JPH0736892B2 - 担持触媒およびその製造方法 - Google Patents
担持触媒およびその製造方法Info
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- JPH0736892B2 JPH0736892B2 JP3195385A JP19538591A JPH0736892B2 JP H0736892 B2 JPH0736892 B2 JP H0736892B2 JP 3195385 A JP3195385 A JP 3195385A JP 19538591 A JP19538591 A JP 19538591A JP H0736892 B2 JPH0736892 B2 JP H0736892B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ニッケルおよび酸化マ
グネシウムを含有する狭い孔径分布を持つ、オレフィン
系炭化水素および／または芳香族系炭化水素の水素化に
用いる担持触媒、ニッケル塩およびマグネシウム塩を含
有する水性溶液から出発しそしてそれから塩基性沈澱剤
によって共沈澱物を生じさせる該担持触媒の製造方法お
よび該触媒の用途に関する。
グネシウムを含有する狭い孔径分布を持つ、オレフィン
系炭化水素および／または芳香族系炭化水素の水素化に
用いる担持触媒、ニッケル塩およびマグネシウム塩を含
有する水性溶液から出発しそしてそれから塩基性沈澱剤
によって共沈澱物を生じさせる該担持触媒の製造方法お
よび該触媒の用途に関する。
【０００２】
【従来の技術】ヨーロッパ特許出願公開第０，３２２，
０４９号明細書（Ａ１）には、場合によっは周期律表の
第II族の金属Ｘ（特にＸ＝Ｍｇ）のカチオンを含んでい
てもよいニッケル−二酸化珪素触媒が記載されている。
この触媒は還元状態にあり、ＳｉＯ2 ：Ｎｉのモル比＝
（０．１５〜０．３５）：１、Ｘ：Ｎｉのモル比＝（０
〜０．１５）：１、１２０ｍ2 ／g以上の活性ニッケル
表面積、ＢＥＴの総表面積の少なくとも４０% が２．５
ｎｍ（２５オングストローム）以上の孔径ｒp の孔であ
ることおよび少なくとも５０% のニッケル含有量に特徴
がある。触媒の活性および選択率にとって特に２．５ｎ
ｍ（２５オングストローム）以上の孔径ｒ p の孔の表面
積の百分率が重要である。この百分率は少なくとも４０
% 、好ましくは４５% を越えるべきである。
０４９号明細書（Ａ１）には、場合によっは周期律表の
第II族の金属Ｘ（特にＸ＝Ｍｇ）のカチオンを含んでい
てもよいニッケル−二酸化珪素触媒が記載されている。
この触媒は還元状態にあり、ＳｉＯ2 ：Ｎｉのモル比＝
（０．１５〜０．３５）：１、Ｘ：Ｎｉのモル比＝（０
〜０．１５）：１、１２０ｍ2 ／g以上の活性ニッケル
表面積、ＢＥＴの総表面積の少なくとも４０% が２．５
ｎｍ（２５オングストローム）以上の孔径ｒp の孔であ
ることおよび少なくとも５０% のニッケル含有量に特徴
がある。触媒の活性および選択率にとって特に２．５ｎ
ｍ（２５オングストローム）以上の孔径ｒ p の孔の表面
積の百分率が重要である。この百分率は少なくとも４０
% 、好ましくは４５% を越えるべきである。
【０００３】触媒は、第一段階でニッケル塩およびマグ
ネシウム塩を含有する溶液に過剰の塩基性沈澱剤を連続
的に添加し、次いでこのようにして得られる共沈澱物に
連続的に第二段階で珪酸塩水溶液を添加し、生じた沈澱
物を例えば濾過によって集め、次いで乾燥しそして還元
することによって製造される。
ネシウム塩を含有する溶液に過剰の塩基性沈澱剤を連続
的に添加し、次いでこのようにして得られる共沈澱物に
連続的に第二段階で珪酸塩水溶液を添加し、生じた沈澱
物を例えば濾過によって集め、次いで乾燥しそして還元
することによって製造される。
【０００４】何れの場合も厳守すべき滞留時間は短い。
これは第一段階では２０〜１２０秒でありそして第二段
階では４０〜３００秒である。
これは第一段階では２０〜１２０秒でありそして第二段
階では４０〜３００秒である。
【０００５】
【発明の構成】本発明は、ＭｇおよびＮｉを（０．００
７５〜０．０７５）：１のモル比で還元された状態で含
み、１モルのＮｉ当たり担体１７．０〜６０．０ gに相
当して水不溶性の担体を含み、活性のニッケル金属表面
積が１１０〜１８０ｍ2 ／ｇ（Ｎｉ）でありそしてＢＥ
Ｔの総表面積の６５〜９７% が孔径ｒP ≦２．５ｎｍの
孔で構成されている、孔径の狭い分布に特徴のある新規
の触媒に関する。
７５〜０．０７５）：１のモル比で還元された状態で含
み、１モルのＮｉ当たり担体１７．０〜６０．０ gに相
当して水不溶性の担体を含み、活性のニッケル金属表面
積が１１０〜１８０ｍ2 ／ｇ（Ｎｉ）でありそしてＢＥ
Ｔの総表面積の６５〜９７% が孔径ｒP ≦２．５ｎｍの
孔で構成されている、孔径の狭い分布に特徴のある新規
の触媒に関する。
【０００６】本発明の触媒の本質的構成は、孔径ｒP が
≦２．５ｎｍの孔に起因する大きなＢＥＴ−総表面積で
表される狭い孔径分布である。ＢＥＴ−総表面積とは、
ブルナウワー（Ｂｒｕａｕｅｒ）、エメット（Ｅｍｍｅ
ｔｔ）およびテーラー（Ｔｅｌｌｅｒ）−方法（ＢＥ
Ｔ）に従って窒素の吸着によって測定される面積を意味
する。
≦２．５ｎｍの孔に起因する大きなＢＥＴ−総表面積で
表される狭い孔径分布である。ＢＥＴ−総表面積とは、
ブルナウワー（Ｂｒｕａｕｅｒ）、エメット（Ｅｍｍｅ
ｔｔ）およびテーラー（Ｔｅｌｌｅｒ）−方法（ＢＥ
Ｔ）に従って窒素の吸着によって測定される面積を意味
する。
【０００７】ＢＥＴ−総表面積は、触媒１ g当たり１６
０〜４５０、殊に１８０〜３８０、特に２００〜３５０
ｍ2 である。ブルナウワー（Ｂｒｕａｕｅｒ）、エメッ
ト（Ｅｍｍｅｔｔ）およびテーラー（Ｔｅｌｌｅｒ）に
従うＢＥＴ−総表面積の測定方法はＪ．Ａｍｅｒ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．６０、（１９３８）第３０９頁に記載さ
れている。
０〜４５０、殊に１８０〜３８０、特に２００〜３５０
ｍ2 である。ブルナウワー（Ｂｒｕａｕｅｒ）、エメッ
ト（Ｅｍｍｅｔｔ）およびテーラー（Ｔｅｌｌｅｒ）に
従うＢＥＴ−総表面積の測定方法はＪ．Ａｍｅｒ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．６０、（１９３８）第３０９頁に記載さ
れている。
【０００８】ｒＰ≦２．５ｎｍの範囲に極大のある上記
の狭い孔径分布によって本発明の触媒は、オレフィン系
炭化水素および／または芳香族系炭化水素の水素化にお
いて活性の向上および選択率の改善を結果的にもたらす
特別な性質を持つ。
の狭い孔径分布によって本発明の触媒は、オレフィン系
炭化水素および／または芳香族系炭化水素の水素化にお
いて活性の向上および選択率の改善を結果的にもたらす
特別な性質を持つ。
【０００９】新規の触媒の別の特徴は、ＭｇとＮｉとの
