JPH0742598U - はんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 不活性ガス雰囲気を保持するはんだ付け装置
の低コスト化と、はんだ融液の酸化を防止して鉛公害の
発生を抑える。 【構成】 はんだ融液４で配線基板１にはんだ付けを行
うはんだ槽３の領域に不活性ガス雰囲気を保持するチャ
ンバ７を設け、チャンバ７の出口９側に不活性ガスを供
給する回動可能のノズル１４と、ノズル１４をその内部
に備えて不活性ガスの供給を調整する回動可能のＵ字状
の口筐１３を設けた不活性ガス供給室１２を設け、ま
た、チャンバ７内のはんだ槽３の領域に不活性ガスの流
れを抑える複数枚の抑止板１５を設けたことを特徴とす
る。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、はんだ槽近傍のはんだ付けプロセス環境のみに低酸素濃度の不活性 ガス雰囲気を形成するはんだ付け装置のガス雰囲気形成装置に関するもので、特 に、チャンバの容積が小さいにもかかわらず雰囲気封止性を高くしたものである 。

【０００２】

【従来の技術】

窒素（Ｎ₂ ）等の不活性ガス雰囲気中ではんだ付けを行う装置としては、例え ば、本出願人による特願平４−３５３８７９号に記載されているように、予備加 熱器およびはんだ槽をトンネル状のチャンバで覆うとともに、さらに、トンネル 状チャンバを配線基板の搬送路に沿って延長して設けた構成としたものがある。 そして、チャンバの下側および上側の内面には、配線基板の搬送方向と交差する 方向で、かつ配線基板の搬送路へ向けて複数枚の仕切板を設け、いわゆるラビリ ンス（labyrinth ）流路を形成している。

【０００３】 このラビリンス流路は、トンネル状のチャンバは管路を形成するので、流体の 流通に対して管路の断面積と長さ等で決まる流通抵抗と、ラビリンス流路固有の 流通抵抗とを有している。したがって、チャンバ内に供給された不活性ガスがチ ャンバの外へ流出し難くなるとともに、チャンバの外の大気がチャンバ内へ流入 し難くなる。その結果、チャンバ内のはんだ付けプロセスの環境を低酸素濃度の 不活性ガス雰囲気に保持することを可能としている。

【０００４】 また、上記出願には、不活性ガスの供給位置や不活性ガスの供給・噴出方向が 重要であることと、それらの最適技術を特有のチャンバ構造として実現したこと が開示されている。

【０００５】 すなわち、配線基板のはんだ付けが終了する位置から配線基板の搬送方向に対 して後方の位置に不活性ガスを供給するノズルを設け、その際にノズルはラビリ ンス流路を形成する複数枚の仕切板の間に設けた構成とし、不活性ガスが仕切板 相互の間から配線基板の搬送路へ向かって噴出する方向を、配線基板の搬送方向 とは逆方向となるように構成している。

【０００６】 ところで、配線基板の搬送にともなってチャンバ内の雰囲気は、配線基板や搬 送コンベア、または配線基板を装着したキャリア等の走行方向へ誘引されてチャ ンバ外へ引き出される方向へ流動する。そこで、不活性ガスの噴出方向を配線基 板の搬送方向とは逆方向となるように構成することで、そのような流出方向の雰 囲気流動を抑制し、雰囲気封止性を高めるようにしている。

【０００７】 また、いわゆる無洗浄フラックスや水溶性フラックス等の開発が急速度に進み 、はんだ付け後の残渣が極めて少ないフラックスや、水で容易に洗浄可能なフラ ックス、あるいは、はんだ付け後の残渣が高分子樹脂膜に変化するフラックス等 が実用段階に達し、はんだ付け工程のみを低酸素濃度の不活性ガス雰囲気に保持 するだけで、良好なはんだ付け特性を確保しつつ配線基板のフロン洗浄が不要と なりつつある。

【０００８】

【考案が解決しようとする課題】

ところで、低酸素濃度の不活性ガス雰囲気中ではんだ付けを行う目的は、少量 のフラックスで良好なはんだ付け特性を確保することができ、はんだ付け作業後 に配線基板を洗浄する必要がないからであり、また、はんだ融液の表面張力が低 下することで、いわゆるマイクロソルダリングを実現する上での必須の環境が得 られるためである。

