JPH0735919A

JPH0735919A - 機能性塗膜等を形成する方法

Info

Publication number: JPH0735919A
Application number: JP18379593A
Authority: JP
Inventors: Susumu Miyazaki; 進宮崎; Yoshikatsu Okada; 良克岡田; Tsutomu Watanabe; 務渡辺; Yasuhiko Tejima; 康彦手島; Yoshinori Matsumura; 美紀松村
Original assignee: Shinto Paint Co Ltd; Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Shinto Paint Co Ltd; Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1993-07-26
Filing date: 1993-07-26
Publication date: 1995-02-07

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】複数の平行な帯状の導電性回路を表面に有する
透明基板上に、その導電性回路上に位置する複数の窓部
の塗膜と、その窓部以外の部分を埋める枠部の機能性を
有する塗膜とを精度良く形成する方法を提供する。【構成】（ａ）上記透明基板１全面に、塗膜３を形成す
る工程、（ｂ）前記塗膜の表面に、次の現像工程におい
て窓部４の部分とその左右の辺の片方又は両方に隣接す
る部分以外の部分を覆う塗膜を与えるよう光線を照射す
る露光工程、（ｃ）窓部の部分とその左右の辺の片方又
は両方に隣接する部分の塗膜を除去し、導電性回路２を
一方の電極として使って電着塗装を行なうことにより、
複数の窓部４に、後の露光工程で使う光線を遮光する性
質を有する塗膜５を形成する工程を含む方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、複数の平行な帯状の導
電性回路を表面に有する透明基板上に、その導電性回路
上に位置する複数の窓部の塗膜と、その窓部以外の部分
を埋め枠部の機能性（例えば、遮光性）を有する塗膜と
を形成する方法に関するるものである。特に、カラー
液晶表示装置（ＬＣＤ）に使用されるカラーフィルター
におけるカラーの窓部の塗膜と、その窓部以外の部分を
埋める格子状の枠部の機能性塗膜、この塗膜は不要光の
遮光や、その他の特性向上の働きをする、塗膜の形成に
有用な方法である。とくに、この方法は、TFT （薄膜ト
ランジスタ）とカラーフィルターとを用いたマトリック
ス型カラー表示装置に使用されるカラーフィルターの製
造に有用な方法である。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶を利用したＬＣＤは、いわゆ
るポケットテレビ等に使われてきたが、近年大型化、大
画面化が急速に進められている。画質もTN液晶からSTN
液晶やTFT に代表されるアクティブ駆動素子の開発でCR
T に迫るものが商品化されている。TFT によるカラー表
示装置の画質向上と生産性の改善については、様々な検
討が行われているが、その重要な技術の一つとして、TF
T の光リーク防止及び画質向上( 見かけのコントラス
ト) のためのブラックマトリックスと呼ばれる遮光膜の
形成方法及びその形状の問題がある。ＬＣＤのカラー化
に使用されるカラーフィルターのカラーの窓部の塗膜以
外の部分を埋める格子状の枠部の機能性塗膜の形成に使
用される方法として、従来、シルクスクリーン法、オフ
セット法などの印刷技術による方法が知られている。ま
た、複数の平行な帯状の導電性回路上に帯状のカラー塗
膜を電着法により形成し、次いで機能性塗膜を与えるネ
ガ型フォトレジストを全面に塗布して、前記カラー塗膜
をマスクとして基板背面から露光して、帯状のカラー塗
膜の間隙にブラックマトリックスとしての機能性塗膜を
形成する方法が知られている（特開昭５９−１１４５７
２公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし最近、将来が有
望視されているTFT 方式のLCD においては、スイッチン
グ素子の光リークを防ぐため、ブラックマトリックス
（遮光膜）の遮光率向上が要求されている。更に、画質
向上のため、遮光膜のパターンは、格子状であることが
望ましい。しかしながら、従来の印刷による方法は、格
子間が約１００μｍの空隙程度の粗い粗度パターンのも
のしか出来ず、格子状に精度よくブラックマトリックス
の機能性塗膜を形成出来なかった。また、従来の電着法
により形成した帯状のカラー塗膜をマスクとして基板背
面からの露光する方法は、機能性塗膜を帯状のカラー塗
膜間に精度よく形成できるが、帯状のカラー塗膜を横切
る方向に機能性塗膜を形成することが困難であるという
課題があった。そこで、この発明の目的は、従来のこの
ような課題を解決することであり、複数の平行な帯状の
導電性回路を表面に有する透明基板上に、その導電性回
路上に位置する複数の窓部の塗膜と、その窓部以外の部
分を埋める枠部の機能性（例えば、遮光性）を有する塗
膜とを精度良く形成する方法を提供することである。と
くに、その方法において、各窓部の幅が１００μｍ以下
の微細なパターンを有する塗膜を精度よく形成する方法
を提供することである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、電着塗装
法によれば塗膜を極めて精度よく導電回路上にのみ選択
的に塗着でき、しかもそれによって露光工程で使うＵＶ
光線等を遮るのに有効な遮光膜を形成し、それをマスク
代わりとすることができることに着眼し、その他いろい
ろな工夫をすることにより、上記の目的を達成し得るこ
とを見出し、本発明を完成させたものである。すなわ
ち、本発明は次のとうりである。