モル比で表される組成にある。念の為に以下の定義規定
を明確にする。１モルのＭｇあるいは１モルのＭｇ2+は
２４．３０５ g（Ｍｇ）あるいは２４．３０５ g（Ｍｇ
2+）に相当しそして１モルのＮｉあるいは１モルのＮｉ
2+は５８．７１ g（Ｎｉ）あるいは５８．７１ g（Ｎｉ
2+）に相当する。触媒が還元された状態では、マグネシ
ウムはＭｇ2+としてそしてニッケルは専らまたは殆ど完
全に金属の状態で存在している。従ってモル比はＭｇ2+
のモル数：（Ｎｉのモル数＋未還元のＮｉ2+のモル数）
の比という様に更に正確な式で示される。
モル比で表される組成にある。念の為に以下の定義規定
を明確にする。１モルのＭｇあるいは１モルのＭｇ2+は
２４．３０５ g（Ｍｇ）あるいは２４．３０５ g（Ｍｇ
2+）に相当しそして１モルのＮｉあるいは１モルのＮｉ
2+は５８．７１ g（Ｎｉ）あるいは５８．７１ g（Ｎｉ
2+）に相当する。触媒が還元された状態では、マグネシ
ウムはＭｇ2+としてそしてニッケルは専らまたは殆ど完
全に金属の状態で存在している。従ってモル比はＭｇ2+
のモル数：（Ｎｉのモル数＋未還元のＮｉ2+のモル数）
の比という様に更に正確な式で示される。
【００１０】更に、新規の触媒の組成は、水不溶性担体
とＮｉとの重量部の比によって決められ、その際この場
合も金属ニッケルのモル数とＮｉ2+のモル数との合計を
意味する。
とＮｉとの重量部の比によって決められ、その際この場
合も金属ニッケルのモル数とＮｉ2+のモル数との合計を
意味する。
【００１１】本発明の触媒は、既に前に記載した通り、
還元状態でＭｇとＮｉとを（０．００７５〜０．０７
５）：１のモル比で含有している。（０．０１５〜０．
０６０）：１、特に（０．０２２〜０．０５５）：１の
Ｍｇ：Ｎｉのモル比を選択するのが特に有利であること
が判っている。
還元状態でＭｇとＮｉとを（０．００７５〜０．０７
５）：１のモル比で含有している。（０．０１５〜０．
０６０）：１、特に（０．０２２〜０．０５５）：１の
Ｍｇ：Ｎｉのモル比を選択するのが特に有利であること
が判っている。
【００１２】担体としては水に不溶性の種々の物質が適
している。この場合には、珪酸塩、例えば珪酸カルシウ
ム、珪酸マグネシウムおよび／または珪酸アルミニウ
ム、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２および／または珪藻土があ
る。殊に有用な担体としては、珪酸−Ｍｇ、中でも軽石
の状態のもの、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２および／または珪
藻土、特に軽石、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２および／または
珪藻土、中でもＳｉＯ２および／または珪藻土が適して
いる。
している。この場合には、珪酸塩、例えば珪酸カルシウ
ム、珪酸マグネシウムおよび／または珪酸アルミニウ
ム、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２および／または珪藻土があ
る。殊に有用な担体としては、珪酸−Ｍｇ、中でも軽石
の状態のもの、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２および／または珪
藻土、特に軽石、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２および／または
珪藻土、中でもＳｉＯ２および／または珪藻土が適して
いる。
【００１３】担体は上述の材料の二種類以上で構成され
ていてもよい。大抵の場合には、選択する材料の一種類
だけを担体として使用するのが有利であることが判って
いる。
ていてもよい。大抵の場合には、選択する材料の一種類
だけを担体として使用するのが有利であることが判って
いる。
【００１４】担体材料は一般に細かい状態で存在するべ
きである。その粒子はできるだけ狭い粒度分布を有して
いるべきである。粒度によって製造後の触媒の性質、例
えば濾過性、嵩密度、加工性および触媒表面積も影響さ
れるので、粒度の選択にはある種の重要性がある。
きである。その粒子はできるだけ狭い粒度分布を有して
いるべきである。粒度によって製造後の触媒の性質、例
えば濾過性、嵩密度、加工性および触媒表面積も影響さ
れるので、粒度の選択にはある種の重要性がある。
【００１５】担体粒子は１〜３０μm 、殊に２〜２５μ
m 、特に３〜２０μm の粒度を有するべきである。担体
粒子の粒度は、還元された状態で存在する完成の触媒の
所望の性質に調和させる。
m 、特に３〜２０μm の粒度を有するべきである。担体
粒子の粒度は、還元された状態で存在する完成の触媒の
所望の性質に調和させる。
【００１６】触媒は１モルのＮｉ当たり１７．０〜６
０．０g 、殊に２５〜５０g 、特に３０〜４０g の担体
を含有している。１モルのＮｉとは、既に前に述べた通
り、還元されら状態のニッケルと未還元の状態のニッケ
ルとの合計を意味する。
０．０g 、殊に２５〜５０g 、特に３０〜４０g の担体
を含有している。１モルのＮｉとは、既に前に述べた通
り、還元されら状態のニッケルと未還元の状態のニッケ
ルとの合計を意味する。
【００１７】触媒の活性ニッケル金属表面積は１１０〜
１８０、殊に１２０〜１６０、特に１３０〜１５０ｍ2
／ｇ（Ｎｉ）である。この表面積の測定はＪｏｕｒｎａ
ｌｏｆ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ ８１、（１９８３）第２
０４頁および９６、（１９８５）第５１７頁に詳細に説
明されている方法によって２０℃での化学吸着によって
吸着される量の水素を測定することによって行われる。
１８０、殊に１２０〜１６０、特に１３０〜１５０ｍ2
／ｇ（Ｎｉ）である。この表面積の測定はＪｏｕｒｎａ
ｌｏｆ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ ８１、（１９８３）第２
０４頁および９６、（１９８５）第５１７頁に詳細に説
明されている方法によって２０℃での化学吸着によって
吸着される量の水素を測定することによって行われる。
【００１８】ＢＥＴ−総表面積の６５〜９７% 、殊に７
０〜９５% 、特に７５〜９５% が孔径ｒP ≦２．５ｎｍ
（２５オングストローム）の孔で構成されている。孔径
の測定は、Ｓ．Ｊ．ＧｒｅｇｇおよびＫ．Ｓ．Ｗ．Ｓｉ
ｎｇのＡｄｓｏｒｐｔｉｏｎＳｕｒｆａｃｅ Ａｒｅａ
ａｎｄ Ｐｏｒｏｓｉｔｙ（ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅ
ｓｓ Ｎｅｗ Ｙｏｕｋ−Ｌｏｎｄｏｎ １９６７）、
第１６０〜１８２頁に詳細に説明されている方法によっ
て行う。
０〜９５% 、特に７５〜９５% が孔径ｒP ≦２．５ｎｍ
（２５オングストローム）の孔で構成されている。孔径
