JPH07335592A - ダイシング装置とその方法およびダイシング用チャッキング装置 - Google Patents
ダイシング装置とその方法およびダイシング用チャッキング装置Info
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- JPH07335592A JPH07335592A JP13202194A JP13202194A JPH07335592A JP H07335592 A JPH07335592 A JP H07335592A JP 13202194 A JP13202194 A JP 13202194A JP 13202194 A JP13202194 A JP 13202194A JP H07335592 A JPH07335592 A JP H07335592A
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- cutting
- dicing
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は半導体ウエハを、異常なチッピン
グの発生を招くことなく切断加工することができるよう
にしたダイシング装置を提供することにある。 【構成】 テ−ブル1上に載置された半導体ウエハ10
を回転駆動されるブレ−ド21によってダイシングする
ダイシング装置において、上記ブレ−ドの回転数、上記
ブレ−ドと半導体ウエハとの相対的な送り速度および切
り込み量の切断条件を上記半導体ウエハにそれぞれ与え
るためのモ−タ3、23、25と、上記ブレ−ドにより
上記半導体ウエハを切断することで発生する加工負荷を
検出する圧電素子13と、この圧電素子からの検出信号
を予め定められた設定値と比較しその比較に基づいて上
記各モ−タによる上記複数の切断条件のうちの少なくと
も1つの切断条件を変化させる制御装置15とを具備し
たことを特徴とする。
グの発生を招くことなく切断加工することができるよう
にしたダイシング装置を提供することにある。 【構成】 テ−ブル1上に載置された半導体ウエハ10
を回転駆動されるブレ−ド21によってダイシングする
ダイシング装置において、上記ブレ−ドの回転数、上記
ブレ−ドと半導体ウエハとの相対的な送り速度および切
り込み量の切断条件を上記半導体ウエハにそれぞれ与え
るためのモ−タ3、23、25と、上記ブレ−ドにより
上記半導体ウエハを切断することで発生する加工負荷を
検出する圧電素子13と、この圧電素子からの検出信号
を予め定められた設定値と比較しその比較に基づいて上
記各モ−タによる上記複数の切断条件のうちの少なくと
も1つの切断条件を変化させる制御装置15とを具備し
たことを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体ウエハを多数の
チップに切断加工するためのダイシング装置とその方法
およびダイシング加工時に半導体ウエハを保持するため
に用いられるチャッキング装置に関する。
チップに切断加工するためのダイシング装置とその方法
およびダイシング加工時に半導体ウエハを保持するため
に用いられるチャッキング装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程においては、回路
パタ−ンが形成された半導体ウエハをダイシング装置を
用いて多数のチップに分割するためのダイシング工程が
ある。上記半導体ウエハのダイシングは、ダイヤモンド
ポイントカットを用いたスクライビング装置からYAG
レ−ザを用いたスクライビング装置へ発展し、最近では
高周波モ−タとエアスピンドルの開発により、極薄刃ダ
イヤモンドブレ−ドを用いたダイシング装置が主流とな
っており、加工精度および加工能率において飛躍的な向
上を見せている。
パタ−ンが形成された半導体ウエハをダイシング装置を
用いて多数のチップに分割するためのダイシング工程が
ある。上記半導体ウエハのダイシングは、ダイヤモンド
ポイントカットを用いたスクライビング装置からYAG
レ−ザを用いたスクライビング装置へ発展し、最近では
高周波モ−タとエアスピンドルの開発により、極薄刃ダ
イヤモンドブレ−ドを用いたダイシング装置が主流とな
っており、加工精度および加工能率において飛躍的な向
上を見せている。
【0003】半導体ウエハをダイシングする際には、チ
ッピングを小さく抑えること、加工が長時間安定して行
えることなどが要求され、これを実現するためにはスピ
ンドルやテ−ブルあるいはX、Y、Zの駆動部の振動を
小さくするなどの装置の改良とともに、研削液の供給方
法やブレ−ドとこのブレ−ドをスピンドルに固定したフ
ランジとのダイナミックバランスを取るなどの加工ノウ
ハウの改善が行われてきた。
ッピングを小さく抑えること、加工が長時間安定して行
えることなどが要求され、これを実現するためにはスピ
ンドルやテ−ブルあるいはX、Y、Zの駆動部の振動を
小さくするなどの装置の改良とともに、研削液の供給方
法やブレ−ドとこのブレ−ドをスピンドルに固定したフ
ランジとのダイナミックバランスを取るなどの加工ノウ
ハウの改善が行われてきた。
【0004】しかしながら、上述したような装置の改良
や加工ノウハウの改善を押し進めても、ダイシング時に
半導体ウエハにチッピングが発生するのを確実に防止す
ることができないというのが現状であった。
や加工ノウハウの改善を押し進めても、ダイシング時に
半導体ウエハにチッピングが発生するのを確実に防止す
ることができないというのが現状であった。
【0005】チッピングによって発生したかけらはダイ
シングされたチップにパ−テイクルとして残留すること
があるから、上記チップに形成された回路パタ−ンの短
絡を招くなどのことにより歩留まりが低下するから、チ
ッピングの発生はできるだけ低い方がよい。チッピング
の発生原因の1つとして、発明者はダイシング時に半導
体ウエハに与える加工負荷が大きく影響することを確認
した。
シングされたチップにパ−テイクルとして残留すること
があるから、上記チップに形成された回路パタ−ンの短
絡を招くなどのことにより歩留まりが低下するから、チ
ッピングの発生はできるだけ低い方がよい。チッピング
の発生原因の1つとして、発明者はダイシング時に半導
体ウエハに与える加工負荷が大きく影響することを確認
した。
【0006】チッピングが発生する他の原因としてダイ
シング時に用いられている粘着テ−プが上げられる。つ
まり、従来のダイシング装置では、ダイシングされた多
数のチップを保持するという観点から半導体ウエハの裏
面に粘着テ−プを貼着しておくということが行われてい
る。
