JPH0735514A - 膜厚測定装置 - Google Patents
膜厚測定装置Info
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- JPH0735514A JPH0735514A JP5156494A JP15649493A JPH0735514A JP H0735514 A JPH0735514 A JP H0735514A JP 5156494 A JP5156494 A JP 5156494A JP 15649493 A JP15649493 A JP 15649493A JP H0735514 A JPH0735514 A JP H0735514A
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- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 22
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
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- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000003705 background correction Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 測定時に試料の変質が生じない膜厚測定装置
を提供する。 【構成】 被測定試料１０を載せるステージ１１と、被
測定試料１０およびステージ１１に光を照射する光源１
２と被測定試料１０を撮影し被測定試料１０の表面から
の反射光を検出するカメラ１３とを有する実体顕微鏡１
と、カメラ１３により検出された被測定試料１０の表面
状態を画像情報として保存する画像記憶部２と、画像記
憶部２に記憶した画像情報を処理する画像処理部３と、
画像処理部３による処理結果を基に被測定試料１０の膜
厚を解析する膜厚解析部４と、入力画像の濃淡が適正な
範囲になるようにカメラ１３を制御するカメラ露出制御
回路５とから構成される。また、膜厚解析部４は、予め
実験により求めた平均濃淡値，代表濃淡値および膜厚の
相関を示すデータを基準データ４１を備えている。
を提供する。 【構成】 被測定試料１０を載せるステージ１１と、被
測定試料１０およびステージ１１に光を照射する光源１
２と被測定試料１０を撮影し被測定試料１０の表面から
の反射光を検出するカメラ１３とを有する実体顕微鏡１
と、カメラ１３により検出された被測定試料１０の表面
状態を画像情報として保存する画像記憶部２と、画像記
憶部２に記憶した画像情報を処理する画像処理部３と、
画像処理部３による処理結果を基に被測定試料１０の膜
厚を解析する膜厚解析部４と、入力画像の濃淡が適正な
範囲になるようにカメラ１３を制御するカメラ露出制御
回路５とから構成される。また、膜厚解析部４は、予め
実験により求めた平均濃淡値，代表濃淡値および膜厚の
相関を示すデータを基準データ４１を備えている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は膜厚測定装置に関し、特
に測定対象の試料からの反射光を検出し試料の膜厚を測
定する膜厚測定装置に関する。
に測定対象の試料からの反射光を検出し試料の膜厚を測
定する膜厚測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の膜厚測定装置は、例えば、特開昭
６１−１１７４０４号公報に記述されている。この膜厚
測定装置は、図４に示すように、ステージ５１に載せた
被測定試料５０を照射する光源５２と、被測定試料５０
を撮影し被測定試料５０からの反射光を検出するカメラ
５３と、カメラ５３から入力したた画像情報を保存する
画像記憶部５４と、入力した画像情報から波長分析を行
う波長分析部５５と、分析したデータを解析して被測定
試料５０の膜厚を求める膜厚解析部５６とから構成され
る。そして、膜厚解析部５６は、予じめ波長分析データ
と膜厚との関係を示す基準データを備えており、波長分
析部５５から得た波長分析データを基に、基準データを
検索し膜厚を求める。
６１−１１７４０４号公報に記述されている。この膜厚
測定装置は、図４に示すように、ステージ５１に載せた
被測定試料５０を照射する光源５２と、被測定試料５０
を撮影し被測定試料５０からの反射光を検出するカメラ
５３と、カメラ５３から入力したた画像情報を保存する
画像記憶部５４と、入力した画像情報から波長分析を行
う波長分析部５５と、分析したデータを解析して被測定
試料５０の膜厚を求める膜厚解析部５６とから構成され
る。そして、膜厚解析部５６は、予じめ波長分析データ