の測定は、Ｓ．Ｊ．ＧｒｅｇｇおよびＫ．Ｓ．Ｗ．Ｓｉ
ｎｇのＡｄｓｏｒｐｔｉｏｎＳｕｒｆａｃｅ Ａｒｅａ
ａｎｄ Ｐｏｒｏｓｉｔｙ（ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅ
ｓｓ Ｎｅｗ Ｙｏｕｋ−Ｌｏｎｄｏｎ １９６７）、
第１６０〜１８２頁に詳細に説明されている方法によっ
て行う。
【００１９】本発明の触媒は、更に、ＢＥＴの総表面積
の６０〜９５% 、殊に７０〜９５% 、特に７３〜９０%
が孔径ｒP １．５〜２．５ｎｍ（１５〜２５オングスト
ローム）の孔で構成されている。
の６０〜９５% 、殊に７０〜９５% 、特に７３〜９０%
が孔径ｒP １．５〜２．５ｎｍ（１５〜２５オングスト
ローム）の孔で構成されている。
【００２０】孔径ｒP １．８〜２．５ｎｍ（１８〜２５
オングストローム）の孔は、ＢＥＴの総表面積の３５〜
８５% 、殊に４５〜７６% 、特に５０〜７０% を構成し
ている。
オングストローム）の孔は、ＢＥＴの総表面積の３５〜
８５% 、殊に４５〜７６% 、特に５０〜７０% を構成し
ている。
【００２１】径ｒP ≦２．５ｎｍ（２５オングストロー
ム）の孔で構成される、ＢＥＴ−総表面積の百分率で表
される孔径の分布は、ＢＥＴ−総表面積の大きさに関連
している。ＢＥＴ−総表面積が大きければ大きい程、一
般に径ｒP ≦２．５ｎｍの孔で構成されるＢＥＴ−総表
面積の百分率がますます大きい。本発明の触媒にとっ
て、ＢＥＴ−総表面積の主要部分（≧６０%）が１．５
〜２．５ｎｍの孔径ｒP を持つ孔によるものであること
は特別の特徴である。
ム）の孔で構成される、ＢＥＴ−総表面積の百分率で表
される孔径の分布は、ＢＥＴ−総表面積の大きさに関連
している。ＢＥＴ−総表面積が大きければ大きい程、一
般に径ｒP ≦２．５ｎｍの孔で構成されるＢＥＴ−総表
面積の百分率がますます大きい。本発明の触媒にとっ
て、ＢＥＴ−総表面積の主要部分（≧６０%）が１．５
〜２．５ｎｍの孔径ｒP を持つ孔によるものであること
は特別の特徴である。
【００２２】本発明の触媒を製造する方法はニッケル−
およびマグネシウム塩を含む水溶液から出発する。この
混合塩溶液は１リットル当たり１０〜１００、殊に２０
〜８０、特に３０〜５０g のＮｉを含有している。この
溶液は１リットル当たり相応して０．２〜１５g 、殊に
０．５〜１２g 、特に１〜１０g のＭｇＯを含有してい
る。
およびマグネシウム塩を含む水溶液から出発する。この
混合塩溶液は１リットル当たり１０〜１００、殊に２０
〜８０、特に３０〜５０g のＮｉを含有している。この
溶液は１リットル当たり相応して０．２〜１５g 、殊に
０．５〜１２g 、特に１〜１０g のＭｇＯを含有してい
る。
【００２３】この混合溶液は、ニッケルおよびマグネシ
ウムの水溶性の無機塩、有機塩または錯塩を水に溶解す
ることによって製造される。適する塩には、硫酸塩、塩
酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩および硝酸塩が
ある。ニッケルおよびマグネシウムをそれの硫酸塩、塩
酸塩、酢酸塩および硝酸塩、特に硝酸塩の状態で使用す
るのが特に有利であることが判った。
ウムの水溶性の無機塩、有機塩または錯塩を水に溶解す
ることによって製造される。適する塩には、硫酸塩、塩
酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩および硝酸塩が
ある。ニッケルおよびマグネシウムをそれの硫酸塩、塩
酸塩、酢酸塩および硝酸塩、特に硝酸塩の状態で使用す
るのが特に有利であることが判った。
【００２４】不所望の加水分解を予防しそして沈澱に有
利な影響を及ぼすために、混合塩溶液中に過剰の遊離酸
を入れるのが有利である。混合塩溶液はＨ+ ：Ｍｇ2+＝
（０．０１〜０．２）：１、特に（０．０２〜０．
１）：１、特に（０．０３〜０．０６）：１の比に相応
して遊離酸を含有しているべきである。遊離酸は、０．
８のｐＨ値に達するまでＮａＯＨでの滴定によって測定
する。遊離酸としては鉱酸、例えば塩酸、硫酸および硝
酸を使用することができる。特に硝酸が適している。
利な影響を及ぼすために、混合塩溶液中に過剰の遊離酸
を入れるのが有利である。混合塩溶液はＨ+ ：Ｍｇ2+＝
（０．０１〜０．２）：１、特に（０．０２〜０．
１）：１、特に（０．０３〜０．０６）：１の比に相応
して遊離酸を含有しているべきである。遊離酸は、０．
８のｐＨ値に達するまでＮａＯＨでの滴定によって測定
する。遊離酸としては鉱酸、例えば塩酸、硫酸および硝
酸を使用することができる。特に硝酸が適している。
【００２５】混合塩溶液は塩基性沈澱剤の水溶液と別々
に、しかし同時に、水に懸濁した担体材料に添加する。
に、しかし同時に、水に懸濁した担体材料に添加する。
【００２６】沈澱剤としては塩基性化合物の水溶液、特
にアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカ
リ金属水酸化物、水酸化アンモニウムまたは炭酸アンモ
ニウムの各水溶液が役立つ。これらの混合物も使用でき
る。Ｎａ2 ＣＯ3 および／またはＮａＨＣＯ3 を含有す
る水溶液が特に適している。沈澱剤は７．５〜１３、特
に８〜１２、特に９〜１１のｐＨ値を有しているべきで
ある。
にアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカ
リ金属水酸化物、水酸化アンモニウムまたは炭酸アンモ
ニウムの各水溶液が役立つ。これらの混合物も使用でき
る。Ｎａ2 ＣＯ3 および／またはＮａＨＣＯ3 を含有す
る水溶液が特に適している。沈澱剤は７．５〜１３、特
に８〜１２、特に９〜１１のｐＨ値を有しているべきで
ある。
【００２７】水溶液は該水溶液１リットル当たり０．１
〜４．０、殊に０．６〜３．０、特に１．６〜２．４当
量の塩基性化合物を含有している。１リットルの溶液当
たり０．３〜１．５、特に０．８〜１．２モルのアルカ
リ金属炭酸塩を含有する水溶液にて非常に良好な結果が
得られる。
〜４．０、殊に０．６〜３．０、特に１．６〜２．４当
量の塩基性化合物を含有している。１リットルの溶液当
たり０．３〜１．５、特に０．８〜１．２モルのアルカ
リ金属炭酸塩を含有する水溶液にて非常に良好な結果が
得られる。
【００２８】出来るだけ完全な沈澱を保証し且つ同時
に、塩基性ニッケル化合物およびマグネシウム化合物よ
り成る特別の均一な共沈澱物を得る為に、塩基性化合物
を僅かに過剰に使用する。この化学量論的過剰量は、一
般に塩基性化合物０．５〜１０% 、特に１〜７% であ
る。２〜５% 過剰の塩基性化合物を用いるのが特に有利
であることが判っている。この過剰量はそれぞれにＮｉ
およびＭｇを完全に沈澱させる為に必要とされる塩基性
化合物量に関する。
に、塩基性ニッケル化合物およびマグネシウム化合物よ
り成る特別の均一な共沈澱物を得る為に、塩基性化合物