シング時に用いられている粘着テ−プが上げられる。つ
まり、従来のダイシング装置では、ダイシングされた多
数のチップを保持するという観点から半導体ウエハの裏
面に粘着テ−プを貼着しておくということが行われてい
る。
【0007】粘着テ−プは通常、高分子樹脂によって形
成されている。そのため、ダイシング時に加工点の負荷
によって上記粘着テ−プが大きく変位し、半導体ウエハ
に引張応力を与えることになるから、その応力によって
チッピングが発生するということがあった。
成されている。そのため、ダイシング時に加工点の負荷
によって上記粘着テ−プが大きく変位し、半導体ウエハ
に引張応力を与えることになるから、その応力によって
チッピングが発生するということがあった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のダ
イシング装置は、装置の改良や加工ノウハウの改善を押
し進めても、ダイシング時に半導体ウエハにチッピング
が発生するのを確実に防止することができないというこ
とがあった。
イシング装置は、装置の改良や加工ノウハウの改善を押
し進めても、ダイシング時に半導体ウエハにチッピング
が発生するのを確実に防止することができないというこ
とがあった。
【0009】また、ダイシングによって分割されたチッ
プが分散するのを防止するために設けられた粘着テ−プ
がダイシング時に半導体ウエハに引張力を与えてチッピ
ングの発生を招くということもあった。
プが分散するのを防止するために設けられた粘着テ−プ
がダイシング時に半導体ウエハに引張力を与えてチッピ
ングの発生を招くということもあった。
【0010】この発明の第1の目的は、ダイシング時に
チッピングが発生しずらいようにしたダイシング装置お
よびその方法を提供することにある。この発明の第2の
目的は、切断された半導体ウエハを粘着テ−プを用いず
に保持することができるようにしたチャッキング装置を
提供することにある。
チッピングが発生しずらいようにしたダイシング装置お
よびその方法を提供することにある。この発明の第2の
目的は、切断された半導体ウエハを粘着テ−プを用いず
に保持することができるようにしたチャッキング装置を
提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載されたこ
の発明は、テ−ブル上に載置された半導体ウエハを回転
駆動されるブレ−ドによってダイシングするダイシング
装置において、上記ブレ−ドの回転数、上記ブレ−ドと
半導体ウエハとの相対的な送り速度および切り込み量の
切断条件を上記半導体ウエハに与えるための駆動手段
と、上記ブレ−ドにより上記半導体ウエハを切断するこ
とで発生する加工負荷を検出する検出手段と、この検出
手段からの検出信号を予め定められた設定値と比較しそ
の比較に基づいて上記駆動手段による上記複数の切断条
件のうちの少なくとも1つの切断条件を変化させる制御
手段とを具備したことを特徴とするダイシング装置にあ
る。
の発明は、テ−ブル上に載置された半導体ウエハを回転
駆動されるブレ−ドによってダイシングするダイシング
装置において、上記ブレ−ドの回転数、上記ブレ−ドと
半導体ウエハとの相対的な送り速度および切り込み量の
切断条件を上記半導体ウエハに与えるための駆動手段
と、上記ブレ−ドにより上記半導体ウエハを切断するこ
とで発生する加工負荷を検出する検出手段と、この検出
手段からの検出信号を予め定められた設定値と比較しそ
の比較に基づいて上記駆動手段による上記複数の切断条
件のうちの少なくとも1つの切断条件を変化させる制御
手段とを具備したことを特徴とするダイシング装置にあ
る。
【0012】請求項5に記載されたこの発明は、テ−ブ
ル上に載置された半導体ウエハを回転駆動されるブレ−
ドによってダイシングする半導体ウエハのダイシング方
法において、上記半導体ウエハを所定の加工条件で切断
する切断工程と、この切断工程によって半導体ウエハを
切断することで発生する加工負荷を検出する検出工程
と、この検出工程で検出された加工負荷を予め設定され
た設定値と比較する比較工程と、この比較工程での比較
に基づいて上記半導体ウエハに対する加工条件を変化さ
せる制御工程とを具備したことを特徴とする半導体ウエ
ハのダイシング方法にある。
ル上に載置された半導体ウエハを回転駆動されるブレ−
ドによってダイシングする半導体ウエハのダイシング方
法において、上記半導体ウエハを所定の加工条件で切断
する切断工程と、この切断工程によって半導体ウエハを
切断することで発生する加工負荷を検出する検出工程
と、この検出工程で検出された加工負荷を予め設定され
た設定値と比較する比較工程と、この比較工程での比較
に基づいて上記半導体ウエハに対する加工条件を変化さ
せる制御工程とを具備したことを特徴とする半導体ウエ
ハのダイシング方法にある。
【0013】請求項6に記載された発明は、複数のチッ
プに切断される半導体ウエハを保持するためのチャッキ
ング装置において、中空状に形成された装置本体と、一
端を上記装置本体の上面に開口させ他端を上記装置本体
内に連通させて設けられ切断された各チップをそれぞれ
吸着保持するための複数の吸引孔と、上記装置本体の内
部に連通して設けられ上記装置本体内を減圧して上記吸
引孔に吸引力を発生させその吸引力で上記半導体ウエハ
を上記装置本体上に吸着させるために用いられるととも
に上記半導体ウエハを吸着した状態で密封される吸引口
体とを具備したことを特徴とするチャッキング装置にあ
る。
プに切断される半導体ウエハを保持するためのチャッキ
ング装置において、中空状に形成された装置本体と、一
端を上記装置本体の上面に開口させ他端を上記装置本体
内に連通させて設けられ切断された各チップをそれぞれ
吸着保持するための複数の吸引孔と、上記装置本体の内
部に連通して設けられ上記装置本体内を減圧して上記吸
引孔に吸引力を発生させその吸引力で上記半導体ウエハ
を上記装置本体上に吸着させるために用いられるととも
に上記半導体ウエハを吸着した状態で密封される吸引口
体とを具備したことを特徴とするチャッキング装置にあ
る。
【0014】
【作用】請求項1と請求項5の発明によれば、半導体ウ
エハを切断するときの加工負荷を検出し、その検出に基
づいて半導体ウエハに発生する加工負荷がチッピングを
発生させることのない値となるよう制御される。
エハを切断するときの加工負荷を検出し、その検出に基
づいて半導体ウエハに発生する加工負荷がチッピングを
発生させることのない値となるよう制御される。
【0015】請求項6の発明によれば、切断時に半導体
ウエハに引張力を与えるようなことなく、切断された各
チップをそれぞれ装置本体の吸引孔に発生する吸引力で