【０００５】複数の平行な帯状の導電性回路を表面に有
する透明基板上に、その導電性回路上に位置する複数の
窓部の塗膜と、その窓部以外の部分を埋める枠部の機能
性塗膜とを形成する方法において、（ａ）上記導電性回
路を有する透明基板全面に、ポジ型又はネガ型フォトレ
ジストを塗布して、塗膜を形成する工程、（ｂ）形成さ
れたポジ型又はネガ型フォトレジスト塗膜の表面に、次
の現像工程において窓部の部分とその部分の左右（下地
の帯状の導電性回路の長手方向を上下とする、以下同
じ）の辺の片方又は両方に隣接する部分を覆わずそれ以
外の部分を覆う塗膜を与えるようなパターンを有するマ
スクを重ねて、光線を照射する露光工程、（ｃ）窓部の
部分とその部分の左右の辺の片方又は両方に隣接する部
分の塗膜を除去し、それ以外の部分の塗膜を残す現像工
程、（ｄ）以上の工程を経て得られた透明基板に、その
導電性回路を一方の電極として使って電着塗装を行なう
ことにより、その導電性回路上に位置する複数の窓部
に、後述の露光工程で使う光線を遮光する性質を有する
塗膜を形成する工程、（ｅ）上記（ｃ）工程で残した塗
膜のみを除去する工程、（ｆ）以上の工程を経て得られ
た透明基板全面にネガ型フォトレジストを塗布して、塗
膜を形成する工程、（ｇ）透明基板の背面より露光する
工程、（ｈ）下地に上記（ｄ）工程で形成された遮光性
の塗膜が存在するために露光されなかった未硬化部分を
除去する現像工程、を上記の順に行うことを特徴とする
方法。

【０００６】以下に本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて使用される透明基板材料としては、ガラスあるい
はプラスチックの板等があげられる。この基板に形成さ
れる複数の平行な帯状の導電性回路は、ITO 膜( 錫をド
ーブした酸化インジウム膜) あるいは、ネサ膜( アンチ
モンドープした酸化錫膜) 等の透明導電性材料により作
られる。ここでいう帯状には、長手方向の左右の線が一
直線のものだけでなく、左右に凹凸を描くもの（後述の
図３のＢに示されるようなもの）も含まれる。これら
は、従来より良く知られている方法で作られる。

【０００７】本発明における、導電性回路を有する透明
基板と（ａ）〜（ｈ）の各工程で得られる製品の断面の
模式図を図１に示した。また、本発明における、導電性
回路、（ｃ）工程で得られる塗膜、および（ｄ）工程で
得られる窓部の塗膜の各パターンの平面の模式図を図２
に示した。本発明における（ａ）の工程は、導電性回路
を有する透明基板全面に、ポジ型又はネガ型フォトレジ
ストを塗布して、塗膜を形成する工程である。（ａ）工
程で使用するポジ型フォトレジストの例として、ノボラ
ック型フェノール樹脂に、０―キノンジアジドのエステ
ル化物を含有したもの等が挙げられるが、もちろんこれ
らのものに限定されるものではない。市販品として、東
京応化社製のOFPR―８００（商品名）、住友化学工業社
製のPF―７４００（商品名）、富士ハントエレクトロニ
クステクノロジー社製FHー２０３０（商品名）などが挙
げられる。

【０００８】（ａ）工程で使用するネガ型フォトレジス
トの例として、アクリレート樹脂にベンゾフェノン類、
アントラキノン類などの光重合開始剤を含有したもの等
があげられるが、これらに限定されるものではない。市
販品として、例えば、東京応化工業社製、商品名ＯＭＲ
−８３があげられる。

