JPH0741983A - 光記録媒体製造用スタンパーの原盤の電鋳方法、同方法に用いる比重測定機、及び電鋳装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 スタンパー原盤の電鋳膜の膜厚値、膜厚分布
のバラツキを少なくする。 【構成】 電鋳を行なう本槽５と、電鋳液を収納した予
備槽６と電鋳液を循環させる手段９を有する電鋳装置の
予備槽６に連続比重測定機１を設け、測定した比重に基
づいて電鋳液の必要成分を補充装置１６から予備槽６に
供給する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体製造用スタン
パーを製造するための原盤の電鋳方法、同方法に用いる
比重測定機及び電鋳装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、各種情報の記録には、磁気テー
プ、磁気ディスク等の磁気材料、各種半導体メモリー等
が主として用いられてきた。このような磁気メモリー、
半導体メモリーは情報の書き込み及び読み出しが容易に
行なえるという利点はあるが、反面、情報の内容を容易
に改ざんされたり、また高密度記録ができないという問
題点があった。かかる問題点を解決するために、多種多
様の情報を効率よく取り扱う手段として、光記録媒体に
よる光学的情報記録方法が提案され、そのための光学的
情報記録担体、記録再生方法、記録再生装置が提案され
ている。かかる情報記録担体としての光記録媒体は、一
般にレーザー光を用いて情報記録担体上の光記録層の一
部を揮散させるか、反射率の変化を生じさせるか、ある
いは変形を生じさせて、光学的な反射率や透過率の差に
よって情報を記録し、あるいは再生を行なっている。こ
の場合、光記録層は情報を書き込み後、現像処理等の必
要がなく、「書いた後に直読する」ことのできる、いわ
ゆるＤＲＡＷ（ダイレクト リード アフター ライ
ト）媒体であり、高密度記録が可能であり、また追加書
き込みも可能であることから、情報の記録・保存媒体と
して有効である。

【０００３】図３（ａ），（ｂ）はそれぞれ従来の光記
録媒体（光ディスク、光カード、光テープ等）を示す模
式的断面図である。情報の記録・再生は、トラック溝の
微細な凹凸パターン２２を利用してレーザー光の位相差
により位置決めをしながら行なっている。なお、２１は
透明樹脂基板、２３は光記録層、２４はスペーサー、２
５は裏材、２６は接着剤層である。一般的な光記録媒体
では、熱可塑性樹脂であるポリカーボネート樹脂やポリ
メチルメタクリル樹脂を、トラックや情報に対応する凹
凸パターン２２が記録されているスタンパーを用いて、
その凹凸パターン２２を転写してトラック溝を形成して
いる。スタンパーの製造方法としては一般的に、図４に
示すように、平面性よく研磨されたガラス等の基板４１
の上に、レジストや感光性樹脂等の樹脂４２で所定の深
さにトラック溝等の凹凸パターン４３を形成した後（図
４ａ）、導電膜４４を形成し（図４ｂ）、所定の厚さま
で電鋳を行なって電鋳膜４５を得、その後凹凸パターン
４３から電鋳膜４５を剥離して金属スタンパーを得てい
る（図４ｃ）。

【０００４】また、従来の電鋳方法では以下のことが行
なわれている。電鋳を行なうときには、電鋳槽の陽極と
陰極の間に邪魔板を挿入して板厚分布を良くすること
（特開昭５９−１７７３８８、同６０−１７０８９、同
６１−２７９６９９）。ピンホールの防止のために、電
鋳槽に生成する不溶解性酸化物スライムやスマット等の
異物を予備槽に取り除いている（実開昭５８−１４１４
３５）。また、電鋳したときの通電治具跡を紫外線硬化
樹脂でシールして、研磨時の研磨剤等のしみ込みを防止
している（特開昭６２−２０９７４６）。