吸着保持することができる。
ウエハに引張力を与えるようなことなく、切断された各
チップをそれぞれ装置本体の吸引孔に発生する吸引力で
吸着保持することができる。
【0016】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面を参照して説
明する。図1乃至図6はこの発明の一実施例を示し、図
1に示すこの発明のダイシング装置はテ−ブル1を備え
ている。このテ−ブル1には送りねじ2が螺合されてい
る。この送りねじ2は送りモ−タ3によって回転駆動さ
れるようになっている。それによって、上記テ−ブル1
は同図に矢印で示すX方向に往復駆動されるようになっ
ている。
明する。図1乃至図6はこの発明の一実施例を示し、図
1に示すこの発明のダイシング装置はテ−ブル1を備え
ている。このテ−ブル1には送りねじ2が螺合されてい
る。この送りねじ2は送りモ−タ3によって回転駆動さ
れるようになっている。それによって、上記テ−ブル1
は同図に矢印で示すX方向に往復駆動されるようになっ
ている。
【0017】上記テ−ブル1上にはチャッキング装置1
1が着脱自在に設けられている。このチャッキング装置
11は平面形状が円形あるいは矩形状で、内部が中空に
形成された装置本体12を有する。この実施例では図3
に示すように円形状に形成されている。
1が着脱自在に設けられている。このチャッキング装置
11は平面形状が円形あるいは矩形状で、内部が中空に
形成された装置本体12を有する。この実施例では図3
に示すように円形状に形成されている。
【0018】上記装置本体12の上面には検出手段とし
てのシ−ト状の圧電素子13が接着固定されている。こ
の圧電素子13は図3に示すように複数のセル13aに
分割されていて、各セル13aが後述するごとく検出す
る圧力はA/D変換器14に入力されるようになってい
る。このA/D変換器14によってデジタル化された検
出信号は制御装置15に入力される。この制御装置15
は上記A/D変換器14からの検出信号を予め設定され
た設置値Sと比較するようになっている。
てのシ−ト状の圧電素子13が接着固定されている。こ
の圧電素子13は図3に示すように複数のセル13aに
分割されていて、各セル13aが後述するごとく検出す
る圧力はA/D変換器14に入力されるようになってい
る。このA/D変換器14によってデジタル化された検
出信号は制御装置15に入力される。この制御装置15
は上記A/D変換器14からの検出信号を予め設定され
た設置値Sと比較するようになっている。
【0019】なお、上記圧電素子13は、半導体ウエハ
10を図2に示すようにダイシングして分割される複数
のチップ10aと対応するよう、複数のセル13aに分
割されている。
10を図2に示すようにダイシングして分割される複数
のチップ10aと対応するよう、複数のセル13aに分
割されている。
【0020】上記装置本体12の上面には上記半導体ウ
エハ10が吸着される。つまり、上記圧電素子13の各
セル13aの中心部にはそれぞれ吸引孔16が一端を開
口して形成されている。各吸引孔16の他端は上記本体
12の上部壁を貫通し、その内部に連通している。
エハ10が吸着される。つまり、上記圧電素子13の各
セル13aの中心部にはそれぞれ吸引孔16が一端を開
口して形成されている。各吸引孔16の他端は上記本体
12の上部壁を貫通し、その内部に連通している。
【0021】また、本体12の側壁には、一端を内部に
連通させた吸引口体17が接続されている。この吸引口
体17の他端にはキャップ18がOリング19を介して
気密な状態で着脱自在に挿着されるようになっている。
連通させた吸引口体17が接続されている。この吸引口
体17の他端にはキャップ18がOリング19を介して
気密な状態で着脱自在に挿着されるようになっている。
【0022】上記吸引口体17にはキャップ18を取り
外した状態で図示しない真空ポンプが接続される。この
真空ポンプで本体12の内部を減圧すれば、その吸引力
が吸引孔16を介して本体12の上面に載置された上記
半導体ウエハ10に作用するから、上記半導体ウエハ1
0が吸着される。
外した状態で図示しない真空ポンプが接続される。この
真空ポンプで本体12の内部を減圧すれば、その吸引力
が吸引孔16を介して本体12の上面に載置された上記
半導体ウエハ10に作用するから、上記半導体ウエハ1
0が吸着される。
【0023】半導体ウエハ10を吸着した状態で吸引口
体17から真空ポンプを外し、そこにキャップ18を挿
着すれば、本体12の内部の減圧状態が維持されるか
ら、上記半導体ウエハ10の吸着状態も維持されること
になる。
体17から真空ポンプを外し、そこにキャップ18を挿
着すれば、本体12の内部の減圧状態が維持されるか
ら、上記半導体ウエハ10の吸着状態も維持されること
になる。
【0024】なお、上記チャッキング装置11は上記テ
−ブル1の上面に電磁石を利用して磁気的に取り付けた
り、図示しない保持具を用いて取り付けることができる
ようになっており、要は着脱自在に取り付けることがで
きる構成であればよい。また、キャップ18に変わり、
接続口体17にコックを設けるようにしてもよい。
−ブル1の上面に電磁石を利用して磁気的に取り付けた
り、図示しない保持具を用いて取り付けることができる
ようになっており、要は着脱自在に取り付けることがで
きる構成であればよい。また、キャップ18に変わり、
接続口体17にコックを設けるようにしてもよい。
【0025】上記テ−ブル1の上方には図示しないY駆
動機構によって上記X方向と直交するY方向に駆動可能
なダイヤモンドブレ−ド21が配設されている。このブ
レ−ド21はエアスピンドル22に取り付けられてい
る。このエアスピンドル22は回転モ−タ23によって
高速で回転駆動されるようになっている。
動機構によって上記X方向と直交するY方向に駆動可能
なダイヤモンドブレ−ド21が配設されている。このブ
レ−ド21はエアスピンドル22に取り付けられてい
る。このエアスピンドル22は回転モ−タ23によって
高速で回転駆動されるようになっている。
【0026】上記エアスピンドル22と回転モ−タ23
はZ方向(上下方向)に可動に設けられたZ駆動機構2
4に取り付けられている。このZ駆動機構24はZモ−
タ25によって駆動されるようになっている。つまり、
上記ブレ−ド21は回転モ−タ23によって回転駆動さ
れるとともに、Zモ−タ25によって上下方向に駆動さ
れるようになっている。
はZ方向(上下方向)に可動に設けられたZ駆動機構2
4に取り付けられている。このZ駆動機構24はZモ−
タ25によって駆動されるようになっている。つまり、
