JPH10125593A - ステージ装置 - Google Patents
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- JPH10125593A JPH10125593A JP29793396A JP29793396A JPH10125593A JP H10125593 A JPH10125593 A JP H10125593A JP 29793396 A JP29793396 A JP 29793396A JP 29793396 A JP29793396 A JP 29793396A JP H10125593 A JPH10125593 A JP H10125593A
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- stage
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 移動体の加減速に伴う反力を定盤に伝えなく
し、移動体の高速、高精度な位置決めを実現する。 【解決手段】 上面に基準面を有する定盤と、前記定盤
の基準面上で第１の方向に移動する第１の移動体と、前
記第１の移動体を駆動する駆動力を発生する第１の移動
手段と、前記定盤の基準面上で前記第１の移動体に対し
第１の方向と直交する第２の方向に移動可能に装着され
かつ基体を搭載する第２の移動体と、前記第２の移動体
を駆動する駆動力を発生する第１の移動体に設けられた
第２の移動手段と、前記第１の移動体を前記第２の方向
に力補償素子を介して支持する基台と、前記基台と定盤
間の振動除去手段とを設ける。
し、移動体の高速、高精度な位置決めを実現する。 【解決手段】 上面に基準面を有する定盤と、前記定盤
の基準面上で第１の方向に移動する第１の移動体と、前
記第１の移動体を駆動する駆動力を発生する第１の移動
手段と、前記定盤の基準面上で前記第１の移動体に対し
第１の方向と直交する第２の方向に移動可能に装着され
かつ基体を搭載する第２の移動体と、前記第２の移動体
を駆動する駆動力を発生する第１の移動体に設けられた
第２の移動手段と、前記第１の移動体を前記第２の方向
に力補償素子を介して支持する基台と、前記基台と定盤
間の振動除去手段とを設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種測定器、およ
び半導体リソグラフィ工程で用いる投影露光装置などに
おいて高速、高精度で物体の移動、位置決めをするステ
ージ装置に関するものである。
び半導体リソグラフィ工程で用いる投影露光装置などに
おいて高速、高精度で物体の移動、位置決めをするステ
ージ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６は従来のステージ装置の構成例を示
す図である。同図において、５１はステージ基盤であ
り、ステージ基盤５１上にＹ方向（紙面垂直方向）への
移動機構としてのＹステージ５２が載置されている。５
３はボールねじにより回転方向を直線運動に変換しＹス
テージ５２をＹ方向へ駆動するＤＣサーボモータであ
り、ステージ基盤５１に固定されている。５４はＹステ
ージ５２に装着されているＸステージである。５５はボ
ールねじ５６により回転運動を直線運動に変換しＸステ
ージ５４をＸ方向へ駆動するＤＣサーボモータであり、
Ｙステージ５２に固定されている。１はステージ基盤を
保持する定盤である。
す図である。同図において、５１はステージ基盤であ
り、ステージ基盤５１上にＹ方向（紙面垂直方向）への
移動機構としてのＹステージ５２が載置されている。５
３はボールねじにより回転方向を直線運動に変換しＹス
テージ５２をＹ方向へ駆動するＤＣサーボモータであ
り、ステージ基盤５１に固定されている。５４はＹステ
ージ５２に装着されているＸステージである。５５はボ