【０００５】しかしながら、電鋳の膜厚や膜厚分布は、
電鋳を行なっている間の電鋳液中のイオン濃度の変化に
よって変わってしまうという問題点がある。電鋳膜の厚
さが変動しても電鋳膜の裏面を研磨して所定の厚さのス
タンパーを得るためには、電鋳膜のバラツキを見込んで
膜厚を厚く設定して電鋳する必要が生じる。しかし、電
鋳膜厚が厚くなると、その分だけ研磨量が多くなって、
研磨時間が長くなるという問題点がある。電鋳膜の厚み
分布が変動しても面内全部を一定の厚みにするために
は、電鋳したスタンパーの裏面を研磨する前、及び研磨
途中に、電鋳膜の膜厚分布のバラツキを各スタンパー毎
に測定して、スタンパー外周部の盛り上がりの研磨量を
変えて研磨しなければならないという問題点も発生して
いる。そのため、電鋳液のイオン濃度を測定して電鋳を
行なうことも行なわれているが、電鋳液のイオン濃度の
分析には化学定量分析、比色分析等の方法が必要であ
る。これらの方法は、測定精度は良いものの、測定に時
間と労力を要し、断続的にしか測定を行なうことができ
ないため、電鋳を行なっている時間のうち、一部の時間
しか電鋳液のイオン濃度を一定に管理することができ
ず、連続的なイオン濃度の管理ができないという問題点
も発生している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みなされたもので、その目的とするところは、電鋳膜の
膜厚値や、膜厚分布のバラツキの少ないスタンパーを製
造することのできる光記録媒体製造用スタンパーの原盤
の電鋳方法、同方法に用いる比重測定機、及び電鋳装置
を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、 （第１の発明）記録すべき情報に対応した凹凸パターン
が形成された原盤に電鋳を行なうことによって光記録媒
体製造用スタンパーを製造する光記録媒体製造用スタン
パーの電鋳方法において、電鋳液の比重を連続的に測定
してその測定値に基づいて必要成分を電鋳液に補充する
ことで、電鋳液の比重を±０．００１以内に制御して、
電鋳液のイオン濃度を一定に保ちながら電鋳を行なうこ
とを特徴とする光記録媒体製造用スタンパーの原盤の電
鋳方法である。 （第２の発明）連結杆を比重の異なる複数の環状浮きに
比重の順に摺動自在に挿通してなる電鋳液の比重測定に
用いる比重測定機である。 （第３の発明）電鋳を行なう電鋳本槽と、電鋳液を収納
した電解予備槽と、電鋳液を前記本槽と予備槽の間で循
環させる手段とを少なくとも有する光記録媒体製造用ス
タンパー製造用の原盤の電鋳装置において、予備槽に電
鋳液の比重を連続的に測定してその測定結果を電気信号
として送出する比重測定装置と、前記信号に基づいて電
鋳液に必要成分を電鋳液に補充する補充装置とを付設す
ることにより、電鋳液の比重を連続的に測定して、必要
成分を電鋳液に補充することで電鋳液のイオン濃度を一
定に保ちながら電鋳を行なうように構成したことを特徴
とする光記録媒体製造用のスタンパー製造用の原盤の電
鋳装置で、比重測定装置が浮きの電鋳液中への浸漬度に
よって比重測定を行なうものであると共に、前記浮きの
周囲の少なくとも一部に電鋳液の揺動防止手段を設けた
前記の電鋳装置であることを含む。

【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。

【０００９】（第１、第２の発明）図２は、本発明のス
タンパーの電鋳方法を示す概略断面図である。電鋳本槽
５の中に陽極８と陰極７を設置して、陽極８と陰極７の
間に直流電圧をかけて電鋳を行なう。電鋳液は電鋳予備
槽６から液循環用ポンプ９で汲み出され、フィルター１
０、吐出口１１を経由して電鋳本槽５内に供給される。
電鋳本槽５に供給された電鋳液は仕切板１３より溢れ
て、オーバーフロー槽１４を経て再び電鋳予備槽６に戻
る。電鋳予備槽６には浮き式比重測定機１と、ｐＨ測定
器１７と、液成分補充装置１６とが設置されていて、測
定機１によって電鋳実行中に電鋳液の比重を測定する。
電鋳実行中のイオン濃度の変化は主として水やスルファ
ミン酸、ニッケル等の濃度変化であるため、電鋳液のイ
オン濃度の変化は電鋳液の比重とｐＨを測定していれば
正確に知ることができる。ｐＨと後述する本発明の浮き
式比重測定機１よりイオン濃度を測定して、必要な液成
分を補充して電鋳実行中のイオン濃度を一定に保つ。

