〜５ｎｍの軟Ｘ線を用いるＸ
線顕微鏡の利用が進められている。Ｘ線顕微鏡では、Ｘ
線透過窓が設けられた試料容器に、培養液と共に生体試
料を密閉することにより、生体のまま観察することがで
きる。

【０００３】図１１はＸ線顕微鏡の一例を示す概略構成
図である。図１１において、Ｘ線発生器１の出力光軸上
に照明光学系２、試料容器３、拡大光学系４および撮像
装置５が、排気装置６を備えた真空容器７の内部に直列
に配置されている。真空容器７は、空気によるＸ線の吸
収を避けるために、排気装置６により真空に保たれる。
このように構成されたＸ線顕微鏡では、生体試料はＸ線
透過窓が設けられた不図示の試料カプセル内に密閉収納
され、この試料カプセルが試料容器３に収容された後、
真空容器７内が排気装置６で真空排気される。Ｘ線発生
器１から射出された軟Ｘ線ビームは照明光学系２により
集束され、試料容器３に収容された試料カプセル内の試
料を透過し、透過像は拡大光学系４によって拡大され、
この拡大像は撮像装置５に結像される。８は撮影モニタ
ーであり、撮像装置５に結像された拡大像を撮影モニタ
ー８により観察する。

【０００４】図１２は、図１１の試料容器３と、これに
収容される試料カプセルの構造を示す断面図である。試
料カプセル９は、スペーサー１２を平板状のチップ１
０，１１で挟んだ構造をしており、スペーサー１２とチ
ップ１０，１１のＸ線透過窓１０ａ，１１ａとの間に試
料室１３が画成される。Ｘ線透過窓１０ａ，１１ａは、
Ｘ線を透過する物質で構成されている。試料室１３内に
は、生体試料を含んだ培養液が装填される。試料容器３
は、一対のフランジ１４，１５を備える。フランジ１
４，１５の互いに相対する面にはそれぞれ凹部２０，２
１が形成され、試料カプセル９が凹部２０と凹部２１と
の間に挟み付けるように収容される。フランジ１４，１
５がボルト１６で相互に固定されることにより、試料カ
プセル９がＯリング１７，１８の間に挟持され、試料室
１３はＯリング１７，１８，１９により真空から隔離さ
れる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の試料カ
プセル９においては、観察のために真空容器７内を真空
排気した時に、真空容器７内の圧力と試料室１３内の圧
力との差圧によりＸ線透過窓１０ａ，１１ａが変形した
り、破損したりする等の欠点があった。

【０００６】図１３は、Ｘ線透過窓用部材の材料として
用いられるＳｉ₃Ｎ₄膜の厚さとＸ線透過率との関係を示
す図である。図に示したＸ線の波長は、生物観察用のＸ
線顕微鏡で用いられる「水の窓領域」と呼ばれる波長域
（２．３〜４．３ｎｍ）の中の波長を選んで示した。厚
さ０．０５μｍのＳｉ₃Ｎ₄膜では、３．０ｎｍのＸ線に
対して８５％の透過率があるが、厚さ０．２μｍでは５
３％と著しく透過率が悪くなる。Ｘ線の透過率を上げる
ためにはできるだけ厚さの小さいＸ線透過窓を使用しな
ければならないことがわかる。

【０００７】一方、図１４は、厚さ０．１μｍのＳｉ₃
Ｎ₄により形成された１ｍｍ角，０．５ｍｍ角，０．２
ｍｍ角の正方形のＸ線透過窓１０ａ，１１ａが、上述の
差圧により膨らんだ時の最大歪量を示した図であるが、
Ｘ線顕微鏡で観察しているときには、試料カプセル９の
Ｘ線透過窓１０ａ，１１ａに真空容器内の圧力と大気圧
との圧力差である約１気圧の圧力がかかっている。例え
ば、１．０ｍｍ角の窓では約３９μｍの膨らみとなり、
試料カプセル内でのＸ線の吸収が増加し、Ｘ線顕微鏡に
よる観察が困難になる。また、圧力に耐えきれず破損し
てしまうおそれもある。

