JPH0743325A - イオン散乱分光装置 - Google Patents
イオン散乱分光装置Info
- Publication number
- JPH0743325A JPH0743325A JP5190466A JP19046693A JPH0743325A JP H0743325 A JPH0743325 A JP H0743325A JP 5190466 A JP5190466 A JP 5190466A JP 19046693 A JP19046693 A JP 19046693A JP H0743325 A JPH0743325 A JP H0743325A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ion beam
- ion
- chopper
- pulse
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ビームカット時の中性粒子をカットすることで
中性粒子によるノイズを低減し、S/N比を向上させた
チョッパを作成する。 【構成】イオン源から試料に至るイオンビームの軌道上
に、その軌道を機械的に断続するチョッピング手段を設
けて、試料に対してパルス状のイオンビームを照射させ
るとともに、このパルス状のイオンビームの発生時をも
って時間計測の開始とする制御手段を備えたイオン散乱
分光装置。
中性粒子によるノイズを低減し、S/N比を向上させた
チョッパを作成する。 【構成】イオン源から試料に至るイオンビームの軌道上
に、その軌道を機械的に断続するチョッピング手段を設
けて、試料に対してパルス状のイオンビームを照射させ
るとともに、このパルス状のイオンビームの発生時をも
って時間計測の開始とする制御手段を備えたイオン散乱
分光装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、試料表面分析装置、例
えばイオン散乱分析装置に関するものである。
えばイオン散乱分析装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、イオン散乱分析装置において
は、イオンビームを試料面に照射するため、通常、チョ
ッピング電極にパルス電圧を印加しチョッピング用磁石
との組合せによってパルス状のイオンビームを得ている
が(以下、パルス状のイオンビームをパルスイオンビー
ムという)、この従来の装置を図2に示す。図2の従来
例では、イオン源1からでたイオンはアパーチャー21
と電極22を通過し、加速されて、チョッピング電極1
3に至る。チョッピング電極13内では、磁石12によ
って定磁場がかけられていて、イオンビームは図中Cの
ように軌道を曲げられる。そこで、チョッピング電極1
3によって電場を形成すると、イオンの進行方向は曲げ
られ、所定の質量数のイオンのみがイオンビームとして
試料5に導入される構造になっている。チョッピング電
極13の電位を変えることで、目的のイオンを偏向させ
て試料方向へ進行させたり遮断したりできる、いわゆる
チョッピングできる構成となっていた。なお、チョッピ
ング電極13で所定のイオンを試料5に導入した瞬間を
チョッピング回路14からタイミング信号として、時間
デジタル変換器11に入力して計測開始信号とし、検出
器4でイオンを検出した信号をプリアンプ9で増幅し時
間デジタル変換器11に計測信号として送る。時間デジ
タル変換器11はイオンの飛行時間を計算し、コンピュ
ータ8にデータとして送るような構成になっていた。
は、イオンビームを試料面に照射するため、通常、チョ
ッピング電極にパルス電圧を印加しチョッピング用磁石
との組合せによってパルス状のイオンビームを得ている
が(以下、パルス状のイオンビームをパルスイオンビー
ムという)、この従来の装置を図2に示す。図2の従来
例では、イオン源1からでたイオンはアパーチャー21
と電極22を通過し、加速されて、チョッピング電極1
3に至る。チョッピング電極13内では、磁石12によ
って定磁場がかけられていて、イオンビームは図中Cの
ように軌道を曲げられる。そこで、チョッピング電極1
3によって電場を形成すると、イオンの進行方向は曲げ
られ、所定の質量数のイオンのみがイオンビームとして
試料5に導入される構造になっている。チョッピング電
極13の電位を変えることで、目的のイオンを偏向させ
て試料方向へ進行させたり遮断したりできる、いわゆる
チョッピングできる構成となっていた。なお、チョッピ
ング電極13で所定のイオンを試料5に導入した瞬間を
チョッピング回路14からタイミング信号として、時間
デジタル変換器11に入力して計測開始信号とし、検出
器4でイオンを検出した信号をプリアンプ9で増幅し時
間デジタル変換器11に計測信号として送る。時間デジ
タル変換器11はイオンの飛行時間を計算し、コンピュ
ータ8にデータとして送るような構成になっていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】以上の従来のイオン散
