JPH0747885Y2 - Ｔｅａ―ｃｏ２レーザ発振装置 - Google Patents
Ｔｅａ―ｃｏ２レーザ発振装置Info
- Publication number
- JPH0747885Y2 JPH0747885Y2 JP1989021506U JP2150689U JPH0747885Y2 JP H0747885 Y2 JPH0747885 Y2 JP H0747885Y2 JP 1989021506 U JP1989021506 U JP 1989021506U JP 2150689 U JP2150689 U JP 2150689U JP H0747885 Y2 JPH0747885 Y2 JP H0747885Y2
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- wall
- chamber
- discharge space
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、例えばマーキングに使用されるTEA-CO2レー
ザ発振装置に関する。
ザ発振装置に関する。
TEA（Transverersery Excited Atomspheric,以下略。）
−CO2レーザとは、CO2ガスをレーザの発振方向に対して
横方向から放電励起させて、発振させるレーザである。
このTEA-CO2レーザは、10μｍ付近の赤外線を発振する
レーザであり、放電状態の維持が難しいためパルス発振
にならざるを得ないものの、逆にピークパワーが大きく
また大気圧で動作できるなどの特徴を持っている。用途
としては、従来より電子部品のマーキングや同位体分離
等の処理に使用されてきている。
−CO2レーザとは、CO2ガスをレーザの発振方向に対して
横方向から放電励起させて、発振させるレーザである。
このTEA-CO2レーザは、10μｍ付近の赤外線を発振する
レーザであり、放電状態の維持が難しいためパルス発振
にならざるを得ないものの、逆にピークパワーが大きく
また大気圧で動作できるなどの特徴を持っている。用途
としては、従来より電子部品のマーキングや同位体分離
等の処理に使用されてきている。
第２図は、このような従来のTEA-CO2レーザ発振装置の
概略説明図で、同図（イ）は発振方向に直角な方向での
断面図、同図（ロ）は同図（イ）のＹ−Ｙにおける発振
方向での断面図、第３図は、TEA-CO2レーザ発振装置の
発振動作を説明するための図である。11は主電極を構成
する陽極、12は主電極を構成する陰極、21は一対の予備
電離用の補助電極を構成する陽極、22は同じく一対の予
備電離用の補助電極を構成する陰極、３はレーザガスを
放電空間４に送るファン、５は高反射ミラー、６は出射
ミラー、10はチャンバ外壁、７は高圧充電器、８は主コ
ンデンサ、９はスパークギャップスイッチを示す。
概略説明図で、同図（イ）は発振方向に直角な方向での
断面図、同図（ロ）は同図（イ）のＹ−Ｙにおける発振
方向での断面図、第３図は、TEA-CO2レーザ発振装置の
発振動作を説明するための図である。11は主電極を構成
する陽極、12は主電極を構成する陰極、21は一対の予備
電離用の補助電極を構成する陽極、22は同じく一対の予
備電離用の補助電極を構成する陰極、３はレーザガスを
放電空間４に送るファン、５は高反射ミラー、６は出射
ミラー、10はチャンバ外壁、７は高圧充電器、８は主コ
ンデンサ、９はスパークギャップスイッチを示す。
第２図に示すように、TEA-CO2レーザ発振装置は、該導
光がレーザ媒質中を通過する距離を長くしてレーザ発振
に必要な誘導放出をより多く起こさせるため、共振器と
しての高反射ミラー５及び出射ミラー６の光軸方向に長
い放電空間４が形成されるように構成される。従って、
レーザガスをレーザの発振方向即ち光軸方向と直角な方
向から放電励起する主電極11,12は、光軸方向に長い板
状のものが使用され、通常主電極11,12の長手方向を水