【０００９】 このようなはんだ付けプロセスの環境を実現する上では、従来技術の技術思想 に顕現されているように、配線基板の加熱を行う工程全体を不活性ガス雰囲気に することが最も望ましい。すなわち、予備加熱工程およびはんだ付け工程を含め て低酸素濃度の不活性ガス雰囲気に保持することが望ましい。

【００１０】 しかしながら、はんだ付け装置を上記のような低酸素濃度の不活性ガス雰囲気 にすることは大規模のチャンバが必要となり、このことがはんだ付け装置の部品 および製造コストを押し上げ、装置価格を高騰させることになる。すなわち、不 活性ガス雰囲気中でのはんだ付け工程を実現するためには、従来から使用されて きたはんだ付け装置を廃棄して新たに高額の設備投資を行う必要があるという問 題点があった。

【００１１】 一方、大気中ではんだ付けを行うはんだ付け装置は装置価格は低廉であるが、 はんだ融液が酸化する際に鉛が大気中に拡散し、鉛公害の原因となるという問題 点があった。

【００１２】 本考案は、上記の問題点を解決するためになされたもので、はんだ槽のはんだ 融液で配線基板にはんだ付けを行う領域に封止性の高いチャンバを設けて不活性 ガスの雰囲気を保持することにより、はんだ付け装置の低コスト化と、はんだ融 液の酸化を防止して鉛公害の発生を抑えたはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形 成装置を得ることを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】

本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成装置は、チャンバの出 口側に、前記チャンバ内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給室が形成され、 この不活性ガス供給室内に前記搬送コンベアに対して前記チャンバの上部側と下 部側に前記配線基板の搬送方向と交差する方向で前記搬送コンベアに向けて突出 する断面Ｕ字状の口筐がその開口方向を回動自在にして設けられ、前記口筐の内 部に前記不活性ガスを噴出するノズルが設けられ、さらに、前記チャンバ内の前 記はんだ槽の領域の上側内壁に前記配線基板の搬送方向と交差する方向に板面が 並び、かつ前記搬送コンベアに向けて突出する方向に複数枚の抑止板が並設され ているものである。

【００１４】 また、はんだ槽の領域に設けられた抑止板が回動可能に設けられたものである 。

【００１５】 また、チャンバは、その入口および出口の少なくとも一方に配線基板の搬送方 向と交差する方向に板面が並び、かつ搬送コンベアに向けて突出する方向に複数 枚の抑止板が並設されたものである。

【００１６】 さらに、チャンバは、搬送コンベアに対して上側チャンバと下側チャンバとに 分割可能に形成されたものである。

【００１７】

【作用】

本考案においては、不活性ガス供給室内の口筐のノズルから不活性ガスを配線 基板の搬送方向と逆方向に噴出し、はんだ槽領域に設けた抑止板によりはんだ槽 領域における不活性ガス雰囲気の封止性を向上させることができる。

【００１８】 また、はんだ槽領域の抑止板が回動可能であるため、チャンバ内の不活性ガス 雰囲気の流動状態を最適状態に調整することができる。

【００１９】 また、チャンバの入口または出口に抑止板が並設されているので、いわゆるラ ビリンス流路が形成されるので、チャンバ内の不活性ガスの流出と、外気がチャ ンバ内に流入するのを抑止することができる。