【０００９】複数の平行な帯状の導電性回路上にポジ型
又はネガ型フォトレジストの塗膜を形成する方法として
は、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ロールコー
ト法、バーコート法、スピンコート法等が使用できる。
これらの中で、スピンコート法により塗膜を形成する場
合には、ボジ型又はネガ型フォトレジストに希釈剤（例
えば、エチルセロソルブアセテートなどの非反応性希釈
剤) を加え低粘度化するのが好ましく、そのフォトレジ
スト１００重量部に対して５〜４０重量部の希釈剤を加
えるのが、特に好ましい。また、スピンコート法におけ
る回転数は、二段階とし、初めに１００〜４００rpm で
基板上に広げ、次に８００〜５０００rpm で膜厚を均一
にすることが椎奨される。スピンコート法は、導電性回
路を有する透明基板上に忠実に精度良く塗膜を形成する
ことができるため有用である。導電性回路を有する透明
基板上に塗布されたそのフォトレジストは、必要に応じ
て６０〜１００℃、時間５〜６０分間の条件で熱処理さ
れる。熱処理をすることにより、そのフォトレジスト中
の樹脂が予備硬化され、その塗膜と導電性回路を有する
透明基板との密着性が向上する。

【００１０】本発明による（ｂ）の工程は、形成された
ポジ型又はネガ型フォトレジスト塗膜の表面に、次の現
像工程において窓部の部分とその部分の左右の辺の片方
又は両方に隣接する部分を覆わずそれ以外の部分を覆う
塗膜を与えるようなパターンを有するマスクを重ねて、
光線を照射する露光工程である。マスク（この例はポジ
型フォトレジスト塗膜用）と下地の導電性回路のパター
ンの平面の模式図の例を図３のＡおよびＢに示す。な
お、フォトレジスト塗膜がポジ型の場合は、露光、現像
によってマスクの遮光部分に塗膜が形成され、マスクの
透明部分にある塗膜は除去される。ネガ型の場合は、こ
の逆になる。この（ｂ）の工程での露光は、ポジ型又は
ネガ型フォトレジスト塗膜の種類により種々の範囲の波
長光を使用できるが、一般にUV領域が望ましく、光源と
して超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を使用した
装置を用いることができる。この装置は、パターンニン
グの精度のためにも、ミラー式の平行光のものが望まし
い。

【００１１】露光条件は、ポジ型フォトレジスト塗膜の
場合は、使用する光量およびそのフォトレジスト塗膜の
種類により異なるが、通常は、１０〜５００ｍＪ／ｃｍ
²である。露光された部分は、分解反応が進行して後述
する現像液に可溶となる。また、ネガ型フォトレジスト
塗膜の場合は、使用する光量およびそのフォトレジスト
塗膜の種類により異なるが、通常露光量は１０〜５００
ｍＪ／ｃｍ²である。露光されない部分は硬化が進ま
ず、後述する現像液に可溶である。

【００１２】本発明における(C) の工程は、現像工程で
ある。ポジ型フォトレジスト塗膜の場合は、露光により
分解された部分が除去される。ポジ型フォトレジスト塗
膜の分解された部分の除去は、適当な溶解力を有する薬
剤（現像液）に接触させ、溶出することによって行なう
ことができる。そのような薬剤は、ポジ型フォトレジス
トの種類によって種々選択されるが、通常は、苛性ソー
ダ、炭酸ナトリウム、４級アンモニウム塩又は有機アミ
ン等を水に溶かしたアルカリ性水溶液、あるいは、エス
テル、ケトン、アルコール、芳香族炭水化物、塩素化炭
化水素等の有機溶剤を適宜選択使用する。現像は、浸漬
あるいはシャワーなどにより５秒ないし３分程度で行な
うことができる。その後、水、純水等でよく洗浄を行
い、必要に応じて、８０〜２８０℃、５〜６０分間の条
件で熱処理される。ネガ型フォトレジスト塗膜の場合
は、未露光部である未硬化部分が除去される。ネガ型フ
ォトレジスト塗膜の未硬化部分の除去は、上記のポジ型
フォトレジスト塗膜の場合と同様の方法で行なうことが
できる。