と膜厚との関係を示す基準データを備えており、波長分
析部５５から得た波長分析データを基に、基準データを
検索し膜厚を求める。
【０００３】また、別の従来例として特開平２−９００
０８号公報に記述されている。これは、基板上に塗布さ
れたレジスト膜の厚さを測定するものであって、基板を
加熱し、その際に基板上のレジスト膜表面から放射され
る赤外線エネルギー強度を測定し、予め求めておいた赤
外線エネルギー強度とレジスト膜厚との関係からレジス
ト膜の膜厚を求めるものである。
０８号公報に記述されている。これは、基板上に塗布さ
れたレジスト膜の厚さを測定するものであって、基板を
加熱し、その際に基板上のレジスト膜表面から放射され
る赤外線エネルギー強度を測定し、予め求めておいた赤
外線エネルギー強度とレジスト膜厚との関係からレジス
ト膜の膜厚を求めるものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した前者の例で
は、試料表面状態をカメラを用いて入力する機構を有
し、入力画像を波長解析して求められた波長分布にもと
づき基づいて、あらかじめ保存した波長分布と膜厚との
相関関係のデータを検索し膜厚を求める方式であるため
に、多量の基準データを必要とし、試料の膜厚を求める
ために時間がかかるという欠点がある。
は、試料表面状態をカメラを用いて入力する機構を有
し、入力画像を波長解析して求められた波長分布にもと
づき基づいて、あらかじめ保存した波長分布と膜厚との
相関関係のデータを検索し膜厚を求める方式であるため
に、多量の基準データを必要とし、試料の膜厚を求める
ために時間がかかるという欠点がある。
【０００５】また、後者の例では、試料に物理的な処理
を施し、それによって発生する影響を基に膜厚を測定す
る原理を利用しているため、測定時に試料の変質が起こ
る場合があり、すべての試料に対して適用できないとい
う欠点がある。
を施し、それによって発生する影響を基に膜厚を測定す
る原理を利用しているため、測定時に試料の変質が起こ
る場合があり、すべての試料に対して適用できないとい
う欠点がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の膜厚測定装置
は、被測定試料の表面に光を照射する光源と、前記被測
定試料からの反射光を撮影するカメラ部と、このカメラ
部の露出を制御するカメラ露出制御部と、前記カメラ部
が撮影した画像を画像情報として記憶する画像記憶部
と、記憶した画像情報から背景部分と被測定試料部分と
を識別する背景識別部と、識別された前記被測定試料部
分の画像情報から任意の箇所を切り出しその範囲の平均
濃淡値を計算する平均濃淡値計算部と、前記切り出した
範囲の画像情報の濃淡ヒストグラムを算出する濃淡ヒス
トグラム算出部と、算出した前記濃淡ヒストグラムから
前記被測定試料部主要部の代表的な濃淡値を計算する代
表濃淡値計算部と、計算した前記平均濃淡値，前記代表
濃淡値および予め備える基準データとを基に解析し被測
定試料の膜厚を求める膜厚解析部とを備えている。
は、被測定試料の表面に光を照射する光源と、前記被測
定試料からの反射光を撮影するカメラ部と、このカメラ
部の露出を制御するカメラ露出制御部と、前記カメラ部
が撮影した画像を画像情報として記憶する画像記憶部
と、記憶した画像情報から背景部分と被測定試料部分と
を識別する背景識別部と、識別された前記被測定試料部
分の画像情報から任意の箇所を切り出しその範囲の平均
濃淡値を計算する平均濃淡値計算部と、前記切り出した
範囲の画像情報の濃淡ヒストグラムを算出する濃淡ヒス
トグラム算出部と、算出した前記濃淡ヒストグラムから
前記被測定試料部主要部の代表的な濃淡値を計算する代
表濃淡値計算部と、計算した前記平均濃淡値，前記代表
濃淡値および予め備える基準データとを基に解析し被測
定試料の膜厚を求める膜厚解析部とを備えている。
【０００７】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して詳細に
説明する。
説明する。
【０００８】図１は、本発明の一実施例を示す構成図で
あり、図２は、図１の画像記憶装置２および画像処理装
置３の詳細を示す構成図である。また、図３は、膜厚解
析に用いる基準データの構成例を示す図である。
あり、図２は、図１の画像記憶装置２および画像処理装
置３の詳細を示す構成図である。また、図３は、膜厚解
析に用いる基準データの構成例を示す図である。
【０００９】本発明の膜厚測定装置は、図１に示すよう
に、被測定試料１０を載せるステージ１１と、被測定試
料１０およびステージ１１に光を照射する光源１２と被
測定試料１０を撮影し被測定試料１０の表面からの反射
光を検出するカメラ１３とを有する実体顕微鏡１と、カ
メラ１３が撮影した被測定試料１０の表面状態を画像情
報として記憶する画像記憶部２と、画像記憶部２に保存
