JPH073919B2 - ハンドラ - Google Patents

ハンドラ

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Publication number
JPH073919B2
JPH073919B2 JP58146356A JP14635683A JPH073919B2 JP H073919 B2 JPH073919 B2 JP H073919B2 JP 58146356 A JP58146356 A JP 58146356A JP 14635683 A JP14635683 A JP 14635683A JP H073919 B2 JPH073919 B2 JP H073919B2
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JP
Japan
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shooter
gas
unit
handler
package
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58146356A
Other languages
English (en)
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JPS6038899A (ja
Inventor
広樹 白石
利和 押野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS6038899A publication Critical patent/JPS6038899A/ja
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
  • Chutes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、試料を任意の目的で選別する技術に関するも
ので、特にリードレスチップキャリア(LCC)等の自重
の小さい半導体装置を選別することに利用して有効な技
術に関するものである。
〔背景技術〕
最近、チップキャリアの組立技術等が進み、外径寸法が
標準化されてくるにつれ、高速でかつ高信頼性のハンド
ラが要求されてきている。このため、DIP(デュアル・
インライン・パッケージ)用ハンドラー(工業調査会発
行 電子材料別冊1981年版参照)の試料の移送方式を利
用して、チップキャリアパッケージの移送方式として、
そのチップキャリアパッケージ自身の自重にて自然落下
させて移送することが考えられる。しかしながら、例え
ばリードレスチップキャリア(LCC)パッケージのよう
な軽量の試料を低温状態で測定したときに、LCCパッケ
ージの移送不良が生じた。そのため、本発明者がその原
因を追求したところ次のような問題があることを初めて
見い出した。
つまり、低温測定が終了したLCCパッケージの表面温度
は、外気よりも極めて低温となっているため、LCCパッ
ケージが湿度の高い外気にふれたときに、パッケージの
表面に結露のため水滴が付着していた。そのため、水滴
がLCCパッケージとそのパッケージと接触しているシュ
ータの面との間にまたがって付着していると、水滴の表
面張力によりLCCパッケージが自然落下せず、移送不良
が発生することを発見した。本発明は、その点に鑑みて
なされたものである。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、試料の移送を確実に行なうことができ
るハンドラを提供することである。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
〔発明の概要〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、低温測定部近傍において、試料を低露点ガス
又は水分のほとんど含まないガスの雰囲気にて移送する
ことにより、試料表面上に水滴が付着することはないの
で、落下(移送)不良が生じることはなく、確実な試料
の移送ができうるハンドラを得ることができる。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例である低温テスト用のハンド
ラーの概略全体図、第2図Aは第1図におけるIIの拡大
断面図、第2図Bは第2図Aの一部拡大図、第3図は第
1図におけるIIIの拡大断面図、第4図は第3図を矢印
方向から見た一部拡大図、第5図はシュータの説明図で
ある。図において、1はローダ部で試料が入ったマガジ
ン2が多数収納されている。3は傾斜台で、マガジン2
を一定の角度に傾斜させて、LCCパッケージ(以下パッ
ケージ)4をシュータ5に移送するようになっている。
ピン6及び7は、その突出や引っ込み動作によりパッケ
ージ4を1個づつ振り分けシュータ8に移送できるよう
になっている。前記振り分けシュータ8は、第2図B
(および第5図)に示すごとく、振り分けシュータ8の
底壁内部に中空部10a(および10)を有し、その中空部1
0aから振り分けシュータ8の内壁底面に連通するガス噴
出孔11b(および11)が多数設けられている。12は紙面
垂直方向に並列に複数配置された貯蔵シュータであり、
振り分けシュータ8を貯蔵シュータ12の並列方向に移動
させて、パッケージ4を振り分けて貯蔵シュータ12に移
送している。なお、シューター13は、パッケージ4を貯
蔵シュータ12に送り込む時に開放されるようになってい
る。この貯蔵シュータ12の周囲は測定温度、例えば−65
℃の低温雰囲気に設定することができるようになってい
る。14は前記貯蔵シュータ12からパッケージ14を一個づ
つ受け取り、測定部15に移送することができる測定部移
送用のシュータである。測定部15にて測定を終えたパッ
ケージ4は、シュータ16を介して第4図に示すように並
列に配設したシュータ17に移送される。このシュータ17
には、底壁内部に中空部10bが設けられ、その中空部10b
から内壁底面にガス導入孔11bが連通して配設されてい
る。このガス導入孔11からN2ガスを供給してパッケージ
4が、シュータ17に移送された時やピン18により静止し
ているとき、その周囲がN2ガス雰囲気となるようになっ
ている。19はシャッタで、シュータ16からパッケージ4
をシュータ17に移送するときに開放されるようになって
いる。なお、このシャッタ19は、外気と触れないように
カバー20で包まれており、さらにカバー20内には管21を
介してN2ガスが供給されている。なお、供給ガスとして