を僅かに過剰に使用する。この化学量論的過剰量は、一
般に塩基性化合物０．５〜１０% 、特に１〜７% であ
る。２〜５% 過剰の塩基性化合物を用いるのが特に有利
であることが判っている。この過剰量はそれぞれにＮｉ
およびＭｇを完全に沈澱させる為に必要とされる塩基性
化合物量に関する。
【００２９】化学量論的過剰量は、一方では出来るだけ
均一なＮｉ−Ｍｇ−共沈澱物の沈澱を確実に保証しそし
てもう一方では混合塩溶液中に含まれる金属イオンの沈
澱をそれぞれの所望の程度で生じさせるよう決めるべき
である。
均一なＮｉ−Ｍｇ−共沈澱物の沈澱を確実に保証しそし
てもう一方では混合塩溶液中に含まれる金属イオンの沈
澱をそれぞれの所望の程度で生じさせるよう決めるべき
である。
【００３０】沈澱は、混合塩溶液および沈澱剤を、触媒
の製造に適する水に懸濁された担体材料に攪拌下に別々
に、しかし同時に連続的または不連続的に供給すること
によって行う。
の製造に適する水に懸濁された担体材料に攪拌下に別々
に、しかし同時に連続的または不連続的に供給すること
によって行う。
【００３１】担体材料としては、既に前に述べた物質、
例えばカルシウム、マグネシウムおよび／またはアルミ
ニウムの珪酸塩、Ａｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 および／または
珪藻土を使用することができる。
例えばカルシウム、マグネシウムおよび／またはアルミ
ニウムの珪酸塩、Ａｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 および／または
珪藻土を使用することができる。
【００３２】担体材料−水−懸濁物は、１リットルの水
当たり６〜１００ g、殊に１０〜６０ g、特に２０〜４
０ gの担体材料を含有しているべきである。経済的理由
から更に少ない担体材料含有量は避けるべきであり、得
られる懸濁物の攪拌性の理由から更に多い担体材料含有
量は避けるべきである。
当たり６〜１００ g、殊に１０〜６０ g、特に２０〜４
０ gの担体材料を含有しているべきである。経済的理由
から更に少ない担体材料含有量は避けるべきであり、得
られる懸濁物の攪拌性の理由から更に多い担体材料含有
量は避けるべきである。
【００３３】塩基性のニッケル−およびマグネシウム化
合物より成る共沈澱物の沈澱処理は、混合塩溶液および
沈澱剤を比較的ゆっくり添加することによって行う。沈
澱処理時間は少なくとも１０分、殊に少なくとも１５
分、特に少なくとも２０分であるべきである。
合物より成る共沈澱物の沈澱処理は、混合塩溶液および
沈澱剤を比較的ゆっくり添加することによって行う。沈
澱処理時間は少なくとも１０分、殊に少なくとも１５
分、特に少なくとも２０分であるべきである。
【００３４】多くの場合、１５〜１２０分、殊に２０〜
９０分、特に２５〜６０分の沈澱処理時間を維持するの
が有利であることが判っている。沈澱処理時間は、特に
不連続的に実施する沈澱処理の場合に、混合塩溶液およ
び沈澱剤の適当な添加速度を選択することによって調節
できるが、一方連続的に実施する場合には混合塩溶液お
よび沈澱剤の添加速度の他に反応容積を基準とする仕込
み量も考慮するべきである。
９０分、特に２５〜６０分の沈澱処理時間を維持するの
が有利であることが判っている。沈澱処理時間は、特に
不連続的に実施する沈澱処理の場合に、混合塩溶液およ
び沈澱剤の適当な添加速度を選択することによって調節
できるが、一方連続的に実施する場合には混合塩溶液お
よび沈澱剤の添加速度の他に反応容積を基準とする仕込
み量も考慮するべきである。
【００３５】沈澱処理の間、６〜８．５、特に６．５〜
７．８のｐＨ範囲内の一定のｐＨ値で実施する。ｐＨ値
の変動は、特に均一な共沈澱物を製造することを保証す
る為に、出来るだけ少なく維持するべきである。ｐＨ値
の変動は−０．５〜＋０．５、特に−０．２〜＋０．２
の範囲に制限されるべきである。
７．８のｐＨ範囲内の一定のｐＨ値で実施する。ｐＨ値
の変動は、特に均一な共沈澱物を製造することを保証す
る為に、出来るだけ少なく維持するべきである。ｐＨ値
の変動は−０．５〜＋０．５、特に−０．２〜＋０．２
の範囲に制限されるべきである。
【００３６】沈澱は８０℃以上の温度、殊に９０〜１１
０℃の範囲内、特に９５〜１０５℃の範囲内の温度で実
施する。この目的の為には、沈澱に関与する物質──即
ち、混合塩溶液、沈澱剤および担体材料−水−懸濁物─
─を適当な高い温度に調節するのが有利である。沈澱処
理の間に、温度はできるだけ一定に維持するべきであ
る。所期の温度からのずれは、±２℃、特に±１℃を越
えるべきでない。沈澱温度の変更は共沈澱物の性質、例
えば粒度および均質性に不利な影響を及ぼす。
０℃の範囲内、特に９５〜１０５℃の範囲内の温度で実
施する。この目的の為には、沈澱に関与する物質──即
ち、混合塩溶液、沈澱剤および担体材料−水−懸濁物─
─を適当な高い温度に調節するのが有利である。沈澱処
理の間に、温度はできるだけ一定に維持するべきであ
る。所期の温度からのずれは、±２℃、特に±１℃を越
えるべきでない。沈澱温度の変更は共沈澱物の性質、例
えば粒度および均質性に不利な影響を及ぼす。
【００３７】共沈澱物はマグネシウムおよびニッケルを
（０．０２〜０．２５）：１、殊に（０．０３〜０．
２）：１、特に（０．０３５〜０．１）：１のモル比に
相応して含有している。沈澱処理の終了後にこの沈澱物
を母液から分離する。これはデカンテーションおよび／
または濾過によって行う。
（０．０２〜０．２５）：１、殊に（０．０３〜０．
２）：１、特に（０．０３５〜０．１）：１のモル比に
相応して含有している。沈澱処理の終了後にこの沈澱物
を母液から分離する。これはデカンテーションおよび／
または濾過によって行う。
【００３８】次いで共沈澱物を水で洗浄し、その際に溶
液中に存在する成分、例えば共沈澱物中に含まれるＮａ
+ およびＮＯ3 - の他に塩基性マグネシウム化合物を共
沈澱物から溶かし出す。これが、マグネシウムとニッケ
ルとのモル比を変更する結果をもたらしそしてマグネシ
ウムが減少する為に本発明の触媒の値に相応する低い値
にずれる。６０〜９０℃、殊に６５〜８５℃、特に７０
〜８０℃の比較的高い温度で洗浄する。更に低い温度で
洗浄することもできるが、その場合には勿論、明らかに
長い洗浄時間および多い洗浄水量が必要とされる。
液中に存在する成分、例えば共沈澱物中に含まれるＮａ
+ およびＮＯ3 - の他に塩基性マグネシウム化合物を共
沈澱物から溶かし出す。これが、マグネシウムとニッケ
ルとのモル比を変更する結果をもたらしそしてマグネシ
ウムが減少する為に本発明の触媒の値に相応する低い値
にずれる。６０〜９０℃、殊に６５〜８５℃、特に７０
〜８０℃の比較的高い温度で洗浄する。更に低い温度で
洗浄することもできるが、その場合には勿論、明らかに
長い洗浄時間および多い洗浄水量が必要とされる。
【００３９】共沈澱物からのマグネシウム化合物の洗い
