JPH0734642B2 - リニアモータ装置 - Google Patents
リニアモータ装置Info
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- JPH0734642B2 JPH0734642B2 JP1098601A JP9860189A JPH0734642B2 JP H0734642 B2 JPH0734642 B2 JP H0734642B2 JP 1098601 A JP1098601 A JP 1098601A JP 9860189 A JP9860189 A JP 9860189A JP H0734642 B2 JPH0734642 B2 JP H0734642B2
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- forming member
- field forming
- linear motor
- movable
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、可動子と磁場形成部材とからなるリニアモー
タを用いた複写機、プリンタ等の光学走査装置、磁気デ
イスク駆動装置等のリニアモータ装置に関するものであ
る。
タを用いた複写機、プリンタ等の光学走査装置、磁気デ
イスク駆動装置等のリニアモータ装置に関するものであ
る。
〈従来技術〉 従来、光磁気デイスク装置等のリニアモータ装置におい
て、例えば第7図の如く、直線移動可能な可動体1の一
部にボイスコイル等で構成された可動子2が配置され、
永久磁石等で構成された磁場形成部材3がベースフレー
ム4に固定されている。
て、例えば第7図の如く、直線移動可能な可動体1の一
部にボイスコイル等で構成された可動子2が配置され、
永久磁石等で構成された磁場形成部材3がベースフレー
ム4に固定されている。
〈発明が解決しようとする課題〉 従来のリニアモータ装置において、可動体1を移動させ
るために、ボイスコイルを駆動し可動子2に推力Fを発
生させると、磁場形成部材3に反力Fr(Fr=−F)が生
じ、その反力がベースフレーム4に伝達し、ベースフレ
ーム4が振動したり変形する等の悪影響を及ぼす。
るために、ボイスコイルを駆動し可動子2に推力Fを発
生させると、磁場形成部材3に反力Fr(Fr=−F)が生
じ、その反力がベースフレーム4に伝達し、ベースフレ
ーム4が振動したり変形する等の悪影響を及ぼす。
一例を挙げると、デイスク装置においては、データエラ
ーを発生する。また、高速複写機においては、複写機が
設置場所より動いてしまう、原稿が移動してしまう等の
問題が発生していた。
ーを発生する。また、高速複写機においては、複写機が
設置場所より動いてしまう、原稿が移動してしまう等の
問題が発生していた。
本発明は、上記に鑑み、可動子の移動により磁場形成部
材に生じる反力を伝達するのを防止して、制振性の向上
を図ることができるリニアモータ装置の提供を目的とす
る。
材に生じる反力を伝達するのを防止して、制振性の向上
を図ることができるリニアモータ装置の提供を目的とす
る。
〈課題を解決するための手段〉 本発明による請求項1による課題解決手段は、第1図〜
第4図の如く、ベースフレーム4上を直線移動自在に設
けられた可動子2と、該可動子2に対向して配された磁
場形成部材3とを備えたリニアモータ装置において、前
記磁場形成部材3Aに、前記可動子2の駆動によって生じ
る反力によりベースフレーム4上を移動可能とする移動
手段5が設けられたものである。
第4図の如く、ベースフレーム4上を直線移動自在に設
けられた可動子2と、該可動子2に対向して配された磁
場形成部材3とを備えたリニアモータ装置において、前
記磁場形成部材3Aに、前記可動子2の駆動によって生じ
る反力によりベースフレーム4上を移動可能とする移動
手段5が設けられたものである。
請求項2による課題解決手段は、第5,6図の如く、移動
手段5により移動された磁場形成部材3を、元の位置に
復帰させるための復帰手段17が設けられたものである。
手段5により移動された磁場形成部材3を、元の位置に
復帰させるための復帰手段17が設けられたものである。