【００１３】本発明における（ｄ）工程は、以上の工程
を経て得られた透明基板に、その導電性回路を一方の電
極として使って電着塗装を行なうことにより、その導電
性回路上に位置する複数の窓部に、後述の露光工程で使
う光線を遮光する性質を有する塗膜を形成する工程であ
る。（ｃ）の工程を終わった段階で、下地の複数の帯状
の導電性回路上の窓部には塗膜が存在しない。この工程
ではその部分に電着塗装法により塗膜を形成する。この
種の導電性回路上に電着塗装を行う方法は、一般に公知
である。例えば、実務表面技術、Ｖｏｌ．３４、Ｎｏ．
６８（１９８７）ｐ．５７〜６３、特公平４−６４８７
５公報に記載された方法を参考にすることができる。こ
れには、アニオン系とカチオン系の塗装法があり、本発
明においてはいずれの方法も使用可能であるが、回路へ
の影響が少ないことと、溶出のし易さなどからアニオン
系塗装法が好ましい。電着塗装に用いる電着液の樹脂材
料（バインダー）としては、マレイン化油系、アクリル
系、ポリエステル系、ポリブタジエン系、ポリオレフ
ィン系などのがあげられる。これらは、それぞれ単独
で、あるいは混合して使用できる。これらのバインダー
の中に後記の露光工程で使う光線を遮光する性質を有す
る顔料、その他の着色顔料等を配合する。電着液は、一
般に、バインダー等の成分を水に分散、希釈してつくら
れる。電着液としては、水以外に有機溶剤を使用する非
水系電着液も使用することができる。

【００１４】電着液の入った浴中に上記の工程を経て得
られた透明基板を入れ、アニオン電着塗装法の場合は、
その導電性回路を正極とし、非腐蝕性の導電材料（ステ
ンレスなど）を対極として入れて直流電圧を印加する
と、その導電性回路上に位置する複数の窓部に選択的に
電着塗膜が形成される。その窓部以外の部分、すなわ
ち、導電性回路上のフォトレジスト塗膜が存在する部分
および導電性回路以外の部分、には電着塗膜が形成され
ない。電着塗膜の膜厚は、電着条件により制御される。
電着条件は、通常１０〜３００V で１秒から３分間程度
である。電着塗膜は、塗膜形成後よく洗浄して不要物質
を除去する。塗膜強度を高めるために、必要により、１
００〜２８０℃、１０〜１２０分間の条件で熱処理され
る。

【００１５】本発明における（ｅ）の工程は、上記
（ｄ）工程で形成された電着塗膜を残し、上記（ｃ）工
程で形成されたフォトレジスト塗膜を除去する工程であ
る。フォトレジスト塗膜を除去する方法としては、例え
ば、プリント配線形成技術の分野で知られている方法
〔サーキットテクノロジ、Ｖｏｌ．４、Ｎｏ．４（１９
８９）ｐ．１９７；「プリント配線板」先端技術集成、
経営システム研究所発行（昭和６２年２月１０日）ｐ．
３０８〕があげられる。除去は適当な溶解力を有する薬
剤、例えば、現像液、に接触させることにより行われ
る。このような薬剤は、除去しようとする塗膜（ポジ型
又はネガ型フォトレジスト塗膜）および電着塗膜の種類
により選択されるが、通常、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、
４級アンモニウム塩及び有機アミン等を水に溶かしたア
ルカリ水溶液、あるいは、エステル、ケトン、アルコー
ル、エーテル、塩素化炭化水素等の有機溶剤が、適宜使
用される。除去は、浸漬あるいはシャワーなどにより３
０秒ないし2 ０分程度で行なうことができる。適宜、ブ
ラシ、織布などによるラビングが使用される。その後、
有機溶剤、水などを使用して良く洗浄を行なう。必要に
より、１００〜２８０℃、５〜６０分間の条件で熱処理
される。この工程により、窓部に電着塗膜が残り、それ
以外の部分は塗膜が存在しない状態となる。

【００１６】本発明における（ｆ）の工程は、以上の工
程により得られた透明基板全面にネガ型フォトレジスト
を塗布して、塗膜を形成する工程である。この塗布は、
スピンコート法、ロールコート法、スクリーン印刷、オ
フセット印刷、浸漬コート法などの比較的均質な塗膜が
得られる方法で行う。ネカ型フォトレジストとしては、
UV領域の光源で硬化反応する、いわゆるUV硬化型の材料
が好ましい。それらの主成分として、アクリル系、ウレ
タン系、エポキシ系、合成ゴム系、ポリビニルアルコー
ル系等の各種の樹脂あるいは、ゴムまたはゼラチンがあ
り、それぞれ単独あるいは混合して使用することができ
る。それらは、光硬化型塗料、インキあるいはネガ型レ
ジストとして市販されている。これらの材料には、反応
性希釈剤、反応開始剤、光増感剤などを適宜加えること
ができる。