上記ブレ−ド21は回転モ−タ23によって回転駆動さ
れるとともに、Zモ−タ25によって上下方向に駆動さ
れるようになっている。
【0027】上記制御装置15には、圧電素子13から
の検出信号Kがデジタル化されて入力される。その検出
信号Kは上記制御装置15で設定値Sと比較され、その
比較に基づいて上記送りモ−タ3、回転モ−タ23およ
びZモ−タ25には駆動信号D1 〜D3 が、上記制御装
置15に接続された第1乃至第3のD/A変換器26〜
28によってアナログ化されて出力されるようになって
いる。
の検出信号Kがデジタル化されて入力される。その検出
信号Kは上記制御装置15で設定値Sと比較され、その
比較に基づいて上記送りモ−タ3、回転モ−タ23およ
びZモ−タ25には駆動信号D1 〜D3 が、上記制御装
置15に接続された第1乃至第3のD/A変換器26〜
28によってアナログ化されて出力されるようになって
いる。
【0028】第1のD/A変換器26は上記送りモ−タ
3に接続され、第2のD/A変換器27は回転モ−タ2
3に接続されている。上記第3のD/A変換器28はZ
モ−タ25に接続されている。
3に接続され、第2のD/A変換器27は回転モ−タ2
3に接続されている。上記第3のD/A変換器28はZ
モ−タ25に接続されている。
【0029】上記送りモ−タ3に駆動信号D1 が入力さ
れれば、上記ブレ−ド21の送り速度が制御され、上記
回転モ−タ23に駆動信号D2 が入力されれば、ブレ−
ド21の回転速度が制御される。さらに、上記Zモ−タ
25に駆動信号D3 が入力されれば、ブレ−ド21がZ
方向に駆動されるから、このブレ−ド21による切り込
み量が制御されるようになっている。
れれば、上記ブレ−ド21の送り速度が制御され、上記
回転モ−タ23に駆動信号D2 が入力されれば、ブレ−
ド21の回転速度が制御される。さらに、上記Zモ−タ
25に駆動信号D3 が入力されれば、ブレ−ド21がZ
方向に駆動されるから、このブレ−ド21による切り込
み量が制御されるようになっている。
【0030】上記テ−ブル1の送り速度、ブレ−ド21
の回転数および半導体ウエハ10に対するブレ−ド21
の切り込み量は、それぞれ上記半導体ウエハ10をダイ
シングするときの切断条件であり、その3つの切断条件
を最適に設定することでダイシング時に半導体ウエハ1
0に加わる負荷を制御することができる。半導体ウエハ
10に加わる負荷を制御すれば、後述するごとくその半
導体ウエハ10に生じるチッピングを低減することがで
きる。
の回転数および半導体ウエハ10に対するブレ−ド21
の切り込み量は、それぞれ上記半導体ウエハ10をダイ
シングするときの切断条件であり、その3つの切断条件
を最適に設定することでダイシング時に半導体ウエハ1
0に加わる負荷を制御することができる。半導体ウエハ
10に加わる負荷を制御すれば、後述するごとくその半
導体ウエハ10に生じるチッピングを低減することがで
きる。
【0031】上記3つの切断条件のうち、図4(a)〜
(c)にはテ−ブル1の送り速度とチッピングとの関係
を計測した結果を示し、図6(a)、(b)にはブレ−
ド21による切り込み量とチッピングとの関係を計測し
た結果を示す。
(c)にはテ−ブル1の送り速度とチッピングとの関係
を計測した結果を示し、図6(a)、(b)にはブレ−
ド21による切り込み量とチッピングとの関係を計測し
た結果を示す。
【0032】図4(a)は厚さ625 μmの半導体ウエハ
10をフルカットである、切り込み量 630μm、ブレ−
ド21の回転数30000r.p.m、テ−ブル1の送り速度を10
mm/secとした場合で、その場合、半導体ウエハ10の裏
面側の切断線の両側にチッピングTは非常にわずかしか
発生しなかった。このときのチッピングの幅寸法W1は
約10ミクロンであり、また加工点の荷重は43gfであっ
た。
10をフルカットである、切り込み量 630μm、ブレ−
ド21の回転数30000r.p.m、テ−ブル1の送り速度を10
mm/secとした場合で、その場合、半導体ウエハ10の裏
面側の切断線の両側にチッピングTは非常にわずかしか
発生しなかった。このときのチッピングの幅寸法W1は
約10ミクロンであり、また加工点の荷重は43gfであっ
た。
【0033】同図(b)はテ−ブル1の送り速度を60mm
/secに変え、他の条件は同じにした場合で、その場合に
は半導体ウエハ10の裏面側の切断線の両側にわずかに
チッピングTが発生することが確認された。このときの
チッピングの幅寸法W2 は約20ミクロンであり、また加
工点の荷重は94gfであった。
/secに変え、他の条件は同じにした場合で、その場合に
は半導体ウエハ10の裏面側の切断線の両側にわずかに
チッピングTが発生することが確認された。このときの
チッピングの幅寸法W2 は約20ミクロンであり、また加
工点の荷重は94gfであった。
【0034】同図(c)はテ−ブル1の送り速度を150m
m/sec に変え、他の条件は同じにした場合で、その場合
には半導体ウエハ10の裏面側の切断線の一側に図中W
3 で示す約55μmの幅寸法でチッピングTが発生するこ
とが確認された。このときの加工点の荷重は272gf であ
った。
m/sec に変え、他の条件は同じにした場合で、その場合
には半導体ウエハ10の裏面側の切断線の一側に図中W
3 で示す約55μmの幅寸法でチッピングTが発生するこ
とが確認された。このときの加工点の荷重は272gf であ
った。
【0035】以上のことより、テ−ブル1の送り速度を
増大してゆくと、加工点での半導体ウエハ10に加わる
荷重も増大し、その結果、半導体ウエハ10の裏面側の
切断線の側方にチッピングTが発生することが確認され
た。
増大してゆくと、加工点での半導体ウエハ10に加わる
荷重も増大し、その結果、半導体ウエハ10の裏面側の
切断線の側方にチッピングTが発生することが確認され
た。
【0036】図6(a)は、切り込み量を厚さ625 μm
の半導体ウエハ10に対してその約半分の300 μmに設
定し、ブレ−ド21の回転数30000r.p.m、テ−ブル1の
送り速度を150mm/sec としてダイシングた場合で、その
場合、半導体ウエハ10の裏面側の切断線の側方にわず
かにチッピングTが発生することが確認された。このと
きのチッピングの幅寸法W4 は約25μmであり、また加
工点の荷重は90gfであった。
の半導体ウエハ10に対してその約半分の300 μmに設
定し、ブレ−ド21の回転数30000r.p.m、テ−ブル1の
送り速度を150mm/sec としてダイシングた場合で、その
場合、半導体ウエハ10の裏面側の切断線の側方にわず