【０００８】従来、この様なＸ線透過窓１０ａ，１１ａ
の変形や破損を避けるために、Ｘ線透過窓１０ａ，１１
ａの面積を小さくしたり、強度を上げるために厚さを大
きくしたりする等の対策が取られていた。しかし、Ｘ線
透過窓１０ａ，１１ａの面積を小さくすると観察領域が
制限され、また、Ｘ線透過窓１０ａ，１１ａの厚さを大
きくすると、Ｘ線透過窓１０ａ，１１ａ自体のＸ線吸収
量が増加し、コントラストの低い試料の観察に必要なＸ
線光量が得られないという問題点があった。

【０００９】また、Ｘ線透過窓をＸ線顕微鏡の真空隔壁
として用いた場合、Ｘ線の光路を確保するためにＸ線透
過窓の面積が大きくなり、Ｘ線透過率の良い、薄くて機
械的強度に優れたＸ線透過窓を設けることは困難であっ
た。

【００１０】本発明の目的は、Ｘ線透過窓の面積が大き
くかつＸ線透過窓の厚みが薄くても機械的な強度に優
れ、Ｘ線透過率の良いＸ線透過窓部材を提供することに
ある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】一実施例を示す図１に対
応付けて説明すると、請求項１の発明は、Ｘ線を透過さ
せる物質で構成されるＸ線透過窓２３ａと、Ｘ線透過窓
２３ａ上に突設され、このＸ線透過窓２３ａを補強する
サポート２３ｂとを備えるＸ線透過窓部材２３を用いる
ことにより上述の目的を達成する。請求項２の発明で
は、請求項１のＸ線透過窓部材２３において、サポート
２３ｂは格子状に設けられる。図１０に対応付けて説明
すると、請求項３の発明では、Ｘ線透過窓５７ａが環状
に設けられ、サポート５７ｂがＸ線透過窓５７ａに対し
て放射状に並んでいる。請求項４の発明では、請求項１
〜請求項３のいずれかに記載のＸ線透過窓部材２３，５
７において、Ｘ線透過窓２３ａ，５７ａはＳｉ₃Ｎ₄，Ｓ
ｉＣ，ＳｉＯ₂，ＢＮまたはＢｅのうち少なくとも一つ
から形成される。

【００１２】

【作用】請求項１の発明では、Ｘ線透過窓２３ａ上にサ
ポート２３ｂを突設することにより、Ｘ線透過窓２３ａ
の機械的強度が向上する。請求項２の発明では、格子状
のサポートによりＸ線透過窓が小さな領域に分割され、
各領域の機械的強度が向上する。請求項３の発明では、
ウォルター型斜入射鏡のようにＸ線発生器から射出され
るＸ線の環状部分を利用する光学系を用いる場合、光学
系に対するＸ線透過窓の面積を必要最小限に済ませるこ
とができる。しかも、サポートによりＸ線透過窓の機械
的強度が向上する。請求項４の発明では、Ｘ線透過窓２
３ａ，５７ａがＳｉ₃Ｎ₄，ＳｉＣ，ＳｉＯ₂，ＢＮまた
はＢｅのうち少なくとも一つから形成されることによ
り、Ｘ線に対する透過率の高いＸ線透過窓を得ることが
できる。

【００１３】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。

【００１４】

【実施例】以下、図１〜図１０を参照して本発明の実施
例を説明する。なお、図１〜図１０において、図１１お
よび図１２との共通部分には同一符号をなし、説明を省
略する。 −第１実施例− 図１は本発明の第１実施例を示す図であり、本発明によ
るＸ線透過窓部材を試料カプセル２２に用いた例であ
る。図１（ａ）は、試料カプセル２２の断面図であり、
図１（ｂ）は図１（ａ）のＡから見た平面図を示す。チ
ップ２３には、Ｓｉ₃Ｎ₄で形成される１ｍｍ角のＸ線透
過窓２３ａが設けられている。Ｘ線透過窓２３ａの試料
室１３側の面とは反対側の面上には、０．２ｍｍの間隔
でサポート２３ｂが格子状に突設される。サポート２３
ｂは、例えばＳｉ，Ａｕ，Ｃｒ，Ｔｉ等で構成する。ま
た、サポート２３ｂの寸法として、例えば図１では、ｗ
＝７０μｍ、ｔ＝７０μｍとしているが、Ｘ線透過窓２
３ａの面積やサポート２３ｂの機械的強度等により、種
々の寸法ｗ，ｔを選ぶことができる。