【００２０】 また、チャンバを分割して上側チャンバと下側チャンバに形成したことにより 、チャンバの取付工事とメンテナンスが容易にできる。

【００２１】

【実施例】

図１は本考案の第１の実施例を示す側断面図で、はんだ付け装置のはんだ槽部 分のみを示し、予備加熱装置やフラックス装置等は省略してある。この図におい て、１は配線基板、２は前記配線基板１を矢印Ａ方向に搬送する搬送コンベア、 ３ははんだ槽で、はんだ融液４が収容され、はんだ融液４を噴流する１次噴流槽 ５と２次噴流槽６が設けられている。なお、はんだ融液４を噴流せしめる羽根車 ，モータ等の加圧装置や加熱用のヒータ等の図示は省略してある。７はチャンバ で、はんだ槽３の領域を窒素（Ｎ₂ ）等の不活性ガスによる低酸素濃度の雰囲気 に保持するものであって、上側チャンバ７Ａと下側チャンバ７Ｂとからなり、か つ搬送コンベア２が貫通し、配線基板１が搬入，搬出される入口８と出口９が形 成されている。１０は前記はんだ融液４の液面を封止してチャンバ７内を不活性 ガス雰囲気に保持するためのスカート部で、はんだ融液４に浸漬されている。１ １は前記チャンバ７の入口８側の上側チャンバ７Ａと下側チャンバ７Ｂとにそれ ぞれ固定され、ラビリンス流路を形成した複数枚の抑止板で、板状部材からなり 、配線基板１の搬送方向（矢印Ａ方向）と交差する方向に板面が並び、かつ搬送 コンベア２に向けて突出する方向に設けられている。１２は前記チャンバ７の出 口９側に形成された不活性ガス供給室で、不活性ガスを供給する断面がＵ字状を して、一方が開口した口筐１３がチャンバ７の上側チャンバ７Ａと下側チャンバ ７Ｂの壁体にそれぞれ開口部分と反対側の外側が密接して設けられている。１４ は前記口筐１３内に設けられたノズルで、パイプにより形成され、不活性ガスを 噴出するもので、口筐１３とノズル１４は後に詳細に説明するが同一軸心を中心 としてそれぞれ別個に回動可能としてある。１５は前記はんだ槽３の領域にあっ て、上側チャンバ７Ａに所定の間隔で複数枚設けられた回動可能の抑止板で、板 状部材からなり、配線基板１の搬送方向（矢印Ａ方向）と交差する方向に板面が 並んで設けられている。１６は回動軸で、前記抑止板１５と一体に形成され、上 側チャンバ７Ａの壁面に回動可能に支持されている。

【００２２】 なお、図１では、はんだ槽３には１次噴流槽５と２次噴流槽６を設けた例を示 したが、１次噴流槽５または２次噴流槽６のいずれか１つであっても良く、さら に、フローディップ槽のみであっても良い。また、搬送コンベア２はキャリアレ ス式またはキャリア式のいずれであっても良い。

【００２３】 図２は図１のＩ−Ｉ線による断面図、図３は図１の口筐１３の詳細を拡大して 示す斜視図で、図１において例示する４つの口筐１３のうちの１つを示す。これ らの図において、図１と同一符号は同一部分を示す。なお、図２では、一例とし て配線基板１の保持爪１７を備えたキャリアレス型の搬送コンベア２を装備した 搬送装置１８を示している。すなわち、チャンバ７は搬送コンベア２を挟んで上 側チャンバ７Ａと下側チャンバ７Ｂとに分割可能な構造であり、口筐１３に固着 された中空の口筐用支軸２１を挿通する口筐用軸受２２が上側チャンバ７Ａおよ び下側チャンバ７Ｂとにそれぞれ固着されている。そして口筐用軸受２２には口 筐１３の回動方向を調節した後、口筐用支軸２１を固定するつまみ付きの固定ネ ジ２３を設けてある。

【００２４】 口筐１３は断面形状がＵ字状、つまり開口形状が長方形であり、開口部２４の 長手方向は搬送コンベア２に交差する矢印Ａ方向で、かつ矢印Ａ方向へ向けて配 設する構造のものである。また、図３からも判るように、口筐１３は垂直断面は 「Ｕ」字状の形状で、口筐１３の底部には不活性ガスを供給するパイプ形のノズ ル１４が設けられ、不活性ガスを噴出する噴出孔２５が形成されている。そして 、ノズル１４は中空の口筐用支軸２１を挿通する構造で保持する構成である。な お、口筐用支軸２１にはノズル１４の回動方向を調節し固定するつまみ付きの固 定ネジ２６を設けてある。

【００２５】 また、口筐１３のチャンバ７への組み立てを容易にするために、口筐用支軸２ １を口筐１３へ固着するためにねじ込み、あるいはフランジ付としてこのフラン ジをビスやナットで開口部２４側から固定するようにするとよい。口筐用軸受２ ２のチャンバ７への取り付けも同様に取り外しできるようにしておくのがよい。

【００２６】 図４は図１の抑止板１５の回動機構を示す斜視図で、図１と同一符号は同一部 分を示し、抑止板１５を固着した回動軸１６は上側チャンバ７Ａに設けた軸受２ ７に回動可能に支軸され、回動軸１６は上側チャンバ７Ａの上壁内面に密接して いる構造である。他方、回動軸１６と抑止板１５は、回動軸１６の長手方向に延 長された部分が折り曲げられて形成された操作レバー２８を回動させることによ ってその方向を可変・調節することができる。なお、抑止板１５の軸受２７には 、回動軸１６と抑止板１５の方向を調節した後、固定するつまみ付きの固定ねじ ２９を設けてある。なお、組み立てに際しては、例えば、回動軸１６を軸受２７ に挿通後、回動軸１６に抑止板１５をビス等（図示せず）で固定すればよい。

