JPH0747444A - 精密鋳造用鋳型の製造方法 - Google Patents
精密鋳造用鋳型の製造方法Info
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- JPH0747444A JPH0747444A JP19483693A JP19483693A JPH0747444A JP H0747444 A JPH0747444 A JP H0747444A JP 19483693 A JP19483693 A JP 19483693A JP 19483693 A JP19483693 A JP 19483693A JP H0747444 A JPH0747444 A JP H0747444A
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- Japan
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- Molds, Cores, And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高温での鋳型の変形を小さくできて、精密鋳
造品の寸法精度の向上及び鋳型の破損防止等を併せ達成
できる。 【構成】 精密鋳造用鋳型の製造時には、アルミナゾル
中のアルミナが３０部から６０部、水素イオン濃度指数
が７未満のシリカゾル中のシリカが７０部から４０部の
範囲で配合したアルミナゾルとシリカとの混合バインダ
１００部に対してフィラとして粒径が４４μｍ以下のジ
ルコン粉末またはムライト粉末を１５０部から３００部
配合して得たスラリと、ジルコン粒子あるいはムライト
粒子を単独乃至組み合わせて得たセラミックをスタッコ
材として鋳型を製造し、この鋳型を１２００℃以上で焼
成する。
造品の寸法精度の向上及び鋳型の破損防止等を併せ達成
できる。 【構成】 精密鋳造用鋳型の製造時には、アルミナゾル
中のアルミナが３０部から６０部、水素イオン濃度指数
が７未満のシリカゾル中のシリカが７０部から４０部の
範囲で配合したアルミナゾルとシリカとの混合バインダ
１００部に対してフィラとして粒径が４４μｍ以下のジ
ルコン粉末またはムライト粉末を１５０部から３００部
配合して得たスラリと、ジルコン粒子あるいはムライト
粒子を単独乃至組み合わせて得たセラミックをスタッコ
材として鋳型を製造し、この鋳型を１２００℃以上で焼
成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、精密鋳造用鋳型の製造
方法に関するものである。
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】精密鋳造用セラミック鋳型は、一般にワ
ックス模型をバインダとセラミック粉末（フィラ）とに
よりなるスラリ中へ浸漬して、スラリを付着させ（ディ
ッピング）、その後、セラミック粒子をこのフラリに付
着させ（サンデイィングあるいはスタッコイング）、以
上の工程を約７乃至１０数回繰り返して、所定厚さのセ
ラミック層を形成する。その後、ワックスを溶出し、所
定温度（一般に１０００℃前後）に加熱・焼成して、高
温状態の鋳型に溶鋼を注湯する。
ックス模型をバインダとセラミック粉末（フィラ）とに
よりなるスラリ中へ浸漬して、スラリを付着させ（ディ
ッピング）、その後、セラミック粒子をこのフラリに付
着させ（サンデイィングあるいはスタッコイング）、以
上の工程を約７乃至１０数回繰り返して、所定厚さのセ
ラミック層を形成する。その後、ワックスを溶出し、所
定温度（一般に１０００℃前後）に加熱・焼成して、高
温状態の鋳型に溶鋼を注湯する。
【０００３】またバインダには、シリカゾル（コロイダ
ルシリカあるいはエチルシリケート）、スラリ中のセラ
ミック（フィラ）には、ジルコン粉末、サンディング用
セラミックには、ジルコン粒子あるいはムライト粒子を
一般的に使用している。
ルシリカあるいはエチルシリケート）、スラリ中のセラ
ミック（フィラ）には、ジルコン粉末、サンディング用
セラミックには、ジルコン粒子あるいはムライト粒子を
一般的に使用している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記の方法により製造