ールねじ５６により回転運動を直線運動に変換しＸステ
ージ５４をＸ方向へ駆動するＤＣサーボモータであり、
Ｙステージ５２に固定されている。１はステージ基盤を
保持する定盤である。
【０００３】９ａ，９ｂはレーザ測長器用の反射ミラー
であり、Ｘステージ５４に固定されている。５７はＸス
テージ５４のＸ方向の位置を検出するレーザ測長器の干
渉計であり、取り付け台５８を介して定盤１に固定され
ている。１３は定盤１を支持し、装置を設置する床から
の振動伝達を遮断するところのマウント部材である。上
記構成においては、Ｙステージ５２およびＸステージ５
４を駆動すると加減速に伴う反力が定盤１に伝わる。
であり、Ｘステージ５４に固定されている。５７はＸス
テージ５４のＸ方向の位置を検出するレーザ測長器の干
渉計であり、取り付け台５８を介して定盤１に固定され
ている。１３は定盤１を支持し、装置を設置する床から
の振動伝達を遮断するところのマウント部材である。上
記構成においては、Ｙステージ５２およびＸステージ５
４を駆動すると加減速に伴う反力が定盤１に伝わる。
【０００４】一方、特開平５−７７１２６には、剛性の
低い定盤支持手段によって支持された定盤と、この定盤
に設けられた案内手段と、定盤と案内手段によって支持
された可動ステージと、この可動ステージに推力を与え
る駆動手段とを含む移動ステージにおいて、前記駆動手
段を定盤とは独立した支持手段によって支持する構成が
示されている。
低い定盤支持手段によって支持された定盤と、この定盤
に設けられた案内手段と、定盤と案内手段によって支持
された可動ステージと、この可動ステージに推力を与え
る駆動手段とを含む移動ステージにおいて、前記駆動手
段を定盤とは独立した支持手段によって支持する構成が
示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、上
記図６に示す従来例では、移動体の加減速に伴う反力が
定盤１に伝わるとマウント部材１３に支持された定盤１
に関連する機構系の固有振動が励起され、Ｘステージ５
４やＹステージ５２やレーザ干渉計５７に外乱振動が伝
わり、高速、高精度な位置決めを妨げる傾向があった。
記図６に示す従来例では、移動体の加減速に伴う反力が
定盤１に伝わるとマウント部材１３に支持された定盤１
に関連する機構系の固有振動が励起され、Ｘステージ５
４やＹステージ５２やレーザ干渉計５７に外乱振動が伝
わり、高速、高精度な位置決めを妨げる傾向があった。
【０００６】また上記特開平５−７７１２６の装置で
は、移動体の加減速に伴う反力を移動体を搭載する定盤
に伝えない構成となっているが、ステージ構成が限定さ
れている。
は、移動体の加減速に伴う反力を移動体を搭載する定盤
に伝えない構成となっているが、ステージ構成が限定さ
れている。
【０００７】本発明は、上記の従来例における問題点に
鑑みてなされたもので、上記特開平５−７７１２６の装
置を改善した、移動体の加減速に伴う反力を移動体を搭
載する定盤に伝えない新しいステージ装置を提供するこ
とを目的とする。
鑑みてなされたもので、上記特開平５−７７１２６の装
置を改善した、移動体の加減速に伴う反力を移動体を搭
載する定盤に伝えない新しいステージ装置を提供するこ
とを目的とする。
【０００８】
【発明を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するために、本発明では、上面に基準面を有する定盤
と、前記定盤の基準面上で第１の方向に移動する第１の
移動体と、前記第１の移動体を駆動する駆動力を発生す
る第１の移動手段と、前記定盤の基準面上で前記第１の
移動体に対し第１の方向と直交する第２の方向に移動可
能に装着されかつ基体を搭載する第２の移動体と、前記
第２の移動体を駆動する駆動力を発生する第１の移動体
に設けられた第２の移動手段と、前記第１の移動体を前