【００１５】試料カプセル２２は、試料容器３に収容さ
れた後、真空容器７内にセットされる。真空容器７内が
排気装置６により真空排気されると、試料室１３内の圧
力と真空容器７内の圧力との差圧によりＸ線透過窓２３
ａは試料室１３が膨らむように歪む。しかし、Ｘ線透過
窓２３ａはサポート２３ｂにより支持されているため、
Ｘ線透過窓２３ａと同じ面積を持つ従来のＸ線透過窓に
比べ、歪量は小さく抑えられる。また、同等の歪量で考
えると、従来のＸ線透過窓より大きな面積のＸ線透過窓
２３ａを設けることができ、より広い観察領域を確保す
ることが可能となる。なお、本実施例では、サポート２
３ｂの厚さに制限されないで、スペーサー１２を任意の
厚さに設定することができる。

【００１６】本実施例のＸ線透過窓部材の製作方法を、
図２を参照して説明する。図２（ａ）に示すように、シ
リコンウエハー２５の両面にＸ線透過窓２３ａの材料と
なるＳｉ₃Ｎ₄膜２６をＬＰ−ＣＶＤ法、スパッタリン
グ、蒸着等により形成した後、片面側のＳｉ₃Ｎ₄膜２６
上にレジスト２７を塗布する。ついで、図２（ｂ）に示
すように、Ｘ線透過窓２３ａに対応するパターン２８を
持つマスク２９を用いて、Ｘ線透過窓２３ａに相当する
孔３０をフォトリソグラフィー法によりレジスト２７に
形成する。次に、図２（ｃ）に示すように、ウェットエ
ッチング等の異方性エッチングにより、孔３０を通して
シリコンウエハー２５をサポート２３ｂに相当する厚さ
に達するまで除去する。そして、図２（ｄ）に示すよう
に、エッチングされたシリコンウエハー２５および同じ
側のＳｉ₃Ｎ₄膜２６上にレジスト３１を積層した後、図
２（ｅ）に示すように、サポート２３ｂに対応する格子
状のパターン３２を持つマスク３３を用いて、フォトリ
ソグラフィー法によりサポート２３ｂの隙間部分に相当
する孔３４をレジスト３１に形成する。さらに、図２
（ｆ）に示すように、孔３４を介して異方性エッチング
によりＳｉ₃Ｎ₄膜２６に達するまでシリコンウエハー２
５を除去する。このようにして、シリコンによる格子状
のサポート２３ｂを設けたＸ線透過窓２３ａが形成され
る。

【００１７】図３は、Ｘ線透過窓部材の第２の製作方法
を示す図である。図３（ａ），３（ｂ）は図２（ａ），
２（ｂ）と同様の手順であり、シリコンウエハー２５の
両面にＳｉ₃Ｎ₄膜２６を形成し、片面側のＳｉ₃Ｎ₄膜２
６上にレジスト２７を塗布した後、マスク２９を用いた
フォトリソグラフィー法によりＸ線透過窓２３ａに相当
する孔３０をレジスト２７に形成する。ついで、図３
（ｃ）に示すように、ウェットエッチング等の異方性エ
ッチングにより、孔３０に相当する部分のシリコンウエ
ハー２５をＳｉ₃Ｎ₄膜２６に達するまで除去する。次
に、図３（ｄ）に示すように、サポート材となるＡｕ，
Ｃｒ，Ｔｉ等の金属３７をスパッタリング，蒸着，メッ
キ等の方法で、Ｓｉ₃Ｎ₄膜２６の試料室１３側の面とは
反対側の面上に積層し、その面上および同じ側のＳｉ₃
Ｎ₄膜２６上にレジスト３８を塗布する。そして、図３
（ｅ）では図２（ｅ）と同様に、サポート２３ｂに対応
する格子状のパターン３２を持つマスク３３を用いて、
フォトリソグラフィー法によりサポート２３ｂの隙間部
分に相当する孔３４をレジスト３８に形成する。さら
に、図３（ｆ）に示すように、孔３４を介してドライエ
ッチング，ウェットエッチング等によりＳｉ₃Ｎ₄膜２６
に達するまで金属３７を除去する。このようにして、金
属による格子状のサポート２３ｂを設けたＸ線透過窓２
３ａが形成される。