【００１７】また求められる機能により必要な添加剤を
加えることができる。例えば、遮光のために使用する場
合は、適当な顔料あるいは遮光剤が、また接着の機能が
求められる場合は、適当な接着力を向上する材料を添加
する。ネガ型フォトレジストは塗布するに際し、その作
業性をよくするために、有機溶剤希釈型の材料では、炭
化水素、エステル、ケトンなどの適当な有機溶剤で、ま
た、水希釈型の材料では、水で、適当な粘度あるいは固
形分まで希釈して使用する。

【００１８】本発明における（ｇ）の工程は、透明基板
の背面より露光する工程である。露光は、ネガ型フォ
トレジストの種類により種々の範囲の波長の光が使用で
きるが、一般には、UV領域が望ましく、光源として超高
圧水銀灯、メタルハライドランブ等を使用した装置を用
いることができる。露光条件は、使用する光量およびネ
ガ型フォトレジストの種類により異なるが、通常は１０
０〜２０００ｍＪ／ｃｍ²程度である。露光された部分
は、架橋反応が進行し不溶性となり硬化する。

【００１９】本発明における（ｈ）の工程は、下地に上
記（ｄ）工程で形成された遮光性の塗膜が存在するため
に露光されなかった未硬化部分を除去する現像工程であ
る。その部分の除去は、適当な溶解力を有する薬剤、例
えば、現像液、に接触させ、溶出することにより行われ
る。このような薬剤は、ネガ型フォトレジスト塗膜の種
類により選択されるが、通常はカ性ソーダ、炭酸ソー
ダ、４級アンモニウム塩又は有機アミン等を水に溶かし
たアルカリ水溶液、あるいはエステル、ケトン、アルコ
ール、塩素化炭化水素等の有機溶剤が適宜使用される。
溶出は浸潰あるいはシャワーなどにより３０秒ないし５
分程度行えばよい。その後に、水、有機溶剤などを使用
してよく洗浄を行なう。次に必要により、１０〜２８０
℃、１０〜１２分間の条件で熱処理される。この工程に
より、窓部の間を埋める枠部の機能性塗膜が形成され
る。

【００２０】本発明方法を使ってＬＣＤ用等のカラーフ
ィルターをつくる場合、導電性回路を表面に有する透明
基板上に、窓部（カラー部）および枠部（ブラックマト
リックス部）を形成後それらの上にオーバーコート膜
（保護膜）が形成される。オーバーコート材としては、
エポキシ、ポリイミド、アクリレート系などの樹脂が用
いられる。オーバーコート膜の形成は、スピンコータ
ー、又はロールコーターなどにより樹脂を塗布後、熱硬
化することにより行なわれる。そして、さらに、その上
に液晶駆動用として、透明導電膜が形成され、必要に応
じて回路パターンが形成され、カラーフィルターが完成
する。

【００２１】以下に実施例を挙げて本発明を詳細に説明
する。

【実施例】

（１）透明基板上への帯状の透明導電性回路パターンの
形成厚さ 1 . 1 mm のガラス基板上に、幅８０μｍの帯状の
ITO 回路( １５Ω/ 口) を２０μｍの間隔を置いて( １
００μｍピッチ) 、平行直線状に形成した。

【００２２】（２）ポジ型フォトレジスト塗膜の形成上記（１）による透明基板全面にポジ型フォトレジスト
（商品名、ＦＨ2030、富士ハントエレクトロニクステク
ノロジー社製）１００重量部に対して、酢酸エチルセロ
ソルブ２０重量部を加え、この混合物による塗布をスピ
ンコート法で２００rpm ／５秒、１０００rpm ／２０秒
の二段階で順に行い、９０℃で３０分間熱処理して、膜
厚１. ５μｍのポジ型フォトレジスト塗膜を形成した。
〔以上（ａ）工程〕