した画像情報を処理する画像処理部３と、画像処理部３
の処理結果を基に被測定試料１０の膜厚を解析する膜厚
解析部４と、入力画像の濃淡が適正な範囲になるように
カメラ１３を制御するカメラ露出制御回路５とから構成
される。また、膜厚解析部４は、予め実験により求めた
平均濃淡値，代表濃淡値および膜厚の相関を示すデータ
を基準データ４１を備えている。
に、被測定試料１０を載せるステージ１１と、被測定試
料１０およびステージ１１に光を照射する光源１２と被
測定試料１０を撮影し被測定試料１０の表面からの反射
光を検出するカメラ１３とを有する実体顕微鏡１と、カ
メラ１３が撮影した被測定試料１０の表面状態を画像情
報として記憶する画像記憶部２と、画像記憶部２に保存
した画像情報を処理する画像処理部３と、画像処理部３
の処理結果を基に被測定試料１０の膜厚を解析する膜厚
解析部４と、入力画像の濃淡が適正な範囲になるように
カメラ１３を制御するカメラ露出制御回路５とから構成
される。また、膜厚解析部４は、予め実験により求めた
平均濃淡値，代表濃淡値および膜厚の相関を示すデータ
を基準データ４１を備えている。
【００１０】続いて、図２を参照すると、画像記憶部２
は、ステージ１１に被測定試料１０を載せた状態の画像
を記憶する原画像記憶部２１と、ステージ１１に被測定
試料１０を載せていない状態の画像を記憶する背景記憶
部２２と、処理対象記憶部２３とから構成される。
は、ステージ１１に被測定試料１０を載せた状態の画像
を記憶する原画像記憶部２１と、ステージ１１に被測定
試料１０を載せていない状態の画像を記憶する背景記憶
部２２と、処理対象記憶部２３とから構成される。
【００１１】画像処理部３は、画像記憶部２の原画像記
憶部２１，背景記憶部２２からのデータを入力し、これ
から背景部分の濃淡を補正する背景補正部３１と、背景
補正部３１の出力データを基に濃淡の平均を計算する平
均値計算部３２と、濃淡の分布を求めるヒストグラム算
出部３３と、求めた濃淡分布データから処理対象画像の
うち最も代表的な濃淡値を求める代表濃淡値計算部３４
と、処理対象記憶部２３からのデータを一時的に記憶す
る一時記憶部３５とから構成される。
憶部２１，背景記憶部２２からのデータを入力し、これ
から背景部分の濃淡を補正する背景補正部３１と、背景
補正部３１の出力データを基に濃淡の平均を計算する平
均値計算部３２と、濃淡の分布を求めるヒストグラム算
出部３３と、求めた濃淡分布データから処理対象画像の
うち最も代表的な濃淡値を求める代表濃淡値計算部３４
と、処理対象記憶部２３からのデータを一時的に記憶す
る一時記憶部３５とから構成される。
【００１２】次に、本実施例の動作について図面を参照
して説明する。
して説明する。
【００１３】まず、ステージ１１に被測定試料１０を載
せない状態で、画像記憶部２の背景記憶部２２にカメラ
１３から写し出された画像を入力する。続いて、ステー
ジ１１に被測定試料１０を載せ、画像記憶部２の原画像
記憶部２１にカメラ１３から写し出された画像を入力す
る。
せない状態で、画像記憶部２の背景記憶部２２にカメラ
１３から写し出された画像を入力する。続いて、ステー
ジ１１に被測定試料１０を載せ、画像記憶部２の原画像
記憶部２１にカメラ１３から写し出された画像を入力す
る。
【００１４】ここで、背景補正部３１は原画像記憶部２
１と背景記憶部２２の内容を入力し、これらの差分を計
算することにより背景部分の濃淡を補正する。補正後の
画像は処理対象記憶部２３へ出力される。このとき、処
理対象記憶部２３に記憶された画像のうち、濃淡が最小
もしくは最大値をとる画素数が基準の数以上になった場
合、カメラ露出制御回路５はカメラ１３の動作を制御
し、最小もしくは最大値をとる画素の数を基準値まで減
少させる。その後、カメラ１３から原画像記憶部２１お
よび背景記憶部２２に再度画像入力を行う。
１と背景記憶部２２の内容を入力し、これらの差分を計
算することにより背景部分の濃淡を補正する。補正後の
画像は処理対象記憶部２３へ出力される。このとき、処
理対象記憶部２３に記憶された画像のうち、濃淡が最小
もしくは最大値をとる画素数が基準の数以上になった場
合、カメラ露出制御回路５はカメラ１３の動作を制御
し、最小もしくは最大値をとる画素の数を基準値まで減
少させる。その後、カメラ１３から原画像記憶部２１お
よび背景記憶部２２に再度画像入力を行う。
【００１５】画像処理部３は、処理対象記憶部２３から
平均濃淡値および代表濃淡値を求めるための処理範囲を
指定し、その範囲の画像情報を一時記憶部３５に移す。
平均値計算部３２は、一時記憶部３５から処理範囲の画
像を入力し、濃淡値の平均を計算し、それを平均濃淡値
データとして膜厚解析部４へ出力する。
平均濃淡値および代表濃淡値を求めるための処理範囲を
指定し、その範囲の画像情報を一時記憶部３５に移す。
