JPH0743643Y2 - X線回折測定のための試料加熱装置 - Google Patents
X線回折測定のための試料加熱装置Info
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- JPH0743643Y2 JPH0743643Y2 JP1989019568U JP1956889U JPH0743643Y2 JP H0743643 Y2 JPH0743643 Y2 JP H0743643Y2 JP 1989019568 U JP1989019568 U JP 1989019568U JP 1956889 U JP1956889 U JP 1956889U JP H0743643 Y2 JPH0743643 Y2 JP H0743643Y2
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- heater
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- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 title claims description 7
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この考案は、X線回折測定のための試料加熱装置に関
し、特に試料を300℃以下の範囲で加熱するための試料
加熱装置に関する。
し、特に試料を300℃以下の範囲で加熱するための試料
加熱装置に関する。
[従来の技術] 300℃以下の範囲で試料を加熱するための試料加熱装置
は、通常、ヒータブロックを利用して熱伝導で試料を加
熱している。この場合、試料ホルダに試料を取り付け
て、この試料ホルダをヒータブロックの表面に接触させ
る。この状態で、試料にX線を照射して、加熱状態での
試料のX線回折測定をおこなう。
は、通常、ヒータブロックを利用して熱伝導で試料を加
熱している。この場合、試料ホルダに試料を取り付け
て、この試料ホルダをヒータブロックの表面に接触させ
る。この状態で、試料にX線を照射して、加熱状態での
試料のX線回折測定をおこなう。
[考案が解決しようとする課題] 上述した従来のヒータブロック方式では、試料を反射法
で測定することはできるが、透過法で測定することがで
きない。というのは、試料の背面にはヒータブロックが
あるので、試料を透過したX線がヒータブロックにさえ
ぎられてしまうからである。
で測定することはできるが、透過法で測定することがで
きない。というのは、試料の背面にはヒータブロックが
あるので、試料を透過したX線がヒータブロックにさえ
ぎられてしまうからである。
この考案は、このような欠点を解消しようとするもの
で、その目的は、反射法と透過法の両方が可能な試料加
熱装置を提供することにある。
で、その目的は、反射法と透過法の両方が可能な試料加
熱装置を提供することにある。
[課題を解決するための手段と作用] 上記の目的を達成するために、この考案に係る試料加熱
装置は以下の特徴を有している。
装置は以下の特徴を有している。
すなわち、この試料加熱装置は、X線回折測定のための
試料を熱伝導で加熱するヒータブロックを有し、このヒ
ータブロックの試料設置側から試料反対側に向かって末
広がりの透孔が形成されている。
試料を熱伝導で加熱するヒータブロックを有し、このヒ
ータブロックの試料設置側から試料反対側に向かって末
広がりの透孔が形成されている。
透過法で試料を測定する場合、試料を透過して回折した
X線は、透孔を抜けてからX線検出器で測定される。試
料を透過したX線はいろいろな角度で回折し得るので、
透孔を末広がりにして、この回折X線が透孔の壁にぶつ
からないようにしている。
X線は、透孔を抜けてからX線検出器で測定される。試
料を透過したX線はいろいろな角度で回折し得るので、
透孔を末広がりにして、この回折X線が透孔の壁にぶつ
からないようにしている。
さらに、前記ヒータブロックの試料設置側に対向して輻
射ヒータを設けるのが好ましい。試料の背面側ではヒー
タブロックに透孔が開いているため、試料がヒータブロ
ックによって熱伝導で加熱されるときに、試料の中央の
温度が低くなりやすい。そこで、試料の前面に輻射ヒー
タを設け、これによって試料の温度分布を改善すること
ができる。
射ヒータを設けるのが好ましい。試料の背面側ではヒー
タブロックに透孔が開いているため、試料がヒータブロ
ックによって熱伝導で加熱されるときに、試料の中央の
温度が低くなりやすい。そこで、試料の前面に輻射ヒー
タを設け、これによって試料の温度分布を改善すること
ができる。
[実施例] 次に、図面を参照してこの考案の実施例を説明する。
第1図は、この考案の一実施例の分解斜視図である。こ
の試料加熱装置は、主として、ヒータブロック1と、二
つの反射ブロック2とからなる。ヒータブロック1と反
射ブロック2の間には、試料ホルダ4が配置される。二
つの反射ブロック2は、四つの側面部材3によって両側
を固定され、これらの側面部材3がヒータブロック1に
固定される。