【００２７】 次に、動作について説明する。

【００２８】 図１は抑止板１５および口筐１３の第１の調節例を示してある。

【００２９】 すなわち、４個の口筐１３はそれぞれ上下対称に配線基板１の搬送方向（矢印 Ａ方向）とは逆方向のはんだ槽３側を向き、それぞれの方向も同一に揃えている 。一方、回動可能の抑止板１５は、入口８側の２枚が配線基板１の搬送方向（矢 印Ａ方向）に対して垂直の方向へ向き、他の４枚はやや入口８側方向へ向くよう に調節してある。

【００３０】 以上のように調節することによって、口筐１３から噴出した不活性ガスは搬送 コンベア２に沿ってその搬送方向（矢印Ａ方向）とは逆方向へ流れる層流を形成 し、２次噴流槽６から１次噴流槽５に到達し、配線基板１とはんだ融液４が接触 する領域に、低酸素濃度の不活性ガス雰囲気を形成する。そして、１次噴流槽５ から入口８側へ流れる不活性ガスの層流は、前記垂直方向に向いている２枚の抑 止板１５により減速され、さらに、入口８側のラビリンス流路を形成する抑止板 １１によって封止され、チャンバ７内の不活性ガスの流出と、外気がチャンバ７ 内に流入するのが防止される。

【００３１】 なお、搬送コンベア２の搬送速度がさらに速くなった場合には、口筐１３の方 向を、さらに回動してチャンバ７の内側のはんだ槽３側へ向くように調節すれば 、搬送コンベア２や配線基板１による不活性ガスの雰囲気の引き出しを抑制して 平衡し、不活性ガス雰囲気の封止性を高水準に保持することができる。

【００３２】 また、ノズル１４からの不活性ガス噴出量および噴出速度、さらに口筐１３か らの不活性ガス噴出量および噴出速度によっても、口筐１３の最適方向および抑 止板１５の最適方向も変わる。要するに、配線基板１にはんだ融液４が接触する 領域に低酸素濃度の不活性ガス雰囲気を形成しつつ、チャンバ７内の不活性ガス 雰囲気がチャンバ７の外へ流出する量と、チャンバ７外の大気がチャンバ７内へ 流入する量とが最小となる平衡点を求めるようにすればよいのである。

【００３３】 図５は、図１の実施例の第２の調節例を示す図で、図１と同一符号は同一部分 を示す。

【００３４】 第２の調節例が第１の調節例と相違する点は、出口９側の口筐１３の方向がや や搬送コンベア２寄りに向いている点である。

【００３５】 したがって、出口９側の口筐１３から噴出する不活性ガスは、その一部がチャ ンバ７の出口９側へ流れるようになり、出口９からの大気の流入抑制力を高める ことができる。そのため、はんだ槽３側の口筐１３から噴出する不活性ガスの噴 出量（噴出速度）を増加して、配線基板１とはんだ融液４とが接触する領域への 不活性ガス層流の供給量を第１の調節例と同水準に維持することが望ましい。こ れによって、チャンバ７の出口９側および入口８側の雰囲気封止性を一層高める ことができる。

【００３６】 図６は、図１の実施例の第３の調節例を示す図で、図１と同一符号は同一部分 を示す。

【００３７】 第３の調節例が第１の調節例と相違する点は、回動可能な抑止板１５の方向を 順次に変えている点である。

【００３８】 したがって、口筐１３から噴出して層流を形成する不活性ガスは、１次噴流槽 ５と２次噴流槽６の噴流波に到達しつつ順次に減速し、最終的に入口８側の抑止 板１１のラビリンス流路によって封止される。このような調節例は、配線基板１ に大型の部品が搭載されている場合に有効である。

【００３９】 すなわち、大型部品はチャンバ７内の雰囲気を外部へ引き出し易いので、２次 噴流槽６の領域における層流速度を高めて置くことにより、１次噴流槽５の領域 へも十分な不活性ガスを供給し、低酸素濃度の不活性ガス雰囲気を形成すること を可能としている。また、雰囲気を封止するための平衡点も最適化される。

