JPH0748670Y2 - Molecular beam cell - Google Patents
Molecular beam cellInfo
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- JPH0748670Y2 JPH0748670Y2 JP1990050029U JP5002990U JPH0748670Y2 JP H0748670 Y2 JPH0748670 Y2 JP H0748670Y2 JP 1990050029 U JP1990050029 U JP 1990050029U JP 5002990 U JP5002990 U JP 5002990U JP H0748670 Y2 JPH0748670 Y2 JP H0748670Y2
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- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
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- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
この考案は分子線エピタキシャル成長法(MBE)に用い
られる分子線セルの構造に関する。特に分子線セルの反
射板とベースとの結合構造の改良に関する。The present invention relates to the structure of a molecular beam cell used in the molecular beam epitaxial growth method (MBE). In particular, it relates to improvement of the bonding structure between the reflector and the base of the molecular beam cell.
第3図によって従来の分子線セルの構造を説明する。 るつぼ1は有底円筒形の容器である。これは原料物質を
収容する。ヒータ2は抵抗加熱ヒータで原料物質を加熱
する。熱電対3はるつぼ1の下底に接し温度をモニタす
るものである。 ヒータ2の外周に同心円筒状の反射板4があり、ヒータ
2の下方に薄板円板状の反射板5がある。ベース5は円
板状の厚板であって、この上に円板状反射板10が積み重
ねてあり、円筒状反射板4がこれに対して固定してあ
る。 本考案は円筒状反射板4とベースの固定に関するので、
この部分について説明する。反射板は同心円状に複数個
ある。これらはポンチで小さな突起を付けてあるので、
同心状に組み合わせた時、相互の間に適当な空隙が生ず
る。またこれらの複数の反射板は突起によって接触して
いるから、一体性を保つことができる。 そこで最外殻の反射板をベースに固定すれば反射板全体
とベースとを固定することができる。 従来は最外殻(最外周)の反射板の下端にいくつかの小
さな爪6を形成しておき、爪6を90°折り曲げることに
よってベース5の下面を押さえるようになっていた。 るつぼ1を反射板4に対して固定する場合も、爪7を反
射板4の上端に形成しておきこれを折りまげるという事
がなされる。るつぼの固定の場合は、リング状のキャッ
プで押さえることもある。 その他に第4図に示すような固定構造もある。これはベ
ースに螺穴を穿ち、反射板4にはネジ通し穴を穿ち、ネ
ジ17によって螺止めするものである。ベースはMoなどの
金属で螺穴を切ることはできる。ネジもTaなどの金属で
作ることができる。The structure of a conventional molecular beam cell will be described with reference to FIG. The crucible 1 is a bottomed cylindrical container. It contains the source material. The heater 2 is a resistance heater and heats the raw material. The thermocouple 3 contacts the bottom of the crucible 1 and monitors the temperature. A concentric cylindrical reflector 4 is provided on the outer periphery of the heater 2, and a thin disc-shaped reflector 5 is provided below the heater 2. The base 5 is a disk-shaped thick plate, on which the disk-shaped reflecting plate 10 is stacked, and the cylindrical reflecting plate 4 is fixed thereto. Since the present invention relates to fixing the cylindrical reflector 4 and the base,
This part will be described. There are a plurality of concentric reflectors. Since these have small protrusions on the punch,
When combined concentrically, there will be suitable voids between each other. Moreover, since the plurality of reflectors are in contact with each other by the protrusions, the integrity can be maintained. Therefore, if the outermost reflector is fixed to the base, the entire reflector and the base can be fixed. Conventionally, some small claws 6 are formed on the lower end of the outermost (outermost) reflection plate, and the claws 6 are bent 90 ° to press the lower surface of the base 5. Even when the crucible 1 is fixed to the reflection plate 4, the claw 7 is formed on the upper end of the reflection plate 4 and can be folded. When fixing the crucible, it may be pressed with a ring-shaped cap. Besides, there is a fixing structure as shown in FIG. This is one in which a screw hole is formed in the base, a screw hole is formed in the reflection plate 4, and the screw is fixed by a screw 17. The base can be threaded with metal such as Mo. The screws can also be made of metal such as Ta.