記第２の方向に力補償素子を介して支持する基台と、前
記基台と定盤間の振動除去手段とを具備する。本発明の
好ましい実施例において、前記力補償素子は第２の移動
手段で発生する駆動力と同じ大きさの補償力を発生する
ことを特徴としている。
成するために、本発明では、上面に基準面を有する定盤
と、前記定盤の基準面上で第１の方向に移動する第１の
移動体と、前記第１の移動体を駆動する駆動力を発生す
る第１の移動手段と、前記定盤の基準面上で前記第１の
移動体に対し第１の方向と直交する第２の方向に移動可
能に装着されかつ基体を搭載する第２の移動体と、前記
第２の移動体を駆動する駆動力を発生する第１の移動体
に設けられた第２の移動手段と、前記第１の移動体を前
記第２の方向に力補償素子を介して支持する基台と、前
記基台と定盤間の振動除去手段とを具備する。本発明の
好ましい実施例において、前記力補償素子は第２の移動
手段で発生する駆動力と同じ大きさの補償力を発生する
ことを特徴としている。
【０００９】本発明によれば、従来例に比し、移動体の
加減速に伴う反力を定盤に伝えず、移動体の高速、高精
度な位置決めを実現することができる。
加減速に伴う反力を定盤に伝えず、移動体の高速、高精
度な位置決めを実現することができる。
【００１０】
（第１の実施例）本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明の第１の実施例に係るステージ装置
の構成を示す平面図、図２は図１のＡ−Ａ断面図であ
る。図１において、紙面左右方向がＸ方向、紙面上下方
向がＹ方向である。図において、１は上面が案内面１ｆ
を有する定盤である。３は定盤１の案内面１ｆに直交す
る方向に案内面３ｆを有する固定ガイドであり、定盤１
に固定されている。４は定盤１の案内面１ｆに直交する
方向に案内面ｇ１，ｇ２を有するＹステージであり、固
定ガイド３の案内面３ｆおよび定盤１の案内面１ｆに対
して設けられた静圧軸受けパッド５ａ，５ｂ，５ｃによ
って非接触で支持案内され、Ｙ方向にスムーズに動くこ
とができる。１０は基体ホルダ１０ｈを介して基体（例
えば半導体ウエハ）１２を保持するＸステージであり、
定盤１に対して設けられた静圧軸受けパッド１１および
Ｙステージ４の案内面ｇ１，ｇ２に対向して設けられた
静圧軸受けパッド（不図示）によって、Ｙステージ４に
対して非接触でＸ方向にスムーズに動くことができる。
９ａ，９ｂはレーザ測長器用の反射ミラーであり、Ｘス
テージ１０に固定されている。なおレーザ反射ミラーに
対応する干渉計は図示していないが定盤１に固定されて
おり、Ｘステージ１０のＸ方向およびＹ方向の位置を定
盤１基準に正確に測定することができる。２は振動伝達
を遮断するところのマウント部材１３を介して定盤１を
支持する基台である。
する。図１は本発明の第１の実施例に係るステージ装置
の構成を示す平面図、図２は図１のＡ−Ａ断面図であ
る。図１において、紙面左右方向がＸ方向、紙面上下方
向がＹ方向である。図において、１は上面が案内面１ｆ
を有する定盤である。３は定盤１の案内面１ｆに直交す
る方向に案内面３ｆを有する固定ガイドであり、定盤１
に固定されている。４は定盤１の案内面１ｆに直交する
方向に案内面ｇ１，ｇ２を有するＹステージであり、固
定ガイド３の案内面３ｆおよび定盤１の案内面１ｆに対
して設けられた静圧軸受けパッド５ａ，５ｂ，５ｃによ
って非接触で支持案内され、Ｙ方向にスムーズに動くこ
とができる。１０は基体ホルダ１０ｈを介して基体（例
えば半導体ウエハ）１２を保持するＸステージであり、
定盤１に対して設けられた静圧軸受けパッド１１および
Ｙステージ４の案内面ｇ１，ｇ２に対向して設けられた
静圧軸受けパッド（不図示）によって、Ｙステージ４に
対して非接触でＸ方向にスムーズに動くことができる。
９ａ，９ｂはレーザ測長器用の反射ミラーであり、Ｘス
テージ１０に固定されている。なおレーザ反射ミラーに