【００１８】図４は、Ｘ線透過窓部材の第３の製作方法
を示す図である。ここでは、第２の製作方法により図２
（ｃ）に示す段階まで進んだら、サポート２３ｂに相当
する貫通孔４０を持つマスク４１を用いて、スパッタリ
ング，蒸着等によりマスク４１の貫通部分のみに金属を
Ｓｉ₃Ｎ₄膜２６上に堆積し、サポート２３ｂを形成す
る。

【００１９】図５は、Ｘ線透過窓部材の第４の製作方法
を示す図である。図５（ａ）では、図２（ａ）と同様に
シリコンウエハー２５の両面にＳｉ₃Ｎ₄膜２６を形成し
た後、片面側のＳｉ₃Ｎ₄膜２６上にレジスト２７を塗布
する。次に、図５（ｂ）に示すように、サポート２３ｂ
に対応するパターン３２を持つマスク３３を用いて、フ
ォトリソグラフィー法によりサポート２３ｂの隙間部分
に相当する孔４５をレジスト２７に形成する。さらに、
図５（ｃ）示すように、異方性エッチングによりシリコ
ンウエハー２５を孔４５を通してＳｉ₃Ｎ₄膜２６に達す
るまで除去する。このようにして、格子状のサポート２
３ｂを設けたＸ線透過窓２３ａが形成される。この製作
方法は第１〜第３の方法に比べて簡便であるが、サポー
ト２３ｂが厚くなり試料観察に影響を与えるという欠点
がある。しかし、機械的強度が大きくなり、大面積のＸ
線透過窓を形成することが可能となる。

【００２０】本実施例ではサポートの形状を格子状とし
ているが、マスクによって自由な形状のサポートを形成
することも可能である。また、サポートの強度が許す限
りＸ線透過窓を大きくすることが可能であり、Ｘ線透過
窓に用いられる物質はＳｉ₃Ｎ₄に限定されず、使用する
Ｘ線領域でＸ線透過率の高いＳｉＣ，ＳｉＯ₂，ＢＮ，
Ｂｅ等の物質も用いられる。本実施例は、以上述べた製
作方法に限定されない。

【００２１】−第２実施例− 図６は本発明の第２実施例を示す図であり、本発明によ
るＸ線透過窓部材を試料カプセル４３に用いた例であ
る。図６（ａ）は、試料カプセル４４の断面図であり、
図６（ｂ）は図６（ａ）のＢから見た平面図を示す。チ
ップ４４には、Ｓｉ₃Ｎ₄で形成される１ｍｍ角のＸ線透
過窓４４ａが設けられている。Ｘ線透過窓４４ａの互い
に向い合った面上にはサポート４４ｂが０．２ｍｍの間
隔で格子状に突設される。２つのチップ４４が、互いの
サポート４４ｂを突き合わせて重ねられることにより、
試料室１３が画成される。本実施例では、サポート４４
ｂが第１実施例におけるスペーサー１２の役割も兼ねて
おり、より少ない部品で試料カプセルを構成することが
できる。また、試料室１３がサポート４４ｂによりいく
つかの小さな部屋に分離されているので、広い視野を持
ちながら、かつ試料室１３内で観察試料が動き回れない
という特徴も持っている。