分子線セルの構成部品、たとえば、ヒータ、反射板、る
つぼ等が消耗し故障した場合これらを取り替えなければ
ならない。このためベース5から反射板4を取り外す。
これは爪6を伸ばしベース5を引き抜くことによってな
される。補償が終わると再びベース5を反射板4の最外
周のものに差し入れ爪6を折り曲げる。 反射板は高熱に耐えしかも薄板に加工できるものでなけ
ればならないので、普通高純度のTaが用いられる。Ta製
の反射板は可撓性に富むが、それでも繰り返し折り曲げ
ているとやがて折れてしまう。すると反射板そのものを
取り替えなければならない。このように折り曲げ爪によ
る固定は長期間の使用に耐えないという欠点がある。 また螺穴にネジで固定する方法は、次の難点がある。分
子線セルを昇温した時ベースも高温になり、ネジがベー
スの螺穴に焼き付いてしまう。このため、ネジを取り外
そうとしても、ネジが回らない。無理に回そうとすると
ネジが折れる。 従来の固定機構には上述のような難点がある。 これらの難点を克服し、繰り返し使用可能で、反射板と
ベースの組み合わせ、取り外しの容易な固定機構を提供
する事が本考案の目的である。If the components of the molecular beam cell, such as the heater, the reflector, and the crucible, are consumed and malfunction, they must be replaced. Therefore, the reflector 4 is removed from the base 5.
This is done by extending the nail 6 and pulling out the base 5. When the compensation is completed, the base 5 is again inserted into the outermost peripheral plate of the reflection plate 4 and the claw 6 is bent. High-purity Ta is usually used because the reflector has to withstand high heat and can be processed into a thin plate. The Ta reflector is highly flexible, but it will eventually break if repeatedly bent. Then the reflector itself must be replaced. As described above, the fixing by the bending claw has a drawback that it cannot withstand long-term use. Further, the method of fixing the screw in the screw hole has the following drawbacks. When the temperature of the molecular beam cell is raised, the temperature of the base also rises and the screws stick to the screw holes in the base. Therefore, even if you try to remove the screw, it will not turn. If you try to force it, the screw will break. The conventional fixing mechanism has the above-mentioned drawbacks. SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to overcome these difficulties and provide a fixing mechanism that can be repeatedly used, a combination of a reflector and a base, and that can be easily removed.
本考案の分子線セルは、円筒状反射板の最外周のものの
下端部に少なくとも一部に斜辺を含む切り込み溝を設け
る。ベースの外周にはピンを設ける。そしてベースのピ
ンを反射板の切り込み溝に螺込むことによりベースに反
射板を固定する。 一部に斜辺を有する切り込み溝であるから、ピンを切り
込み溝に入れて螺込むと、斜辺の作用でピンが切り込み
溝から抜けないようになる。 ピンは2つ以上ベースに設ける。3〜4個が望ましい。
切り込み溝もピンと同数だけ必要である。ピンと切り込
む溝の分布は等しくする。たとえばピンを4個ベースに
付設したとする。90°ごとに設置する必要はないが、切
り込み溝も4つとして、これの分布がピンの分布に等し
くなるようにしなければならない。 切り込み溝は反射板の下端から連続していなければなら
ない。切り込み溝が単に軸方向のみに伸びているので
は、ベースが簡単に抜けてしまう。そこで少なくとも一
部に斜辺を含む切り込み溝とする。In the molecular beam cell of the present invention, a cutout groove including a hypotenuse is provided at least in part at the lower end of the outermost peripheral cylindrical reflector. Pins are provided on the outer circumference of the base. Then, the reflection plate is fixed to the base by screwing the pin of the base into the cut groove of the reflection plate. Since it is a cut groove having a hypotenuse in part, when the pin is inserted into the cut groove and screwed in, the pin does not come off from the cut groove due to the action of the hypotenuse. Two or more pins are provided on the base. 3-4 pieces are desirable.