かにチッピングTが発生することが確認された。このと
きのチッピングの幅寸法W4 は約25μmであり、また加
工点の荷重は90gfであった。
【0037】同図(b)は、切り込み量を半導体ウエハ
10の厚さとほぼ同じ630 μmに設定し、一度で切断す
るようにした場合で、他の切断条件は同図(a)の場合
と同じである。その場合、半導体ウエハ10の裏面側の
切断線の側方に同図にW5 で示す約54μmの幅寸法でチ
ッピングTが発生することが確認された。このときの加
工点の荷重は272gf であった。
10の厚さとほぼ同じ630 μmに設定し、一度で切断す
るようにした場合で、他の切断条件は同図(a)の場合
と同じである。その場合、半導体ウエハ10の裏面側の
切断線の側方に同図にW5 で示す約54μmの幅寸法でチ
ッピングTが発生することが確認された。このときの加
工点の荷重は272gf であった。
【0038】このことからも、切り込み量を増大させる
と、その変化に応じて加工点の荷重が増大し、チッピン
グが発生することが確認された。図5は、図4(a)〜
(c)の実験をもとに、チッピングの発生が加工点での
荷重の変化に関係することに着目し、加工点の荷重の変
化と、半導体ウエハ10の裏面に発生するチッピングの
発生領域、つまり幅寸法との関係をグラフに示したもの
で、このグラフからも加工点での荷重が増大すると、チ
ッピングが発生し易くなることが分かる。
と、その変化に応じて加工点の荷重が増大し、チッピン
グが発生することが確認された。図5は、図4(a)〜
(c)の実験をもとに、チッピングの発生が加工点での
荷重の変化に関係することに着目し、加工点の荷重の変
化と、半導体ウエハ10の裏面に発生するチッピングの
発生領域、つまり幅寸法との関係をグラフに示したもの
で、このグラフからも加工点での荷重が増大すると、チ
ッピングが発生し易くなることが分かる。
【0039】なお、実験デ−タは示していないが、ブレ
−ド21の回転数を高くすれば、それにつれて加工点で
の荷重が減少するから、回転数の増大に応じてチッピン
グの幅寸法も小さくなることが推察できる。
−ド21の回転数を高くすれば、それにつれて加工点で
の荷重が減少するから、回転数の増大に応じてチッピン
グの幅寸法も小さくなることが推察できる。
【0040】以上のことから、上記制御装置15に設定
される設定値Sは、半導体ウエハ10に発生するチッピ
ングが実用上、支障のない幅寸法以内となる加工点荷重
以下に設定される。実用上、支障のない幅寸法のチッピ
ングとは、そのチッピングが分割されたチップ10aに
形成された回路パタ−ンに及ばない幅寸法であることが
最低の条件である。実用上、チッピングの幅寸法は、半
導体ウエハ10に形成されたダイシングのためのストリ
−トの幅寸法以下であることが要求される。また、コン
タミネ−ションの観点からすると、チッピングは発生し
ないことが望ましいが、生産性との兼ね合いで、ある程
度の発生はやむを得ない。
される設定値Sは、半導体ウエハ10に発生するチッピ
ングが実用上、支障のない幅寸法以内となる加工点荷重
以下に設定される。実用上、支障のない幅寸法のチッピ
ングとは、そのチッピングが分割されたチップ10aに
形成された回路パタ−ンに及ばない幅寸法であることが
最低の条件である。実用上、チッピングの幅寸法は、半
導体ウエハ10に形成されたダイシングのためのストリ
−トの幅寸法以下であることが要求される。また、コン
タミネ−ションの観点からすると、チッピングは発生し
ないことが望ましいが、生産性との兼ね合いで、ある程
度の発生はやむを得ない。
【0041】このような構成のダイシング装置におい
て、半導体ウエハ10は以下のようにしてダイシングさ
れる。まず、チャッキング装置11の本体12の圧電素
子13上に半導体ウエハ13を載置したならば、接続口
体17からキャップ18を取り外し、その接続口体17
に図示しない真空ポンプを接続して内部を減圧する。そ
れによって、上記半導体ウエハ10は上記本体12上に
吸着されるから、吸着後に上記接続口体17をキャップ
18によって密閉し、その内部の減圧状態を維持する。
て、半導体ウエハ10は以下のようにしてダイシングさ
れる。まず、チャッキング装置11の本体12の圧電素
子13上に半導体ウエハ13を載置したならば、接続口
体17からキャップ18を取り外し、その接続口体17
に図示しない真空ポンプを接続して内部を減圧する。そ
れによって、上記半導体ウエハ10は上記本体12上に
吸着されるから、吸着後に上記接続口体17をキャップ
18によって密閉し、その内部の減圧状態を維持する。
【0042】このように、半導体ウエハ10を吸着した
ならば、そのチャッキング装置11をテ−ブル1上に載
置固定する。ついで、制御装置15によってブレ−ド2
1の回転数、テ−ブル1の送り速度、上記ブレ−ド21
による切り込み量をそれぞれ設定し、各モ−タ3、2
2、25を作動させる。
ならば、そのチャッキング装置11をテ−ブル1上に載
置固定する。ついで、制御装置15によってブレ−ド2
1の回転数、テ−ブル1の送り速度、上記ブレ−ド21
による切り込み量をそれぞれ設定し、各モ−タ3、2
2、25を作動させる。
【0043】上記半導体ウエハ10はテ−ブル1によっ
てX方向に往復駆動されるとともに、1往復ごとに上記
ブレ−ド21がX方向と直交するY方向に図示しないY
駆動機構により所定ピッチづつ送られることで切断加工
される。
てX方向に往復駆動されるとともに、1往復ごとに上記
ブレ−ド21がX方向と直交するY方向に図示しないY
駆動機構により所定ピッチづつ送られることで切断加工
される。
【0044】このような切断加工中に、上記チャッキン
グ装置11の本体12上面に設けられた圧電素子13の
各セル13aは、上記ブレ−ド21の切断加工にともな
い発生する、加工負荷である、加工荷重を検出する。各
セル13aが検出した加工荷重、つまり検出信号KはA
/D変換器14によってデジタル化されて制御装置15
に入力する。
グ装置11の本体12上面に設けられた圧電素子13の
各セル13aは、上記ブレ−ド21の切断加工にともな
い発生する、加工負荷である、加工荷重を検出する。各
セル13aが検出した加工荷重、つまり検出信号KはA
/D変換器14によってデジタル化されて制御装置15
に入力する。
【0045】ここで、上記検出信号Kは制御装置15に
設定された設定値Sと比較される。検出信号Kが設定値
Sよりも小さければ、加工点において半導体ウエハ10
裏面に発生するチッピングの幅寸法が許容値以内である
ことを意味するから、上記ブレ−ド21による切断条
件、つまり送り速度、回転数および切り込み量の切断条
件は変えられることなく加工が継続される。