平方向に配置して放電空間４が水平方向に長くなるよう
に構成される。即ちレーザの発振方向は水平方向とな
る。
光がレーザ媒質中を通過する距離を長くしてレーザ発振
に必要な誘導放出をより多く起こさせるため、共振器と
しての高反射ミラー５及び出射ミラー６の光軸方向に長
い放電空間４が形成されるように構成される。従って、
レーザガスをレーザの発振方向即ち光軸方向と直角な方
向から放電励起する主電極11,12は、光軸方向に長い板
状のものが使用され、通常主電極11,12の長手方向を水
平方向に配置して放電空間４が水平方向に長くなるよう
に構成される。即ちレーザの発振方向は水平方向とな
る。
また、レーザガスの予備電離のため用いられる補助電極
21,22は、放電空間に均一に紫外線を転写するよう、第
２図のように主電極11,12の側端に沿って複数均一に配
置される。
21,22は、放電空間に均一に紫外線を転写するよう、第
２図のように主電極11,12の側端に沿って複数均一に配
置される。
第２図及び第３図において、高圧充電器７により主コン
デンサが充電され、トリガ信号によりスパークギャップ
スイッチ９がONすると、ピーキング用コンデンサ21で充
放電しながら予備電離用の補助電極21,22間をアーク放
電させる。アーク放電により発生した紫外線は、放電空
間４にあるレーザガスを均一に電離させる。この状態
で、電化が主電極に至り陽極11及び陰極12間に高圧が印
加され、グロー放電が開始される。予め電離されイオン
化したレーザガスは、このグロー放電により励起され光
を放出し、共振器を構成する高反射ミラー５及び出射ミ
ラー６により誘導増幅されて、出射ミラー６よりレーザ
発振がされる。尚、レーザガスは、一般的にCO2：N2:C
O:He＝8:8:2:82の分圧比で混合されたものが使用され
る。
デンサが充電され、トリガ信号によりスパークギャップ
スイッチ９がONすると、ピーキング用コンデンサ21で充
放電しながら予備電離用の補助電極21,22間をアーク放
電させる。アーク放電により発生した紫外線は、放電空
間４にあるレーザガスを均一に電離させる。この状態
で、電化が主電極に至り陽極11及び陰極12間に高圧が印
加され、グロー放電が開始される。予め電離されイオン
化したレーザガスは、このグロー放電により励起され光
を放出し、共振器を構成する高反射ミラー５及び出射ミ
ラー６により誘導増幅されて、出射ミラー６よりレーザ
発振がされる。尚、レーザガスは、一般的にCO2：N2:C
O:He＝8:8:2:82の分圧比で混合されたものが使用され
る。
放電により加熱されたレーザガスを除去し新鮮なレーザ
ガスと交換するため、背後にラジエータＲを備えたファ
ン３が放電空間４を臨む位置に設けられており、主電極
11,12による放電の方向と直角な方向にレーザガスを送
る。
ガスと交換するため、背後にラジエータＲを備えたファ
ン３が放電空間４を臨む位置に設けられており、主電極
11,12による放電の方向と直角な方向にレーザガスを送
る。
また、スパークギャップスイッチ９の代わりにサイラト
ロンを用いることもある。
ロンを用いることもある。
前述の通り、TEA-CO2レーザ発振装置はマーキング等の
処理に使用されるが、処理装置に組み込まれる場合に
は、装置の小型化，省スペース化が必要になってくる。
ここで、従来のTEA-CO2レーザ発振装置は、水平方向に
長い放電空間が形成されるように、長尺な主電極が長手
方向を水平方向に向けて配置されるため、TEA-CO2レー
ザ発振装置の占める底面積がどうしても大きくなってし
まう。
処理に使用されるが、処理装置に組み込まれる場合に
は、装置の小型化，省スペース化が必要になってくる。
ここで、従来のTEA-CO2レーザ発振装置は、水平方向に
長い放電空間が形成されるように、長尺な主電極が長手
方向を水平方向に向けて配置されるため、TEA-CO2レー
ザ発振装置の占める底面積がどうしても大きくなってし
まう。