【００１０】図１に示すように浮き式比重測定機１は一
定の比重で釣り合うように作られた複数個の比重計３を
連結杆２を通して縦に繋いで電鋳液中に設置するもので
ある。この方法では電鋳液の比重を測定するときに液の
比重を簡便に測定できる。電鋳液の比重は本発明で用い
ているスルファミン酸ニッケル液では１．２００〜１．
３５０の間で決められた値に設定する。比重の管理幅と
しては０．００１単位で測定して、最大幅で０．００３
程度の範囲で、より好ましくは±０．００１の範囲に制
御しなければならない。そのために本発明で用いる一連
の縦に繋いだ個個の比重計の測定幅は０．００１単位で
あることが望ましい。本発明における浮き式比重測定機
１としては、所定の比重を測定するように浮力と重りを
調整してある浮き式比重計であれば、一般に用いられて
いる浮きの中から自由に選択して用いることができる。
この浮き式比重測定機１で電鋳液の比重を測定するとき
に、必要に応じて電鋳液の循環による波の影響防止機
構、すなわち揺動防止手段を設けてもよい。波防止機構
としては一般に用いられている方法の中から自由に選択
して用いることができる。例えば防波堤、波緩和用網等
を用いることができる。液成分補充装置１６は、補充液
槽に液成分を入れて、補充量に応じて液成分を電鋳予備
槽６に供給する。

【００１１】原盤は一般的に用いられている材料、製法
で製作することができる。例えば研磨したガラス上にレ
ジストで凹凸パターンを形成する方法で製作できる。電
鋳に際して電極と原盤とを電気的に接続する導電リング
は、電気伝導度が大きく、加工し易い材料であれば、一
般的に用いられている材料の中から選択できる。例えば
銅等の金属材料を用いることができる。また原盤を保持
する原盤ホールダーは一般的に用いられているホールダ
ーを使うことができる。ホールダーの材質は電気伝導性
を持って十分な強度を持つ材料、例えばステンレス、チ
タン等の金属材料を用いることができる。上蓋は例えば
ポリメチルメタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂等を用いる
ことができる。

【００１２】電鋳するときの電流密度は電鋳膜の反りや
応力が発生しない範囲で選択することができる。１〜３
０Ａ／ｄｍ² 、好ましくは３〜１０Ａ／ｄｍ² の範囲で
用いることができる。

【００１３】本発明の電鋳スタンパーの製造用の原盤の
電鋳方法によれば、原盤に電鋳を行なうときに、本発明
の一定の比重で釣り合う浮きを複数個電鋳液中に入れ
て、電鋳液の比重を連続的に測定しながら電鋳を行なう
ことによって簡便に比重を測定して、必要成分を電鋳液
に補充することで、電鋳液の比重を連続的に±０．００
１以内に制御しながら電鋳を行なうことによって、電鋳
膜の膜厚及び膜厚分布のバラツキの少ない電鋳スタンパ
ーを製造できるものである。 （第３の発明）第３の発明においては、図２に示す電鋳
装置において、予備槽６には比重測定装置１と液成分補
充装置１６が設置されていて、電鋳実行中の電鋳液の各
成分濃度を一定に管理する。

【００１４】本発明において、比重測定装置１は一定時
間毎に電鋳予備槽６の電鋳液の比重を測定し、図示しな
いコンピューターに情報を与える。比重値の変化があれ
ば液成分補充装置１６から必要な量の液成分を補充す
る。補充量の計算には一般に用いられている制御方法
（ファジイ、ＰＩＤ）を用いることができる。

【００１５】本発明における比重測定装置１としては、
所定の比重を測定するように浮力と重り調整してある浮
き式比重計であれば、一般に用いられている装置を用い
ることができる。