設定された設定値Sと比較される。検出信号Kが設定値
Sよりも小さければ、加工点において半導体ウエハ10
裏面に発生するチッピングの幅寸法が許容値以内である
ことを意味するから、上記ブレ−ド21による切断条
件、つまり送り速度、回転数および切り込み量の切断条
件は変えられることなく加工が継続される。
【0046】加工点において、セル13aが検出した検
出信号Kが上記設定値Sよりも大きな場合は、その加工
点でのチッピングが許容された幅寸法よりも大きくなる
加工荷重が発生したことを意味する。そのような場合、
検出信号Kと設定値Sとの比較に基づいて、制御装置1
5からは第1乃至第3のD/A変換器26〜28のいず
れか1つあるいは複数に制御信号Cを出力する。
出信号Kが上記設定値Sよりも大きな場合は、その加工
点でのチッピングが許容された幅寸法よりも大きくなる
加工荷重が発生したことを意味する。そのような場合、
検出信号Kと設定値Sとの比較に基づいて、制御装置1
5からは第1乃至第3のD/A変換器26〜28のいず
れか1つあるいは複数に制御信号Cを出力する。
【0047】上記制御信号Cは加工点における加工荷重
を軽減させるためのものであって、たとえば第1のD/
A変換器26に対して出力されると、テ−ブル1の送り
速度が減速されて加工荷重を低減させる。制御信号Cが
第2のD/A変換器27に出力されると、ブレ−ド21
の回転が低下させられて加工荷重が低減され、第3のD
A変換器28に出力されるとブレ−ド21による切り込
み量が低減される。
を軽減させるためのものであって、たとえば第1のD/
A変換器26に対して出力されると、テ−ブル1の送り
速度が減速されて加工荷重を低減させる。制御信号Cが
第2のD/A変換器27に出力されると、ブレ−ド21
の回転が低下させられて加工荷重が低減され、第3のD
A変換器28に出力されるとブレ−ド21による切り込
み量が低減される。
【0048】実用上は、テ−ブル1の送り速度かブレ−
ド21の回転数を制御することが望ましく、これら2つ
のファクタのうち、どちらか一方あるいは2つを同時に
制御してもよい。
ド21の回転数を制御することが望ましく、これら2つ
のファクタのうち、どちらか一方あるいは2つを同時に
制御してもよい。
【0049】このように、セル13aが検出する加工点
での加工荷重が設定値Sよりも大きくなったならば、そ
の加工荷重が小さくなるように制御すれば、半導体ウエ
ハ10に発生するチッピングを実用上問題のない幅寸法
以下に抑えることができるから、歩留まりを高めること
ができる。
での加工荷重が設定値Sよりも大きくなったならば、そ
の加工荷重が小さくなるように制御すれば、半導体ウエ
ハ10に発生するチッピングを実用上問題のない幅寸法
以下に抑えることができるから、歩留まりを高めること
ができる。
【0050】上記半導体ウエハ10の所定方向に沿う切
断が終了したならば、その所定方向と直交する方向に対
して切断が行われる。それによって、上記半導体ウエハ
10は賽の目状、つまり多数のチップ10aに切断され
る。
断が終了したならば、その所定方向と直交する方向に対
して切断が行われる。それによって、上記半導体ウエハ
10は賽の目状、つまり多数のチップ10aに切断され
る。
【0051】分割された各チップ10aは、チャッキン
グ装置11の各セル13aにそれぞれ吸着保持されてい
る。したがって、半導体ウエハ10を切断加工した後
で、チャッキング装置11をテ−ブル1から取り外し、
このチャッキング装置11を図示しない洗浄装置へ搬入
することで、各チップ10aを洗浄することができる。
グ装置11の各セル13aにそれぞれ吸着保持されてい
る。したがって、半導体ウエハ10を切断加工した後
で、チャッキング装置11をテ−ブル1から取り外し、
このチャッキング装置11を図示しない洗浄装置へ搬入
することで、各チップ10aを洗浄することができる。
【0052】洗浄後、上記チャッキング装置11を、半
導体装置を製造する工程のうちの実装工程へ搬入し、そ
こで接続口体17からキャップ18を取り外し、本体1
2内部の減圧状態を解除する。それによって、本体12
上のチップ10aは図示しないピックアップによって1
つずつ取り出され、リ−ドフレ−ム(図示せず)にボン
デイングされることになる。
導体装置を製造する工程のうちの実装工程へ搬入し、そ
こで接続口体17からキャップ18を取り外し、本体1
2内部の減圧状態を解除する。それによって、本体12
上のチップ10aは図示しないピックアップによって1
つずつ取り出され、リ−ドフレ−ム(図示せず)にボン
デイングされることになる。
【0053】したがって、上記構成のチャッキング装置
11によれば、半導体ウエハ10をダイシングする工程
からダイシングされたチップ10aをリ−ドフレ−ムに
実装する工程まで、一貫して使用することができる。し
かも、ダイシングされたちチップ10aを保持するた
め、従来使用されていた高分子樹脂テ−プが不要となる
から、製造コストの低減、省資源、工程の短縮化による
生産性の向上などを計ることができる。
11によれば、半導体ウエハ10をダイシングする工程
からダイシングされたチップ10aをリ−ドフレ−ムに
実装する工程まで、一貫して使用することができる。し
かも、ダイシングされたちチップ10aを保持するた
め、従来使用されていた高分子樹脂テ−プが不要となる
から、製造コストの低減、省資源、工程の短縮化による
生産性の向上などを計ることができる。
【0054】図7はこの発明の他の実施例を示す。な
お、上記一実施例と同一部分には同一記号を付して説明
を省略する。つまり、この実施例は、加工負荷を検出す
る手段として、送りモ−タ3、回転モ−タ23およびZ
モ−タ25のそれぞれにロ−ドセル3a、23a、25
aを設け、これらロ−ドセルによって各モ−タに加わる
負荷を検出し、その検出信号Kを制御装置15に入力し
て設定値Sと比較するようにした。したがって、チャッ
キング装置11には圧電素子13を設ける必要はない。
お、上記一実施例と同一部分には同一記号を付して説明
を省略する。つまり、この実施例は、加工負荷を検出す
る手段として、送りモ−タ3、回転モ−タ23およびZ
モ−タ25のそれぞれにロ−ドセル3a、23a、25
aを設け、これらロ−ドセルによって各モ−タに加わる
負荷を検出し、その検出信号Kを制御装置15に入力し
て設定値Sと比較するようにした。したがって、チャッ
キング装置11には圧電素子13を設ける必要はない。
【0055】このような構成によれば、半導体ウエハ1
0の加工点における加工負荷を上記ロ−ドセル3a、2
3a、25aによって検出できるから、その検出信号で