【００２２】第２の実施例におけるＸ線透過窓部材の製
作方法を、図７を参照して説明する。図７（ａ）に示す
ように、シリコンウエハー２５の両面にＸ線透過窓４４
ａの材料となるＳｉ₃Ｎ₄膜２６をＬＰ−ＣＶＤ法、スパ
ッタリング、蒸着等により形成した後、サポート材とな
るＡｕ，Ｃｒ，Ｔｉ等の金属４６をスパッタリング，蒸
着，メッキ等の方法で片面側のＳｉ₃Ｎ₄膜２６上に積層
し、金属４６の上にレジスト４７を塗布する。ついで、
図７（ｂ）に示すように、サポート４４ｂに対応する格
子状のパターン３２を持つマスク３３を用いて、レジス
ト４７にサポート４４ｂの隙間部分に相当する孔３４を
フォトリソグラフィー法により形成する。次に、図７
（ｃ）に示すように、ドライエッチング，ウェットエッ
チング等の異方性エッチングにより、孔３４を通して金
属４６をレジスト４７を塗布した側のＳｉ₃Ｎ₄膜２６に
達するまで除去する。このようにして、格子状のサポー
ト４４ｂが形成される。そして、図７（ｄ）に示すよう
に、サポート４４ｂを形成した面とは反対側のＳｉ₃Ｎ₄
膜２６上に、レジスト４９を塗布した後、図７（ｅ）に
示すように、Ｘ線透過窓４４ａに対応するパターン２８
を持つマスク２９を用いて、孔５０をフォトリソグラフ
ィー法によりレジスト４９に形成する。さらに、図７
（ｆ）に示すように、孔５０を介して異方性エッチング
によりＸ線透過窓４４ａに相当する部分のシリコンウエ
ハー２５を、サポート４４ｂを形成した側のＳｉ₃Ｎ₄膜
２６に達するまで除去する。このようにして、格子状の
サポート４４ｂが設けられたＸ線透過窓４４ａが形成さ
れる。

【００２３】−第３実施例− 図８は本発明の第３実施例を示す図で、本発明によるＸ
線透過窓部材を試料カプセル５１に用いた例である。図
８（ａ）は試料カプセル５１の断面図であり、図８
（ｂ）は図８（ａ）のＣから見た平面図を示す。チップ
５２には、Ｓｉ₃Ｎ₄で形成される１ｍｍ角のＸ線透過窓
５２ａが設けられている。Ｘ線透過窓５２ａの両面に
は、サポート５２ｂがそれぞれ０．２ｍｍの間隔で格子
状に突設される。２つのチップ５２が合わされた時に、
互いに向い合ったサポート５４がスペーサー１２の役割
も兼ねる。本実施例では、Ｘ線透過窓５２ａの両面にサ
ポート５２ａが設けられるため、機械的強度がさらに向
上され、より広い観察領域を持つ試料カプセルが可能と
なる。また、第２の実施例と同様に観察試料が動き回れ
ない。

【００２４】−第４実施例− 図９、図１０は本発明の第４実施例を示す図であり、図
９は真空隔壁を用いたＸ線顕微鏡の概略構成図で、図１
０は真空隔壁の詳細図を示す。図９で、真空容器７に対
して真空隔壁５７で隔離された真空容器５５が設けら
れ、その内部にはＸ線発生器１が収納されている。真空
容器５５内は、排気装置５６によって真空排気されてい
る。このような構成では、Ｘ線発生器１が収納される真
空容器５５内は、他に比べて真空度を低くすることが可
能となる。ここで、照明光学系２にウォルター型の斜入
射反射鏡が用いられる場合、Ｘ線発生器１から射出され
たＸ線の内、実際に利用されるＸ線は輪帯状の部分だけ
である。

