JPH0748670Y2 - 分子線セル - Google Patents
分子線セルInfo
- Publication number
- JPH0748670Y2 JPH0748670Y2 JP1990050029U JP5002990U JPH0748670Y2 JP H0748670 Y2 JPH0748670 Y2 JP H0748670Y2 JP 1990050029 U JP1990050029 U JP 1990050029U JP 5002990 U JP5002990 U JP 5002990U JP H0748670 Y2 JPH0748670 Y2 JP H0748670Y2
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- JP
- Japan
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- base
- reflector
- molecular beam
- crucible
- heater
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Links
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 8
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
この考案は分子線エピタキシャル成長法（MBE）に用い
られる分子線セルの構造に関する。特に分子線セルの反
射板とベースとの結合構造の改良に関する。
られる分子線セルの構造に関する。特に分子線セルの反
射板とベースとの結合構造の改良に関する。
第３図によって従来の分子線セルの構造を説明する。 るつぼ１は有底円筒形の容器である。これは原料物質を
収容する。ヒータ２は抵抗加熱ヒータで原料物質を加熱
する。熱電対３はるつぼ１の下底に接し温度をモニタす
るものである。 ヒータ２の外周に同心円筒状の反射板４があり、ヒータ
２の下方に薄板円板状の反射板５がある。ベース５は円
板状の厚板であって、この上に円板状反射板10が積み重
ねてあり、円筒状反射板４がこれに対して固定してあ
る。 本考案は円筒状反射板４とベースの固定に関するので、
この部分について説明する。反射板は同心円状に複数個
ある。これらはポンチで小さな突起を付けてあるので、
同心状に組み合わせた時、相互の間に適当な空隙が生ず
る。またこれらの複数の反射板は突起によって接触して
いるから、一体性を保つことができる。 そこで最外殻の反射板をベースに固定すれば反射板全体
とベースとを固定することができる。 従来は最外殻（最外周）の反射板の下端にいくつかの小
さな爪６を形成しておき、爪６を90°折り曲げることに
よってベース５の下面を押さえるようになっていた。 るつぼ１を反射板４に対して固定する場合も、爪７を反
射板４の上端に形成しておきこれを折りまげるという事
がなされる。るつぼの固定の場合は、リング状のキャッ
プで押さえることもある。 その他に第４図に示すような固定構造もある。これはベ
ースに螺穴を穿ち、反射板４にはネジ通し穴を穿ち、ネ
ジ17によって螺止めするものである。ベースはMoなどの
金属で螺穴を切ることはできる。ネジもTaなどの金属で
作ることができる。
収容する。ヒータ２は抵抗加熱ヒータで原料物質を加熱
する。熱電対３はるつぼ１の下底に接し温度をモニタす
るものである。 ヒータ２の外周に同心円筒状の反射板４があり、ヒータ
２の下方に薄板円板状の反射板５がある。ベース５は円
板状の厚板であって、この上に円板状反射板10が積み重
ねてあり、円筒状反射板４がこれに対して固定してあ
る。 本考案は円筒状反射板４とベースの固定に関するので、
この部分について説明する。反射板は同心円状に複数個
ある。これらはポンチで小さな突起を付けてあるので、
同心状に組み合わせた時、相互の間に適当な空隙が生ず
る。またこれらの複数の反射板は突起によって接触して
いるから、一体性を保つことができる。 そこで最外殻の反射板をベースに固定すれば反射板全体
とベースとを固定することができる。 従来は最外殻（最外周）の反射板の下端にいくつかの小
さな爪６を形成しておき、爪６を90°折り曲げることに
よってベース５の下面を押さえるようになっていた。 るつぼ１を反射板４に対して固定する場合も、爪７を反
射板４の上端に形成しておきこれを折りまげるという事
がなされる。るつぼの固定の場合は、リング状のキャッ
プで押さえることもある。 その他に第４図に示すような固定構造もある。これはベ
ースに螺穴を穿ち、反射板４にはネジ通し穴を穿ち、ネ
ジ17によって螺止めするものである。ベースはMoなどの
金属で螺穴を切ることはできる。ネジもTaなどの金属で
作ることができる。