【００４０】 図７は、図１の実施例の第４の調節例を示す図で、図１と同一符号は同一部分 を示す。

【００４１】 第４の調節例が第１の調節例と相違する点は、回動可能な抑止板１５の方向を 全て搬送コンベア２に対して垂直方向に向け、はんだ槽３側の口筐１３は搬送コ ンベア２の方向に対向するように向け、出口９側の口筐１３は配線基板１の搬送 方向（矢印Ａ方向）とは逆方向を向けた点である。

【００４２】 このような調節例は、配線基板１の搬送速度が一般的な搬送速度（例えば、１ ｍ／分）よりも相対的に遅い場合（例えば、０．６ｍ／分）や配線基板１のプリ ヒート（図示せず）の温度が一般的な温度（例えば、８０〜１２０℃）よりも相 対的に高い場合（例えば、１５０℃）、はんだ融液４の温度が一般的な温度（例 えば、２５０℃）よりも相対的に高い場合（例えば、３５０℃）、等のときに有 効である。すなわち、抑止板１５によって雰囲気の熱対流抑制力が大きくなるか らである。また、はんだ槽３側の口筐１３の熱対流抑制力も増大するので、総体 として雰囲気封止性を良好に保つことができる。

【００４３】 そしてこの場合、はんだ槽３側の口筐１３から噴出する不活性ガスの噴出量（ 噴出速度）を相対的に小さく、出口９側の口筐１３から噴出する不活性ガスの噴 出量（噴出速度）を相対的に大きくすることによって、各噴流槽５，６へ向かっ て流れる不活性ガスの層流は第１の調節例と同一水準に保持することができる。

【００４４】 図８（ａ）〜（ｄ）は、ノズル１４の方向に対する口筐１３の指向性の例を示 す側断面図で、ノズル１４の噴出孔２５から噴出する不活性ガスの噴出方向を調 節した際の、口筐１３から噴出する不活性ガスの指向性を説明するものである。 なお、不活性ガスの指向性を噴出速度分布で示している。

【００４５】 図８（ａ）は、ノズル１４の噴出孔２５が口筐１３の開口部２４の方向へ向い ている例であり、この場合は、放射状の指向性を示す。

【００４６】 図８（ｂ）は、ノズル１４の噴出孔２５が口筐１３の底部方向へ向いている例 であり、この場合は、口筐１３の両側部に指向性を示す。

【００４７】 図８（ｃ）は、ノズル１４の噴出孔２５が口筐１３の開口方向へ斜めに向いて いる例であり、この場合は、噴出孔２５側の口筐１３の側面部に指向性を示す。

【００４８】 図８（ｄ）は、ノズル１４の噴出孔２５が口筐１３の底部方向で斜めに向いて いる例であり、この場合は、噴出孔２５側の口筐１３の側面部にやや指向性を示 し、他方の側部には強い指向性は示さない。

【００４９】 このように、ノズル１４の不活性ガス噴出方向を調節することによって、口筐 １３から噴出する不活性ガスの指向性を可変することができる。そのため、口筐 １３の方向調節と併せて不活性ガス噴出指向性を調節することにより、層流形成 と封止性を調節し、選択することができるようになる。

【００５０】 例えば、図１の第１の調節例および図６の第３の調節例においては、はんだ槽 ３側の口筐１３の指向性に図８（ｃ）を選択し、出口９側の口筐１３の指向性に 図８（ａ）を選択すれば、はんだ槽３側の口筐１３から噴出する不活性ガスの流 れが出口９側の口筐１３から噴出する不活性ガスの流れを加速させるように作用 し、良好な層流を形成することができる。

【００５１】 また、図５の第２の調節例においては、はんだ槽３側の口筐１３の指向性に図 ８（ｃ）を選択し、出口９側の口筐１３の指向性に図８（ｂ）を選択すれば、図 ８（ｂ）の指向性は２つのピークを有するので、出口９側の口筐１３から噴出す る不活性ガスの一方のピークははんだ槽３側の口筐１３から噴出する不活性ガス の流れを加速し、他方のピークはチャンバ７の出口９に封止性を与えることがで きる。

【００５２】 図７の第４の調節例においては、はんだ槽３側の口筐１３の指向性に図８（ｂ ）を選択し、出口９側の口筐１３の指向性に図８（ｃ）を選択すれば、はんだ槽 ３側の口筐１３においては指向性の２つのピークが２重のガスカーテンを形成す るように作動し、出口９側の口筐１３から噴出する不活性ガスによって層流を形 成することができる。