出しは、洗浄水の使用量、洗浄水の流速および温度並び
に洗浄時間によって影響される。増やした洗浄水の量、
高い温度の洗浄水および長時間の洗浄工程がマグネシウ
ム化合物を特に十分に洗い出すのに必要とされる。少な
い量の洗浄水、低温の洗浄水および短時間の洗浄工程
は、マグネシウム化合物の洗い出し量を減少させる。洗
浄工程の個々のパラメーター、洗浄水の量、流速および
温度並びに洗浄期間は、所望の割合のマグネシウム化合
物が洗い出されそしてＭｇおよびニッケルが（０．００
７５〜０．０７５）：１、殊に（０．０１５〜０．０
６）：１、特に（０．０２２〜０．０５５）：１のモル
比に相応して存在する様に個々の場合に互いに調整す
る。
出しは、洗浄水の使用量、洗浄水の流速および温度並び
に洗浄時間によって影響される。増やした洗浄水の量、
高い温度の洗浄水および長時間の洗浄工程がマグネシウ
ム化合物を特に十分に洗い出すのに必要とされる。少な
い量の洗浄水、低温の洗浄水および短時間の洗浄工程
は、マグネシウム化合物の洗い出し量を減少させる。洗
浄工程の個々のパラメーター、洗浄水の量、流速および
温度並びに洗浄期間は、所望の割合のマグネシウム化合
物が洗い出されそしてＭｇおよびニッケルが（０．００
７５〜０．０７５）：１、殊に（０．０１５〜０．０
６）：１、特に（０．０２２〜０．０５５）：１のモル
比に相応して存在する様に個々の場合に互いに調整す
る。
【００４０】一般に１モルの洗い出しＭｇ2+当たり８０
〜３５０リットル、殊に１００〜３００リットル、特に
１２０〜１８０リットルの洗浄水を使用する。
〜３５０リットル、殊に１００〜３００リットル、特に
１２０〜１８０リットルの洗浄水を使用する。
【００４１】洗浄工程の期間は十分に調節する必要があ
る。これは少なくとも６０分、殊に少なくとも８０分、
特に少なくとも９０分であるべきである。一般に７５〜
１８０分、殊に９０〜１５０分、特に１００〜１３５分
で十分である。
る。これは少なくとも６０分、殊に少なくとも８０分、
特に少なくとも９０分であるべきである。一般に７５〜
１８０分、殊に９０〜１５０分、特に１００〜１３５分
で十分である。
【００４２】洗浄工程は唯一の段階で実施するかまた
は、必要とされる洗浄水全量を適当に分けることによっ
て相前後する複数の段階で進めることができる。どの様
に行うかは個々のケースに左右される。一般に一段階の
洗浄法も多段階の洗浄法も所望の成果をもたらす。多段
階洗浄法は、多いマグネシウム含有量の共沈澱物を低い
マグネシウム割合の生成物に調節するべき場合に、必要
とされ得る。
は、必要とされる洗浄水全量を適当に分けることによっ
て相前後する複数の段階で進めることができる。どの様
に行うかは個々のケースに左右される。一般に一段階の
洗浄法も多段階の洗浄法も所望の成果をもたらす。多段
階洗浄法は、多いマグネシウム含有量の共沈澱物を低い
マグネシウム割合の生成物に調節するべき場合に、必要
とされ得る。
【００４３】洗浄工程の制御は洗浄水中に存在する溶か
し出されたマグネシウム化合物を測定することによって
容易に成る。このような監視は、洗浄工程を標準化され
且つ制御された条件のもとで例えば所定量の洗浄水、温
度および期間行う場合には、省略できる。
し出されたマグネシウム化合物を測定することによって
容易に成る。このような監視は、洗浄工程を標準化され
且つ制御された条件のもとで例えば所定量の洗浄水、温
度および期間行う場合には、省略できる。
【００４４】所望の場合には、洗浄した物質を小片状に
してもよい。賦形する為には、確認された方法、例えば
紐状物押出成形法を使用することができる。
してもよい。賦形する為には、確認された方法、例えば
紐状物押出成形法を使用することができる。
【００４５】乾燥は高めた温、殊に上昇する温度のもと
で段階的に実施する。乾燥を５０〜１２０℃、殊に５５
〜１００℃、特に６０〜９０℃の温度のもとで通例の方
法の使用下に、例えば乾燥用物質を固定床または流動床
に、例えば渦流動層に配置して実施するので十分である
ことが判っている。
で段階的に実施する。乾燥を５０〜１２０℃、殊に５５
〜１００℃、特に６０〜９０℃の温度のもとで通例の方
法の使用下に、例えば乾燥用物質を固定床または流動床
に、例えば渦流動層に配置して実施するので十分である
ことが判っている。
【００４６】触媒組成物の還元は２６０〜４００℃、特
に２８０〜３６０℃の温度のもとで水素によって行う。
に２８０〜３６０℃の温度のもとで水素によって行う。
【００４７】本発明の方法は、上述の既に詳細に説明し
た触媒の孔径および表面積の特徴的な分布を保証する。
た触媒の孔径および表面積の特徴的な分布を保証する。
【００４８】方法パラメーターを上述の範囲内において
変えることによって孔径および表面積の分布は所望の方
向に意図的に変えることができる。例えば、１．８ｎｍ
〜２．５ｎｍの孔径範囲内の比較的に狭い孔径分布をま
たは１．５ｎｍ〜２．５ｎｍの孔径範囲内の比較的に広
い孔径分布を選択的に調整することができる。
変えることによって孔径および表面積の分布は所望の方
向に意図的に変えることができる。例えば、１．８ｎｍ
〜２．５ｎｍの孔径範囲内の比較的に狭い孔径分布をま
たは１．５ｎｍ〜２．５ｎｍの孔径範囲内の比較的に広
い孔径分布を選択的に調整することができる。
【００４９】孔径分布を小さい孔径の方にずらせばずら
すほど、本発明の触媒のＢＥＴ−総表面積はますます大
きい。
すほど、本発明の触媒のＢＥＴ−総表面積はますます大
きい。
【００５０】ＭｇおよびＮｉを（０．００７５〜０．０
７５）：１のモル比で未還元状態で含み、１モルのＮｉ
当たり１７．０〜６０．０ｇの担体並びに２〜２５重量
％の水を含み、担体の存在下にｐＨ６〜８．５および９
０〜１１０℃で沈澱した、（０．０２〜０．２５）：１
のＭｇ：Ｎｉモル比および１モルのＮｉ当たり１７．０
〜６０．０ｇの担体を含有する共沈澱物を６０〜９０℃
で水にて洗浄されている、組成物は、還元して本発明の
触媒とする前の前駆体となる。
７５）：１のモル比で未還元状態で含み、１モルのＮｉ
当たり１７．０〜６０．０ｇの担体並びに２〜２５重量
％の水を含み、担体の存在下にｐＨ６〜８．５および９
０〜１１０℃で沈澱した、（０．０２〜０．２５）：１
のＭｇ：Ｎｉモル比および１モルのＮｉ当たり１７．０
〜６０．０ｇの担体を含有する共沈澱物を６０〜９０℃
で水にて洗浄されている、組成物は、還元して本発明の
触媒とする前の前駆体となる。
【００５１】この組成物はマグネシウムとニッケルとを
好ましくは（０．０１５〜０．０６）：１、特に（０．
０２２〜０．０５５）：１のモル比に相当して未還元状
態で含有している。この組成物は、１モルのＮｉ当たり
好ましくは２５〜５０ g、特に３０〜４０ gの担体およ
び組成物を基準として好ましくは３〜２０重量% 、特に
４〜１５重量% の水を含有している。
好ましくは（０．０１５〜０．０６）：１、特に（０．