〈作 用〉 上記請求項1における課題解決手段において、リニアモ
ータ装置の駆動に際して、可動子2のコイルの励磁を切
換えて、可動子2に推力F(t)を発生させると、可動
子2は移動し、この際に磁場形成部材3には反力Fr
(t)(Fr(t)=−F(t))が発生するが、磁場形
成部材3はベースフレーム4に対して移動可能に設けら
れているので、磁場形成部材3は可動子2と逆の方向に
移動し、磁場形成部材3に発生する反力Fr(t)は、磁
場形成部材3の移動で吸収されベースフレーム4に伝達
されない。
ータ装置の駆動に際して、可動子2のコイルの励磁を切
換えて、可動子2に推力F(t)を発生させると、可動
子2は移動し、この際に磁場形成部材3には反力Fr
(t)(Fr(t)=−F(t))が発生するが、磁場形
成部材3はベースフレーム4に対して移動可能に設けら
れているので、磁場形成部材3は可動子2と逆の方向に
移動し、磁場形成部材3に発生する反力Fr(t)は、磁
場形成部材3の移動で吸収されベースフレーム4に伝達
されない。
ここで、可動体1および可動子2の合計の可動部質量を
m1、速度をV(t)、変位をX(t)、発生推力をF
(t)、また磁場形成部材3の質量をm3、速度をVr
(t)、変位をXr(t)、反力をFr(t)とし、摩擦負
荷等を無視すると、 Fr(t)=−F(t) V(t)=1/m1∫F(t)dt X(t)=1/m1∫∫F(t)dt2 Vr(t)=1/m3∫Fr(t)dt Xr(t)=1/m3∫∫Fr(t)dt2 ∴Xr(t)=−m1/m3X(t) となり、磁場形成部材3は可動部の変位X(t)のm1/m
3だけ変位し、反力は磁場形成部材3の移動で吸収され
る。
m1、速度をV(t)、変位をX(t)、発生推力をF
(t)、また磁場形成部材3の質量をm3、速度をVr
(t)、変位をXr(t)、反力をFr(t)とし、摩擦負
荷等を無視すると、 Fr(t)=−F(t) V(t)=1/m1∫F(t)dt X(t)=1/m1∫∫F(t)dt2 Vr(t)=1/m3∫Fr(t)dt Xr(t)=1/m3∫∫Fr(t)dt2 ∴Xr(t)=−m1/m3X(t) となり、磁場形成部材3は可動部の変位X(t)のm1/m
3だけ変位し、反力は磁場形成部材3の移動で吸収され
る。
したがって、磁場形成部材3にベースフレーム4上を移
動可能とする移動手段5を設けることで、ベースフレー
ム4に振動が伝達するのを防ぐことができ、制振性の向
上を図ることができる。
動可能とする移動手段5を設けることで、ベースフレー
ム4に振動が伝達するのを防ぐことができ、制振性の向
上を図ることができる。
請求項2においては、可動子2の駆動に応じて、磁場形
成部材3は移動手段5により逆方向に移動する。そし
て、可動子2のリターン動作で、磁場形成部材3は再び
逆方向に移動して、元の待機位置に復帰する。
成部材3は移動手段5により逆方向に移動する。そし
て、可動子2のリターン動作で、磁場形成部材3は再び
逆方向に移動して、元の待機位置に復帰する。
しかし、これを繰り返すことにより、磁場形成部材3の
待機位置の変動を生じる。このとき、復帰手段17により
磁場形成部材3を正規の待機位置に復元させる。
待機位置の変動を生じる。このとき、復帰手段17により
磁場形成部材3を正規の待機位置に復元させる。
したがって、復帰手段17を設けることにより、磁場形成
部材3は常に正規の待機位置に復元するため、一定した
発生推力を得ることができ、リニアモータ装置の移動速
度を安定にすることができる。
部材3は常に正規の待機位置に復元するため、一定した
発生推力を得ることができ、リニアモータ装置の移動速
度を安定にすることができる。
〈実 施 例〉 以下、本発明のリニアモータ装置をスキヤン露光方式の
複写機に適用した実施例を図面に基づいて説明する。
複写機に適用した実施例を図面に基づいて説明する。
[第一実施例] 第1図は本発明の第一実施例のリニアモータ装置の平面
図、第2図は第1図におけるX−X線断面図、第3図は
本発明の原理図、第4図は動作説明図である。
図、第2図は第1図におけるX−X線断面図、第3図は
本発明の原理図、第4図は動作説明図である。