上記半導体ウエハ10に加わる加工負荷を上記一実施例
と同様に制御することができる。
0の加工点における加工負荷を上記ロ−ドセル3a、2
3a、25aによって検出できるから、その検出信号で
上記半導体ウエハ10に加わる加工負荷を上記一実施例
と同様に制御することができる。
【0056】この場合、各ロ−ドセル3a、23a、2
5aによって、送りモ−タ3、回転モ−タ23およびZ
モ−タ25のいずれの加工負荷が増大したかを別々に検
出できる。そのため、加工荷重の増大の原因が、テ−ブ
ル1の送り速度が大き過ぎるのか、ブレ−ド21の回転
速度が速すぎるのか、あるいは切り込み量が大きすぎる
のかのいずれであるかを判別できるから、その判別結果
に応じて適切な制御が行える。
5aによって、送りモ−タ3、回転モ−タ23およびZ
モ−タ25のいずれの加工負荷が増大したかを別々に検
出できる。そのため、加工荷重の増大の原因が、テ−ブ
ル1の送り速度が大き過ぎるのか、ブレ−ド21の回転
速度が速すぎるのか、あるいは切り込み量が大きすぎる
のかのいずれであるかを判別できるから、その判別結果
に応じて適切な制御が行える。
【0057】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、半導体ウ
エハをブレ−ドによってダイシングする際、上記半導体
ウエハを切断することで発生する加工負荷を検出し、そ
の検出信号に基づいて切断条件を変化させるようにし
た。
エハをブレ−ドによってダイシングする際、上記半導体
ウエハを切断することで発生する加工負荷を検出し、そ
の検出信号に基づいて切断条件を変化させるようにし
た。
【0058】そのため、ダイシング時に加工負荷が増大
し過ぎ、半導体ウエハに所定以上のチッピングが発生す
るのを防止することができる。また、半導体ウエハをダ
イシングするときに、装置本体の内部を減圧すること
で、その上面に半導体ウエハを吸着保持するとともに、
その保持状態で内部を減圧状態に維持できるチャッキン
グ装置を用いるようにした。
し過ぎ、半導体ウエハに所定以上のチッピングが発生す
るのを防止することができる。また、半導体ウエハをダ
イシングするときに、装置本体の内部を減圧すること
で、その上面に半導体ウエハを吸着保持するとともに、
その保持状態で内部を減圧状態に維持できるチャッキン
グ装置を用いるようにした。
【0059】そのため、従来のように半導体ウエハに高
分子樹脂テ−プを張り付けずに、分割されたチップを確
実に保持した状態で取り扱うことができるばかりか、そ
の保持状態を容易に解除できるという利点がある。
分子樹脂テ−プを張り付けずに、分割されたチップを確
実に保持した状態で取り扱うことができるばかりか、そ
の保持状態を容易に解除できるという利点がある。
【図1】この発明の一実施例の全体構成図。
【図2】同じくダイシングされた半導体ウエハが保持さ
れたチャッキング装置の縦断面図。
れたチャッキング装置の縦断面図。
【図3】同じくチャッキング装置の半導体ウエハを除去
した状態の平面図。
した状態の平面図。
【図4】(a)〜(c)は同じくテ−ブルの送り速度を
変えた場合のチッピングの発生状態の説明図。
変えた場合のチッピングの発生状態の説明図。
【図5】同じくテ−ブルの送り速度を変えた場合の、加
工点における荷重とチッピングの発生幅寸法との関係を
示すグラフ。
工点における荷重とチッピングの発生幅寸法との関係を
示すグラフ。
【図6】(a)、(b)は同じく切り込み量を変えたと
きのチッピングの発生状態の説明図。
きのチッピングの発生状態の説明図。
【図7】この発明の他の実施例を示す全体構成図。
1…テ−ブル、3…送りモ−タ(駆動手段)、10…半
導体ウエハ、10a…チップ、11…チャッキング装
置、12…装置本体、13…圧電素子(検出手段)、1
3a…セル、15…制御装置、16…吸引孔、17…吸
引口体、18…キャップ、21…ブレ−ド、23…回転
モ−タ(駆動手段)、25…Zモ−タ(駆動手段)。
導体ウエハ、10a…チップ、11…チャッキング装
置、12…装置本体、13…圧電素子(検出手段)、1
3a…セル、15…制御装置、16…吸引孔、17…吸
引口体、18…キャップ、21…ブレ−ド、23…回転
モ−タ(駆動手段)、25…Zモ−タ(駆動手段)。
Claims (8)
- 【請求項1】 テ−ブル上に載置された半導体ウエハを
回転駆動されるブレ−ドによってダイシングするダイシ
ング装置において、 上記ブレ−ドの回転数、上記ブレ−ドと半導体ウエハと
の相対的な送り速度および切り込み量の切断条件を上記
半導体ウエハに与えるための駆動手段と、上記ブレ−ド
により上記半導体ウエハを切断することで発生する加工
負荷を検出する検出手段と、この検出手段からの検出信
号を予め定められた設定値と比較しその比較に基づいて
上記駆動手段による上記複数の切断条件のうちの少なく
とも1つの切断条件を変化させる制御手段とを具備した
ことを特徴とするダイシング装置。 - 【請求項2】 上記制御手段は、上記検出手段からの検
出信号によって上記ブレ−ドの回転数と送り速度のうち
の少なくともどちらか一方の切断条件を変化させること
を特徴とする請求項1記載のダイシング装置。 - 【請求項3】 上記検出手段は、上記半導体ウエハの下
側に配置されこの半導体ウエハに加わる負荷を検出する
圧電素子からなることを特徴とする請求項1記載のダイ
シング装置。 - 【請求項4】 上記検出手段は、上記駆動手段に設けら
れこの駆動手段に加わる負荷を検出するロ−ドセルから
なることを特徴とする請求項1記載のダイシング装置。 - 【請求項5】 テ−ブル上に載置された半導体ウエハを
回転駆動されるブレ−ドによってダイシングする半導体
ウエハのダイシング方法において、 上記半導体ウエハを所定の加工条件で切断する切断工程
と、この切断工程によって半導体ウエハを切断すること
で発生する加工負荷を検出する検出工程と、この検出工
程で検出された加工負荷を予め設定された設定値と比較
する比較工程と、この比較工程での比較に基づいて上記
半導体ウエハに対する加工条件を変化させる制御工程と
を具備したことを特徴とする半導体ウエハのダイシング
方法。 - 【請求項6】 複数のチップに切断される半導体ウエハ
を保持するためのチャッキング装置において、 中空状に形成された装置本体と、一端を上記装置本体の
上面に開口させ他端を上記装置本体内に連通させて設け
られ切断された各チップをそれぞれ吸着保持するための
複数の吸引孔と、上記装置本体の内部に連通して設けら
れ上記装置本体内を減圧して上記吸引孔に吸引力を発生
させその吸引力で上記半導体ウエハを上記装置本体上に
吸着させるために用いられるとともに上記半導体ウエハ