【００５３】 なお、図８（ｄ）の口筐１３の指向性は、図８（ｂ）の２つのピークの相対比 を可変した関係にある。そのため、第２の調節例の出口９側の口筐１３や第４の 調節例のはんだ槽３側の口筐１３の指向性を僅かに調節する際に有効である。

【００５４】 以上のような第１の調節例〜第４の調節例および図８（ａ）〜（ｄ）に例示す る調節例は、調節例の一例を示しただけであり、結論的には、配線基板１の搬送 速度やプリヒート温度、配線基板１に搭載された部品形状と大きさ、はんだ融液 ４の温度、等々のはんだ付けプロセス環境のパラメータの変化に対応して、不活 性ガス供給室１２から各噴流槽５，６のはんだ融液４と配線基板１とが接触する 領域への不活性ガスの層流形成と供給、チャンバ７の雰囲気封止性とが最適とな るように調節すればよい。

【００５５】 図９は、本考案の第２の実施例を示す側断面図である。

【００５６】 すなわち、図１の第１の実施例と相違する点は、チャンバ７の入口８に搬送コ ンベア２を挟んで形成した図１の抑止板１１によるラビリンス流路を備えていな い点である。このような構成は、チャンバ７の入口８の開口面積が小さい場合に 有効である。すなわち、配線基板１に搭載される部品の大きさ（特に高さ）が小 さい場合には、このような構成の雰囲気形成装置で十分である。ちなみに、表面 実装部品で構成される配線基板１が一般化している今日の状況がこれに当たる。

【００５７】 図１０は、本考案の第３の実施例を示す側断面図である。

【００５８】 すなわち、図１の第１の実施例と相違する点は、チャンバ７の入口８には搬送 コンベア２を挟んで形成した図１の抑止板１１によるラビリンス流路を備えてい ないが、チャンバ７の出口９に搬送コンベア２を挟んで形成した抑止板１１によ るラビリンス流路を備えている点である。

【００５９】 このような構成は、配線基板１の搬送速度が速い場合に有効である。すなわち 、配線基板１や搬送コンベア２により不活性ガスがチャンバ７から流出するのを 大幅に抑制することができるからである。

【００６０】 なお、この第３の実施例において、チャンバ７の入口８側にも搬送コンベア２ を挟んで形成した抑止板１１によるラビリンス流路を備えた構成とすることもで きる。これにより大気がチャンバ７内へ流入するのを大幅に抑制することができ るようになる。

【００６１】 図１１は、本考案の第４の実施例を示す側断面図である。

【００６２】 すなわち、図１の第１の実施例と相違する点は、はんだ融液４と配線基板１と を接触させる領域の上方のチャンバ７の壁に設けた抑止板３１が回動しない構成 である点である。つまり、抑止板３１をチャンバ７に直接固定するか、あるいは 図１の回動軸１６が回動しないように固定されているものである。

【００６３】 配線基板１の搬送速度やプリヒート温度、配線基板１に搭載される部品の大き さ、溶融はんだの温度、等に極端な変化がない場合はこのような構成で十分であ る。

【００６４】 本考案は、以上のような第１の実施例〜第４の実施例を組み合わせて構成でき ることは、当然である。すなわち、はんだ付けプロセス環境に合わせた最適構成 を選択すればよい。

【００６５】

【考案の効果】

以上説明したように本考案は、チャンバの出口側に、前記チャンバ内に不活性 ガスを供給する不活性ガス供給室が形成され、この不活性ガス供給室内に前記搬 送コンベアに対して前記チャンバの上部側と下部側に前記配線基板の搬送方向と 交差する方向で前記搬送コンベアに向けて突出する断面Ｕ字状の口筐がその開口 方向を回動自在に設けられ、前記口筐の内部に前記不活性ガスを噴出するノズル がその噴出方向を可変として設けられ、さらに、前記チャンバ内の前記はんだ槽 の領域の上側内壁に前記配線基板の搬送方向と交差する方向に板面が並び、かつ 前記搬送コンベアに向けて突出する方向に複数枚の抑止板が並設されているので 、口筐の開口方向とノズルの噴出方向とを調整することで不活性ガスの層流形成 と供給、ならびにチャンバの雰囲気封止性とを最適に選ぶことができるため、は んだ槽領域における不活性ガス雰囲気を安定に保持でき、そのためチャンバ全体 を小さくできるため、はんだ付け装置の低コスト化と在来のはんだ付け装置への 適用が可能となる。さらに、はんだ融液の酸化が防止できるので、鉛公害の発生 を抑制し、正常なはんだ付けの環境を実現できる利点を有する。