０２２〜０．０５５）：１のモル比に相当して未還元状
態で含有している。この組成物は、１モルのＮｉ当たり
好ましくは２５〜５０ g、特に３０〜４０ gの担体およ
び組成物を基準として好ましくは３〜２０重量% 、特に
４〜１５重量% の水を含有している。
【００５２】水で洗浄すべき共沈澱物は、好ましくは
（０．０３〜０．２）：１、特に（０．０３５〜０．
１）：１のモル比に相応してマグネシウムおよびニッケ
ルを含有している。
（０．０３〜０．２）：１、特に（０．０３５〜０．
１）：１のモル比に相応してマグネシウムおよびニッケ
ルを含有している。
【００５３】この組成物から以下の通り、本発明の触媒
を場合によっは賦形および乾燥後に還元することによっ
て製造する。
を場合によっは賦形および乾燥後に還元することによっ
て製造する。
【００５４】本発明の触媒はオレフィン系炭化水素およ
び／または芳香族系炭化水素を液相で水素化するのに用
いるのが有利である。既に８０〜１４０℃の範囲内の穏
やかな温度のもとで、試験した反応において高い転化率
および良好な選択率が達成される。これは、従来技術の
触媒に比較して新規の触媒が優れていることを明らかに
している。更に、本発明の触媒はその粒度分布のために
優れた濾過特性を示した。
び／または芳香族系炭化水素を液相で水素化するのに用
いるのが有利である。既に８０〜１４０℃の範囲内の穏
やかな温度のもとで、試験した反応において高い転化率
および良好な選択率が達成される。これは、従来技術の
触媒に比較して新規の触媒が優れていることを明らかに
している。更に、本発明の触媒はその粒度分布のために
優れた濾過特性を示した。
【００５５】
【実施例】本発明を以下の実施例によって更に詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５６】例１（実施例） ６０重量% のＮｉ、１．６重量% のＭｇ（ＭｇＯとして
測定した）、担体材料としての３６重量% の珪藻土（１
モルのＮｉ当たり３２．５gの珪藻土に相当する）成る
組成の触媒の製造： 蒸留水に１９８０ gのＮｉ（ＮＯ3)2 ・６Ｈ2 Ｏおよび
１５３ gのＭｇ（ＮＯ 3)2 ・６Ｈ2 Ｏを溶解することに
よってＨＮＯ3 の添加下に、１リットル当たり３５ gの
Ｎｉおよび１リットル当たり２．１ gのＭｇＯに相当す
るマグネシウムおよび１リットル当たり１．５〜２．５
gの遊離ＨＮＯ3 を含有する混合塩溶液を製造する。
測定した）、担体材料としての３６重量% の珪藻土（１
モルのＮｉ当たり３２．５gの珪藻土に相当する）成る
組成の触媒の製造： 蒸留水に１９８０ gのＮｉ（ＮＯ3)2 ・６Ｈ2 Ｏおよび
１５３ gのＭｇ（ＮＯ 3)2 ・６Ｈ2 Ｏを溶解することに
よってＨＮＯ3 の添加下に、１リットル当たり３５ gの
Ｎｉおよび１リットル当たり２．１ gのＭｇＯに相当す
るマグネシウムおよび１リットル当たり１．５〜２．５
gの遊離ＨＮＯ3 を含有する混合塩溶液を製造する。
【００５７】沈澱剤として、蒸留水にＮａ2 ＣＯ3 を溶
解することによって１リットル当たり１０６ gのＮａ2
ＣＯ3 の値を示すソーダ水溶液を利用する。
解することによって１リットル当たり１０６ gのＮａ2
ＣＯ3 の値を示すソーダ水溶液を利用する。
【００５８】沈澱処理を実施する為に、８．０リットル
の蒸留水に２４０ gの珪藻土を懸濁させそして９７℃に
加熱する。攪拌した懸濁液に１１．４リットルの９７℃
に加熱された混合塩溶液および８．９リットルの同様に
９７℃の沈澱剤を同時に、但し別々に添加する。混合塩
溶液および沈澱剤を同時に且つ別々に添加することによ
って、激しく攪拌した懸濁液のｐＨ値を１〜５分の間に
ｐＨ＝７．３〜７．４に調整する。一方、沈澱処理の
間、ｐＨ値は７．４±０．２にそして温度は９７±１℃
に一定に維持する。
の蒸留水に２４０ gの珪藻土を懸濁させそして９７℃に
加熱する。攪拌した懸濁液に１１．４リットルの９７℃
に加熱された混合塩溶液および８．９リットルの同様に
９７℃の沈澱剤を同時に、但し別々に添加する。混合塩
溶液および沈澱剤を同時に且つ別々に添加することによ
って、激しく攪拌した懸濁液のｐＨ値を１〜５分の間に
ｐＨ＝７．３〜７．４に調整する。一方、沈澱処理の
間、ｐＨ値は７．４±０．２にそして温度は９７±１℃
に一定に維持する。
【００５９】混合塩溶液および沈澱剤の添加は、約３０
〜３５分後に終了するように調整する。その直後に濾過
する。
〜３５分後に終了するように調整する。その直後に濾過
する。
【００６０】次に濾過残留物を６５リットルの８０℃の
温水にて１０５分の期間に渡って洗浄しそして再度濾去
する。
温水にて１０５分の期間に渡って洗浄しそして再度濾去
する。
【００６１】濾過ケーキ状物を押出成形しそして高温
（５０〜７５℃）のもとで空気にて、乾燥物を基準とし
て＜１０重量% （水）の含有水残留量に乾燥する。
（５０〜７５℃）のもとで空気にて、乾燥物を基準とし
て＜１０重量% （水）の含有水残留量に乾燥する。
【００６２】乾燥した物質をＨ2 流（１リットルの触媒
・１時間当たり４００リットルのＨ 2 ）中で２８０〜３
６０℃で還元処理する。還元は４時間後に終了する。
・１時間当たり４００リットルのＨ 2 ）中で２８０〜３
６０℃で還元処理する。還元は４時間後に終了する。
【００６３】この触媒は約６０重量% のＮｉ、１．６重
量% のＭｇＯに相当するマグネシウムおよび、１モルの
Ｎｉ当たり３５．２ gの珪藻土に相当する３６重量% の
珪藻土を含有している。ＢＥＴ−総表面積の約８２% が
孔径ｒP ≦２．５ｎｍ（２５オングストローム）の孔で
構成されそしてＢＥＴ−総表面積の約６０% が孔径ｒ P
≦１．８ｎｍ〜ｒP ≦２．５ｎｍの孔で構成されてい
る。活性のニッケル金属表面積は１ gのＮｉ当たり１４
０〜１５０ｍ2 である。ＢＥＴ−総表面積は１ gの触媒
当たり２３０〜２７０ｍ2である。
量% のＭｇＯに相当するマグネシウムおよび、１モルの
Ｎｉ当たり３５．２ gの珪藻土に相当する３６重量% の
珪藻土を含有している。ＢＥＴ−総表面積の約８２% が
孔径ｒP ≦２．５ｎｍ（２５オングストローム）の孔で
構成されそしてＢＥＴ−総表面積の約６０% が孔径ｒ P
≦１．８ｎｍ〜ｒP ≦２．５ｎｍの孔で構成されてい
る。活性のニッケル金属表面積は１ gのＮｉ当たり１４
０〜１５０ｍ2 である。ＢＥＴ−総表面積は１ gの触媒
当たり２３０〜２７０ｍ2である。
【００６４】生じる触媒は自然発火性である。それ故
に、自体公知のように、約０．１〜１．０重量％のＯ２
を含有するＯ２／Ｎ２混合物中で処理するのが有利であ
る。それによって空気の影響に対して比較的に鈍感にな
る。このように安定化した触媒は簡単に取り扱うことが
できる。Ｏ２−処理の為に、Ｎｉ含有量は約５７重量％
に減少する。Ｍｇ含有量は１．５２重量％である。
に、自体公知のように、約０．１〜１．０重量％のＯ２
を含有するＯ２／Ｎ２混合物中で処理するのが有利であ