【００１６】比重測定装置１は電鋳液の循環による波の
影響を受けるため、図５（ａ），（ｂ）で示す波防止堤
防５２や波防止網５３を設置することができる。波防止
堤防５２、波防止網５３の長さは、比重測定への波の影
響を防止できるのに必要なだけ比重測定装置１の外周を
覆うことができれば、いずれの長さでも用いることがで
きる。長さが短いと比重測定への波の影響を防止するこ
とができなくなり、長いと比重測定装置１近傍の電鋳液
の循環が悪くなる。比重測定装置１の下面から電鋳液液
面５１の上面まで覆うことができる長さがあることが好
ましく、より好ましくは、電鋳液液面５１の上から比重
測定装置１の下面よりも比重測定装置１の電鋳液液中部
分長さの１〜１０倍の長さが電鋳液中に設置されている
ことである。また、波防止堤防５２、波防止網５３は、
比重測定への波の影響を防止できるのに必要なだけ比重
測定装置１の外周を覆うことができれば、いずれの割合
で外周を覆うように設置してもよい。比重測定装置１の
外周の１／３〜全周を覆うことができることが好まし
い。比重測定装置１の外周の一部を覆うことは、波防止
堤防５２、波防止網５３を分割して多数個均等にまたは
波の来る方向のみに設置することができる。その他の方
法として、図６（ａ），（ｂ）に示すように、電鋳予備
槽４の外側に比重測定槽５４を設置することもできる。
比重測定槽５４と電鋳予備槽４との間に電鋳液循環の波
を防止するために、細い管５５または抵抗体５７の付い
た管５６を設置して用いてもよい。比重測定槽５４の容
量は、比重測定装置１が設置できるだけの容量があれ
ば、いずれの容量の槽でも用いることができる。容量が
大きいと電鋳予備槽４との電鋳液の循環が悪くなり、小
さいと比重測定が正しくできなくなる。比重測定装置１
の電鋳液中に浸漬されている部分の長さの２〜１０倍の
深さ、比重測定装置１の５〜１００倍の容量があること
が望ましい。細い管５５の直径は、比重測定への波の影
響を防止できるだけの抵抗があれば、いずれの直径のも
のでも用いることができる。比重測定装置１の電鋳液中
に浸漬されている部分の長さの１／１０〜２倍の範囲の
直径とすることが好ましい。抵抗付き管５６も比重測定
への波の影響を防止できる抵抗があれば、いずれの形状
の管でも用いることができる。比重測定装置１の電鋳液
中に浸漬されている部分の長さの１〜１０倍の長さを持
ち、管の直径の１／１０〜２／３の長さの抵抗を持つ形
状が好ましい。

【００１７】電鋳液成分補充装置２は図７に示すよう
に、補充液槽３１に液成分を入れて、補充量に応じて供
給用ポンプ３２を動かして液成分を電鋳予備槽４に供給
する。簡易的には供給用ポンプ３２の代わりに電磁弁等
の弁を設置して、補充量に応じて弁を開閉して液成分を
補充してもよい。なお、３３は予備槽４に液成分を供給
するパイプである。

【００１８】本発明の光記録媒体製造用スタンパーの原
盤の電鋳方法によれば、原盤の電鋳を行なうときに、電
鋳液の比重を連続的に測定して、必要成分を電鋳液に補
充することで電鋳液の比重を一定に保つ装置を設けて、
電鋳液のイオン濃度を一定に保ちながら電鋳を行なうこ
とによって、電鋳膜の膜厚及び膜厚分布のバラツキの少
ない電鋳スタンパーを製造できるものである。