の試料加熱装置は、主として、ヒータブロック1と、二
つの反射ブロック2とからなる。ヒータブロック1と反
射ブロック2の間には、試料ホルダ4が配置される。二
つの反射ブロック2は、四つの側面部材3によって両側
を固定され、これらの側面部材3がヒータブロック1に
固定される。
ヒータブロック1の二つの円筒孔12には、カートリッジ
ヒータ5が挿入される。このカートリッジヒータ5によ
ってヒータブロック1が加熱される。カートリッジヒー
タ5は、ステンレス製の保護管の内部にニクロム線を収
納したもので、ニクロム線はマグネシア製の支持体に巻
いてある。ヒータブロック1の中央には透孔11が形成さ
れている。この透孔11は、試料設置側が正方形で、試料
反対側に向かって末広がりになっている。この場合、末
広がりになっているのは、X線源と試料とX線検出器と
を含む平面内での形状であり、この平面に垂直な方向で
は、透孔11の寸法は同じである。
ヒータ5が挿入される。このカートリッジヒータ5によ
ってヒータブロック1が加熱される。カートリッジヒー
タ5は、ステンレス製の保護管の内部にニクロム線を収
納したもので、ニクロム線はマグネシア製の支持体に巻
いてある。ヒータブロック1の中央には透孔11が形成さ
れている。この透孔11は、試料設置側が正方形で、試料
反対側に向かって末広がりになっている。この場合、末
広がりになっているのは、X線源と試料とX線検出器と
を含む平面内での形状であり、この平面に垂直な方向で
は、透孔11の寸法は同じである。
反射ブロック2には、水平方向に延びる溝21が形成され
ていて、この溝21の中に輻射ヒータ6が設置される。ニ
クロム線からなる輻射ヒータ6はセラミック支持体61に
巻かれている。セラミック支持体61の中央部には螺旋溝
が密に形成してあって、この溝に輻射ヒータ6が巻かれ
ている。反射ブロック2の溝21は、試料方向に向かって
開口している。すなわち、上側の反射ブロック2の溝21
は斜め下方向に開口しており、下側の反射ブロックの溝
は斜め上方向に開口している。溝21の内面は、輻射ヒー
タ6からの輻射熱を試料方向に反射する反射面となって
いる。
ていて、この溝21の中に輻射ヒータ6が設置される。ニ
クロム線からなる輻射ヒータ6はセラミック支持体61に
巻かれている。セラミック支持体61の中央部には螺旋溝
が密に形成してあって、この溝に輻射ヒータ6が巻かれ
ている。反射ブロック2の溝21は、試料方向に向かって
開口している。すなわち、上側の反射ブロック2の溝21
は斜め下方向に開口しており、下側の反射ブロックの溝
は斜め上方向に開口している。溝21の内面は、輻射ヒー
タ6からの輻射熱を試料方向に反射する反射面となって
いる。
試料41は試料ホルダ4とカバーガラス42との間に挟まれ
て、透孔11の前面に配置されることになる。なお、この
実施例では、特に有機物薄膜試料を300℃以下の温度範
囲で加熱することを意図している。
て、透孔11の前面に配置されることになる。なお、この
実施例では、特に有機物薄膜試料を300℃以下の温度範
囲で加熱することを意図している。
第2図はこの実施例の水平断面図であり、第3図は第2
図のIII-III線断面図である。試料ホルダ4に取り付け
られた試料は、その背面からは、ヒータブロック1によ
って熱伝導で加熱され、前面からは、輻射ヒータ6によ
って輻射熱で加熱される。ヒータブロック1には透孔11
が開いているので、熱伝導だけでは、試料の中央部の温
度が周辺部より低くなる恐れがあるが、前面からの輻射
熱によって、このような不均一加熱を防いでいる。
図のIII-III線断面図である。試料ホルダ4に取り付け
られた試料は、その背面からは、ヒータブロック1によ
って熱伝導で加熱され、前面からは、輻射ヒータ6によ
って輻射熱で加熱される。ヒータブロック1には透孔11
が開いているので、熱伝導だけでは、試料の中央部の温
度が周辺部より低くなる恐れがあるが、前面からの輻射
熱によって、このような不均一加熱を防いでいる。
次に、この実施例の試料加熱装置を利用して試料のX線
回折測定する方法を説明する。
回折測定する方法を説明する。
この試料加熱装置を利用すると、反射法と透過法の両方
で回折測定ができる。反射法の場合は、入射X線71を試
料に照射して、反射してくる回折X線72を測定する。す
なわち、ヒータブロック1の試料設置側(第2図の下
側)の180度の角度範囲の中に、X線源とX線検出器が
配置される。
で回折測定ができる。反射法の場合は、入射X線71を試
料に照射して、反射してくる回折X線72を測定する。す
なわち、ヒータブロック1の試料設置側(第2図の下
側)の180度の角度範囲の中に、X線源とX線検出器が
配置される。
透過法の場合は、試料の前面に垂直に入射X線73を照射
し、試料を透過して回折したX線74を、ヒータブロック
1の試料反対側(第2図の上側)にあるX線検出器で検
出する。ヒータブロック1には透孔11が開いているの
で、試料を透過したX線はヒータブロック1にさえぎら
れることなくX線検出器に到達する。透孔11は、約90度
の角度で末広がりとなっていて、この角度範囲で透過し
てきた回折X線を検出できる。