る。それによって空気の影響に対して比較的に鈍感にな
る。このように安定化した触媒は簡単に取り扱うことが
できる。Ｏ２−処理の為に、Ｎｉ含有量は約５７重量％
に減少する。Ｍｇ含有量は１．５２重量％である。
【００６５】例２（実施例） オレフィン系炭化水素と芳香族系炭化水素とより成る混
合物を本発明の触媒で水素化する。
合物を本発明の触媒で水素化する。
【００６６】約２重量％のオレフィン系炭化水素および
約２２重量％の芳香族炭化水素を含有する４００ｇの炭
化水素混合物を、マグネットスタラーが備えられている
オートクレーブ（容量１リットル）に最初に導入しそし
て例１に従って製造した、５６．９重量％のＮｉおよび
１．５２重量％のＭｇを含有する３．５３ｇの触媒を加
える（炭化水素混合物を基準として約０．５重量％のＮ
ｉに相当する）。次いで攪拌しながら１４０℃に加熱し
そして２０ｂａｒのＨ２の圧力のもとで水素化する。
約２２重量％の芳香族炭化水素を含有する４００ｇの炭
化水素混合物を、マグネットスタラーが備えられている
オートクレーブ（容量１リットル）に最初に導入しそし
て例１に従って製造した、５６．９重量％のＮｉおよび
１．５２重量％のＭｇを含有する３．５３ｇの触媒を加
える（炭化水素混合物を基準として約０．５重量％のＮ
ｉに相当する）。次いで攪拌しながら１４０℃に加熱し
そして２０ｂａｒのＨ２の圧力のもとで水素化する。
【００６７】８５分後に水素の吸収が完了する。生じる
水素化生成物は＜０．０１重量% のオレフィン系炭化水
素および＜０．０２重量% の芳香族炭化水素しか含有し
ていない。
水素化生成物は＜０．０１重量% のオレフィン系炭化水
素および＜０．０２重量% の芳香族炭化水素しか含有し
ていない。
【００６８】例３（比較例） オレフィン系炭化水素と芳香族系炭化水素とより成る混
合物を慣用の触媒で水素化する。
合物を慣用の触媒で水素化する。
【００６９】例２に記載した４００ gの炭化水素混合物
を、５５重量%のＮｉ、８重量% のＭｇＯおよび３３．
１重量% の珪藻土（１モルのＮｉ当たり３５．２２５ g
の珪藻土に相当する）を含有し且つ１ gのＮｉ当たり６
０〜７０ｍ2 の活性のニッケル金属表面積および１ gの
触媒当たり１３０〜１５０ｍ2 のＢＥＴ−総表面積を有
する慣用の触媒３．６４と一緒に用いる（炭化水素混合
物を基準として約０．５重量% のＮｉに相当する）。例
２に記載した如く１４０℃および２０ｂａｒのＨ2 のも
とで実施する。
を、５５重量%のＮｉ、８重量% のＭｇＯおよび３３．
１重量% の珪藻土（１モルのＮｉ当たり３５．２２５ g
の珪藻土に相当する）を含有し且つ１ gのＮｉ当たり６
０〜７０ｍ2 の活性のニッケル金属表面積および１ gの
触媒当たり１３０〜１５０ｍ2 のＢＥＴ−総表面積を有
する慣用の触媒３．６４と一緒に用いる（炭化水素混合
物を基準として約０．５重量% のＮｉに相当する）。例
２に記載した如く１４０℃および２０ｂａｒのＨ2 のも
とで実施する。
【００７０】しかしながら水の吸収は１８０分後に初め
て終了する。生じる水素化生成物は＜０．０１重量％の
オレフィン系炭化水素および＜０．０２重量％の芳香族
炭化水素を含有している。本発明は、特許請求の範囲に
記載の担持触媒およびその製造方法に関するものである
が、以下に記載の発明を実施の態様として包含してい
る： （１） ＢＥＴの総表面積が１ｇの触媒当たり１８０〜
３８０ｍ２、中でも２００〜３５０ｍ２である、請求項
１に記載の担持触媒。 （２） ＭｇおよびＮｉを（０．０１５〜０．０６）：
１、特に（０．０２２〜０．０５５）：１のモル比で含
有する請求項１または２に記載の担持触媒。 （３） 担体が珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪
酸アルミニウム、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２および／または
珪藻土、殊にＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２および／または珪藻
土、特にＳｉＯ２および／または珪藻土、中でも珪藻土
である請求項１または２または上記（１）または（２）
のいずれか一つに記載の担持触媒。 （４） １モルのＮｉ当たり２５〜５０、特に３０〜４
０ｇの担体を含有している請求項１または２および上記
（１）〜（３）のいずれか一つに記載の担持触媒。 （５） 活性ニッケル金属表面積が１２０〜１６０、特
に１３０〜１５０ｍ２／ｇ（Ｎｉ）である請求項１また
は２および上記（１）〜（４）のいずれか一つに記載の
担持触媒。 （６） ＢＥＴの総表面積の７０〜９５％、特に７５〜
９５％が孔径ｒＰ≦２．５ｎｍの孔で構成されている請
求項１または２および上記（１）〜（５）のいずれか一
つに記載の担持触媒。 （７） ＢＥＴの総表面積の６０〜９５％、殊に７０〜
９５％、特に７３〜９０％が孔径ｒｐ１．５〜２．５ｎ
ｍの孔で構成されている請求項１または２および上記
（１）〜（６）のいずれか一つに記載の担持触媒。 （８） 総表面積の３５〜８５％、殊に４５〜７６％、
特に５０〜７０％が孔径ｒＰ１．８〜２．５ｎｍの孔で
構成されている請求項１または２および上記（１）〜
（７）のいずれか一つに記載の担持触媒。
て終了する。生じる水素化生成物は＜０．０１重量％の
オレフィン系炭化水素および＜０．０２重量％の芳香族
炭化水素を含有している。本発明は、特許請求の範囲に
記載の担持触媒およびその製造方法に関するものである
が、以下に記載の発明を実施の態様として包含してい
る： （１） ＢＥＴの総表面積が１ｇの触媒当たり１８０〜
３８０ｍ２、中でも２００〜３５０ｍ２である、請求項
１に記載の担持触媒。 （２） ＭｇおよびＮｉを（０．０１５〜０．０６）：
１、特に（０．０２２〜０．０５５）：１のモル比で含
有する請求項１または２に記載の担持触媒。 （３） 担体が珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、珪
酸アルミニウム、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２および／または
珪藻土、殊にＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２および／または珪藻
土、特にＳｉＯ２および／または珪藻土、中でも珪藻土
である請求項１または２または上記（１）または（２）
のいずれか一つに記載の担持触媒。 （４） １モルのＮｉ当たり２５〜５０、特に３０〜４
０ｇの担体を含有している請求項１または２および上記
（１）〜（３）のいずれか一つに記載の担持触媒。 （５） 活性ニッケル金属表面積が１２０〜１６０、特
に１３０〜１５０ｍ２／ｇ（Ｎｉ）である請求項１また
は２および上記（１）〜（４）のいずれか一つに記載の
担持触媒。 （６） ＢＥＴの総表面積の７０〜９５％、特に７５〜