される精密鋳造用セラミック鋳型の厚さは、約７乃至１
０数ｍｍであり、しかも鋳込時の鋳型温度が１０００℃
前後で、鋳込後には、鋳型がさらに加熱されて、鋳物と
の接触面近傍では、１４００℃以上、鋳型の肉厚中心部
でも１２００℃以上に加熱される。
される精密鋳造用セラミック鋳型の厚さは、約７乃至１
０数ｍｍであり、しかも鋳込時の鋳型温度が１０００℃
前後で、鋳込後には、鋳型がさらに加熱されて、鋳物と
の接触面近傍では、１４００℃以上、鋳型の肉厚中心部
でも１２００℃以上に加熱される。
【０００５】シリカゾルをバインダとした鋳型では、バ
インダとしてのシリカが軟化変形し易いため、溶鋼の静
圧により鋳型が変形して、寸法精度上に問題が生じる。
特に大型の精密鋳造品になるほど、鋳型の変形量が大き
くなり、単に寸法精度の問題に止まらずに鋳型が破損す
る。本発明は前記の問題点に鑑み提案するものであり、
その目的とする処は、高温での鋳型の変形を小さくでき
て、精密鋳造品の寸法精度の向上及び鋳型の破損防止等
を併せ達成できる精密鋳造用鋳型の製造方法を提供しよ
うとする点にある。
インダとしてのシリカが軟化変形し易いため、溶鋼の静
圧により鋳型が変形して、寸法精度上に問題が生じる。
特に大型の精密鋳造品になるほど、鋳型の変形量が大き
くなり、単に寸法精度の問題に止まらずに鋳型が破損す
る。本発明は前記の問題点に鑑み提案するものであり、
その目的とする処は、高温での鋳型の変形を小さくでき
て、精密鋳造品の寸法精度の向上及び鋳型の破損防止等
を併せ達成できる精密鋳造用鋳型の製造方法を提供しよ
うとする点にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の精密鋳造用鋳型の製造方法は、アルミナ
ゾル中のアルミナが３０部から６０部、水素イオン濃度
指数が７未満のシリカゾル中のシリカが７０部から４０
部の範囲で配合したアルミナゾルとシリカとの混合バイ
ンダ１００部に対してフィラとして粒径が４４μｍ以下
のジルコン粉末を１５０部から３００部配合して得たス
ラリと、ジルコン粒子あるいはムライト粒子を単独乃至
組み合わせて得たセラミックをスタッコ材として鋳型を
製造し、この鋳型を１２００℃以上で焼成したことを特
徴としている。
めに、本発明の精密鋳造用鋳型の製造方法は、アルミナ
ゾル中のアルミナが３０部から６０部、水素イオン濃度
指数が７未満のシリカゾル中のシリカが７０部から４０
部の範囲で配合したアルミナゾルとシリカとの混合バイ
ンダ１００部に対してフィラとして粒径が４４μｍ以下
のジルコン粉末を１５０部から３００部配合して得たス
ラリと、ジルコン粒子あるいはムライト粒子を単独乃至
組み合わせて得たセラミックをスタッコ材として鋳型を
製造し、この鋳型を１２００℃以上で焼成したことを特
徴としている。
【０００７】また本発明の精密鋳造用鋳型の製造方法
は、アルミナゾル中のアルミナが３０部から６０部、水
素イオン濃度指数が７未満のシリカゾル中のシリカが７
０部から４０部の範囲で配合したアルミナゾルとシリカ
との混合バインダ１００部に対してフィラとして粒径が
４４μｍ以下のムライト粉末を１５０部から３００部配
合して得たスラリと、ジルコン粒子あるいはムライト粒
子を単独乃至組み合わせて得たセラミックをスタッコ材
として鋳型を製造し、この鋳型を１２００℃以上で焼成
したことを特徴としている。
は、アルミナゾル中のアルミナが３０部から６０部、水
素イオン濃度指数が７未満のシリカゾル中のシリカが７
０部から４０部の範囲で配合したアルミナゾルとシリカ
との混合バインダ１００部に対してフィラとして粒径が
４４μｍ以下のムライト粉末を１５０部から３００部配
合して得たスラリと、ジルコン粒子あるいはムライト粒
子を単独乃至組み合わせて得たセラミックをスタッコ材
として鋳型を製造し、この鋳型を１２００℃以上で焼成
したことを特徴としている。
【０００８】
【作用】本発明の精密鋳造用鋳型の製造方法は前記のよ
うに構成されており、精密鋳造用鋳型の製造時には、ア
ルミナゾル中のアルミナが３０部から６０部、水素イオ
ン濃度指数が７未満のシリカゾル中のシリカが７０部か
ら４０部の範囲で配合したアルミナゾルとシリカとの混
合バインダ１００部に対してフィラとして粒径が４４μ
ｍ以下のジルコン粉末またはムライト粉末を１５０部か
ら３００部配合して得たスラリと、ジルコン粒子あるい