乱分析装置で得られたパルスイオンビームでは、パルス
電圧が印加されている時間も含めて、パルス電圧が印加
されていない時間中も、常に電圧・電界に影響を受けな
い中性粒子が試料を照射しており、その結果、その中性
粒子による信号がイオン散乱分析装置のバックグラウン
ドノイズとなって、測定値のS/N比を低下させる原因
となる問題点があった。
乱分析装置で得られたパルスイオンビームでは、パルス
電圧が印加されている時間も含めて、パルス電圧が印加
されていない時間中も、常に電圧・電界に影響を受けな
い中性粒子が試料を照射しており、その結果、その中性
粒子による信号がイオン散乱分析装置のバックグラウン
ドノイズとなって、測定値のS/N比を低下させる原因
となる問題点があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に、本願発明はイオンビームの軌道上にあって、その軌
道を機械的に断続するチョッピング手段を設けた。例え
ば、穴やスリットの設けられた回転部材等を、機械的に
回転させることによって、イオンビームを遮断したり通
過させたりすることで、中性粒子の試料側への通過量が
少なくなるので、バックグラウンドノイズが極端に減少
し、測定装置のS/N比が向上するイオン散乱分析装置
が得られた。
に、本願発明はイオンビームの軌道上にあって、その軌
道を機械的に断続するチョッピング手段を設けた。例え
ば、穴やスリットの設けられた回転部材等を、機械的に
回転させることによって、イオンビームを遮断したり通
過させたりすることで、中性粒子の試料側への通過量が
少なくなるので、バックグラウンドノイズが極端に減少
し、測定装置のS/N比が向上するイオン散乱分析装置
が得られた。
【0005】
【作用】イオン源1から発生したイオンビーム(中性粒
子を含む)の軌道上に、その軌道を機械的に断続する例
えば穴やスリットの開いたチョッピング用の回転部材等
を設置し、それを回転すると穴やスリットがビーム通路
にきたときにのみビームは通過し、それ以外ではビーム
は回転部材に遮られて通過しなくなる。一方、中性粒子
はイオン源1から2段のアパーチャ21を通過するの
で、イオンビーム進行方向と同じ方向に進行する中性粒
子のみが2段のアパーチャ21を通過しチョッピング部
に入射するようになっている。従って、チョッピング用
の回転部材でイオンビームが遮られているときは常に、
中性粒子も遮られるようになる。このようにして中性粒
子は、軌道が開成されているとき、つまりパルスイオン
ビームが試料5を照射しているときに、試料近辺へパル
スビームに混じってくるだけとなるので、試料5に照射
される中性粒子が少なくなり、S/N比が向上する。
子を含む)の軌道上に、その軌道を機械的に断続する例
えば穴やスリットの開いたチョッピング用の回転部材等
を設置し、それを回転すると穴やスリットがビーム通路
にきたときにのみビームは通過し、それ以外ではビーム
は回転部材に遮られて通過しなくなる。一方、中性粒子
はイオン源1から2段のアパーチャ21を通過するの
で、イオンビーム進行方向と同じ方向に進行する中性粒
子のみが2段のアパーチャ21を通過しチョッピング部
に入射するようになっている。従って、チョッピング用
の回転部材でイオンビームが遮られているときは常に、
中性粒子も遮られるようになる。このようにして中性粒
子は、軌道が開成されているとき、つまりパルスイオン
ビームが試料5を照射しているときに、試料近辺へパル
スビームに混じってくるだけとなるので、試料5に照射
される中性粒子が少なくなり、S/N比が向上する。
【0006】
【実施例】本発明に関するイオン散乱分光装置の実施例
を図1に示し、このチョッピング手段の構造を図3を用
いて説明する。
を図1に示し、このチョッピング手段の構造を図3を用
いて説明する。
【0007】図1においてイオン源1で発生したイオン
はアパーチャ21を通過し電極22で加速されてイオン
ビームを形成しチョッパ2を通り検出器中心のアパーチ
ャ19を通過し試料5に到達し試料5で反射して検出器
4で検出される。このイオン散乱分析装置のチョッピン
グ手段はチョッパ2とモータ3とモータ制御回路20で
構成される。モータ制御回路20は、モータドライバ6
及びモータコントローラ7で構成され、コンピュータ8
に接続されている。モータ3が回転しチョッパ2が回転
してイオンビームの軌道を開成して、パルスイオンビー
ムが発生した瞬間はパルスジェネレータ10でモニター
していて、時間デジタル変換器11にスタート信号を送
る。また、検出器4のプリアンプ9は時間デジタル変換
器11を介してコンピュータ8に接続されている。具体
的にこれらの動作を説明すると、例えば、モータドライ
バ6でコントロールされているチョッパ駆動用モータ3
はチョッパの穴がイオンの通路軌道上にきたとき、パル
スジェネレータ10にスタート信号を発生させ、その信
号が時間デジタル変換器11に読み取られコンピュータ
8に記録される。一方、チョッパ2の穴を通過したパル
スイオンビームは試料5に当り、散乱されて検出器4で