平均値計算部３２は、一時記憶部３５から処理範囲の画
像を入力し、濃淡値の平均を計算し、それを平均濃淡値
データとして膜厚解析部４へ出力する。
【００１６】同様に、ヒストグラム算出部３３は、一時
記憶部３５から処理範囲の画像情報を入力し、濃淡値の
分布を算出して濃淡分布データを代表濃淡値計算部３４
へ出力する。代表濃淡値計算部３４は、入力した濃淡分
布データから最大分布をなす濃淡値を求め、それを代表
濃淡値データとして膜厚解析部４に出力する。膜厚解析
部４は、画像処理部３から平均濃淡値データおよび代表
濃淡値データを入力する。そして、予め備えしている基
準データ４１から相当する基準データを検索する。検索
された基準データは、図３に示すように、平均濃淡値
ａ，代表濃淡値ｍおよびその状態における膜厚値ｄから
構成される。この、膜厚値ｄは、表面の濃淡により
（１）式に示すように一意的に求められる。
記憶部３５から処理範囲の画像情報を入力し、濃淡値の
分布を算出して濃淡分布データを代表濃淡値計算部３４
へ出力する。代表濃淡値計算部３４は、入力した濃淡分
布データから最大分布をなす濃淡値を求め、それを代表
濃淡値データとして膜厚解析部４に出力する。膜厚解析
部４は、画像処理部３から平均濃淡値データおよび代表
濃淡値データを入力する。そして、予め備えしている基
準データ４１から相当する基準データを検索する。検索
された基準データは、図３に示すように、平均濃淡値
ａ，代表濃淡値ｍおよびその状態における膜厚値ｄから
構成される。この、膜厚値ｄは、表面の濃淡により
（１）式に示すように一意的に求められる。
【００１７】ｄ＝ｆ（ａ，ｍ） …………（１） ここで、関数ｆは、試料および試料の膜の材質により決
定される関数である。
定される関数である。
【００１８】これにより、膜厚解析部４は、平均濃淡値
データ，代表濃淡値データおよび基準データから試料の
膜厚を求めることができる。
データ，代表濃淡値データおよび基準データから試料の
膜厚を求めることができる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明の膜厚測定装
置は、被測定試料の膜厚を解析するための基準データと
して、被測定試料からの反射光の濃淡値を用いることに
より、基準データの構造が単純になり、検索や解析を高
速かつ容易にできるという効果がある。
置は、被測定試料の膜厚を解析するための基準データと
して、被測定試料からの反射光の濃淡値を用いることに
より、基準データの構造が単純になり、検索や解析を高
速かつ容易にできるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す構成図である。
【図２】図１の画像記憶部２および画像処理部３の詳細
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図３】膜厚解析に用いる基準データの構成例を示す図
である。
である。
【図４】従来例を示す構成図である。
１ 実体顕微鏡 ２，５４ 画像記憶部 ３ 画像処理部 ４，５６ 膜厚解析部 ５ カメラ露出制御回路 １０，５０ 被測定試料 １１，５１ ステージ １２，５２ 光源 １３，５３ カメラ ２１ 原画像記憶部 ２２ 背景記憶部 ２３ 処理対象記憶部 ３１ 背景補正部 ３２ 平均濃淡値計算部 ３３ 濃淡ヒストグラム算出部 ３４ 代表濃淡値計算部 ３５ 一時記憶部 ４１ 基準データ ５５ 波長分析部
Claims (1)
- 【請求項１】 被測定試料の表面に光を照射する光源
と、前記被測定試料からの反射光を撮影するカメラ部
と、このカメラ部の露出を制御するカメラ露出制御部
と、前記カメラ部が撮影した画像を画像情報として記憶
する画像記憶部と、記憶した画像情報から背景部分と被
測定試料部分とを識別する背景識別部と、識別された前
記被測定試料部分の画像情報から任意の箇所を切り出し
その範囲の平均濃淡値を計算する平均濃淡値計算部と、
前記切り出した範囲の画像情報の濃淡ヒストグラムを算
出する濃淡ヒストグラム算出部と、算出した前記濃淡ヒ
ストグラムから前記被測定試料部主要部の代表的な濃淡
値を計算する代表濃淡値計算部と、計算した前記平均濃
淡値，前記代表濃淡値および予め備える基準データとを
基に解析し被測定試料の膜厚を求める膜厚解析部とを備
えることを特徴とする膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5156494A JPH081370B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5156494A JPH081370B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 膜厚測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0735514A true JPH0735514A (ja) | 1995-02-07 |
