JPH07335810A - 電子部品用リードフレームの電解式表面処理装置 - Google Patents

電子部品用リードフレームの電解式表面処理装置

Info

Publication number
JPH07335810A
JPH07335810A JP6128801A JP12880194A JPH07335810A JP H07335810 A JPH07335810 A JP H07335810A JP 6128801 A JP6128801 A JP 6128801A JP 12880194 A JP12880194 A JP 12880194A JP H07335810 A JPH07335810 A JP H07335810A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
width direction
electrode plates
surface treatment
electrolytic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6128801A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Wada
憲二 和田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP6128801A priority Critical patent/JPH07335810A/ja
Publication of JPH07335810A publication Critical patent/JPH07335810A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 リードフレームAの表面を電解にて表面処理
する場合に、リードフレームと、その両側に配設した両
電極板12,13との間における電流密度を、リードフ
レームの幅方向について均一にして、処理時間の短縮と
処理むらの低減とを図る。 【構成】 前記両電極板12,13のうち前記リードフ
レームAに対向する表面を、前記リードフレームにおけ
る幅方向の中央部の付近において高く、リードフレーム
における幅方向の左右両長手側縁A′,A″に向かって
次第に低く傾斜した中高面12c,13cに形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、IC等の電子部品の製
造に際して使用する薄金属板製のリードフレームにおい
て、当該リードフレームに合成樹脂製のモールド部を成
形するときに発生したバリを電解によって除去すると言
う電解バリ取り処理を施すとか、リードフレームの表面
に付着している油脂等を電解によって除去すると言う電
解脱脂処理を施すとか、或いは、この電解脱脂処理に続
いて銅等の金属の電解メッキ処理を施す等のような電解
表面処理を施すための装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、リードフレームに対する金属の
電解メッキ処理は、従来から良く知られ、且つ、図5に
示すように、処理液を入れた処理槽1内に、左右一対の
平面板状の電極板2,3を配設し、前記処理液のうち前
記両電極板2,3の間に、リードフレームAを、当該リ
ードフレームAが両電極板2,3に対して略平行になる
ように浸漬したのち、前記両電極板2,3を陽極とし、
リードフレームAを陰極として電解を行うものである。
【0003】また、電解バリ取り処理又は電解脱脂処理
は、前記リードフレームAを陰極又は陽極とし、両電極
板2,3を陽極又は陰極として電解を行うものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、これらの電
解に際しては、両電極板2,3と、その間に挿入したリ
ードフレームAとの間における電流密度は、リードフレ
ームAの長手方向については各所略均一であるものの、
リードフレームAの幅方向については、リードフレーム
Aの左右両長手側面縁A′,A″の付近に電流が集中す
ると言う現象があることのために、リードフレームAの
左右両長手側面縁A′,A″の付近において高く、リー
ドフレームAにおける幅方向の中央部の付近において低
くなる傾向を呈することになるから、リードフレームA
のうちその幅方向の中央部の付近に対する電解処理が、
リードフレームAのうち左右両長手側面縁A′,A″の
付近に対する電解処理よりも遅れるものである。
【0005】しかし、前記リードフレームAは、一般的
に言って、図1に示すように、幅方向の中央部の付近に
各種のリード端子A2等の主要部を設けるものであっ
て、前記した各種の表面処理は、主として、これら各リ
ード端子A2等の主要部に対して施すことが必要であ
る。従って、前記した従来における表面処理装置では、
リードフレームAにおける幅方向の中央部の付近に対す
る表面処理が遅れることにより、リードフレームAのう
ち必要な箇所である各リード端子A2等に対して所定の
表面処理を施すことに長い時間を必要とすることになる
から、処理能力が低くて、処理に要するコストが可成り
アップするばかりか、リードフレームAにおける幅方向
の左右両側面縁の付近と、リードフレームにおける幅方
向の中央部の付近との間に処理むらが発生すると言う問
題があった。
【0006】本発明は、リードフレームに対する電解に
よる表面処理に際しての電流密度は、リードフレームと
極板との間に距離に略比例することに着目し、このこと
を利用して、前記の問題を解消した電解式表面処理装置
を提供することを技術的課題とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明は、「処理槽内における処理液に浸漬した
リードフレームの左右両側の各々に、電極板を、当該電
極板がリードフレームの長手方向に沿って延びるように
配設して成る電解式表面処理装置において、前記両電極
板のうち前記リードフレームに対向する表面を、前記リ