分子線セルの構成部品、たとえば、ヒータ、反射板、る
つぼ等が消耗し故障した場合これらを取り替えなければ
ならない。このためベース５から反射板４を取り外す。
これは爪６を伸ばしベース５を引き抜くことによってな
される。補償が終わると再びベース５を反射板４の最外
周のものに差し入れ爪６を折り曲げる。 反射板は高熱に耐えしかも薄板に加工できるものでなけ
ればならないので、普通高純度のTaが用いられる。Ta製
の反射板は可撓性に富むが、それでも繰り返し折り曲げ
ているとやがて折れてしまう。すると反射板そのものを
取り替えなければならない。このように折り曲げ爪によ
る固定は長期間の使用に耐えないという欠点がある。 また螺穴にネジで固定する方法は、次の難点がある。分
子線セルを昇温した時ベースも高温になり、ネジがベー
スの螺穴に焼き付いてしまう。このため、ネジを取り外
そうとしても、ネジが回らない。無理に回そうとすると
ネジが折れる。 従来の固定機構には上述のような難点がある。 これらの難点を克服し、繰り返し使用可能で、反射板と
ベースの組み合わせ、取り外しの容易な固定機構を提供
する事が本考案の目的である。
つぼ等が消耗し故障した場合これらを取り替えなければ
ならない。このためベース５から反射板４を取り外す。
これは爪６を伸ばしベース５を引き抜くことによってな
される。補償が終わると再びベース５を反射板４の最外
周のものに差し入れ爪６を折り曲げる。 反射板は高熱に耐えしかも薄板に加工できるものでなけ
ればならないので、普通高純度のTaが用いられる。Ta製
の反射板は可撓性に富むが、それでも繰り返し折り曲げ
ているとやがて折れてしまう。すると反射板そのものを
取り替えなければならない。このように折り曲げ爪によ
る固定は長期間の使用に耐えないという欠点がある。 また螺穴にネジで固定する方法は、次の難点がある。分
子線セルを昇温した時ベースも高温になり、ネジがベー
スの螺穴に焼き付いてしまう。このため、ネジを取り外
そうとしても、ネジが回らない。無理に回そうとすると
ネジが折れる。 従来の固定機構には上述のような難点がある。 これらの難点を克服し、繰り返し使用可能で、反射板と
ベースの組み合わせ、取り外しの容易な固定機構を提供
する事が本考案の目的である。
本考案の分子線セルは、円筒状反射板の最外周のものの
下端部に少なくとも一部に斜辺を含む切り込み溝を設け
る。ベースの外周にはピンを設ける。そしてベースのピ
ンを反射板の切り込み溝に螺込むことによりベースに反
射板を固定する。 一部に斜辺を有する切り込み溝であるから、ピンを切り
込み溝に入れて螺込むと、斜辺の作用でピンが切り込み
溝から抜けないようになる。 ピンは２つ以上ベースに設ける。３〜４個が望ましい。
切り込み溝もピンと同数だけ必要である。ピンと切り込
む溝の分布は等しくする。たとえばピンを４個ベースに
付設したとする。90°ごとに設置する必要はないが、切
り込み溝も４つとして、これの分布がピンの分布に等し
くなるようにしなければならない。 切り込み溝は反射板の下端から連続していなければなら
ない。切り込み溝が単に軸方向のみに伸びているので
は、ベースが簡単に抜けてしまう。そこで少なくとも一
部に斜辺を含む切り込み溝とする。
下端部に少なくとも一部に斜辺を含む切り込み溝を設け
る。ベースの外周にはピンを設ける。そしてベースのピ
ンを反射板の切り込み溝に螺込むことによりベースに反
射板を固定する。 一部に斜辺を有する切り込み溝であるから、ピンを切り
込み溝に入れて螺込むと、斜辺の作用でピンが切り込み
溝から抜けないようになる。 ピンは２つ以上ベースに設ける。３〜４個が望ましい。
切り込み溝もピンと同数だけ必要である。ピンと切り込
む溝の分布は等しくする。たとえばピンを４個ベースに
付設したとする。90°ごとに設置する必要はないが、切
り込み溝も４つとして、これの分布がピンの分布に等し
くなるようにしなければならない。 切り込み溝は反射板の下端から連続していなければなら
ない。切り込み溝が単に軸方向のみに伸びているので
は、ベースが簡単に抜けてしまう。そこで少なくとも一
部に斜辺を含む切り込み溝とする。
反射板の最外周のものをベースの外側に差し入れ、これ
を回してピンが切り込む溝の入口に入るようにする。そ
して反射板を少し回してピンが切り込む溝の斜辺に入り
込むようにする。そうするとベースが反射板に対して相
対回転しないかぎり、反射板がベースから抜けない。 分子線結晶成長しているときは、分子線セルが加熱され
るが、ピンと溝であるから、接触面積が狭く、両者が焼
き付いて動かなくなるということはない。 分子線セルが補修する必要がある場合は、分子線セルを
外部に取り出して、ベースを逆にねじる。すると、ベー
スが反射板から外れる。 補修が終わった後、ベースを反射板に取り付けるのも簡
単である。 ベースを取り外したり、取り付けたりするときに、爪を