この場合、主電極の長手方向を鉛直方向に向けて配置
し、鉛直方向に長い放電空間が形成されるようにすれ
ば、占有面積の小さいTEA-CO2レーザ発振装置が可能と
なる。
し、鉛直方向に長い放電空間が形成されるようにすれ
ば、占有面積の小さいTEA-CO2レーザ発振装置が可能と
なる。
しかし、放電空間を鉛直方向に長くするということは、
鉛直方向にレーザが発振されるということであり、必然
的に高反射ミラー及び出射ミラーは、放電空間を挟んで
上下に配置されることになる。この場合、放電空間の下
方に配置された高反射ミラー又は出射ミラーへのゴミの
落下付着の問題が発生する。即ち、電極スパッタリング
等の放電によって生成された異物がゴミとなって、高反
射ミラー又は出射ミラーに落下付着する問題がある。ミ
ラーにゴムが付着すると、レーザを熱吸収して反射せ
ず、レーザの出力の低下や出力されるレーザの照射パタ
ーンの欠陥になってしまう。この結果、例えばマーキン
グの場合には、マーキングされるパターンの欠陥につな
がることになる。
鉛直方向にレーザが発振されるということであり、必然
的に高反射ミラー及び出射ミラーは、放電空間を挟んで
上下に配置されることになる。この場合、放電空間の下
方に配置された高反射ミラー又は出射ミラーへのゴミの
落下付着の問題が発生する。即ち、電極スパッタリング
等の放電によって生成された異物がゴミとなって、高反
射ミラー又は出射ミラーに落下付着する問題がある。ミ
ラーにゴムが付着すると、レーザを熱吸収して反射せ
ず、レーザの出力の低下や出力されるレーザの照射パタ
ーンの欠陥になってしまう。この結果、例えばマーキン
グの場合には、マーキングされるパターンの欠陥につな
がることになる。
この考案は、上記課題を考慮してなされたものであり、
鉛直方向に長い放電空間が形成されるようにして占有面
積の小さいTEA-CO2レーザ発振装置にするとともに、そ
の際、放電空間の下方に配置される高反射ミラー又は出
射ミラーへのゴミの落下付着を防止して、レーザの出力
の低下や出力されるレーザの照射パターンの欠陥のない
TEA-CO2レーザ発振装置の提供を目的とする。
鉛直方向に長い放電空間が形成されるようにして占有面
積の小さいTEA-CO2レーザ発振装置にするとともに、そ
の際、放電空間の下方に配置される高反射ミラー又は出
射ミラーへのゴミの落下付着を防止して、レーザの出力
の低下や出力されるレーザの照射パターンの欠陥のない
TEA-CO2レーザ発振装置の提供を目的とする。
かかる目的を達成するため、本考案のTEA-CO2レーザ発
振装置は、放電空間を臨んで対向して配置された鉛直方
向に長い一対の板状の主電極と、該主電極の鉛直方向の
側端に沿って複数配置された一対の予備電離用の補助電
極と、主電極及び補助電極を収納したチャンバ外壁と、
該チャンバ外壁内部に収納され放電の方向と略垂直方向
から該主電極と該チャンバ外壁底部との間の空間および
前記放電空間にレーザガスを循環供給するファンと、放
電空間を挟んで上下に配置された高反射ミラー及び出射
ミラーとを具備し、高反射ミラー又は出射ミラーはチャ
ンバ外壁の底部に設けられたレーザ通過用穴の下方に配
置され、該レーザ通過用穴を囲んでチャンバ側に延び、
その先端がナイフエッジ状であるゴミ落下防止部材が設
けられたことを特徴とする。
振装置は、放電空間を臨んで対向して配置された鉛直方
向に長い一対の板状の主電極と、該主電極の鉛直方向の
側端に沿って複数配置された一対の予備電離用の補助電
極と、主電極及び補助電極を収納したチャンバ外壁と、
該チャンバ外壁内部に収納され放電の方向と略垂直方向
から該主電極と該チャンバ外壁底部との間の空間および
前記放電空間にレーザガスを循環供給するファンと、放
電空間を挟んで上下に配置された高反射ミラー及び出射
ミラーとを具備し、高反射ミラー又は出射ミラーはチャ
ンバ外壁の底部に設けられたレーザ通過用穴の下方に配
置され、該レーザ通過用穴を囲んでチャンバ側に延び、
その先端がナイフエッジ状であるゴミ落下防止部材が設