し、試料を透過して回折したX線74を、ヒータブロック
1の試料反対側(第2図の上側)にあるX線検出器で検
出する。ヒータブロック1には透孔11が開いているの
で、試料を透過したX線はヒータブロック1にさえぎら
れることなくX線検出器に到達する。透孔11は、約90度
の角度で末広がりとなっていて、この角度範囲で透過し
てきた回折X線を検出できる。
第3図に良く示すように、二つの反射ブロック2の間に
は間隙が開いていて、この間隙をX線が透過するように
なっている。したがって、試料の前面に反射ブロック2
があっても、X線回折測定に支障はない。側面部材3も
同様に上下に分割されていて間隙が開いている。
は間隙が開いていて、この間隙をX線が透過するように
なっている。したがって、試料の前面に反射ブロック2
があっても、X線回折測定に支障はない。側面部材3も
同様に上下に分割されていて間隙が開いている。
[考案の効果] 以上説明したようにこの考案は、ヒータブロックに透孔
を開けてあるので、反射法に加えて透過法でも試料のX
線回折測定ができる。
を開けてあるので、反射法に加えて透過法でも試料のX
線回折測定ができる。
さらに、ヒータブロックの前面に輻射ヒータを設けたの
で、透孔の影響によって試料の中央部が温度低下しやす
くても、これを試料前面からの輻射熱によって改善する
ことができる。
で、透孔の影響によって試料の中央部が温度低下しやす
くても、これを試料前面からの輻射熱によって改善する
ことができる。
第1図はこの考案の一実施例の分解斜視図、 第2図はこの実施例の水平断面図、 第3図は第2図のIII-III線断面図である。 1……ヒータブロック 11……透孔 2……反射ブロック 41……試料 5……カートリッジヒータ 6……輻射ヒータ
Claims (2)
- 【請求項1】X線回折測定のための試料を熱伝導で加熱
するヒータブロックを有し、このヒータブロックの試料
設置側から試料反対側に向かって末広がりの透孔が形成
されていることを特徴とする試料加熱装置。 - 【請求項2】前記ヒータブロックの試料設置側に対向し
て輻射ヒータを設けたことを特徴とする請求項1記載の
試料加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989019568U JPH0743643Y2 (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | X線回折測定のための試料加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989019568U JPH0743643Y2 (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | X線回折測定のための試料加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02110853U JPH02110853U (ja) | 1990-09-05 |
| JPH0743643Y2 true JPH0743643Y2 (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=31235196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989019568U Expired - Lifetime JPH0743643Y2 (ja) | 1989-02-23 | 1989-02-23 | X線回折測定のための試料加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0743643Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005221363A (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Rigaku Corp | X線分析用試料支持装置及びx線分析装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5816553U (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | 理学電機株式会社 | X線小角散乱測定装置用試料加熱装置 |
-
1989
- 1989-02-23 JP JP1989019568U patent/JPH0743643Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005221363A (ja) * | 2004-02-05 | 2005-08-18 | Rigaku Corp | X線分析用試料支持装置及びx線分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02110853U (ja) | 1990-09-05 |
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