はムライト粒子を単独乃至組み合わせて得たセラミック
をスタッコ材として鋳型を製造し、この鋳型を１２００
℃以上で焼成する。
うに構成されており、精密鋳造用鋳型の製造時には、ア
ルミナゾル中のアルミナが３０部から６０部、水素イオ
ン濃度指数が７未満のシリカゾル中のシリカが７０部か
ら４０部の範囲で配合したアルミナゾルとシリカとの混
合バインダ１００部に対してフィラとして粒径が４４μ
ｍ以下のジルコン粉末またはムライト粉末を１５０部か
ら３００部配合して得たスラリと、ジルコン粒子あるい
はムライト粒子を単独乃至組み合わせて得たセラミック
をスタッコ材として鋳型を製造し、この鋳型を１２００
℃以上で焼成する。
【０００９】
（第１実施例）次に本発明の精密鋳造用鋳型の製造方法
を第１実施例により説明する。アルミナを約１０ｗｔ％
含有し、水素イオン濃度指数（ＰＨ）が３．５のアルミ
ナゾルとシリカとを約２０ｗｔ％含有し、水素イオン濃
度指数が３のシリカゾルを、アルミナゾル中のアルミナ
とシリカゾル中のシリカが表１になるように混合したバ
インダ１００部に対してフィラとして粒径が４４μｍ以
下のジルコン（ＺｒＯ2 ・ＳｉＯ2 ）粉末を２００部配
合したスラリに１３０×１３０×１０ｍｍのワックスを
浸漬する（ディッピング）。
を第１実施例により説明する。アルミナを約１０ｗｔ％
含有し、水素イオン濃度指数（ＰＨ）が３．５のアルミ
ナゾルとシリカとを約２０ｗｔ％含有し、水素イオン濃
度指数が３のシリカゾルを、アルミナゾル中のアルミナ
とシリカゾル中のシリカが表１になるように混合したバ
インダ１００部に対してフィラとして粒径が４４μｍ以
下のジルコン（ＺｒＯ2 ・ＳｉＯ2 ）粉末を２００部配
合したスラリに１３０×１３０×１０ｍｍのワックスを
浸漬する（ディッピング）。
【００１０】次いで粒径１５０μｍ以下のジルコン粉末
を付着させ（スタッコイング）、乾燥後、再度ディッピ
ングとスタッコイングと乾燥とを実施し、次いでスタッ
コイング用セラミックとして粒径が１ｍｍ以下のムライ
ト粒子に変更して、ディッピングとスタッコイングとを
さらに８回実施する。次いで約１７０℃に加熱して、ワ
ックスを流出し、鋳型を大気雰囲気の電気炉中に１２０
０℃で１時間保持した後、冷却する。
を付着させ（スタッコイング）、乾燥後、再度ディッピ
ングとスタッコイングと乾燥とを実施し、次いでスタッ
コイング用セラミックとして粒径が１ｍｍ以下のムライ
ト粒子に変更して、ディッピングとスタッコイングとを
さらに８回実施する。次いで約１７０℃に加熱して、ワ
ックスを流出し、鋳型を大気雰囲気の電気炉中に１２０
０℃で１時間保持した後、冷却する。
【００１１】この鋳型から幅２０ｍｍ、長さ１２０ｍｍ
のたわみ量測定用試験片（厚さは約１０ｍｍ）を作成
し、この試験片を大気雰囲気の電気炉中に図１に示すよ
うに支点間距離１００ｍｍに設置して、１５００℃で１
時間保持した後、冷却して、図２に示す位置での変形量
（たわみ量）を測定した。各条件毎の試験片のたわみ量
を図３に示す。図１の１が鋳型のたわみ量測定用試験
片、２が鋳型の第１層構築面、３が鋳型の第１０層構築
面、４がアルミナセラミック製支点、図２の５がたわみ
量測定位置である。
のたわみ量測定用試験片（厚さは約１０ｍｍ）を作成
し、この試験片を大気雰囲気の電気炉中に図１に示すよ
うに支点間距離１００ｍｍに設置して、１５００℃で１
時間保持した後、冷却して、図２に示す位置での変形量
（たわみ量）を測定した。各条件毎の試験片のたわみ量
を図３に示す。図１の１が鋳型のたわみ量測定用試験
片、２が鋳型の第１層構築面、３が鋳型の第１０層構築
面、４がアルミナセラミック製支点、図２の５がたわみ
量測定位置である。
【００１２】これにより、アルミナ量とシリカ量とがあ
る範囲のときにたわみ量が小さくなり、アルミナが多過
ぎても、あるいはシリカが多過ぎても、たわみ量が増大
する。即ち、アルミナが多いと、１２００℃の焼成によ
りムライトとアクミナとが尊大するが、アルミナの焼結
温度が高いため、粒子間の結合力が小さくて、高温での
変形が大きくなる。またアルミナが多いと、スラリの粘
度が高くなり、フィラとして配合するジルコン粉末の量
が少なくなり、焼成後の鋳型の密度が小さくなることか
らも強度が小さくて、変形が大きくなる。
る範囲のときにたわみ量が小さくなり、アルミナが多過