本発明のリニアモータ装置は、図示の如く、ベースフレ
ーム4上を直線移動自在に設けられた可動体1a,1bに固
定された可動子2と、該可動子2に対向して配された磁
場形成部材3とを備え、前記磁場形成部材3に、前記可
動子2の駆動によって生じる反力によりベースフレーム
4上を可動子2の移動方向と反対方向に移動可能とする
移動手段5が設けられたものである。
ーム4上を直線移動自在に設けられた可動体1a,1bに固
定された可動子2と、該可動子2に対向して配された磁
場形成部材3とを備え、前記磁場形成部材3に、前記可
動子2の駆動によって生じる反力によりベースフレーム
4上を可動子2の移動方向と反対方向に移動可能とする
移動手段5が設けられたものである。
前記ベースフレーム4は、複写機の本体内部に内装固定
されたもので、前記第一可動体1aは、細長の平板状のも
ので、45゜ミラー、ランプユニツト等を搭載した光学ユ
ニツトであり、第二可動体1bは、第一可動体1aと同形状
のもので直角ミラーを搭載している。
されたもので、前記第一可動体1aは、細長の平板状のも
ので、45゜ミラー、ランプユニツト等を搭載した光学ユ
ニツトであり、第二可動体1bは、第一可動体1aと同形状
のもので直角ミラーを搭載している。
前記可動子2a,2bは、3個のコイル6a,6b,6cと、該コイ
ル6a,6b,6cから発生する磁束の通路を構成する可動ヨー
ク7a,7b,7c,7dとからなる。なお、可動ヨーク7a,7bは、
前記可動体1aの両端に、可動ヨーク7c,7dは可動体1bの
両端に固定されており、可動ヨーク7a,7b,7c,7dの外側
面にそれぞれコイル6a,6b,6cが並設されている。
ル6a,6b,6cから発生する磁束の通路を構成する可動ヨー
ク7a,7b,7c,7dとからなる。なお、可動ヨーク7a,7bは、
前記可動体1aの両端に、可動ヨーク7c,7dは可動体1bの
両端に固定されており、可動ヨーク7a,7b,7c,7dの外側
面にそれぞれコイル6a,6b,6cが並設されている。
そして、可動体1a,1bの一端の可動ヨーク7a,7cの内側
に、可動体用軸受8a,8bが取り付けられており、該軸受8
a,8bが、ベースフレーム4に両端をホルダー9a,9bによ
り固定された軸10に摺動自在に支持されている。
に、可動体用軸受8a,8bが取り付けられており、該軸受8
a,8bが、ベースフレーム4に両端をホルダー9a,9bによ
り固定された軸10に摺動自在に支持されている。
また、可動体1a,1bの他端の可動ヨーク7b,7dの内側に、
移動用ローラ11が配設されており、前記軸10に支持され
た軸受8a,8bと移動用ローラ11とで可動体1a,1bの直線運
動機構が構成される。
移動用ローラ11が配設されており、前記軸10に支持され
た軸受8a,8bと移動用ローラ11とで可動体1a,1bの直線運
動機構が構成される。
前記磁場形成部材3は、前記コイル6a,6b,6cに対応して
多極着磁された永久磁石12a,12bと、該永久磁石12a,12b
を一直線状に配列して固定する固定ヨーク13a,13bとか
らなり、前記コイル6a,6b,6cの外側に一定の隙間を有し
て配されており、前記コイル6a,6b,6cと永久磁石12a,12
bとで3相ブラシレスリニアモータが構成される。そし
て、可動体1a,1bの両側に設けられた固定ヨーク13a,13b
は、その端部同士を連結板14a,14bで連結されており、
一体的に形成された枠体14となる。
多極着磁された永久磁石12a,12bと、該永久磁石12a,12b
を一直線状に配列して固定する固定ヨーク13a,13bとか
らなり、前記コイル6a,6b,6cの外側に一定の隙間を有し
て配されており、前記コイル6a,6b,6cと永久磁石12a,12
bとで3相ブラシレスリニアモータが構成される。そし
て、可動体1a,1bの両側に設けられた固定ヨーク13a,13b
は、その端部同士を連結板14a,14bで連結されており、
一体的に形成された枠体14となる。
リニアモータのコイル6a,6b,6cと永久磁石12a,12bの配
置関係、駆動回路、駆動方法については、本件発明者等
が先に発明した特願昭63−68425号「リニアモータおよ
びリニアモータを使用した直線駆動装置」、特願昭63−