【００１９】

【実施例】以下、実施例を示し、第１及び第２の本発明
をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定さ
れるものではない。 （実施例１）厚さ１０ｍｍ、３００×３４０ｍｍのガラ
ス板（旭ガラス）と、同じ大きさで表面にピッチ１２μ
ｍ、幅３．０μｍ、深さ３０００Åの凹凸パターンが光
カードの標準フォーマットで形成されたフォトマスク
（ＨＯＹＡ）との間に２０μｍの厚さに紫外線硬化樹脂
（旭化成工業、Ａ．Ｐ．Ｒ．）を挟んだ状態で紫外線を
照射して樹脂を硬化させた。硬化後にフォトマスクを外
してガラス原盤を得た。この原盤にスパッターでニッケ
ルを１０００Å被覆して導電化をした後、外形φ５５０
ｍｍの円形状の原盤ホールダーに設置した。導電リング
は厚さ０．５ｍｍの銅板を用いた。陽極としてはニッケ
ル球（ハーショー村田、Ｓニッケル）をチタンの篭に入
れて、綿布で覆って不溶解物の流失を抑えたものを用い
た。電鋳液としては下記の組成に混合した電鋳液を５０
０リットル用いた。電鋳本槽１５０リットル、予備槽３
５０リットル。電鋳装置（日化エンジニアリング、特注
品）に前記電鋳液を入れて、前記電鋳液温度を４５℃に
保って、液全体を１０回／時間のサイクルで循環させ
た。

【００２０】電鋳液組成は下表のものであった。

【００２１】

【表１】 浮き式比重計としては外形１００ｍｍ、内径３０ｍｍの
ドーナツ状の中空のガラス管に所定の比重で釣り合うよ
うに鉛の粒を入れてからガラス管を封止した。前記浮き
式比重計は測定比重として１．２８０から１．２９０ま
で０．００１単位で１１個製作した。前記１１個の比重
計を直径２５ｍｍのガラス棒に通した。この１１個連の
比重測定機を図１に示すように電鋳装置の予備槽に設置
した。前記比重計の電鋳液循環による波の影響を防止す
る堤防として、厚さ１ｍｍの透明塩化ビニル樹脂（筒中
プラスチック）を３００×６００ｍｍに切断して、長辺
側を筒形状にして前記一連の比重計を覆うように設置し
た。一連の比重計では目視で容易に電鋳液の比重を測定
することができた。液の循環を行なわないで電鋳液の比
重を測定すると１．２８５であった。液循環を行なって
から比重の測定を行なうと、測定値の誤差は最大で０．
００１であった。電鋳液の比重を前記一連の比重計で測
定を行なって、必要に応じて液成分補充装置から純水を
必要量だけ供給して、比重を常に一定化するようにし
た。電鋳実行中の電鋳液の比重は設定値１．２８５に対
して、常に±０．００１以内に保たれた。

【００２２】前記原盤と原盤ホールダーを用いて、前記
比重測定機を用いて電鋳液のイオン濃度を一定に保っ
て、原盤と陽極間の電流密度としては、最初は０．１Ａ
／ｄｍ ² で３０分間流してから、５Ａ／ｄｍ² まで電流
密度を上げて、１２０００Ａ・分の積算電流値になるま
で電鋳を行なって、２５０μｍの厚さの電鋳スタンパー
を得た。

【００２３】１０枚の電鋳を終了した後、各原盤の電鋳
膜厚を測定してみると、各原盤とも、原盤中央部で２５
０±５μｍ、外周部で２９０±１０μｍで面内の膜厚分
布は良好で、かつ各原盤の膜厚のバラツキは中央部、外
周部ともに最大で１０μｍで、十分小さかった（ミツト
ヨ、マイクロメーター）。 （実施例２）実施例１と同じ原盤、同じ原盤ホールダ
ー、同じ導電リング、同じ電鋳装置、同じ陽極、同じ電
鋳液、同じ波防止堤防を用いた。実施例１と同じドーナ
ツ形状の浮き式比重計を実施例１と同じ１１個用いた。
１１個の浮き式比重計を測定比重別に３つに分けて、３
本の芯棒（連結杆）を用いてそれぞれの芯棒に比重計を
通した。浮き式比重計の分け方は（１．２８０，１．２
８３，１．２８６，１．２８９）、（１．２８１，１．
２８４，１．２８７，１．２９０）、（１．２８２，
１．２８５，１．２８８）のように測定比重の近い浮き
式比重計が、同じ芯棒に通らないようにした。この３本
の芯棒を通した一連の比重測定機をそれぞれ実施例１と
同じ方法で電鋳予備槽に設置した。実施例１と同じよう
に測定を行なうと、電鋳液の比重は１．２８５であっ
た。測定誤差は最大０．００１であった。電鋳液の比重
の測定は極めて容易に行なうことができた。実施例１と
同じ電流条件で電鋳を行なった。電鋳実行中の比重は設
定値１．２８５に対して、±０．００１以内に保たれ
た。