けられたことを特徴とする。
上記構成によるTEA-CO2レーザ発振装置によれば、鉛直
方向に長い放電空間が形成されるため装置の占有面積が
小さくでき、放電空間の下方に配置される高反射ミラー
又は出射ミラーへのゴミの落下付着はなく、レーザの出
力の低下や出力されるレーザの照射パターンの欠陥は発
生しない。
方向に長い放電空間が形成されるため装置の占有面積が
小さくでき、放電空間の下方に配置される高反射ミラー
又は出射ミラーへのゴミの落下付着はなく、レーザの出
力の低下や出力されるレーザの照射パターンの欠陥は発
生しない。
以下、本考案の実施例を説明する。
第１図は、本考案の実施例のTEA-CO2レーザ発振装置の
概略説明図で、同図（イ）は水平方向での断面図、同図
（ロ）は同図（イ）のＸ−Ｘにおける鉛直方向での断面
図である。30はファン、40は放電空間、100はチャンバ
外壁、101はチャンバ外壁の底部、102はレーザ透通過
穴、103はゴミ落下防止部材、51はベローズ、52はガス
ホース、53はジョイント、54はホルダー、５は高反射ミ
ラー、その他、第２図に同一符号は同一又は相当部分を
示す。
概略説明図で、同図（イ）は水平方向での断面図、同図
（ロ）は同図（イ）のＸ−Ｘにおける鉛直方向での断面
図である。30はファン、40は放電空間、100はチャンバ
外壁、101はチャンバ外壁の底部、102はレーザ透通過
穴、103はゴミ落下防止部材、51はベローズ、52はガス
ホース、53はジョイント、54はホルダー、５は高反射ミ
ラー、その他、第２図に同一符号は同一又は相当部分を
示す。
第１図（ロ）から明らかなように、本実施例のTEA-CO2
レーザ発振装置においては、一対の主電極11,12は長手
方向が鉛直方向に配置され、高反射ミラー５及び出射ミ
ラー６は鉛直方向に長い放電空間40を挟んで上下に配置
され、レーザが鉛直方向に発振されるように構成されて
いる。これにより、チャンバ外壁の底部101の占有面積
が小さくできその結果装置全体の占有面積も小さくでき
る。
レーザ発振装置においては、一対の主電極11,12は長手
方向が鉛直方向に配置され、高反射ミラー５及び出射ミ
ラー６は鉛直方向に長い放電空間40を挟んで上下に配置
され、レーザが鉛直方向に発振されるように構成されて
いる。これにより、チャンバ外壁の底部101の占有面積
が小さくできその結果装置全体の占有面積も小さくでき
る。
第１図（ロ）において、チャンバ外壁の底部101にはレ
ーザ透過用の穴102が設けられ、下方に設けられた高反
射ミラー５と出射ミラー６によるレーザの共振に支障が
ないようにしている。ファン30は、一対の主電極11,12
に平行に、陽極11側部および陽極11とチャンバ外壁の底
部101との間の空間に設置されていて、放電の方向と略
垂直方向から一対の主電極11,12とチャンバ外壁の底部1
01との間の空間および放電空間40にレーザガスを循環供
給する。周知の通り、放電空間40におけるガスが放電の
方向と略垂直の方向に流れるので、ガスが放電の方向と
平行の方向に流れる場合に比べて、高いレーザパルス繰
り返しを実現することが可能となる。
ーザ透過用の穴102が設けられ、下方に設けられた高反
射ミラー５と出射ミラー６によるレーザの共振に支障が
ないようにしている。ファン30は、一対の主電極11,12
に平行に、陽極11側部および陽極11とチャンバ外壁の底
部101との間の空間に設置されていて、放電の方向と略
垂直方向から一対の主電極11,12とチャンバ外壁の底部1
01との間の空間および放電空間40にレーザガスを循環供
給する。周知の通り、放電空間40におけるガスが放電の
方向と略垂直の方向に流れるので、ガスが放電の方向と
平行の方向に流れる場合に比べて、高いレーザパルス繰
り返しを実現することが可能となる。
主電極11,12や補助電極21,22の放電によって生成された
スパッタリング等の異物は、重力によって落下するが、