129982号「直線駆動装置」、特願昭63−217276号「直線
駆動装置」に説明している。
置関係、駆動回路、駆動方法については、本件発明者等
が先に発明した特願昭63−68425号「リニアモータおよ
びリニアモータを使用した直線駆動装置」、特願昭63−
129982号「直線駆動装置」、特願昭63−217276号「直線
駆動装置」に説明している。
前記移動手段5は、一側の固定ヨーク13aに取り付けら
れた前後一対の磁場形成部材用軸受15a,15bと、他側の
固定ヨーク13bに取り付けられた前後一対の移動用ロー
ラ16a,16bとからなり、それぞれ両側の連結板14a,14bに
近接して配されている。そして、前記軸受15a,15bは、
前記軸10に摺動自在に支持されており、枠体14はベース
フレーム4上を移動可能とされる。
れた前後一対の磁場形成部材用軸受15a,15bと、他側の
固定ヨーク13bに取り付けられた前後一対の移動用ロー
ラ16a,16bとからなり、それぞれ両側の連結板14a,14bに
近接して配されている。そして、前記軸受15a,15bは、
前記軸10に摺動自在に支持されており、枠体14はベース
フレーム4上を移動可能とされる。
上記構成において、リニアモータ装置の駆動に際して、
可動ヨーク7a,7bおよび可動ヨーク7c,7dに取り付けられ
たホール素子(図示せず)に応じて3相コイルの励磁を
切換え、光路長を一定に保つため、第一可動体1aと第二
可動体1bは速度比2:1で同期運転される。詳細は、本件
発明者等の発明による特願昭62−332634号「複写機の光
学系移動装置」に説明したので、ここでは説明を省略す
る。
可動ヨーク7a,7bおよび可動ヨーク7c,7dに取り付けられ
たホール素子(図示せず)に応じて3相コイルの励磁を
切換え、光路長を一定に保つため、第一可動体1aと第二
可動体1bは速度比2:1で同期運転される。詳細は、本件
発明者等の発明による特願昭62−332634号「複写機の光
学系移動装置」に説明したので、ここでは説明を省略す
る。
駆動に際し、可動子2a,2bに推力Fa(t),Fb(t)を発
生させると、可動体1a,1bは第1図に示すスキヤン方向
Aに移動し、この際に磁場形成部材3には反力Fr(t)
(Fr(t)=−Fa(t)−Fb(t))が発生するが、磁
場形成部材3はベースフレーム4に対して移動可能に設
けられているので、磁場形成部材3は可動体1a,1bの逆
の方向Bに移動し、磁場形成部材3に発生する反力Fr
(t)はベースフレーム4に伝達されない。
生させると、可動体1a,1bは第1図に示すスキヤン方向
Aに移動し、この際に磁場形成部材3には反力Fr(t)
(Fr(t)=−Fa(t)−Fb(t))が発生するが、磁
場形成部材3はベースフレーム4に対して移動可能に設
けられているので、磁場形成部材3は可動体1a,1bの逆
の方向Bに移動し、磁場形成部材3に発生する反力Fr
(t)はベースフレーム4に伝達されない。
また、可動体1a,1bのリターン動作時には、可動体1a,1b
はリターン方向Bに移動し、磁場形成部材3は反力によ
りスキヤン方向Aへ移動し、元の待機位置に復帰する。
はリターン方向Bに移動し、磁場形成部材3は反力によ
りスキヤン方向Aへ移動し、元の待機位置に復帰する。
ここで、第1図においても第3図と同様であり、可動体
1aおよび可動子2aの可動部質量をm1a、速度をVa
(t)、変位をXa(t)、発生推力をFa(t)、可動体
1bおよび可動子2bの可動部質量をm1b、速度をVb
(t)、変位をXb(t)、発生推力をFb(t)、磁場形
成部材3の質量をm3、速度をVr(t)、変位をXr
(t)、反力をFr(t)とし、摩擦負荷等を無視すると Fr(t)=−(Fa(t)+Fb(t)) Va(t)=1/m1a∫Fa(t)dt Xa(t)=1/m1a∫∫Fa(t)dt Vb(t)=1/m3b∫Fb(t)dt Xb(t)=1/m1b∫∫Fb(t)dt Xr(t)=1/m3b∫∫Fr(t)dt ∴Xr(t)=−(m1a/m3Xa(t)+m1b/m3Xb(t)) となる。
1aおよび可動子2aの可動部質量をm1a、速度をVa
(t)、変位をXa(t)、発生推力をFa(t)、可動体