【００２５】図１０に示すように、真空隔壁５７には、
上述した輪帯状部分のＸ線が通過する部分にＸ線透過窓
が設けられている。図では、真空隔壁位置を通過するＸ
線の輪帯状部５８が点線で示されている。Ｘ線透過窓部
材５９には、八角形の環状をなすようにＸ線透過窓５７
ａが設けられており、Ｘ線透過窓５７ａには８つのサポ
ート５７ｂが放射状に設けられている。本発明の真空隔
壁では、Ｘ線透過窓の面積を必要最小限に抑え、さらに
サポートによって機械的強度を高めているため、Ｘ線透
過窓の膜の厚さを薄くすることができ、耐圧強度が高
く、かつＸ線透過率の高い真空隔壁が可能となる。

【００２６】以上説明した実施例と請求の範囲との関係
において、チップ２３，４４，５２および真空隔壁５７
はＸ線透過窓部材に対応する。

【００２７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
Ｘ線透過窓にサポートを設けたので機械的強度が増加し
て、窓の表裏の差圧に対する耐圧強度を向上させること
ができる。そのため、面積を大きくしても、厚さが薄く
Ｘ線透過率の高いＸ線透過窓を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例のＸ線透過窓部材が用いら
れる試料カプセルを示す図であり、（ａ）は断面図、
（ｂ）は平面図である。

【図２】本発明の第１実施例に係わるＸ線透過窓部材の
第１の製作方法を説明する図である。

【図３】本発明の第１実施例に係わるＸ線透過窓部材の
第２の製作方法を説明する図である。

【図４】本発明の第１実施例に係わるＸ線透過窓部材の
第３の製作方法を説明する図である。

【図５】本発明の第１実施例に係わるＸ線透過窓部材の
第４の製作方法を説明する図である。

【図６】本発明の第２実施例のＸ線透過窓部材が用いら
れる試料カプセルを示す図であり、（ａ）は断面図、
（ｂ）は平面図である。

【図７】本発明の第２実施例に係わるＸ線透過窓部材の
製作方法を説明する図である。

【図８】本発明の第３実施例のＸ線透過窓部材が用いら
れる試料カプセルを示す図であり、（ａ）は断面図、
（ｂ）は平面図である。

【図９】本発明の第４実施例の真空隔壁を用いたＸ線顕
微鏡の概略構成図。

【図１０】本発明の第４実施例のＸ線透過窓部材が用い
られる真空隔壁の平面図。

【図１１】Ｘ線顕微鏡の概略構成図。

【図１２】従来のＸ線透過窓部材が用いられている試料
カプセルの断面図。

【図１３】Ｓｉ₃Ｎ₄膜の厚さとＸ線透過率との関係を示
す図。

【図１４】Ｓｉ₃Ｎ₄膜の差圧と最大歪量との関係を示す
図。

【符号の説明】

１Ｘ線発生器２照明光学系３試料容器４拡大光学系５撮像装置６，５６排気装置７，５５真空容器８撮影モニター１２スペーサー１３試料室２２，４３，５１試料カプセル２３，４４，５２チップ２３ａ，４４ａ，５２ａ，５７ａＸ線透過窓２３ｂ，４４ｂ，５２ｂ，５７ｂサポート５７真空隔壁５８輪帯状部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｘ線を透過させる物質で構成されるＸ線
透過窓と、前記Ｘ線透過窓上に突設されて該Ｘ線透過窓を補強する
サポートとが備えられることを特徴とするＸ線透過窓部
材。
【請求項２】請求項１に記載のＸ線透過窓部材におい
て、前記サポートは、格子状に設けられることを特徴とする
Ｘ線透過窓部材。
【請求項３】請求項１に記載のＸ線透過窓部材におい
て、前記Ｘ線透過窓が環状に設けられ、前記サポートが
前記Ｘ線透過窓に対して放射状に並んでいることを特徴
とするＸ線透過窓部材。
【請求項４】請求項１〜請求項３のいずれかに記載の
Ｘ線透過窓部材において、前記Ｘ線透過窓は、Ｓｉ₃Ｎ₄，ＳｉＣ，ＳｉＯ₂，ＢＮ
またはＢｅのうち少なくとも一つから形成されることを
特徴とするＸ線透過窓部材。