特にファン30の最下部のファンによってレーザ通過用穴
102上部に形成されるガス流によりゴミが運搬されるの
で、レーザ透過用穴102から落下して高反射ミラー６に
付着することがない。また、運搬された異物はチャンバ
外壁の側面（電極に平行な面）に衝突して、結果的にゴ
ミとなってチャンバ外壁の底部101に溜まる。チャンバ
外壁の底部101に溜まったゴミは、ファン30によるガス
流によりチャンバ外壁の底部101を這うように移動す
る。しかし、本実施例では、第１図（ハ）に示すよう
に、レーザ透過用穴102を囲んでチャンバ側に延びるゴ
ミ落下防止部材103が設けられているので、レーザ透過
用穴102から落下して高反射ミラー６に付着することが
ない。ゴミ落下防止部材103の高さｈとしては、レーザ
ガスの流速にもよるが、10mm程度もあれば足りる。尚、
端部104をナイフエッジ状に形成しているので、さらに
以下の結果が得られる。すなわち、このナイフエッジ状
の端部104によって、チャンバ外壁の底部101を這うよう
に移動してきたゴミを、再びレーザ透過用穴102から離
れるように移動させることができる。また、レーザ透過
用穴102の上部に形成されるガス流の流れが乱されにく
くなる。仮に、ゴミ落下防止部材103の先端が円筒状で
あった場合、その端部において渦が発生する。従ってゴ
ミがゴミ落下防止部材103内部にも進入して、放電空間
下方に配置される高反射ミラー６へゴミが落下付着して
しまう。
スパッタリング等の異物は、重力によって落下するが、
特にファン30の最下部のファンによってレーザ通過用穴
102上部に形成されるガス流によりゴミが運搬されるの
で、レーザ透過用穴102から落下して高反射ミラー６に
付着することがない。また、運搬された異物はチャンバ
外壁の側面（電極に平行な面）に衝突して、結果的にゴ
ミとなってチャンバ外壁の底部101に溜まる。チャンバ
外壁の底部101に溜まったゴミは、ファン30によるガス
流によりチャンバ外壁の底部101を這うように移動す
る。しかし、本実施例では、第１図（ハ）に示すよう
に、レーザ透過用穴102を囲んでチャンバ側に延びるゴ
ミ落下防止部材103が設けられているので、レーザ透過
用穴102から落下して高反射ミラー６に付着することが
ない。ゴミ落下防止部材103の高さｈとしては、レーザ
ガスの流速にもよるが、10mm程度もあれば足りる。尚、
端部104をナイフエッジ状に形成しているので、さらに
以下の結果が得られる。すなわち、このナイフエッジ状
の端部104によって、チャンバ外壁の底部101を這うよう
に移動してきたゴミを、再びレーザ透過用穴102から離
れるように移動させることができる。また、レーザ透過
用穴102の上部に形成されるガス流の流れが乱されにく
くなる。仮に、ゴミ落下防止部材103の先端が円筒状で
あった場合、その端部において渦が発生する。従ってゴ
ミがゴミ落下防止部材103内部にも進入して、放電空間
下方に配置される高反射ミラー６へゴミが落下付着して
しまう。
また、本実施例のTEA-CO2レーザ発振装置には、通常高
反射ミラー５と出射ミラー６との距離が、発振波長に対
して最適な共振距離となるようにする不図示の調節手段
が設けられている。ベローズ51はこの共振距離の調節手
段による調節を可能にするためのものである。
反射ミラー５と出射ミラー６との距離が、発振波長に対
して最適な共振距離となるようにする不図示の調節手段
が設けられている。ベローズ51はこの共振距離の調節手
段による調節を可能にするためのものである。
上記実施例においては、高反射ミラー５を放電空間40の
下方に出射ミラー６を上方に配置したが、出射ミラー６
を下方に高反射ミラー５を上方に配置することも、発振
の向きが逆になるだけで技術的には等価である。
下方に出射ミラー６を上方に配置したが、出射ミラー６
を下方に高反射ミラー５を上方に配置することも、発振
の向きが逆になるだけで技術的には等価である。
また、レーザ発振の動作は第３図に示す従来のTEA-CO2