検出される。この検出されたシグナルはプリアンプ9で
増幅され、時間デジタル変換器11に読み取られイオン
ビームがチョッパ2を通過して試料5で散乱されて検出
器4に到達するまでの時間をデジタル化してコンピュー
タ8へと送る。試料5の質量数が小さいときには、イオ
ンの散乱エネルギーは小さく、イオンの飛行速度が小さ
くなる。一方、試料5の質量数が大きいときには、イオ
ンの散乱エネルギーは大きく、飛行速度が大きくなる。
この性質を利用して、コンピュタ8には、試料5の物質
に対応した弾性散乱されるイオンの飛行時間のデータが
入力されていて、例えば、試料5の成分を分析すること
ができる。なお、チョッパ2の機構は実施例に限られた
ものではなく、スリットや遮閉物やアパーチャを動かし
イオンビームを断続させる構成にしてもよい。また、パ
ルスビームの発生時の計測開始信号のモニターは、上記
のモータ内に穴やスリットと同期した信号発生手段を設
けた構成に限られたものではなく、例えば、チョッパ2
直後にセンサを設ける等してもよい。
はアパーチャ21を通過し電極22で加速されてイオン
ビームを形成しチョッパ2を通り検出器中心のアパーチ
ャ19を通過し試料5に到達し試料5で反射して検出器
4で検出される。このイオン散乱分析装置のチョッピン
グ手段はチョッパ2とモータ3とモータ制御回路20で
構成される。モータ制御回路20は、モータドライバ6
及びモータコントローラ7で構成され、コンピュータ8
に接続されている。モータ3が回転しチョッパ2が回転
してイオンビームの軌道を開成して、パルスイオンビー
ムが発生した瞬間はパルスジェネレータ10でモニター
していて、時間デジタル変換器11にスタート信号を送
る。また、検出器4のプリアンプ9は時間デジタル変換
器11を介してコンピュータ8に接続されている。具体
的にこれらの動作を説明すると、例えば、モータドライ
バ6でコントロールされているチョッパ駆動用モータ3
はチョッパの穴がイオンの通路軌道上にきたとき、パル
スジェネレータ10にスタート信号を発生させ、その信
号が時間デジタル変換器11に読み取られコンピュータ
8に記録される。一方、チョッパ2の穴を通過したパル
スイオンビームは試料5に当り、散乱されて検出器4で
検出される。この検出されたシグナルはプリアンプ9で
増幅され、時間デジタル変換器11に読み取られイオン
ビームがチョッパ2を通過して試料5で散乱されて検出
器4に到達するまでの時間をデジタル化してコンピュー
タ8へと送る。試料5の質量数が小さいときには、イオ
ンの散乱エネルギーは小さく、イオンの飛行速度が小さ
くなる。一方、試料5の質量数が大きいときには、イオ
ンの散乱エネルギーは大きく、飛行速度が大きくなる。
この性質を利用して、コンピュタ8には、試料5の物質
に対応した弾性散乱されるイオンの飛行時間のデータが
入力されていて、例えば、試料5の成分を分析すること
ができる。なお、チョッパ2の機構は実施例に限られた
ものではなく、スリットや遮閉物やアパーチャを動かし
イオンビームを断続させる構成にしてもよい。また、パ
ルスビームの発生時の計測開始信号のモニターは、上記
のモータ内に穴やスリットと同期した信号発生手段を設
けた構成に限られたものではなく、例えば、チョッパ2
直後にセンサを設ける等してもよい。
【0008】図3に本願発明のチョッパ2の一実施例を
示す。例えば、金属などのイオンビーム遮閉物質で構成
した円盤で、15はこの円盤状チョッパ17の中心軸を
調節してモータ3に取り付ける取り付け部材であり、1
6は、穴18を開けたために円盤の重心のずれが生じる
のを調節するために設けた円盤状チョッパ17の軸バラ
ンスをとるためのバランサである。これらの取り付け部
材15とバランサ16によって円盤状チョッパ17はス
ムーズな高速回転が可能になる。実際のイオン散乱分光
装置では、最大100kHzでパルス幅30nsのビー
ムが要求されるが、この条件を満たす円盤の半径は50
mm、穴の直径は1mmである。この円盤状チョッパ1
7を100kHzで回転させれば目的とするイオンビー
ムのパルスが発生する。なお、円盤状チョッパは図3に
示した例に限られるものではない。
示す。例えば、金属などのイオンビーム遮閉物質で構成
した円盤で、15はこの円盤状チョッパ17の中心軸を
調節してモータ3に取り付ける取り付け部材であり、1
6は、穴18を開けたために円盤の重心のずれが生じる
のを調節するために設けた円盤状チョッパ17の軸バラ
ンスをとるためのバランサである。これらの取り付け部
材15とバランサ16によって円盤状チョッパ17はス
ムーズな高速回転が可能になる。実際のイオン散乱分光
装置では、最大100kHzでパルス幅30nsのビー
ムが要求されるが、この条件を満たす円盤の半径は50
mm、穴の直径は1mmである。この円盤状チョッパ1
7を100kHzで回転させれば目的とするイオンビー
ムのパルスが発生する。なお、円盤状チョッパは図3に
示した例に限られるものではない。
【0009】
【発明の効果】磁場中で電場を制御してチョッピングを
行うチョッパに比べて本願の発明では、金属等の板を使