ードフレームにおける幅方向の中央部の付近において高
く、リードフレームにおける幅方向の左右両長手側縁に
向かって次第に低く傾斜した中高面に形成する。」と言
う構成にした。
【0008】
【作 用】このように、両電極板のうちその間に位置
するリードフレームに対向する表面を、前記リードフレ
ームにおける幅方向の中央部の付近において高く、リー
ドフレームにおける幅方向の左右両長手側縁に向かって
次第に低く傾斜した中高面に形成したことにより、両電
極板とリードフレームとの間の距離は、リードフレーム
における幅方向の中央部の付近において小さく、リード
フレームにおける幅方向の左右両長手側面縁に向かって
次第に大きくなる。
【0009】一方、両電極板とリードフレームとの間に
おける電流密度は、その間の距離に略比例するものであ
るから、両電極板とリードフレームとの間における電流
密度が、リードフレームにおける幅方向の左右両長手側
面縁の付近において高くリードフレームにおける幅方向
の中央部の付近で低くなると言う傾向を、前記両電極板
の表面を前記したように中高面に形成したことによって
是正することができ、リードフレームにおける幅方向に
沿っての電流密度を均一化できるのであり、また、場合
によっては、リードフレームにおける幅方向の中央部の
付近における電流密度を、リードフレームにおける幅方
向の左右両長手側面縁の付近における電流密度よりも高
くすることができるのである。
【0010】
【発明の効果】従って、本発明によると、リードフレー
ムに対する電解式の表面処理に際して、リードフレーム
における幅方向の中央部の付近に対する表面処理が遅れ
ることを防止できて、リードフレームの表面処理に要す
る時間を短縮できるから、処理能力を向上できて、処理
に要するコストを大幅に低減できるのであり、しかも、
リードフレームAにおける幅方向の左右両側面縁の付近
と、リードフレームにおける幅方向の中央部の付近との
間の処理むら低減できる効果を有する。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を、図2〜図4の図面
について説明する。この図において符号11は、処理液
を入れた処理槽を示し、この処理槽11内における処理
液中に、長尺フープ状のリードフレームAを、当該リー
ドフレームAが処理槽11の一端部における側面板1
1′に穿設したスリット孔11aから入ったのち処理槽
11の他端部における側面板11″に穿設したスリット
孔11bが出て行くように浸漬し、この状態で、その長
手方向に適宜速度で移送するように構成する。
【0012】なお、前記処理槽11内における処理液
は、前記両スリット孔11a,11bから流出するが、
この流出した処理液は、図示しない受け槽で受けたのち
前記処理槽11内に戻すように構成されている。また、
前記処理槽11内には、前記リードフレームAの左右両
側に、電極板12,13が、当該両電極板12,13が
リードフレームAの長手方向に沿って略平行に延びるよ
うに配設されている。
【0013】そして、前記両電極板12,13のうちリ
ードフレームAに対向する表面を、前記リードフレーム
における幅方向の中央部の付近において高い平面12
a,13aと、高い平面12a,13aからリードフレ
ームAにおける幅方向の左右両長手側縁A′,A″に向
かって次第に低くなる傾斜面12b′,12b″、13
b′,13b″とから成る中高面12c,13cに形成
するのである。
【0014】この構成において、リードフレームAのそ
の長手方向に移送しながら、当該リードフレームAと両
電極板12,13とに対して通電することにより、前記
フープ状リードフレームAの表面を、電解によって連続
的に表面処理することができるのである。この場合にお
いて、両電極板12,13のうちその間に位置するリー
ドフレームAに対向する表面を、前記のように、中高面
12c,13cに形成したことにより、両電極板12,
13とリードフレームAとの間の距離は、リードフレー
ムAにおける幅方向の中央部の付近において小さく、リ
ードフレームAにおける幅方向の左右両長手側面縁
A′,A″に向かって次第に大きくなる。
【0015】一方、両電極板12,13とリードフレー
ムAとの間における電流密度は、その間の距離に略比例
するものであるから、両電極板12,13とリードフレ
ームAとの間における電流密度が、リードフレームAに
おける幅方向の左右両長手側面縁A′,A″の付近にお
いて高くリードフレームAにおける幅方向の中央部の付
近で低くなると言う傾向を、前記両電極板12,13の
表面を前記したように中高面12c,13cに形成した
ことによって是正することができ、リードフレームAに
おける幅方向に沿っての電流密度を均一化できるのであ
り、また、場合によっては、リードフレームAにおける
幅方向の中央部の付近における電流密度を、リードフレ
ームAにおける幅方向の左右両長手側面縁A′,A″の
付近における電流密度よりも高くすることができるので
ある。
【0016】なお、前記実施例は、長尺フープ状リード
フレームに対する電解式の表面処理に適用した場合を示
したが、本発明はこれに限らず、適宜長さにした短冊状
のリードフレームに対しても同様に適用できること言う
までもない。また、前記中高面12c,13cは、前記
実施例のように、平面12a,13aと傾斜面12
b′,12b″、13b′,13b″とによって構成す
ることに限らず、円弧状の湾曲面に構成しても良いので
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】リードフレームの平面図である。
【図2】本発明の実施例による表面処理装置を示す一部
切欠斜視図である。
【図3】本発明の実施例による表面処理装置を示す平面
図である。
【図4】図3のIV−IV視断面図である。
【図5】従来における表面処理装置の縦断正面図であ
る。
【符号の説明】
A リードフレーム A′,A″ リードフレームの長手側面縁 11 処理槽 12,13 電極板 12c,13c 中高面