【００６６】 また、はんだ槽の領域に設けられた抑止板が回動可能に設けられたので、チャ ンバ内の不活性ガス雰囲気の流動状態を容易に調整が容易にできる利点を有する 。

【００６７】 また、チャンバは、その入口および出口の少なくとも一方に配線基板の搬送方 向と交差する方向で、かつ搬送コンベアに向けて突出する方向に固定された複数 枚の抑止板が形成されたので、チャンバ内の不活性ガスの流出とチャンバ内の外 気が流入するのを防止できチャンバ内の封止性を一層高く保持できる利点を有す る。

【００６８】 さらに、チャンバは、搬送コンベアに対して上側チャンバと下側チャンバとに 分割可能に形成されたので、チャンバの取付工事とメンテナンスが容易で、経費 が節減できる利点を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス雰
囲気形成装置の第１の実施例を示す側断面図である。

【図２】図１の実施例のＩ−Ｉ線による断面図である。

【図３】図１の実施例の口筐の詳細を拡大して示す斜視
図である。

【図４】図１の実施例の抑止板の回動機構を示す斜視図
である。

【図５】図１の実施例の第２の調節例を説明するための
面図である。

【図６】図１の実施例の第３の調節例を説明するための
面図である。

【図７】図１の実施例の第４の調節例を説明するための
面図である。

【図８】図１の実施例のノズルの方向と口筐の指向性の
例を示す側断面図である。

【図９】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス雰
囲気形成装置の第２の実施例を示す側断面図である。

【図１０】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス
雰囲気形成装置の第３の実施例を示す側断面図である。

【図１１】本考案にかかるはんだ付け装置の不活性ガス
雰囲気形成装置の第４の実施例を示す側断面図である。

【符号の説明】

１ 配線基板 ２ 搬送コンベア ３ はんだ槽 ４ はんだ融液 ７ チャンバ ７Ａ 上側チャンバ ７Ｂ 下側チャンバ ８ 入口 ９ 出口 １１ 抑止板 １２ 不活性ガス供給室 １３ 口筐 １４ ノズル １５ 抑止板 １６ 回動軸 ２４ 開口部

Claims (4)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送コンベアで搬送される配線基板には
   んだ付けを行うはんだ槽の領域を不活性ガスの雰囲気に
   保持するチャンバを備えたはんだ付け装置の不活性ガス
   雰囲気形成装置であって、 前記チャンバの出口側に、前記チャンバ内に不活性ガス
   を供給する不活性ガス供給室が形成され、この不活性ガ
   ス供給室内に前記搬送コンベアに対して前記チャンバの
   上部側と下部側に前記配線基板の搬送方向と交差する方
   向で前記搬送コンベアに向けて突出する断面Ｕ字状の口
   筐がその開口方向を回動自在にして設けられ、前記口筐
   の内部に前記不活性ガスを噴出するノズルがその噴出方
   向を可変として設けられ、さらに、前記チャンバ内の前
   記はんだ槽の領域の上側内壁に前記配線基板の搬送方向
   と交差する方向に板面が並び、かつ前記搬送コンベアに
   向けて突出する方向に複数枚の抑止板が並設されている
   ことを特徴とするはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形
   成装置。
2. 【請求項２】 はんだ槽の領域に設けられた抑止板が回
   動可能に設けられたことを特徴とする請求項１に記載の
   はんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成装置。
3. 【請求項３】 チャンバは、その入口および出口の少な
   くとも一方に配線基板の搬送方向と交差する方向に板面
   が並び、かつ搬送コンベアに向けて突出する方向に複数
   枚の抑止板が並設されたことを特徴とする請求項１また
   は２記載のはんだ付け装置の不活性ガス雰囲気形成装
   置。
4. 【請求項４】 チャンバは、搬送コンベアに対して上側
   チャンバと下側チャンバとに分割可能に形成されたこと
   を特徴とする請求項１及至３のいずれかに記載のはんだ
   付け装置の不活性ガス雰囲気形成装置。