は、N2ガスの他にドライエアーなどの低露点ガスを用い
ることができる。22は分類シュータで、シュータ17から
移送されたパッケージ4を測定部15の結果に基づいて、
良品,不良品等に分類してシュータ23に移送するように
なっている。なお、ピン24は、分類シュータ22がガイド
25にそってスライドする時に、パッケージ4が落下しな
いように突出自在となっている。シュータ23は、アンロ
ーダ部26にパッケージを移送するシュータで、このアン
ローダ部26にて、パッケージ4は分類された状態で収納
されている。
〔効果〕
(1) 測定部の後段に、試料を低露点ガスまたは水分
をほとんど含まないようなガス雰囲気で移送できうる移
送機構を設けることにより、試料等に水分が結露するこ
とを防止できるので、試料の移送をスムースに行なうこ
とができるという効果が得られる。
(2) 測定部の後段に、試料を低露点ガスまたは水分
をほとんど含まないような、ガス雰囲気で移送できうる
移送機構を設けることにより、試料の移送が確実に行な
うことができるので、試料の移送不良による測定の遅延
を生じることはないという効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえば、低温・高温
兼用のハンドラや、ヂュアル・インライン・パッケージ
用,フラットパッケージ用等のハンドラに本発明を適用
してもよい。また、ガス噴出孔の位置・形状・大きさ・
個数等は種々に変更でき、また中空体を設ける位置も、
シュータを構成する側壁内部に設けるようにしてもよ
い。
また、第6図に示すように、測定部の後段のシュータを
箱状体27で囲い、その箱状体に管28にて低露点ガスや水
分をほとんど含まないガスを供給して、試料やシュータ
に水分が結露しないようにしてもよい。
〔利用分野〕
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体装置のハンド
ラに適用した場合について説明したが、それに限定され
るものではなく、たとえば、軽量な物体を低温で処理す
るような条件のものには適用することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例であるハンドラ、 第2図Aは第1図におけるIIの拡大断面図、 第2図Bは振り分けシュータの拡大図、 第3図は第1図におけるIIIの拡大断面図、 第4図は第3図を矢印方向から見た一部拡大図、 第5図及び第6図はシュータの説明図、第6図は他の実
施例を示す斜視図である。 1……ローダ部、2……マガジン、3……傾斜台、4…
…LCCパッケージ、5,16,17,23……シュータ、6,7,9,18,
24……ピン、8……振り分けシュータ、10,10a,10b……
中空部、11,11a,11b……ガス噴出孔、12……貯蔵シュー
タ、13,19……シャッタ、14……測定部移送シュータ、1
5……測定部、20……カバー、21……管、22……分類シ
ュータ、25……ガイド、26……アンローダ部、27……箱
状体、28……管。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体装置を供給するローダ部と、前記半
    導体装置を収納するアンローダ部と、ローダ部とアンロ
    ーダ部との間に設けられた半導体装置の低温特性を測定
    する測定部とを具備し、アンローダ部或いはローダ部と
    測定部とを各々移送機構で連絡したハンドラであって、
    前記測定部とアンローダ部との間に設けられた移送機構
    のシュータを構成する壁面に、低露点ガスまたは水分を
    ほとんど含まないガスを供給するガス噴出孔を設け該ガ
    スの雰囲気中で半導体装置を移送することを特徴とする
    ハンドラ。
  2. 【請求項2】前記移送機構は、シュータと、前記シュー
    タを囲む箱状体と、その箱状体に前記ガスを供給するた
    めの管を設けてあることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載のハンドラ。
  3. 【請求項3】前記ガスは窒素ガスまたはドライエアーで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2
    項に記載のハンドラ。
JP58146356A 1983-08-12 1983-08-12 ハンドラ Expired - Lifetime JPH073919B2 (ja)

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JP58146356A JPH073919B2 (ja) 1983-08-12 1983-08-12 ハンドラ

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JP58146356A JPH073919B2 (ja) 1983-08-12 1983-08-12 ハンドラ

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JPS6038899A JPS6038899A (ja) 1985-02-28
JPH073919B2 true JPH073919B2 (ja) 1995-01-18

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ID=15405857

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Families Citing this family (4)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62185614A (ja) * 1986-02-10 1987-08-14 Hitachi Electronics Eng Co Ltd Icハンドラのジヤム解除機構
JPS62147609U (ja) * 1986-03-12 1987-09-18
JPS6358768U (ja) * 1986-10-03 1988-04-19
JP4737957B2 (ja) * 2004-09-02 2011-08-03 ユニバーサル特機株式会社 電磁弁制御式舵取機

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JPS53166852U (ja) * 1977-06-03 1978-12-27
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