1bおよび可動子2bの可動部質量をm1b、速度をVb
(t)、変位をXb(t)、発生推力をFb(t)、磁場形
成部材3の質量をm3、速度をVr(t)、変位をXr
(t)、反力をFr(t)とし、摩擦負荷等を無視すると Fr(t)=−(Fa(t)+Fb(t)) Va(t)=1/m1a∫Fa(t)dt Xa(t)=1/m1a∫∫Fa(t)dt Vb(t)=1/m3b∫Fb(t)dt Xb(t)=1/m1b∫∫Fb(t)dt Xr(t)=1/m3b∫∫Fr(t)dt ∴Xr(t)=−(m1a/m3Xa(t)+m1b/m3Xb(t)) となる。
したがつて、磁場形成部材3をベースフレーム4上に移
動可能に設けることで、磁場形成部材3に生じる反力を
磁場形成部材3の移動により吸収させ、ベースフレーム
4に振動が伝達するのを防ぐことができ、制振性の向上
を図ることができる。
動可能に設けることで、磁場形成部材3に生じる反力を
磁場形成部材3の移動により吸収させ、ベースフレーム
4に振動が伝達するのを防ぐことができ、制振性の向上
を図ることができる。
[第二実施例] 第5図は本発明の第二実施例を示すリニアモータ装置の
要部拡大図である。
要部拡大図である。
本実施例のリニアモータ装置は、図示の如く、軸受の摺
動負荷等により磁場形成部材3の復帰位置の変動に対策
したものであり、移動手段5により移動された磁場形成
部材3を、元の位置に復帰させるための復帰手段17が設
けられている。
動負荷等により磁場形成部材3の復帰位置の変動に対策
したものであり、移動手段5により移動された磁場形成
部材3を、元の位置に復帰させるための復帰手段17が設
けられている。
そして、前記復帰手段17は、コイルばね18が軸10を介し
てその一端をホルダー9bに固定し、他端を固定ヨーク13
aの連結板14bに固定したものであり、磁場形成部材3が
正規の待機位置にある場合、コイルばね18は中立点であ
るようにばね定数が設定されている。なお、他の構成は
上記第一実施例と同様である。
てその一端をホルダー9bに固定し、他端を固定ヨーク13
aの連結板14bに固定したものであり、磁場形成部材3が
正規の待機位置にある場合、コイルばね18は中立点であ
るようにばね定数が設定されている。なお、他の構成は
上記第一実施例と同様である。
上記構成において、可動体1a,1bのスキヤン動作に応じ
て発生した反力がばね力に打ち勝つて、磁場形成部材3
は移動手段5により逆方向に移動する。そして、可動体
1a,1bのリターン動作で磁場形成部材3は再び逆方向に
移動して、元の待機位置に復帰する。
て発生した反力がばね力に打ち勝つて、磁場形成部材3
は移動手段5により逆方向に移動する。そして、可動体
1a,1bのリターン動作で磁場形成部材3は再び逆方向に
移動して、元の待機位置に復帰する。
しかし、スキヤン動作とリターン動作を繰り返すことに
より、磁場形成部材用軸受15a,15bと移動軸10との摩
擦、移動用ローラ16a,16bとベースフレーム4との摩擦
等のため、磁場形成部材3の待機位置の変動を生じる。
このとき、コイルばね18は、圧縮もしくは伸縮した状態
となり、ばね力により磁場形成部材3を正規の待機位置
に復元させる。
より、磁場形成部材用軸受15a,15bと移動軸10との摩
擦、移動用ローラ16a,16bとベースフレーム4との摩擦
等のため、磁場形成部材3の待機位置の変動を生じる。
このとき、コイルばね18は、圧縮もしくは伸縮した状態
となり、ばね力により磁場形成部材3を正規の待機位置
に復元させる。
なお、コイルばね18は、連結板14a,14b、ホルダー9a,9b
の各間に挿入し、磁場形成部材3の両側に設けてもよ
い。
の各間に挿入し、磁場形成部材3の両側に設けてもよ
い。
したがつて、復帰手段17を設けることにより、磁場形成
部材3は常に正規の待機位置に復元するため、磁場形成
部材3の永久磁石12a,12bと可動子2a,2bのコイル6a,6b,
6cとの対向位置は常に安定し、リニアモータ装置の動作
を安定にすることができる。
部材3は常に正規の待機位置に復元するため、磁場形成
部材3の永久磁石12a,12bと可動子2a,2bのコイル6a,6b,