レーザ発振装置の場合と同様なので、説明は省略する。
レーザ発振装置の場合と同様なので、説明は省略する。
以上説明した通り、本考案のTEA-CO2レーザ発振装置
は、放電空間を臨んで対向して配置された鉛直方向に長
い一対の板状の主電極と、該主電極の鉛直方向の側端に
沿って複数配置された一対の予備電離用の補助電極と、
主電極及び補助電極を収納したチャンバ外壁と、該チャ
ンバ外壁内部に収納され放電の方向と略垂直方向から該
主電極と該チャンバ外壁底部との間の空間および前記放
電空間にレーザガスを循環供給するファンと、放電空間
を挟んで上下に配置された高反射ミラー及び出射ミラー
とよりなるため、鉛直方向に長い放電空間が形成され、
装置の占有面積が小さくできる。従って、マーキング等
の処理装置に組み込まれると、省スペース化の要請に沿
うので好適である。また、高反射ミラー又は出射ミラー
はチャンバ外壁の底部に設けられたレーザ通過用穴の下
方に配置され、ファンにより該レーザ通過用穴上部にガ
ス流が形成され、また該レーザ通過用穴を囲んでチャン
バ側に延び、その先端がナイフエッジ状であるゴミ落下
防止部材が設けられたので、渦を作ることのないガス流
によりゴミが放電空間の下方に配置される高反射ミラー
又は出射ミラー上から除去され、チャンバ外壁の底部を
這うように移動してきたゴミは再びレーザ透過用穴から
離れるように移動して、高反射ミラー又は出射ミラーへ
のゴミの落下付着はなく、レーザの出力の低下や出力さ
れるレーザの照射パターンの欠陥は発生しない。従っ
て、例えばマーキングに用いた場合には、マーキングさ
れるパターンの欠陥を生じないので好適である。
は、放電空間を臨んで対向して配置された鉛直方向に長
い一対の板状の主電極と、該主電極の鉛直方向の側端に
沿って複数配置された一対の予備電離用の補助電極と、
主電極及び補助電極を収納したチャンバ外壁と、該チャ
ンバ外壁内部に収納され放電の方向と略垂直方向から該
主電極と該チャンバ外壁底部との間の空間および前記放
電空間にレーザガスを循環供給するファンと、放電空間
を挟んで上下に配置された高反射ミラー及び出射ミラー
とよりなるため、鉛直方向に長い放電空間が形成され、
装置の占有面積が小さくできる。従って、マーキング等
の処理装置に組み込まれると、省スペース化の要請に沿
うので好適である。また、高反射ミラー又は出射ミラー
はチャンバ外壁の底部に設けられたレーザ通過用穴の下
方に配置され、ファンにより該レーザ通過用穴上部にガ
ス流が形成され、また該レーザ通過用穴を囲んでチャン
バ側に延び、その先端がナイフエッジ状であるゴミ落下
防止部材が設けられたので、渦を作ることのないガス流
によりゴミが放電空間の下方に配置される高反射ミラー
又は出射ミラー上から除去され、チャンバ外壁の底部を
這うように移動してきたゴミは再びレーザ透過用穴から
離れるように移動して、高反射ミラー又は出射ミラーへ
のゴミの落下付着はなく、レーザの出力の低下や出力さ
れるレーザの照射パターンの欠陥は発生しない。従っ
て、例えばマーキングに用いた場合には、マーキングさ
れるパターンの欠陥を生じないので好適である。
第１図は本考案の実施例のTEA-CO2レーザ発振装置の概
略説明図で、同図（イ）は水平方向での断面図、同図
（ロ）は同図（イ）のＸ−Ｘにおける鉛直方向での断面
図で、第２図は、従来のTEA-CO2レーザ発振装置の概略
説明図で、同図（イ）は発振方向に直角な方向での断面
図、同図（ロ）は同図（イ）のＹ−Ｙにおける発振方向
での断面図、第３図はTEA-CO2レーザ発振装置の発振動
作を説明するための図である。 図中、 11……主電極を構成する陽極 12……主電極を構成する陰極 21……補助電極を構成する陽極 22……補助電極を構成する陰極 3,30……ファン 4,40……放電空間 ５……高反射ミラー ６……出射ミラー 10,100……チャンバ外壁 101……チャンバ外壁の底部 102……レーザ透過用穴 103……ゴミ落下防止部材 を示す。