ってビームを遮断しているので、中性粒子の通過を完全
に近い状態で遮断できるという点で、イオン散乱分析装
置のS/N比は、2桁以上の高精度になる。これによっ
て、中性粒子によるスペクトルの寄与が極端に減少し、
結果として高精度な測定が可能となる。
行うチョッパに比べて本願の発明では、金属等の板を使
ってビームを遮断しているので、中性粒子の通過を完全
に近い状態で遮断できるという点で、イオン散乱分析装
置のS/N比は、2桁以上の高精度になる。これによっ
て、中性粒子によるスペクトルの寄与が極端に減少し、
結果として高精度な測定が可能となる。
【図1】本発明のイオン散乱分析装置の概略構成説明図
【図2】従来のイオン散乱分析装置の概略構成説明図
【図3】本発明のチョッピング手段において利用される
チョッピング用回転部材の一実施例図
チョッピング用回転部材の一実施例図
1…イオン源、2…チョッパ、3…モータ、4…検出
器、5…試料、6…モータドライバ、7…モータコント
ローラ、8…コンピュータ、9…プリアンプ、10…パ
ルスジェネレータ、11…時間・デジタル変換器、12
…磁石、13…チョッピング電極、14…チョッピング
回路、15…中心軸合わせ機構、16…バランサ、17
…円盤状チョッパ、18…穴、19…アパーチャ、20
…モータ制御回路、21…アパーチャ、22…電極。
器、5…試料、6…モータドライバ、7…モータコント
ローラ、8…コンピュータ、9…プリアンプ、10…パ
ルスジェネレータ、11…時間・デジタル変換器、12
…磁石、13…チョッピング電極、14…チョッピング
回路、15…中心軸合わせ機構、16…バランサ、17
…円盤状チョッパ、18…穴、19…アパーチャ、20
…モータ制御回路、21…アパーチャ、22…電極。
Claims (1)
- 【請求項1】試料に照射されたイオンビームが試料面で
散乱されてくる時間を計測して試料表面を分析する飛行
時間型イオン散乱分析装置において、イオン源から試料
に至るイオンビームの軌道上に、その軌道を機械的に断
続するチョッピング手段を設けて、試料に対してパルス
状のイオンビームを照射させると共に、このパルス状の
イオンビームの発生時をもって、時間計測の開始とする
制御手段を備えたイオン散乱分光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5190466A JPH0743325A (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | イオン散乱分光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5190466A JPH0743325A (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | イオン散乱分光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0743325A true JPH0743325A (ja) | 1995-02-14 |
Family
ID=16258587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5190466A Pending JPH0743325A (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | イオン散乱分光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0743325A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007299570A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Kobe Steel Ltd | イオンビームの飛行制御装置,イオンビームの飛行制御方法及び散乱イオン分析装置 |
| JP2019056633A (ja) * | 2017-09-21 | 2019-04-11 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 試料分析装置 |
-
1993
- 1993-07-30 JP JP5190466A patent/JPH0743325A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007299570A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Kobe Steel Ltd | イオンビームの飛行制御装置,イオンビームの飛行制御方法及び散乱イオン分析装置 |
| JP2019056633A (ja) * | 2017-09-21 | 2019-04-11 | 国立研究開発法人理化学研究所 | 試料分析装置 |
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