【００２３】（３）露光ポジ型フォトレジスト塗膜上に、下地の複数の平行な帯
状の透明導電性回路の長手方向に対し垂直方向のライン
（遮光部）とスペース（透明部）が交互に描かれた（ラ
イン／スペース：１００μm ／２００μm ）パターンマ
スクを下地の透明導電性回路パターン（ライン／スペー
ス：８０μｍ/ ２０μｍ）に位置合わせを行い、向かい
合うようにセットし（マスクと塗膜間のギャップ：３０
μm ）、超高圧水銀灯を光源としたプロキシミティ露光
機（大日本科研製 MAP - 1200 ）により露光量１００ｍ
Ｊ／ｃｍ²で露光を行った。〔以上（ｂ）工程〕

【００２４】（４）現像露光後、現像液( 住友化学工業社製、商品名ＳＯＰＤ、
温度２５℃）に６０秒浸漬して露光部分を除去、現像
し、水リンスおよびエアーブロー乾燥を行なった。こう
して、下地の複数の平行な帯状の透明導電性回路の長手
方向に対し垂直方向の帯状のポジ型フォトレジスト塗膜
を形成した。〔以上（ｃ）工程〕

【００２５】（５）電着塗膜の形成以上の工程で得られた透明基板上の所定の透明導電性回
路を一方の電極とし、赤、緑、青の順に、電着塗装を行
なった。電着塗料として、それぞれ赤の無機顔料（アゾ
金属塩赤顔料）、緑の無機顔料（フタロシアニングリー
ン）、青の無機顔料（フタロシアニンブルー）を分散さ
せたアニオン性ポリエステル樹脂の水溶液〔それぞれシ
ントーケミトロン社製、商品名シントロンF ―Red ―C
(Ｒ７３)（赤）、商品名シントロンF ―Green ―C(G ３
４) （緑）、商品名シントロンF―Blue―C(Ｂ１８）(
青）〕を用い、各色種に応じて５０〜８０Ｖ、１０〜２
０秒の条件で行なった。その後、よく水洗した後、１２
０℃、１時間、熱処理を行なった。この結果、透明導電
性回路上のポジ型フォトレジスト塗膜の乗っていない部
分（窓部）に所定の順序で赤、緑、青のカラー塗膜（膜
厚１. ２μｍ、各窓部の幅約８０μｍ）が形成された。
これらの塗膜は、後述の（８）の工程使うUV光線を遮光
する性質を有している。〔以上（ｄ）工程〕

【００２６】（６）ポジ型フォトレジスト塗膜の除去以上の工程で得られた基板を、室温で剥離液（東京応化
工業社製、商品名ストリッパー＃１０）に５分間浸漬
し、ポジ型フォトレジスト塗膜のみの剥離除去を行なっ
た。この後、よく洗浄してエアーブロー乾燥した後、２
７０℃、６０分間塗膜を焼き付けた。これにより、上記
（４）で形成した下地の複数の平行な帯状の透明導電性
回路の長手方向に対し垂直方向の帯状のポジ型フォトレ
ジスト塗膜が除去された。〔以上（ｅ）工程〕

【００２７】（７）ネガ型フォトレジスト塗膜の形成（６）の工程を経た基板の全面にブラックマスク用塗料
（ネガ型フォトレジスト）（シントーケミトロン社製）
をスクリーン印刷で塗布した。塗布後、１００℃で１０
分間熱処理を行った。形成された膜の厚さは約８μｍで
あった。〔以上（ｆ）工程〕

【００２８】（８）ネガ型フォトレジスト塗膜の露光上記（７）の工程を経た基板に対し、背面（回路を有す
る面の反対側）１０cmの距離から８０W のUV光線を１０
秒間照射した。露光量１８００ｍＪ／cm²。この時用い
たUV光線の主波長は３１３nmおよび３６５nmであった。
〔以上（ｇ）工程〕

【００２９】（９）現像および洗浄上記（８）の工程を経た基板を、次いで超音波をかけな
がら２分間、酢酸エチルセロソルブ中に浸漬して未露光
部分（下地に上記（５）の工程で形成された遮光性の塗
膜が存在するために露光が妨げられた部分）の塗膜を除
去した。次に酢酸エチルセロソルブ洗浄液に３０秒浸漬
し後、イソプロピルアルコール、純水の順に各３０秒間
浸漬した。次いで２３０°C 、３０分間加熱し、硬化さ
せた。この結果、上記（５）の工程で形成された窓部の
カラー塗膜以外の部分を埋める、格子状の枠部の機能性
塗膜（ブラックマスク、膜厚1 . 2 μm ）が形成され
た。〔以上（ｈ）工程〕