対応する干渉計は図示していないが定盤１に固定されて
おり、Ｘステージ１０のＸ方向およびＹ方向の位置を定
盤１基準に正確に測定することができる。２は振動伝達
を遮断するところのマウント部材１３を介して定盤１を
支持する基台である。
【００１１】７（７ｙ，７ｆ）はＹステージを非接触で
Ｙ方向に駆動する左右２本のＹリニアモータであり、Ｙ
可動子７ｙが取り付け板８ａ，８ｂを介してＹステージ
４の両端に結合され、Ｙ固定子７ｆはフレーム１０２を
介して基台２に固定されている。６（６ｙ，６ｍ，６
ｆ，６ｃ）はＸステージを非接触でＸ方向に駆動するＸ
リニアモータであり、図４に示す永久磁石６ｍとヨーク
６ｙとにより構成されるＸ可動子がＸステージ１０に結
合されている。Ｘ固定子はコイル６ｃとコイル６ｃを支
持する連結フレーム６ｆより構成されていて、Ｙステー
ジ４に固定されている。Ｘリニアモータ６の部分的な拡
大図を図３に、図３のＣ−Ｃ断面図を図４に示す。Ｘヨ
ーク６ｙは磁性体材料からなり、Ｎ極とＳ極が対向する
１組の永久磁石６ｍが複数組接着等の手段で取り付けら
れ、矢印Ｈで示す磁束が形成されるような磁気回路とな
っている。Ｘ固定子は複数個のコイル６ｃが固着されて
いて、永久磁石６ｍが対向する空間にコイル６ｃが位置
するように配置される。Ｙリニアモータ７も同様な構成
になっている。上記リニアモータは特開平１−１８５１
５７および特開平１−１８５１５８に示されている多極
型リニアモータである。
Ｙ方向に駆動する左右２本のＹリニアモータであり、Ｙ
可動子７ｙが取り付け板８ａ，８ｂを介してＹステージ
４の両端に結合され、Ｙ固定子７ｆはフレーム１０２を
介して基台２に固定されている。６（６ｙ，６ｍ，６
ｆ，６ｃ）はＸステージを非接触でＸ方向に駆動するＸ
リニアモータであり、図４に示す永久磁石６ｍとヨーク
６ｙとにより構成されるＸ可動子がＸステージ１０に結
合されている。Ｘ固定子はコイル６ｃとコイル６ｃを支
持する連結フレーム６ｆより構成されていて、Ｙステー
ジ４に固定されている。Ｘリニアモータ６の部分的な拡
大図を図３に、図３のＣ−Ｃ断面図を図４に示す。Ｘヨ
ーク６ｙは磁性体材料からなり、Ｎ極とＳ極が対向する
１組の永久磁石６ｍが複数組接着等の手段で取り付けら
れ、矢印Ｈで示す磁束が形成されるような磁気回路とな
っている。Ｘ固定子は複数個のコイル６ｃが固着されて
いて、永久磁石６ｍが対向する空間にコイル６ｃが位置
するように配置される。Ｙリニアモータ７も同様な構成
になっている。上記リニアモータは特開平１−１８５１
５７および特開平１−１８５１５８に示されている多極
型リニアモータである。
【００１２】図１および図２において、力補償用コイル
１００ｃと力補償用永久磁石１００ｍと力補償用ヨーク
１００ｙにより力補償素子を構成している。力補償用コ
イル１００ｃは連結フレーム６ｆにより支持されてい
て、力補償用永久磁石１００ｍおよびヨーク１００ｙ
は、支持部材１０１およびフレーム１０２を介して基台
２に固定されている。力補償素子は前述したリニアモー
タと同様の方式で、基台およびＹステージ間に非接触に
Ｘ方向に補償力を発生することができる。また力補償用
ヨーク１００ｙは片側開放端となっており、力補償用コ
イル１００ｃがＹ方向に自由に動くことができ、かつＹ
ステージのＹ方向全ストロークを十分カバーできるよう
にＹ方向に長くのびた構成となっている。
１００ｃと力補償用永久磁石１００ｍと力補償用ヨーク
１００ｙにより力補償素子を構成している。力補償用コ
イル１００ｃは連結フレーム６ｆにより支持されてい
て、力補償用永久磁石１００ｍおよびヨーク１００ｙ
は、支持部材１０１およびフレーム１０２を介して基台
２に固定されている。力補償素子は前述したリニアモー
タと同様の方式で、基台およびＹステージ間に非接触に
Ｘ方向に補償力を発生することができる。また力補償用
ヨーク１００ｙは片側開放端となっており、力補償用コ