The same number of cut grooves as pins are required. The distribution of the pin and the groove to be cut is equal. For example, assume that four pins are attached to the base. It is not necessary to install every 90 °, but there must be four notches so that the distribution of these is equal to the distribution of pins. The notch must be continuous from the bottom edge of the reflector. If the notch groove extends only in the axial direction, the base easily comes off. Therefore, a cut groove including at least a part of the oblique side is formed.
反射板の最外周のものをベースの外側に差し入れ、これ
を回してピンが切り込む溝の入口に入るようにする。そ
して反射板を少し回してピンが切り込む溝の斜辺に入り
込むようにする。そうするとベースが反射板に対して相
対回転しないかぎり、反射板がベースから抜けない。 分子線結晶成長しているときは、分子線セルが加熱され
るが、ピンと溝であるから、接触面積が狭く、両者が焼
き付いて動かなくなるということはない。 分子線セルが補修する必要がある場合は、分子線セルを
外部に取り出して、ベースを逆にねじる。すると、ベー
スが反射板から外れる。 補修が終わった後、ベースを反射板に取り付けるのも簡
単である。 ベースを取り外したり、取り付けたりするときに、爪を
折り曲げたりしないので、どの部分も疲労するというこ
とがない。 何回着脱しても変形したり折損したりしないので繰り返
し使用に耐える。Insert the outermost one of the reflectors to the outside of the base and turn it so that the pins enter the groove. Then turn the reflector slightly so that the pin enters the hypotenuse of the groove. Then, the reflector will not come off from the base unless the base rotates relative to the reflector. While the molecular beam crystal is growing, the molecular beam cell is heated, but since it is the pin and the groove, the contact area is small, and both do not stick to each other and stick. If the molecular beam cell needs to be repaired, take the molecular beam cell out and twist the base backwards. Then, the base comes off the reflector. After repairing, it is easy to attach the base to the reflector. When removing or installing the base, the claws do not bend, so there is no fatigue on any part. It does not deform or break even if it is attached and removed many times, so it can withstand repeated use.
第1図によって本考案の実施例に係る分子線セルの構造
を説明する。 これはベースが上下2つある例を示している。上下2つ
あるので反射板の位置決めがより正確になる。本考案は
もちろん、ベースがひとつのものであっても適用でき
る。 るつぼ1は原料物質を収容する容器で有底円筒形で開口
部に鍔部を有する。これはPBNなど耐熱性の絶縁体で作
る。 ヒータ2はるつぼ1の周囲に設置され原料物質を加熱す
るものである。これはコイル状に巻かれたヒーターであ
っても良いし、上下に蛇行するリボン状のヒータであっ
ても良い。ここでは一例としてコイル状ヒータを図示し
ている。 るつぼ1とヒータ2の外周には同心円筒状の反射板4が
設けられる。またるつぼ1の下方には、円板状の反射板
10が積み重ねられている。これらは既に述べたようにTa
の薄板で作るが、ポンチで突起をつけるので、隣接反射
板との間に適当な間隙が生ずる。 反射板4、10はヒータ2で生じた熱を反射してるつぼ1
の中の原料物質の方へ戻すものである。 熱電対3はるつぼ1の下底の温度をモニタするものであ
る。るつぼ1、ヒータ2の下方にベース9、ベース5が
ある。上ベース9と下ベース5の間はMoの支柱12によっ
て連結されている。 円筒状反射板4の最外周のものだけが下方へ伸びて上ベ
ース9、支柱12、下ベース5の周囲を囲んでいる。 上ベース9より上は従来の分子線セルと同じ構造であ
る。るつぼ1の鍔部は最外周の反射板の上端に形成した
爪を折り曲げることによって固定するか、又は別体の円
環状のキャップを差し込むことによって固定する。 ここで上下ベースを有する構造としているのは、ベース
の軸線と反射板の軸線との位置合わせを厳密に行うため
である。 下ベース5の外周には複数のピン8が突設されている。
これに対応して反射板4の最外周のものの下端には切り
込み溝11が切り込んである。これは下端から先ず上方へ
伸び次いで右斜め方向に伸びる切り込む溝となってい
る。切り込む溝は一部が斜めになっていなければならな
い。ピン8を切り込む溝11に螺込むことにより、ベース
5と反射板4とを結合できる。また反対に回すことによ
り、ベース5を外すことができる。しかし、自然にベー
ス5が外れるということはない。 ピン8、切り込み溝11は2つ以上、3、4、5、6、・
・・の任意の数で良い。 第1図の例ではベースの反射板に対する結合の深さが螺
込む角によって変わる。これが望ましくない場合は、切
り込み溝11の終端部を水平な溝にすれば良い。第5図に
これを示す。こうすればベースの結合深さは一定にな
る。 第2図は他の実施例を示す。これはベースと反射板の結
合部のみを示している。ベースの下端により直径の大き
い鍔部13を形成している。こうすると、ベース5を螺込
んだときに、鍔部13が反射板の下端に当たるので、ベー
スの結合深さがこれによって定まる。これは、ベースと
反射板の位置決めが水平面によってなされるので、より