【００３０】以上の工程を経て得られた窓部のカラー塗
膜と格子状の枠部の機能性塗膜のパターンは図２に示し
たものと同様のものであった。製品を顕微鏡で観察する
と、窓部のカラー塗膜と格子状の枠部の機能性塗膜の間
に光のリークがなく、各塗膜が精度よく形成されてい
た。

【００３１】

【発明の効果】本発明の方法に従うと、複数の平行な帯
状の導電性回路を表面に有する透明基板上に、その導電
性回路上に位置する複数の窓部の塗膜と、その窓部以外
の部分を埋める枠部の機能性（例えば、遮光性）を有す
る塗膜とを精度良く形成することができる。とくに、そ
の方法において、各窓部の幅が１００μｍ以下の微細な
パターンを有する塗膜を精度よく形成することができ
る。このため、本発明の方法は、例えば、光リークがよ
く防止されているため、カラー部が鮮明であり、光学特
性の極めてすぐれたＬＣＤ用３色カラーフィルターを作
るのに好適である。とくに、ＴＦＴとカラーフィルター
とを用いたマトリックス型カラー表示装置に用いられる
カラーフィルターを作るのに好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の各工程で得られる製品等の断面の模式
図である。

【図２】本発明における、導電性回路、（ｃ）工程で得
られる塗膜、および（ｄ）工程で得られる窓部の塗膜の
各パターンの平面の模式図である。

【図３】本発明において用いられるマスク（この例はポ
ジ型フォトレジスト塗膜用）と下地の導電性回路のパタ
ーンの平面の模式図である。Ａ、Ｂは、それぞれ異なっ
た例を示す。

【符号の説明】

１．透明基板２．導電性回路３．フォトレジスト塗膜４．窓部５．窓部の塗膜６．枠部の塗膜７．マスク８．マスクの透明部９．マスクの遮光部

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【手続補正書】

【提出日】平成６年６月６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正内容】

【特許請求の範囲】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者渡辺務東京都江東区新木場４丁目12番12号神東塗料株式会社内 (72)発明者手島康彦東京都江東区新木場４丁目12番12号神東塗料株式会社内 (72)発明者松村美紀東京都江東区新木場４丁目12番12号神東塗料株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の平行な帯状の導電性回路を表面に有
する透明基板上に、その導電性回路上に位置する複数の
窓部の塗膜と、その窓部以外の部分を埋める枠部の機能
性塗膜とを形成する方法において、（ａ）上記導電性回
路を有する透明基板全面に、ポジ型又はネガ型フォトレ
ジストを塗布して、塗膜を形成する工程、（ｂ）形成さ
れたポジ型又はネガ型フォトレジスト塗膜の表面に、次
の現像工程において窓部の部分とその部分の左右（下地
の帯状の導電性回路の長手方向を上下とする、以下同
じ）の辺の片方又は両方に隣接する部分を覆わずそれ以
外の部分を覆う塗膜を与えるようなパターンを有するマ
スクを重ねて、光線を照射する露光工程、（ｃ）窓部の
部分とその部分の左右の辺の片方又は両方に隣接する部
分の塗膜を除去し、それ以外の部分の塗膜を残す現像工
程、（ｄ）以上の工程を経て得られた透明基板に、その
導電性回路を一方の電極として使って電着塗装を行なう
ことにより、その導電性回路上に位置する複数の窓部
に、後述の露光工程で使う光線を遮光する性質を有する
塗膜を形成する工程、（ｅ）上記（ｃ）工程で残した塗
膜のみを除去する工程、（ｆ）以上の工程を経て得られ
た透明基板全面にネガ型フォトレジストを塗布して、塗
膜を形成する工程、（ｇ）透明基板の背面より露光する
工程、（ｈ）下地に上記（ｄ）工程で形成された遮光性
の塗膜が存在するために露光されなかった未硬化部分を
除去する現像工程、を上記の順に行うことを特徴とする
方法。
【請求項２】（ｂ）工程で用いるマスクのパターンが、
次の現像工程において窓部の部分とその部分の左右の辺
の片方又は両方に隣接する部分を覆わずそれ以外の部分
を覆う塗膜であって、かつ下地の帯状の導電性回路と交
差する帯状部分を有する塗膜を与えるものである、請求
項1 記載の方法。