【００２４】実施例１と同じように１０枚の原盤の電鋳
を行なって電鋳膜の厚さを測定してみると、各原盤と
も、原盤中央部２５０±１０μｍで、外周部ともに２８
２±１０μｍで面内の膜厚分布は十分良く、かつ各原盤
の膜厚のバラツキは中央部、外周部ともに最大で１０μ
ｍで、十分小さかった。

【００２５】以下、実施例を示し第３の本発明をさらに
具体的に説明する。 （実施例３）厚さ１０ｍｍ、３００×３４０ｍｍのガラ
ス板（旭ガラス）と、同じ大きさで表面にピッチ１２μ
ｍ、幅３．０μｍ、深さ３０００Åの凹凸パターンが光
カードの標準フォーマットで形成されたフォトマスク
（ＨＯＹＡ）との間に５０μｍの厚さに紫外線硬化樹脂
（旭化成工業、Ａ．Ｐ．Ｒ．）を挟んだ状態で紫外線を
照射して樹脂を硬化させた。硬化後にフォトマスクを外
してガラス原盤を得た。この原盤に、スパッターでニッ
ケルを１０００Å被覆して導電化をした後、２５０×２
９０ｍｍの四角い開口部を上蓋に持つ、外形φ５５０ｍ
ｍの円形状の原盤ホールダーに設置した。開口部には角
度１０度、長さ１０ｍｍのテーパー部を設けた。導電リ
ングは厚さ０．５ｍｍ、外形φ５５０ｍｍの銅板に、２
９０×３３０ｍｍの四角い穴を設けて製作した。陽極と
してはニッケル球（ハーショー村田、Ｓニッケル）をチ
タンの篭に入れて、綿布で覆ってごみの流失を抑えたも
のを用いた。電鋳液としては下記の組成に混合した電鋳
液を５００リットル用いて、電鋳槽１５０リットル、予
備槽３５０リットルの電鋳装置（日化エンジニアリン
グ、特注品）に入れて、液温度４５℃で、液全体を１０
回／時間のサイクルで循環させた。

【００２６】電鋳液組成を下表に示した。

【００２７】

【表２】 予備槽には浮き式比重計（マルコム、ＭＤ−０２）と波
防止堤防として、厚さ１ｍｍの塩化ビニル樹脂（筒中プ
ラスチック）を３００×６００ｍｍに切断して、長辺側
を筒形状にして比重計の外周全周を覆うように設置し
た。電鋳実施前に液循環をしないで電鋳液の比重を測定
すると１．２８５であった。液循環を行なって比重の測
定を行なうと、測定値の誤差は最大で±０．００１であ
った。比重計の出力を１分間隔でデジタル化してコンピ
ューター（ＨＰ、９０００／３１０）に取り込み、以下
のルールのファジイ制御を行なって、コンピューターで
電磁弁（ＣＫＤ、ＥＭＢ５１−１５−４）を開閉して、
液成分の補充装置から純水を必要量だけ供給して、比重
を常に一定化するようにした。電鋳実行中の電鋳液の比
重は設定値１．２８５に対して、常に±０．００１以内
に保たれた。

【００２８】ｉｆ 比重＝ＥＱｏｒＮ ｔｈｅｎ
補充量＝ＺＥＲＯ ｉｆ 比重＝ＰＳ ｔｈｅｎ 補充量＝ＰＳ ｉｆ 比重＝ＰＢ ｔｈｅｎ 補充量＝ＰＢ 前件部、ＥＱ：設定値と同じ、Ｎ：設定値以下、ＰＳ：
設定値から少し高い、ＰＢ：設定値から大きく高い。

【００２９】後件部、ＺＥＲＯ：補充しない、ＰＳ：少
し補充する、ＰＢ：大きく補充する。

【００３０】原盤と陽極間の電流密度は、最初は０．１
Ａ／ｄｍ² で３０分間流してから、５Ａ／ｄｍ² まで電
流密度を上げて、１２０００Ａ・分の積算電流値になる
まで電鋳を行なって、２５０μｍの厚さの電鋳スタンパ
ーを得た。