イル１００ｃがＹ方向に自由に動くことができ、かつＹ
ステージのＹ方向全ストロークを十分カバーできるよう
にＹ方向に長くのびた構成となっている。
【００１３】次に本実施例の作用のメカニズムを図５を
使って説明する。簡単化のために定盤１、Ｙステージ
４、Ｘステージ１０、フレーム１０２および基台２の質
量要素、ならびに静圧軸受けパッド５ａおよびマウント
部材１３のバネ要素のみを用いて説明する。
使って説明する。簡単化のために定盤１、Ｙステージ
４、Ｘステージ１０、フレーム１０２および基台２の質
量要素、ならびに静圧軸受けパッド５ａおよびマウント
部材１３のバネ要素のみを用いて説明する。
【００１４】Ｘステージ１０をＸプラス方向（紙面右
側）に駆動するとき、Ｘリニアモータより発生する駆動
力ｆｘがＸ方向に働き、その時の反力ｆｙがＹステージ
４のＸマイナス方向に働く。図６の装置においては反力
ｆｙが静圧軸受けパッド５ａを介して、定盤１に伝わ
り、結果的にステージの位置決め精度に悪影響を及ぼす
ほど定盤１を振動させてしまう。本実施例においては、
力補償素子１００（１００ｃ，１００ｍ，１００ｙ）が
反力ｆｙと同じ大きさで逆向き（Ｘプラス方向）の補償
力ｆｃをフレーム１０２よりステージ４に発生させ、反
力ｆｙを打ち消してしまう。結果的に定盤１には反力が
伝わらず、ステージの位置決め精度に悪影響を及ぼさな
い。
側）に駆動するとき、Ｘリニアモータより発生する駆動
力ｆｘがＸ方向に働き、その時の反力ｆｙがＹステージ
４のＸマイナス方向に働く。図６の装置においては反力
ｆｙが静圧軸受けパッド５ａを介して、定盤１に伝わ
り、結果的にステージの位置決め精度に悪影響を及ぼす
ほど定盤１を振動させてしまう。本実施例においては、
力補償素子１００（１００ｃ，１００ｍ，１００ｙ）が
反力ｆｙと同じ大きさで逆向き（Ｘプラス方向）の補償
力ｆｃをフレーム１０２よりステージ４に発生させ、反
力ｆｙを打ち消してしまう。結果的に定盤１には反力が
伝わらず、ステージの位置決め精度に悪影響を及ぼさな
い。
【００１５】また本実施例においては力補償素子１００
とＸリニアモータ６のコイルに流れる電流や磁石の特性
および寸法等をほぼ等しいものとしているため、力補償
素子１００においてＸリニアモータ６で発生する駆動力
とほぼ同じ大きさ、同じ周波数特性を実現している。し
たがって、ステージを駆動し位置決めを制御するコント
ローラはＸリニアモータに与える指令値と同じ値を力補
償素子にも与えることで、簡単に反力を打ち消すことが
できる。
とＸリニアモータ６のコイルに流れる電流や磁石の特性
および寸法等をほぼ等しいものとしているため、力補償
素子１００においてＸリニアモータ６で発生する駆動力
とほぼ同じ大きさ、同じ周波数特性を実現している。し
たがって、ステージを駆動し位置決めを制御するコント
ローラはＸリニアモータに与える指令値と同じ値を力補
償素子にも与えることで、簡単に反力を打ち消すことが
できる。
【００１６】（第２の実施例）第１の実施例において
は、Ｘリニアモータ６に与える指令値と同じ値を力補償
素子１００にも与えることで、補償力を簡単に制御し
た。実際にはコントローラが同じ指令値を出してもＸリ
ニアモータ６の駆動力は、コイルの特性のばらつきやリ
ップルなどの影響でＸステージ４のＸ方向の位置によっ
て変動する。そこでコントローラが、各位置ごとの駆動
力の変動値を記憶しておき、それに応じて力補償素子が
発生する補償力を制御するようにしてもよい。
は、Ｘリニアモータ６に与える指令値と同じ値を力補償
素子１００にも与えることで、補償力を簡単に制御し
た。実際にはコントローラが同じ指令値を出してもＸリ
ニアモータ６の駆動力は、コイルの特性のばらつきやリ
ップルなどの影響でＸステージ４のＸ方向の位置によっ
て変動する。そこでコントローラが、各位置ごとの駆動
力の変動値を記憶しておき、それに応じて力補償素子が