精度の高いものとなる。The structure of a molecular beam cell according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This shows an example in which there are two upper and lower bases. Positioning of the reflector becomes more accurate because there are two on the top and bottom. Of course, the present invention can be applied even if the base is one. The crucible 1 is a container for accommodating a raw material and has a cylindrical shape with a bottom and a flange portion at the opening. This is made of a heat resistant insulator such as PBN. The heater 2 is installed around the crucible 1 and heats the raw material. This may be a heater wound in a coil or a ribbon heater meandering up and down. Here, a coil heater is shown as an example. A concentric cylindrical reflector plate 4 is provided on the outer periphery of the crucible 1 and the heater 2. Below the crucible 1 is a disc-shaped reflector.
10 are stacked. These are Ta as already mentioned
Although it is made of a thin plate, a protrusion is formed by a punch, so that an appropriate gap is formed between the adjacent reflectors. The reflectors 4 and 10 reflect the heat generated by the heater 2 and the crucible 1
It returns it to the raw material in. The thermocouple 3 monitors the temperature of the lower bottom of the crucible 1. Below the crucible 1 and the heater 2, there are a base 9 and a base 5. The upper base 9 and the lower base 5 are connected to each other by Mo struts 12. Only the outermost circumference of the cylindrical reflector 4 extends downward and surrounds the upper base 9, the pillar 12, and the lower base 5. The structure above the upper base 9 has the same structure as the conventional molecular beam cell. The brim portion of the crucible 1 is fixed by bending a claw formed on the upper end of the outermost reflection plate, or by inserting a separate annular cap. The structure having the upper and lower bases is provided so that the axis of the base and the axis of the reflector are precisely aligned. A plurality of pins 8 are projectingly provided on the outer circumference of the lower base 5.
Corresponding to this, a cut groove 11 is cut at the lower end of the outermost peripheral plate of the reflection plate 4. This is a groove that extends upward from the lower end and then obliquely to the right. The groove to be cut must be partially angled. The base 5 and the reflection plate 4 can be coupled by screwing the pin 8 into the groove 11 for cutting. The base 5 can be removed by turning it in the opposite direction. However, the base 5 does not come off naturally. Two or more pins 8 and cut grooves 11, 3, 4, 5, 6, ...
· · Any number of In the example of FIG. 1, the depth of the connection between the base and the reflection plate changes depending on the screwing angle. If this is not desirable, the end portion of the cut groove 11 may be a horizontal groove. This is shown in FIG. This will keep the bond depth of the base constant. FIG. 2 shows another embodiment. This shows only the joint between the base and the reflector. A flange 13 having a large diameter is formed by the lower end of the base. With this arrangement, when the base 5 is screwed in, the collar portion 13 abuts on the lower end of the reflection plate, so that the coupling depth of the base is determined. This is more accurate because the positioning of the base and the reflector is done by the horizontal plane.