6cとの対向位置は常に安定し、リニアモータ装置の動作
を安定にすることができる。
[第三実施例] 第6図は本発明の第三実施例を示すリニアモータ装置の
要部拡大図である。
要部拡大図である。
本実施例のリニアモータ装置の復帰手段17は、図示の如
く、固定ヨーク13の変位を検出する変位検出器19と、該
変位検出器19からの変位出力信号によりサーボ駆動され
る微動用コイル20と、出力信号をフイードバツクしてコ
イル20をサーボ駆動させるマイクロコンピユータを有す
る制御部21とからなる。
く、固定ヨーク13の変位を検出する変位検出器19と、該
変位検出器19からの変位出力信号によりサーボ駆動され
る微動用コイル20と、出力信号をフイードバツクしてコ
イル20をサーボ駆動させるマイクロコンピユータを有す
る制御部21とからなる。
前記変位検出器19は、一般に広く用いられている反射光
学式距離センサ、または超音波式距離センサが用いら
れ、固定ヨーク13a,13bの連結板14bの外側のベースフレ
ーム4に取り付けられている。そして、前記微動用コイ
ル20は、磁束通路を形成するための微動用固定ヨーク22
に取り付けられ、固定ヨーク13aと軸10との間で永久磁
石12aに対向してベースフレーム4に固定されている。
学式距離センサ、または超音波式距離センサが用いら
れ、固定ヨーク13a,13bの連結板14bの外側のベースフレ
ーム4に取り付けられている。そして、前記微動用コイ
ル20は、磁束通路を形成するための微動用固定ヨーク22
に取り付けられ、固定ヨーク13aと軸10との間で永久磁
石12aに対向してベースフレーム4に固定されている。
なお、他の構成は上記第一実施例と同様である。
上記構成において、可動体1a,1bのスキヤン動作を繰り
返すと、磁場形成部材3の待機位置に変動が生じてく
る。この磁場形成部材3の変位を変位検出器19により検
出して、その変位出力信号をフイードバツク信号として
制御部21により磁場形成部材3の変位が零となるよう微
動用コイル20をサーボ駆動する。そして、磁場形成部材
3は、微小距離だけ移動して、正規の待機位置に復帰す
る。
返すと、磁場形成部材3の待機位置に変動が生じてく
る。この磁場形成部材3の変位を変位検出器19により検
出して、その変位出力信号をフイードバツク信号として
制御部21により磁場形成部材3の変位が零となるよう微
動用コイル20をサーボ駆動する。そして、磁場形成部材
3は、微小距離だけ移動して、正規の待機位置に復帰す
る。
このように、本実施例においても、第二実施例と同様の
効果を得ることができる。
効果を得ることができる。
なお、本発明は、上記実施例に限定されるものではな
く、本発明の範囲内で上記実施例に多くの修正および変
更を加え得ることは勿論である。
く、本発明の範囲内で上記実施例に多くの修正および変
更を加え得ることは勿論である。
例えば、可動子2および磁場形成部材3を移動軸10に沿
って移動させる代わりに、ベースフレームに設けたレー
ルに沿つて移動させてもよい。
って移動させる代わりに、ベースフレームに設けたレー
ルに沿つて移動させてもよい。
〈発明の効果〉 以上の説明から明らかな通り、本発請求項1によると、
磁場形成部材に、可動子の駆動によつて生じる反力によ
りベースフレーム上を可動子の移動方向と反対方向に移
動可能とする移動手段が設けられたため、磁場形成部材
に生じる反力を磁場形成部材の移動により吸収させ、ベ
ースフレームに振動が伝達するのを防ぐことができ、制
振性の向上を図ることができる。
磁場形成部材に、可動子の駆動によつて生じる反力によ
りベースフレーム上を可動子の移動方向と反対方向に移
動可能とする移動手段が設けられたため、磁場形成部材
に生じる反力を磁場形成部材の移動により吸収させ、ベ
ースフレームに振動が伝達するのを防ぐことができ、制
振性の向上を図ることができる。
請求項2によると、移動手段により移動された磁場形成
部材を、元の位置に復帰させるための復帰手段が設けら
れているので、磁場形成部材は常に正規の待機位置に復
元され、磁場形成部材と可動子との対向位置は常に安定
し、リニアモータ装置の動作を安定にすることができる
といつた優れた効果がある。