【００３１】１０枚電鋳終了後、各原盤の電鋳膜厚を測
定してみると、各原盤とも、原盤中央部で２５０±５μ
ｍ、外周部で２９０±１０μｍで面内の膜厚分布はよ
く、かつ各原盤の膜厚のバラツキは中央部、外周部とも
に最大で１０μｍで、十分小さかった（マイクロメータ
ー、ミツトヨ）。 （実施例４）実施例３と同じ原盤、同じ原盤ホールダ
ー、同じ導電リング、同じ電鋳装置、同じ陽極、同じ電
鋳液を用いた。波防止用網としてメッシュのステンレス
材料の網を４００×２００ｍｍの長さに３枚切断して、
各切断した網の短辺どうしを５ｍｍの間隔を開けて銅線
で、輪になるように繋ぎ合わせた。実施例３と同じ比重
計、液成分補充装置、コンピュータを用いた制御システ
ムを用いた。電鋳液の比重は電鋳実施前に液循環を止め
て測定すると１．２８５であった。液循環させながら比
重を測定しても、測定誤差は±０．００１であった。実
施例３と同じ電流条件で電鋳を行なった。電鋳実行中の
比重は設定値１．２８５に対して±０．００１以内に保
たれた。

【００３２】実施例３と同じように１０枚の原盤の電鋳
を行なって電鋳膜の厚さを測定してみると、各原盤と
も、原盤中央部で２５０±１０μｍで、外周部ともに２
８２±１０μｍで面内の膜厚分布は十分よく、かつ各原
盤の膜厚のバラツキは中央部、外周部ともに最大で１０
μｍで、十分小さかった。 （実施例５）実施例３と同じ原盤、同じ原盤ホールダ
ー、同じ導電リング、同じ電鋳装置、同じ陽極、同じ電
鋳液を用いた。電鋳補助槽の側面に容積５リットル、深
さ５００ｍｍの直方体の比重測定槽を設け、直径３０ｍ
ｍ、長さ１５０ｍｍの細い管を１０本用いて、電鋳補助
槽と比重測定槽を繋いだ。実施例１と同じ比重測定機を
比重測定用に設置した。実施例１と同じ液成分補充装
置、コンピュータを用いた制御システムを用いた。電鋳
液の比重は電鋳実施前に液循環を止めて測定すると１．
２８５であった。液循環をさせながら比重を測定して
も、測定誤差は±０．００１であった。実施例１と同じ
電流条件で電鋳を行なった。電鋳実行中の比重は設定値
１．２８５に対して±０．００１以内に保たれた。

【００３３】実施例３と同じように１０枚の原盤の電鋳
を行なって電鋳膜の厚さを測定してみると、各原盤と
も、原盤中央部で２５０±７μｍで、外周部ともに２８
０±１０μｍで面内の膜厚分布は十分よく、かつ各原盤
の膜厚のバラツキは中央部、外周部ともに最大で１０μ
ｍで、十分小さかった。 （比較例１）実施例３と同じ原盤、同じ原盤ホールダ
ー、同じ導電リング、同じ電鋳装置、同じ陽極、同じ電
鋳液を用いた。液成分補充装置は設置しないで、実施例
３と同じ電流条件で、同じ積算電流まで電鋳を行なっ
た。比重測定装置で電鋳液の比重測定を行なった。電鋳
実施前は１．２８５であったが、電鋳終了時には１．２
９６にまで上昇していた。

【００３４】実施例３と同じように１０枚の原盤を電鋳
して、各原盤の電鋳膜の厚さを測定してみると、中央部
で２３０±５０μｍで、外周部ともに３４０±７０μｍ
で、原盤ごとの電鋳膜の厚さのバラツキが大きい。また
実施例１，３〜５と比較して外周部の膜厚が厚くなって
膜厚分布も悪くなっていた。