本考案は分子線セルの反射板とベースの結合を、ベース
に突設したピンと反射板の切り込む溝によって行ってい
る。結合分離の際に反射板の一部を折り曲げたり変形し
たりしない。このため繰り返し結合分離しても反射板の
一部が折損するということがない。また高熱状態になっ
てもピンと切り込み溝が焼き付くということがない。そ
のため取り外しは常に可能である。 このように、本考案の結合構造は耐久性に優れている。
また分解、組み立ても容易であり、メンテナンス性も良
好である。In the present invention, the reflection plate of the molecular beam cell and the base are connected by a pin protruding from the base and a groove formed in the reflection plate. Do not bend or deform a part of the reflector at the time of joining and separating. For this reason, even if it is repeatedly coupled and separated, a part of the reflection plate will not be broken. Further, the pin and the cut groove will not be seized even if the heat becomes high. Therefore, removal is always possible. As described above, the coupling structure of the present invention has excellent durability.
In addition, disassembly and assembly are easy, and maintainability is good.
第1図は本考案の実施例に係る分子線セルの一部縦断正
面図。 第2図は本考案の他の実施例に係る分子線セルのベー
ス、反射板の結合部のみの一部縦断正面図。 第3図は従来例に係る分子線セルの縦断面図。 第4図は他の従来例に係る分子線セルのベースと反射板
のみの縦断面図。 第5図は本考案の他の実施例を示す分子線セルのベース
近傍の正面図。 1……るつぼ 2……ヒータ 3……熱電対 4……反射板 5……ベース 6、7……爪 8……ピン 9……下ベース 10……反射板 11……切り込み溝 12……支柱 13……鍔部 17……ネジFIG. 1 is a partially longitudinal front view of a molecular beam cell according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a partially longitudinal front view of a base of a molecular beam cell and a connecting portion of a reflector according to another embodiment of the present invention. FIG. 3 is a vertical sectional view of a molecular beam cell according to a conventional example. FIG. 4 is a vertical sectional view of only a base and a reflector of a molecular beam cell according to another conventional example. FIG. 5 is a front view of the vicinity of the base of a molecular beam cell showing another embodiment of the present invention. 1 …… crucible 2 …… heater 3 …… thermocouple 4 …… reflector 5 …… base 6,7 …… claws 8 …… pin 9 …… bottom base 10 …… reflector 11 …… cut groove 12 …… Prop 13 …… Bill 17 …… Screw
Claims (1)
囲に設けられ原料物質を加熱するヒータと、ヒータの周
囲に設けられた同心円筒形の複数の薄板反射板と、るつ
ぼ及びヒータの下方に設けられる薄板円板状の複数の反
射板と、円筒状反射板と円板状反射板とを支持する円板
状ベースとよりなる分子線セルに於いて、円筒状反射板
の最外周のものの下端部に少なくとも一部に斜辺を含む
切り込み溝を設け、ベースの外周にはピンを設け、ベー
スのピンを反射板の切り込み溝に螺込むことによりベー
スに反射板を固定した事を特徴とする分子線セル。1. A crucible for containing a raw material, a heater provided around the crucible for heating the raw material, a plurality of concentric cylindrical thin plate reflectors provided around the heater, and below the crucible and the heater. In a molecular beam cell composed of a plurality of thin disk-shaped reflecting plates provided in, and a disk-shaped base that supports the cylindrical reflecting plate and the disk-shaped reflecting plate, the outermost periphery of the cylindrical reflecting plate A cut groove including a hypotenuse at least in part is provided at the lower end of the object, a pin is provided on the outer periphery of the base, and the reflector plate is fixed to the base by screwing the pin of the base into the cut groove of the reflector plate. Molecular beam cell.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990050029U JPH0748670Y2 (en) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | Molecular beam cell |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990050029U JPH0748670Y2 (en) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | Molecular beam cell |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0413056U JPH0413056U (en) | 1992-02-03 |
| JPH0748670Y2 true JPH0748670Y2 (en) | 1995-11-08 |
Family
ID=31568228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990050029U Expired - Fee Related JPH0748670Y2 (en) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | Molecular beam cell |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0748670Y2 (en) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5394872A (en) * | 1977-01-31 | 1978-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | Fixing supporter for molecule beam evaporation source cell |
| JPS61174195A (en) * | 1985-01-25 | 1986-08-05 | Nec Corp | Molecular beam source for molecular beam crystal growth |
-
1990
- 1990-05-14 JP JP1990050029U patent/JPH0748670Y2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0413056U (en) | 1992-02-03 |
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