を吸着した状態で密封される吸引口体とを具備したこと
を特徴とするチャッキング装置。 - 【請求項7】 上記装置本体の上面には、半導体ウエハ
を切断するときに、この半導体ウエハに加わる負荷を検
出するシ−ト状の圧電素子が設けられていることを特徴
とする請求項6記載のチャッキング装置。 - 【請求項8】 上記検出素子は、切断されるチップの数
に応じた複数のセルに分割されていることを特徴とする
請求項7記載のチャッキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13202194A JPH07335592A (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | ダイシング装置とその方法およびダイシング用チャッキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13202194A JPH07335592A (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | ダイシング装置とその方法およびダイシング用チャッキング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07335592A true JPH07335592A (ja) | 1995-12-22 |
Family
ID=15071668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13202194A Pending JPH07335592A (ja) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | ダイシング装置とその方法およびダイシング用チャッキング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07335592A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000036475A (ja) * | 1998-07-21 | 2000-02-02 | Toshiba Corp | ダイシング装置及びその制御方法 |
| JP2006303367A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削方法 |
| JP2007081101A (ja) * | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削装置 |
| JP2009283604A (ja) * | 2008-05-21 | 2009-12-03 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削装置 |
| JP4990784B2 (ja) * | 2005-10-04 | 2012-08-01 | 日本省力機械株式会社 | 超音波トリム装置 |
| CN104057547A (zh) * | 2013-03-21 | 2014-09-24 | 株式会社东芝 | 加工夹具、加工装置及加工方法 |
| CN110193774A (zh) * | 2018-02-27 | 2019-09-03 | 株式会社迪思科 | 加工装置 |
| CN111293064A (zh) * | 2018-12-06 | 2020-06-16 | 力成科技股份有限公司 | 调整移动芯片设备的方法及该移动芯片设备 |
-
1994
- 1994-06-14 JP JP13202194A patent/JPH07335592A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000036475A (ja) * | 1998-07-21 | 2000-02-02 | Toshiba Corp | ダイシング装置及びその制御方法 |
| JP2006303367A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削方法 |
| JP2007081101A (ja) * | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削装置 |
| US8632377B2 (en) | 2005-10-04 | 2014-01-21 | Nihon Shoryoku Kikai Co., Ltd. | Ultrasonic trimming method |
| JP4990784B2 (ja) * | 2005-10-04 | 2012-08-01 | 日本省力機械株式会社 | 超音波トリム装置 |
| US8277282B2 (en) | 2005-10-04 | 2012-10-02 | Nihon Shoryoku Kikai Co., Ltd. | Ultrasonic trimming apparatus and ultrasonic trimming method |
| US8591285B2 (en) | 2005-10-04 | 2013-11-26 | Nihon Shoryoku Kikai Co., Ltd. | Ultrasonic trimming apparatus |
| JP2009283604A (ja) * | 2008-05-21 | 2009-12-03 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削装置 |
| CN104057547A (zh) * | 2013-03-21 | 2014-09-24 | 株式会社东芝 | 加工夹具、加工装置及加工方法 |
| CN104057547B (zh) * | 2013-03-21 | 2016-05-11 | 株式会社东芝 | 加工夹具、加工装置及加工方法 |
| CN110193774A (zh) * | 2018-02-27 | 2019-09-03 | 株式会社迪思科 | 加工装置 |
| CN111293064A (zh) * | 2018-12-06 | 2020-06-16 | 力成科技股份有限公司 | 调整移动芯片设备的方法及该移动芯片设备 |
| KR20200070053A (ko) * | 2018-12-06 | 2020-06-17 | 파워테크 테크놀로지 인코포레이티드 | 칩 이동 기기의 조정 방법 및 그 칩 이동 기기 |
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