| JPH081370B2 JPH081370B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=15628983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5156494A Expired - Fee Related JPH081370B2 (ja) | 1993-06-28 | 1993-06-28 | 膜厚測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH081370B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006337310A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Global Nuclear Fuel-Japan Co Ltd | 金属表面の酸化膜厚さ測定方法 |
| US7679739B2 (en) | 2005-09-02 | 2010-03-16 | Panasonic Corporation | Device and method for measuring microporous film on battery electrode plate, coater equipped with film measuring device, and coating method using film measuring method |
| CN102319654A (zh) * | 2011-04-26 | 2012-01-18 | 东莞市九州浩德新能源设备有限公司 | 涂布机动态画面监测控制系统 |
| CN107860322A (zh) * | 2017-12-07 | 2018-03-30 | 东华大学 | 一种液膜厚度测量装置及方法 |
| CN109739166A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-05-10 | 惠州锂威新能源科技有限公司 | 一种涂布尺寸测长的智能监控系统 |
-
1993
- 1993-06-28 JP JP5156494A patent/JPH081370B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006337310A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Global Nuclear Fuel-Japan Co Ltd | 金属表面の酸化膜厚さ測定方法 |
| US7679739B2 (en) | 2005-09-02 | 2010-03-16 | Panasonic Corporation | Device and method for measuring microporous film on battery electrode plate, coater equipped with film measuring device, and coating method using film measuring method |
| US7952703B2 (en) | 2005-09-02 | 2011-05-31 | Panasonic Corporation | Device and method for measuring microporous film on battery electrode plate, coater equipped with film measuring device, and coating method using film measuring method |
| CN102319654A (zh) * | 2011-04-26 | 2012-01-18 | 东莞市九州浩德新能源设备有限公司 | 涂布机动态画面监测控制系统 |
| CN107860322A (zh) * | 2017-12-07 | 2018-03-30 | 东华大学 | 一种液膜厚度测量装置及方法 |
| CN109739166A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-05-10 | 惠州锂威新能源科技有限公司 | 一种涂布尺寸测长的智能监控系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH081370B2 (ja) | 1996-01-10 |
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