ぎても、あるいはシリカが多過ぎても、たわみ量が増大
する。即ち、アルミナが多いと、１２００℃の焼成によ
りムライトとアクミナとが尊大するが、アルミナの焼結
温度が高いため、粒子間の結合力が小さくて、高温での
変形が大きくなる。またアルミナが多いと、スラリの粘
度が高くなり、フィラとして配合するジルコン粉末の量
が少なくなり、焼成後の鋳型の密度が小さくなることか
らも強度が小さくて、変形が大きくなる。
【００１３】一方、アルミナが少ないと、ムライト反応
後の過剰のシリカが多く存在することになって、シリカ
が高温で変形しやすいために変形が大きくなる。厳密な
意味での適正なアルミナゾルとシリカゾルとの配合割合
の決定は困難であるが、変形量の観点から本発明ではア
ルミナゾル中のアルミナが３０部乃至６０部、シリカゾ
ル中のシリカが７０部乃至４０部になるアルミナゾルと
シリカゾルとの混合割合が好ましい範囲になる。
後の過剰のシリカが多く存在することになって、シリカ
が高温で変形しやすいために変形が大きくなる。厳密な
意味での適正なアルミナゾルとシリカゾルとの配合割合
の決定は困難であるが、変形量の観点から本発明ではア
ルミナゾル中のアルミナが３０部乃至６０部、シリカゾ
ル中のシリカが７０部乃至４０部になるアルミナゾルと
シリカゾルとの混合割合が好ましい範囲になる。
【００１４】またシリカゾルには、各種の水素イオン濃
度指数のものがあるが、使用したアルハナゾルの水素イ
オン濃度指数は、約３の酸性であり、これにアルカリ性
のシリカゾルを混合すると、急激にゾルがゲル化する。
従って本実施例では、水素イオン濃度指数が５の酸性の
シリカゾルを使用した。本実施例では、アルミナゾルと
シリカゾルとの混合バインダ１００部に対してフィラと
してジルコン（ＺｒＯ2 ・ＳｉＯ2 ）粉末を２００部配
合している。バインダ量に対するフィラの配合量は、ス
リラの粘性の点で重要であるが、バインダ１００部に対
してジルコン粉末の配合量が１５０部以下あるいは３０
０部以上では、スラリの粘度が小さくなり過ぎるか、あ
るいは粘度が大きくなり過ぎて、ディッピング及びスタ
ッコイングにより、うまく鋳型を構築できなくなり且つ
乾燥時に鋳型に割れが発生しやすくなる。このような観
点から、本発明では、フィラとしてのジルコンの配合量
は、バインダ１００部に対して１５０部乃至３００部の
範囲にしている。
度指数のものがあるが、使用したアルハナゾルの水素イ
オン濃度指数は、約３の酸性であり、これにアルカリ性
のシリカゾルを混合すると、急激にゾルがゲル化する。
従って本実施例では、水素イオン濃度指数が５の酸性の
シリカゾルを使用した。本実施例では、アルミナゾルと
シリカゾルとの混合バインダ１００部に対してフィラと
してジルコン（ＺｒＯ2 ・ＳｉＯ2 ）粉末を２００部配
合している。バインダ量に対するフィラの配合量は、ス
リラの粘性の点で重要であるが、バインダ１００部に対
してジルコン粉末の配合量が１５０部以下あるいは３０
０部以上では、スラリの粘度が小さくなり過ぎるか、あ
るいは粘度が大きくなり過ぎて、ディッピング及びスタ
ッコイングにより、うまく鋳型を構築できなくなり且つ
乾燥時に鋳型に割れが発生しやすくなる。このような観
点から、本発明では、フィラとしてのジルコンの配合量
は、バインダ１００部に対して１５０部乃至３００部の
範囲にしている。
【００１５】またアルミナとシリカとの反応によるムラ
イト（３Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 ）化率は、加熱温度と
その温度での保持時間とより決まる。アルミナゾル中の
アルミナの大きさは、数１０乃至１００μｍであり、ま
たシリカゾル中のシリカの大きさも数１０μｍであるた
め、比較的低温且つ短時間でムライト化する。ムライト
化の開始温度は、１７０℃であり、１２００℃で１時間
加熱（焼成）することにより、大半が反応して、ムライ
トに変化した。従って本発明での鋳型の焼成温度は、１
２００℃以上であることが必要である。
イト（３Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 ）化率は、加熱温度と
その温度での保持時間とより決まる。アルミナゾル中の
アルミナの大きさは、数１０乃至１００μｍであり、ま
たシリカゾル中のシリカの大きさも数１０μｍであるた