９５％が孔径ｒＰ≦２．５ｎｍの孔で構成されている請
求項１または２および上記（１）〜（５）のいずれか一
つに記載の担持触媒。 （７） ＢＥＴの総表面積の６０〜９５％、殊に７０〜
９５％、特に７３〜９０％が孔径ｒｐ１．５〜２．５ｎ
ｍの孔で構成されている請求項１または２および上記
（１）〜（６）のいずれか一つに記載の担持触媒。 （８） 総表面積の３５〜８５％、殊に４５〜７６％、
特に５０〜７０％が孔径ｒＰ１．８〜２．５ｎｍの孔で
構成されている請求項１または２および上記（１）〜
（７）のいずれか一つに記載の担持触媒。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (3)
- 【請求項１】 ＭｇおよびＮｉを（０．００７５〜０．
０７５）：１のモル比で還元された状態で含み、１モル
のＮｉ当たり担体１７．０〜６０．０ｇに相当して水不
溶性の担体を含み、活性のニッケル金属表面積が１１０
〜１８０ｍ２／ｇ（Ｎｉ）でありそしてＢＥＴの総表面
積の６５〜９７％が孔径ｒＰ≦２．５ｎｍの孔で構成さ
れている、オレフィン系炭化水素および／または芳香族
系炭化水素の水素化に用いる担持触媒。 - 【請求項２】 ＢＥＴの総表面積が１ｇの触媒当たり１
６０〜４５０ｍ２である、請求項１に記載の担持触媒。 - 【請求項３】 オレフィン系炭化水素および／または芳
香族系炭化水素の水素化に用いる請求項１に記載の担持
触媒を製造するに当たって、ニッケル−およびマグネシ
ウム塩を含有する溶液および塩基性沈澱剤の溶液を水に
懸濁した担体に９０〜１１０℃で６〜８．５のｐＨ域内
の一定のｐＨ値で別々にしかし同時に添加し、その際に
マグネシウムおよびニッケルを（０．０２〜０．２
５）：１のモル比で含有する共沈澱物が生じ、マグネシ
ウムとニッケルとのこのモル比を次いで６０〜９０℃で
水で洗浄することによって（０．００７５〜０．０７
５）：１の値に調節し、続いて場合によっは成形後に乾
燥しそして還元することを特徴とする、上記担持触媒の
製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4025525A DE4025525A1 (de) | 1990-08-11 | 1990-08-11 | Traegerkatalysatoren und ein verfahren zu ihrer herstellung |
| DE40255255 | 1990-08-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04227061A JPH04227061A (ja) | 1992-08-17 |
| JPH0736892B2 true JPH0736892B2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=6412091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3195385A Expired - Fee Related JPH0736892B2 (ja) | 1990-08-11 | 1991-08-05 | 担持触媒およびその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5155084A (ja) |
| EP (1) | EP0472918B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0736892B2 (ja) |
| KR (1) | KR920004030A (ja) |
| AT (1) | ATE116868T1 (ja) |
| AU (1) | AU8255991A (ja) |
| BR (1) | BR9103424A (ja) |
| CA (1) | CA2048413A1 (ja) |
| DE (2) | DE4025525A1 (ja) |
| DK (1) | DK0472918T3 (ja) |
| ES (1) | ES2069786T3 (ja) |
| MX (1) | MX9100493A (ja) |
| ZA (1) | ZA916157B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4141771A1 (de) * | 1991-12-18 | 1993-06-24 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von aminen durch katalytische hydrierung von nitrilen |
| DE4142897A1 (de) * | 1991-12-23 | 1993-06-24 | Sued Chemie Ag | Katalysator-formkoerper |
| US5258346A (en) * | 1992-07-13 | 1993-11-02 | United Catalysts Inc. | Nickel hydrogenation catalyst |
| US5616531A (en) * | 1992-09-21 | 1997-04-01 | Unichema Chemie B.V. | Nickel/silica catalyst for hydrotreating unsaturated organic compounds |
| DE4310053A1 (de) * | 1993-03-27 | 1994-09-29 | Hoechst Ag | Hydrierkatalysator, ein Verfahren zur Herstellung und Verwendung |
| IT1268868B1 (it) * | 1993-06-16 | 1997-03-13 | Mini Ricerca Scient Tecnolog | Procedimento per la preparazione di un catalizzatore metallico con supporto generato in situ per l'idrogenazione di composti organici e |
| US5565092A (en) * | 1994-03-16 | 1996-10-15 | Exxon Chemical Patents Inc. | Halogen resistant hydrogenation process and catalyst |
| EP1277826A1 (en) * | 2001-07-18 | 2003-01-22 | ATOFINA Research | Hydrogenation and dehydrogenation processes and catalysts therefor |
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