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】処理槽内における処理液に浸漬したリード
    フレームの左右両側の各々に、電極板を、当該電極板が
    リードフレームの長手方向に沿って延びるように配設し
    て成る電解式表面処理装置において、前記両電極板のう
    ち前記リードフレームに対向する表面を、前記リードフ
    レームにおける幅方向の中央部の付近において高く、リ
    ードフレームにおける幅方向の左右両長手側縁に向かっ
    て次第に低く傾斜した中高面に形成したことを特徴とす
    る電子部品用リードフレームの電解式表面処理装置。
JP6128801A 1994-06-10 1994-06-10 電子部品用リードフレームの電解式表面処理装置 Pending JPH07335810A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6128801A JPH07335810A (ja) 1994-06-10 1994-06-10 電子部品用リードフレームの電解式表面処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6128801A JPH07335810A (ja) 1994-06-10 1994-06-10 電子部品用リードフレームの電解式表面処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07335810A true JPH07335810A (ja) 1995-12-22

Family

ID=14993774

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6128801A Pending JPH07335810A (ja) 1994-06-10 1994-06-10 電子部品用リードフレームの電解式表面処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07335810A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106757293A (zh) * 2016-12-13 2017-05-31 淳铭散热科技股份有限公司 一种结构型浸润梯度表面的制备装置
CN109881231A (zh) * 2019-03-12 2019-06-14 河南平高电气股份有限公司 筒状工件表面处理辅助电极及压气缸阳极氧化装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106757293A (zh) * 2016-12-13 2017-05-31 淳铭散热科技股份有限公司 一种结构型浸润梯度表面的制备装置
CN109881231A (zh) * 2019-03-12 2019-06-14 河南平高电气股份有限公司 筒状工件表面处理辅助电极及压气缸阳极氧化装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8177945B2 (en) Multi-anode system for uniform plating of alloys
US2560966A (en) Method of electroplating copper clad stainless steel cooking vessels
US10774437B2 (en) Method and apparatus for electrolytically depositing a deposition metal on a workpiece
WO2017018096A1 (ja) サクションめっき装置
KR100723845B1 (ko) 전기 절연 포일 재료의 표면상에 상호 절연된 도전성 구조체들을 전해 처리하는 방법 및 장치
JPH07335810A (ja) 電子部品用リードフレームの電解式表面処理装置
US20090302003A1 (en) Aqueous Solution for Chemical Polishing and Deburring and Process for Polishing and Deburring A Part made of Pure Nickel or Nickel-200 Therein
JP4177626B2 (ja) 線材の電気めっき方法、電気めっき装置、及び電気めっき線材
KR20230015910A (ko) 도금조, 도금 장치 및 전해 도금 방법
CN109097817B (zh) 一种改善低压阳极箔波浪边的方法及装置
JP2002129400A (ja) 電解研磨装置及びプレスバリを有する金属被加工物のバリ取り方法
JP6166492B1 (ja) 電気メッキ装置と電気メッキ方法
JP3355813B2 (ja) 鉄合金製リードフレームの電解研磨方法
KR102391070B1 (ko) 균일한 광택도를 위한 반도체 기재의 전해연마 하는 방법 및 전해액 조성물
CN219470265U (zh) 卷对卷式引线框架电镀设备退银工站的改善装置
JPS58151500A (ja) 電解剥離装置
JPH0739639B2 (ja) 部分めっき装置
JP3700476B2 (ja) 電解方法
JPH05263292A (ja) 金属素材の洗浄方法
JP4326099B2 (ja) 表面処理における給電装置
JP3043191U (ja) 電解銅メッキにおいて余分に溶け出す銅の回収装置
CN116971019A (zh) 电镀阴极接点自动化退镀装置和连续电镀作业方法
JPH0866830A (ja) 銅及び銅合金製リードフレームの電解研磨方法
JPH04191394A (ja) 銅被覆鋼線の製造方法
TW201231735A (en) Electroplate system and method for using the same