発生する補償力を制御するようにしてもよい。
【００１７】（第３の実施例）Ｘステージが加減速する
時に前述した駆動力の変動によって、補償力と駆動力が
一致できず、定盤１が力を受けてしまうとき、定盤１の
Ｘ方向の加速度を検出してフィードバック信号とし加速
度がゼロになるように力補償素子が発生する補償力を制
御するフィードバック制御系をコントローラが含んでも
かまわない。
時に前述した駆動力の変動によって、補償力と駆動力が
一致できず、定盤１が力を受けてしまうとき、定盤１の
Ｘ方向の加速度を検出してフィードバック信号とし加速
度がゼロになるように力補償素子が発生する補償力を制
御するフィードバック制御系をコントローラが含んでも
かまわない。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によればＹ
方向駆動用のリニアモータの固定子を、Ｘ、Ｙステージ
およびレーザ干渉計を支持する定盤とマウント部材で分
離されたフレーム、基台に支持固定し、さらにＸ方向駆
動用のリニアモータで発生する駆動力と同じ力を発生す
る力補償素子を介してフレーム基準にＹステージを支持
することにより、Ｘ、Ｙステージの加減速に伴う反力を
定盤に伝えることをなくしたため、外乱振動となる定盤
に関連する各種固有振動を励起せずに高速、高精度な送
りを達成することができる。
方向駆動用のリニアモータの固定子を、Ｘ、Ｙステージ
およびレーザ干渉計を支持する定盤とマウント部材で分
離されたフレーム、基台に支持固定し、さらにＸ方向駆
動用のリニアモータで発生する駆動力と同じ力を発生す
る力補償素子を介してフレーム基準にＹステージを支持
することにより、Ｘ、Ｙステージの加減速に伴う反力を
定盤に伝えることをなくしたため、外乱振動となる定盤
に関連する各種固有振動を励起せずに高速、高精度な送
りを達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施例に係るステージ装置の平面
図である。
図である。
【図２】 図１のステージ装置のＡＡ断面図である。
【図３】 図１の装置におけるリニアモータの部分的な
拡大図である。
拡大図である。
【図４】 図３におけるＣ−Ｃ断面図である。
【図５】 図１の装置の作用を説明する図である。
【図６】 従来のステージ装置の側面図である。
１：定盤、１ｆ：案内面、２：基台、３：固定ガイド、
３ｆ：案内面、４：Ｙステージ、ｇ１，ｇ２：案内面、
５ａ，５ｂ，５ｃ：静圧軸受けパッド、６（６ｙ，６
ｍ，６ｆ，６ｃ）：Ｘリニアモータ、７（７ｙ，７
ｆ）：Ｙリニアモータ、８ａ，８ｂ：取り付け板、９
ａ，９ｂ：反射ミラー、１０：Ｘステージ、１０ｈ：基
体ホルダ、１１：静圧軸受けパッド、１２：基体、１
３：マウント部材、５１：ステージ基盤、５２：Ｙステ
ージ、５３：ＤＣサーボモータ、５４：Ｘステージ、５
５：ＤＣサーボモータ、５６：ボールねじ、５７：レー
ザ干渉計、５８：取り付け台、１００（１００ｃ，１０
０ｍ，１００ｙ）：力補償素子、１０１：支持部材、１
０２：フレーム。
３ｆ：案内面、４：Ｙステージ、ｇ１，ｇ２：案内面、
５ａ，５ｂ，５ｃ：静圧軸受けパッド、６（６ｙ，６
ｍ，６ｆ，６ｃ）：Ｘリニアモータ、７（７ｙ，７
ｆ）：Ｙリニアモータ、８ａ，８ｂ：取り付け板、９
ａ，９ｂ：反射ミラー、１０：Ｘステージ、１０ｈ：基
体ホルダ、１１：静圧軸受けパッド、１２：基体、１
３：マウント部材、５１：ステージ基盤、５２：Ｙステ
ージ、５３：ＤＣサーボモータ、５４：Ｘステージ、５
５：ＤＣサーボモータ、５６：ボールねじ、５７：レー
ザ干渉計、５８：取り付け台、１００（１００ｃ，１０
０ｍ，１００ｙ）：力補償素子、１０１：支持部材、１
０２：フレーム。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ２３Ｑ 1/18 Ａ