【００３５】

【発明の効果】本発明によれば、原盤に電鋳を行なうと
きに、一定の比重で釣り合う浮きを複数個電鋳液中にい
入れて、電鋳液の比重を連続的に測定しながら電鋳を行
なうことによって簡便に比重を測定して、必要な液成分
を補充でき、電鋳液のイオン濃度を連続的に精度よく制
御することができる。さらに電鋳液の比重を±０．００
１以内に制御して電鋳液のイオン濃度を一定に保って電
鋳することで、電鋳膜の膜厚値及び膜厚分布のバラツキ
の少ない電鋳スタンパーを得られるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の比重測定機の一例を用いて比重測定を
している状態を示す概略説明図である。

【図２】本発明の電鋳装置の一実施例を示す構成図であ
る。

【図３】従来の光記録媒体の二つの例（ａ），（ｂ）を
示す概略断面図である。

【図４】従来のスタンパーの製造方法の一例を示す工程
図である。

【図５】（ａ），（ｂ）はそれぞれ本発明に用いる比重
測定装置の波防止具の一例を示す概略説明図である。

【図６】（ａ），（ｂ）はそれぞれ本発明に用いる比重
測定装置の波防止装置の一例を示す概略説明図である。

【図７】本発明に用いる電鋳液成分補充装置の一例を示
す概略構成図である。

【符号の説明】

１ 浮き式比重測定機 ２ 芯棒 ３ 比重計 ４ 電鋳液 ５ 電鋳本槽 ６ 電鋳予備槽 ７ 陰極 ８ 陽極 ９ 電鋳液循環用ポンプ １０ 電鋳液濾過フィルター １１ 吐出口 １２ バッフル板 １３ 仕切板Ａ １４ オーバーフロー槽 １５ 仕切板Ｂ １６ 液成分補充装置 ２１ 透明樹脂基板 ２２ 凹凸パターン ２３ 光記録層 ２４ スペーサー ２５ 裏材 ２６ 接着剤層 ３１ 補充液槽 ３２ 補充液供給用ポンプ ３３ パイプ ４１ 平板 ４２ レジスト層 ４３ 凹凸パターン ４４ 導電膜 ４５ 電鋳膜 ５１ 電鋳液液面 ５２ 波防止堤防 ５３ 波防止網 ５４ 比重測定槽 ５５ 細い管 ５６ 抵抗付き管 ５７ 抵抗体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 湯浅 俊哉 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 鹿目 修 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 串田 直樹 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 甲斐 丘 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 記録すべき情報に対応した凹凸パターン
   が形成された原盤に電鋳を行なうことによって光記録媒
   体製造用スタンパーを製造する光記録媒体製造用スタン
   パーの電鋳方法において、電鋳液の比重を連続的に測定
   してその測定値に基づいて必要成分を電鋳液に補充する
   ことで、電鋳液の比重を±０．００１以内に制御して、
   電鋳液のイオン濃度を一定に保ちながら電鋳を行なうこ
   とを特徴とする光記録媒体製造用スタンパーの原盤の電
   鋳方法。
2. 【請求項２】 連結杆を比重の異なる複数の環状浮きに
   比重の順に摺動自在に挿通してなる請求項１記載の電鋳
   液の比重測定に用いる比重測定機。
3. 【請求項３】 電鋳を行なう電鋳本槽と、電鋳液を収納
   した電解予備槽と、電鋳液を前記本槽と予備槽の間で循
   環させる手段とを少なくとも有する光記録媒体製造用ス
   タンパー製造用の原盤の電鋳装置において、予備槽に電
   鋳液の比重を連続的に測定してその測定結果を電気信号
   として送出する比重測定装置と、前記信号に基づいて電
   鋳液の必要成分を電鋳液に補充する補充装置とを付設す
   ることにより、電鋳液の比重を連続的に測定して、必要
   成分を電鋳液に補充することで電鋳液のイオン濃度を一
   定に保ちながら電鋳を行なうように構成したことを特徴
   とする光記録媒体製造用のスタンパー製造用の原盤の電
   鋳装置。
4. 【請求項４】 比重測定装置が浮きの電鋳液中への浸漬
   度によって比重測定を行なうものであると共に、前記浮
   きの周囲の少なくとも一部に電鋳液の揺動防止手段を設
   けた請求項３に記載の電鋳装置。