略説明図で、同図（イ）は水平方向での断面図、同図
（ロ）は同図（イ）のＸ−Ｘにおける鉛直方向での断面
図で、第２図は、従来のTEA-CO2レーザ発振装置の概略
説明図で、同図（イ）は発振方向に直角な方向での断面
図、同図（ロ）は同図（イ）のＹ−Ｙにおける発振方向
での断面図、第３図はTEA-CO2レーザ発振装置の発振動
作を説明するための図である。 図中、 11……主電極を構成する陽極 12……主電極を構成する陰極 21……補助電極を構成する陽極 22……補助電極を構成する陰極 3,30……ファン 4,40……放電空間 ５……高反射ミラー ６……出射ミラー 10,100……チャンバ外壁 101……チャンバ外壁の底部 102……レーザ透過用穴 103……ゴミ落下防止部材 を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】放電空間を臨んで対向して配置された鉛直
方向に長い一対の板状の主電極と、該主電極の鉛直方向
の側端に沿って複数配置された一対の予備電離用の補助
電極と、主電極及び補助電極を収納したチャンバ外壁
と、該チャンバ外壁内部に収納され放電の方向と略垂直
方向から該主電極と該チャンバ外壁底部との間の空間お
よび前記放電空間にレーザガスを循環供給するファン
と、放電空間を挟んで上下に配置された高反射ミラー及
び出射ミラーとを具備し、高反射ミラー又は出射ミラー
はチャンバ外壁の底部に設けられたレーザ通過用穴の下
方に配置され、該レーザ通過用穴を囲んでチャンバ側に
延び、その先端がナイフエッジ状であるゴミ落下防止部
材が設けられたことを特徴とするTEA-CO2レーザ発振装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989021506U JPH0747885Y2 (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | Ｔｅａ―ｃｏ２レーザ発振装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989021506U JPH0747885Y2 (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | Ｔｅａ―ｃｏ２レーザ発振装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02113351U JPH02113351U (ja) | 1990-09-11 |
| JPH0747885Y2 true JPH0747885Y2 (ja) | 1995-11-01 |
Family
ID=31238805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989021506U Expired - Fee Related JPH0747885Y2 (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | Ｔｅａ―ｃｏ２レーザ発振装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0747885Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60187073A (ja) * | 1984-03-07 | 1985-09-24 | Toshiba Corp | 気体レ−ザ発振装置 |
-
1989
- 1989-02-28 JP JP1989021506U patent/JPH0747885Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02113351U (ja) | 1990-09-11 |
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