Claims (9)
- 【請求項１】 上面に基準面を有する定盤と、前記定盤
の基準面上で第１の方向に移動する第１の移動体と、前
記第１の移動体を駆動する駆動力を発生する第１の移動
手段と、前記定盤の基準面上で前記第１の移動体に対し
第１の方向と直交する第２の方向に移動可能に装着され
かつ基体を搭載する第２の移動体と、前記第２の移動体
を駆動する駆動力を発生する第１の移動体に設けられた
第２の移動手段と、前記第１の移動体を第２の方向に力
補償素子を介して支持する基台と、前記基台と定盤間に
配置された振動除去手段とを具備することを特徴とする
ステージ装置。 - 【請求項２】 前記力補償素子は第２の移動手段で発生
する駆動力と同じ大きさの補償力を発生することを特徴
とする請求項１に記載のステージ装置。 - 【請求項３】 前記力補償素子は非接触電磁式の継ぎ手
であることを特徴とする請求項２に記載のステージ装
置。 - 【請求項４】 非接触電磁式継ぎ手は、前記基台に固定
された永久磁石と、前記第１の移動体に固定されたコイ
ルとを具備することを特徴とする請求項３のステージ装
置。 - 【請求項５】 前記永久磁石は前記第１の方向に伸展さ
れ配置されていることを特徴とする請求項４に記載のス
テージ装置。 - 【請求項６】 前記力補償素子が発生する補償力を制御
するコントローラを具備することを特徴とする請求項２
に記載のステージ装置。 - 【請求項７】 前記コントローラは第２の移動手段で発
生する駆動力の変動に応じた補償力を発生するように制
御する制御系を含むことを特徴とする請求項６に記載の
ステージ装置。 - 【請求項８】 前記コントローラは、前記定盤の第２の
方向の加速度をフィードバック信号にして補償力を制御
する制御系を含むことを特徴とする請求項６に記載のス
テージ装置。 - 【請求項９】 前記第２の移動体は、前記第１の移動体
上に搭載されていることを特徴とする請求項１〜８にい
ずれかに記載のステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29793396A JPH10125593A (ja) | 1996-10-22 | 1996-10-22 | ステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29793396A JPH10125593A (ja) | 1996-10-22 | 1996-10-22 | ステージ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10125593A true JPH10125593A (ja) | 1998-05-15 |
Family
ID=17852980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29793396A Pending JPH10125593A (ja) | 1996-10-22 | 1996-10-22 | ステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10125593A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN1469193B (zh) | 2002-06-10 | 2011-06-01 | 尼康株式会社 | 载台装置及曝光装置 |
| JP2018124068A (ja) * | 2017-01-30 | 2018-08-09 | 大銀微系統股▲分▼有限公司 | 反力相殺装置 |
-
1996
- 1996-10-22 JP JP29793396A patent/JPH10125593A/ja active Pending
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