部材を、元の位置に復帰させるための復帰手段が設けら
れているので、磁場形成部材は常に正規の待機位置に復
元され、磁場形成部材と可動子との対向位置は常に安定
し、リニアモータ装置の動作を安定にすることができる
といつた優れた効果がある。
第1図は本発明の第一実施例のリニアモータ装置の平面
図、第2図は第1図におけるX−X線断面図、第3図は
本発明の原理図、第4図は動作説明図、第5図は本発明
の第二実施例を示すリニアモータ装置の要部拡大図、第
6図は本発明の第三実施例を示すリニアモータ装置の要
部拡大図、第7図は従来のリニアモータ装置の原理図で
ある。 2:可動子、3:磁場形成部材、4:ベースフレーム、5:移動
手段、17:復帰手段。
図、第2図は第1図におけるX−X線断面図、第3図は
本発明の原理図、第4図は動作説明図、第5図は本発明
の第二実施例を示すリニアモータ装置の要部拡大図、第
6図は本発明の第三実施例を示すリニアモータ装置の要
部拡大図、第7図は従来のリニアモータ装置の原理図で
ある。 2:可動子、3:磁場形成部材、4:ベースフレーム、5:移動
手段、17:復帰手段。
Claims (2)
- 【請求項1】ベースフレーム上を直線移動自在に設けら
れた可動子と、該可動子に対向して配された磁場形成部
材とを備えたリニアモータ装置において、前記磁場形成
部材に、前記可動子の駆動によって生じる反力によりベ
ースフレーム上を移動可能とする移動手段が設けられた
ことを特徴とするリニアモータ装置。 - 【請求項2】請求項1記載の移動手段により移動された
請求項1記載の磁場形成部材を、元の位置に復帰させる
ための復帰手段が設けられたことを特徴とするリニアモ
ータ装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1098601A JPH0734642B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | リニアモータ装置 |
| DE69009841T DE69009841T2 (de) | 1989-04-17 | 1990-04-17 | Linearantriebsgerät. |
| US07/509,806 US5208497A (en) | 1989-04-17 | 1990-04-17 | Linear driving apparatus |
| EP90304115A EP0393994B1 (en) | 1989-04-17 | 1990-04-17 | A linear driving apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1098601A JPH0734642B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | リニアモータ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02276454A JPH02276454A (ja) | 1990-11-13 |
| JPH0734642B2 true JPH0734642B2 (ja) | 1995-04-12 |
Family
ID=14224135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1098601A Expired - Lifetime JPH0734642B2 (ja) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | リニアモータ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0734642B2 (ja) |
-
1989
- 1989-04-17 JP JP1098601A patent/JPH0734642B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02276454A (ja) | 1990-11-13 |
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