め、比較的低温且つ短時間でムライト化する。ムライト
化の開始温度は、１７０℃であり、１２００℃で１時間
加熱（焼成）することにより、大半が反応して、ムライ
トに変化した。従って本発明での鋳型の焼成温度は、１
２００℃以上であることが必要である。
【００１６】
【表１】 （第２実施例）第１実施例と同様に、アルミナを約１０
ｗｔ％含有し、水素イオン濃度指数が３５のアルミナゾ
ルとシリカとを約２０ｗｔ％含有し、水素イオン濃度指
数が３のシリカゾルを、アルミナゾル中のアルミナとシ
リカゾル中のシリカが表１に示す第１実施例の割合と全
く同様に混合したバインダ１００部に対して粒径が４４
μｍ以下のムライト（３Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 ）粉末
を２００部配合したスラリに１３０×１３０×１０ｍｍ
のワックスを浸漬する（ディッピング）。
ｗｔ％含有し、水素イオン濃度指数が３５のアルミナゾ
ルとシリカとを約２０ｗｔ％含有し、水素イオン濃度指
数が３のシリカゾルを、アルミナゾル中のアルミナとシ
リカゾル中のシリカが表１に示す第１実施例の割合と全
く同様に混合したバインダ１００部に対して粒径が４４
μｍ以下のムライト（３Ａｌ2 Ｏ3 ・２ＳｉＯ2 ）粉末
を２００部配合したスラリに１３０×１３０×１０ｍｍ
のワックスを浸漬する（ディッピング）。
【００１７】次いで粒径１５０μｍ以下のジルコン粉末
を付着させ（スタッコイング）、乾燥後、再度ディッピ
ングとスタッコイングと乾燥とを実施し、次いでスタッ
コイング用セラミックとして粒径が１ｍｍ以下のムライ
ト粒子に変更して、ディッピングとスタッコイングとを
さらに８回実施する。次いで第１実施例と同様に、約１
７０℃に加熱して、ワックスを流出し、鋳型を大気雰囲
気の電気炉中に１２００℃で１時間保持した後、冷却す
る。
を付着させ（スタッコイング）、乾燥後、再度ディッピ
ングとスタッコイングと乾燥とを実施し、次いでスタッ
コイング用セラミックとして粒径が１ｍｍ以下のムライ
ト粒子に変更して、ディッピングとスタッコイングとを
さらに８回実施する。次いで第１実施例と同様に、約１
７０℃に加熱して、ワックスを流出し、鋳型を大気雰囲
気の電気炉中に１２００℃で１時間保持した後、冷却す
る。
【００１８】以下、第１実施例と全く同様の試験片を作
成し、同一条件でたわみ試験を実施した。その結果を図
４に示す。スラリ中のフィラとしてジルコンを使用した
場合と同様に、アルミナ量とシリカ量とがある範囲のと
きにたわみ量が小さくなる領域が存在する。たわみ量の
絶対値は、ジルコンフィラの場合と多少異なるが、傾向
は殆ど同じである。
成し、同一条件でたわみ試験を実施した。その結果を図
４に示す。スラリ中のフィラとしてジルコンを使用した
場合と同様に、アルミナ量とシリカ量とがある範囲のと
きにたわみ量が小さくなる領域が存在する。たわみ量の
絶対値は、ジルコンフィラの場合と多少異なるが、傾向
は殆ど同じである。
【００１９】これにより、本発明では、フィラとしてム
ライトを使用した場合も、アルミナゾル中のアルミナが
３０部乃至６０部、シリカゾル中のシリカが７０部乃至
４０部となるアルハナゾルとシリカゾルとの混合割合が
好ましい範囲になる。バインダに対するムライトフィラ
の配合量も、ジルコンフィラの場合と同様に、アルミナ
ゾルとシリカゾルとの混合バインダ１００部に対してジ
ルコン粉末量は、１５０部乃至３００部の範囲がスラリ
の粘度の観点から適正である。
ライトを使用した場合も、アルミナゾル中のアルミナが
３０部乃至６０部、シリカゾル中のシリカが７０部乃至
４０部となるアルハナゾルとシリカゾルとの混合割合が
好ましい範囲になる。バインダに対するムライトフィラ
の配合量も、ジルコンフィラの場合と同様に、アルミナ
ゾルとシリカゾルとの混合バインダ１００部に対してジ
ルコン粉末量は、１５０部乃至３００部の範囲がスラリ
の粘度の観点から適正である。
【００２０】
【発明の効果】本発明の精密鋳造用鋳型の製造方法は前
記のように精密鋳造用鋳型の製造時には、アルミナゾル
中のアルミナが３０部から６０部、水素イオン濃度指数
が７未満のシリカゾル中のシリカが７０部から４０部の
範囲で配合したアルミナゾルとシリカとの混合バインダ
１００部に対してフィラとして粒径が４４μｍ以下のジ
ルコン粉末またはムライト粉末を１５０部から３００部
配合して得たスラリと、ジルコン粒子あるいはムライト
粒子を単独乃至組み合わせて得たセラミックをスタッコ
材として鋳型を製造し、この鋳型を１２００℃以上で焼
成するようにしており、高温での鋳型の変形を小さくで
きて、精密鋳造品の寸法精度の向上及び鋳型の破損防止
等を併せ達成できる。
記のように精密鋳造用鋳型の製造時には、アルミナゾル
中のアルミナが３０部から６０部、水素イオン濃度指数
が７未満のシリカゾル中のシリカが７０部から４０部の
範囲で配合したアルミナゾルとシリカとの混合バインダ
１００部に対してフィラとして粒径が４４μｍ以下のジ
ルコン粉末またはムライト粉末を１５０部から３００部
配合して得たスラリと、ジルコン粒子あるいはムライト
粒子を単独乃至組み合わせて得たセラミックをスタッコ
材として鋳型を製造し、この鋳型を１２００℃以上で焼
成するようにしており、高温での鋳型の変形を小さくで
きて、精密鋳造品の寸法精度の向上及び鋳型の破損防止
等を併せ達成できる。
【図１】本発明に係わる精密鋳造用鋳型の製造方法の第
１実施例により得られた鋳型のたわみ測定用試験片のた
わみ量試験要領を示す側面図である。
１実施例により得られた鋳型のたわみ測定用試験片のた
わみ量試験要領を示す側面図である。
【図２】上記試験片のたわみ量測定位置を示す側面図で
ある。
ある。
【図３】上記試験片の各条件毎のたわみ量試験結果を示
す説明図である。
す説明図である。
【図４】第２実施例により得られた鋳型の試験片の各条
件毎のたわみ量試験結果を示す説明図である。
件毎のたわみ量試験結果を示す説明図である。
Claims (2)
- 【請求項１】 アルミナゾル中のアルミナが３０部から
６０部、水素イオン濃度指数が７未満のシリカゾル中の
シリカが７０部から４０部の範囲で配合したアルミナゾ
ルとシリカとの混合バインダ１００部に対してフィラと
して粒径が４４μｍ以下のジルコン粉末を１５０部から
３００部配合して得たスラリと、ジルコン粒子あるいは
ムライト粒子を単独乃至組み合わせて得たセラミックを
スタッコ材として鋳型を製造し、この鋳型を１２００℃
以上で焼成したことを特徴とする精密鋳造用鋳型の製造
方法。 - 【請求項２】 アルミナゾル中のアルミナが３０部から
６０部、水素イオン濃度指数が７未満のシリカゾル中の
シリカが７０部から４０部の範囲で配合したアルミナゾ
ルとシリカとの混合バインダ１００部に対してフィラと
して粒径が４４μｍ以下のムライト粉末を１５０部から
３００部配合して得たスラリと、ジルコン粒子あるいは
ムライト粒子を単独乃至組み合わせて得たセラミックを
スタッコ材として鋳型を製造し、この鋳型を１２００℃
以上で焼成したことを特徴とする精密鋳造用鋳型の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19483693A JPH0747444A (ja) | 1993-08-05 | 1993-08-05 | 精密鋳造用鋳型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19483693A JPH0747444A (ja) | 1993-08-05 | 1993-08-05 | 精密鋳造用鋳型の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0747444A true JPH0747444A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=16331078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19483693A Withdrawn JPH0747444A (ja) | 1993-08-05 | 1993-08-05 | 精密鋳造用鋳型の製造方法 |
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1993
- 1993-08-05 JP JP19483693A patent/JPH0747444A/ja not_active Withdrawn
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