折り曲げたりしないので、どの部分も疲労するというこ
とがない。 何回着脱しても変形したり折損したりしないので繰り返
し使用に耐える。
を回してピンが切り込む溝の入口に入るようにする。そ
して反射板を少し回してピンが切り込む溝の斜辺に入り
込むようにする。そうするとベースが反射板に対して相
対回転しないかぎり、反射板がベースから抜けない。 分子線結晶成長しているときは、分子線セルが加熱され
るが、ピンと溝であるから、接触面積が狭く、両者が焼
き付いて動かなくなるということはない。 分子線セルが補修する必要がある場合は、分子線セルを
外部に取り出して、ベースを逆にねじる。すると、ベー
スが反射板から外れる。 補修が終わった後、ベースを反射板に取り付けるのも簡
単である。 ベースを取り外したり、取り付けたりするときに、爪を
折り曲げたりしないので、どの部分も疲労するというこ
とがない。 何回着脱しても変形したり折損したりしないので繰り返
し使用に耐える。
第１図によって本考案の実施例に係る分子線セルの構造
を説明する。 これはベースが上下２つある例を示している。上下２つ
あるので反射板の位置決めがより正確になる。本考案は
もちろん、ベースがひとつのものであっても適用でき
る。 るつぼ１は原料物質を収容する容器で有底円筒形で開口
部に鍔部を有する。これはPBNなど耐熱性の絶縁体で作
る。 ヒータ２はるつぼ１の周囲に設置され原料物質を加熱す
るものである。これはコイル状に巻かれたヒーターであ
っても良いし、上下に蛇行するリボン状のヒータであっ
ても良い。ここでは一例としてコイル状ヒータを図示し
ている。 るつぼ１とヒータ２の外周には同心円筒状の反射板４が
設けられる。またるつぼ１の下方には、円板状の反射板
10が積み重ねられている。これらは既に述べたようにTa
の薄板で作るが、ポンチで突起をつけるので、隣接反射
板との間に適当な間隙が生ずる。 反射板４、10はヒータ２で生じた熱を反射してるつぼ１
の中の原料物質の方へ戻すものである。 熱電対３はるつぼ１の下底の温度をモニタするものであ
る。るつぼ１、ヒータ２の下方にベース９、ベース５が
ある。上ベース９と下ベース５の間はMoの支柱12によっ
て連結されている。 円筒状反射板４の最外周のものだけが下方へ伸びて上ベ
ース９、支柱12、下ベース５の周囲を囲んでいる。 上ベース９より上は従来の分子線セルと同じ構造であ
る。るつぼ１の鍔部は最外周の反射板の上端に形成した
爪を折り曲げることによって固定するか、又は別体の円
環状のキャップを差し込むことによって固定する。 ここで上下ベースを有する構造としているのは、ベース
の軸線と反射板の軸線との位置合わせを厳密に行うため
である。 下ベース５の外周には複数のピン８が突設されている。
これに対応して反射板４の最外周のものの下端には切り
込み溝11が切り込んである。これは下端から先ず上方へ
伸び次いで右斜め方向に伸びる切り込む溝となってい
る。切り込む溝は一部が斜めになっていなければならな
い。ピン８を切り込む溝11に螺込むことにより、ベース
５と反射板４とを結合できる。また反対に回すことによ
り、ベース５を外すことができる。しかし、自然にベー
ス５が外れるということはない。 ピン８、切り込み溝11は２つ以上、３、４、５、６、・
・・の任意の数で良い。 第１図の例ではベースの反射板に対する結合の深さが螺
込む角によって変わる。これが望ましくない場合は、切
り込み溝11の終端部を水平な溝にすれば良い。第５図に
これを示す。こうすればベースの結合深さは一定にな
る。 第２図は他の実施例を示す。これはベースと反射板の結
合部のみを示している。ベースの下端により直径の大き
い鍔部13を形成している。こうすると、ベース５を螺込
んだときに、鍔部13が反射板の下端に当たるので、ベー
スの結合深さがこれによって定まる。これは、ベースと
反射板の位置決めが水平面によってなされるので、より
精度の高いものとなる。
を説明する。 これはベースが上下２つある例を示している。上下２つ
あるので反射板の位置決めがより正確になる。本考案は
もちろん、ベースがひとつのものであっても適用でき
る。 るつぼ１は原料物質を収容する容器で有底円筒形で開口
部に鍔部を有する。これはPBNなど耐熱性の絶縁体で作
る。 ヒータ２はるつぼ１の周囲に設置され原料物質を加熱す
るものである。これはコイル状に巻かれたヒーターであ
っても良いし、上下に蛇行するリボン状のヒータであっ
ても良い。ここでは一例としてコイル状ヒータを図示し
ている。 るつぼ１とヒータ２の外周には同心円筒状の反射板４が
設けられる。またるつぼ１の下方には、円板状の反射板
10が積み重ねられている。これらは既に述べたようにTa
の薄板で作るが、ポンチで突起をつけるので、隣接反射
板との間に適当な間隙が生ずる。 反射板４、10はヒータ２で生じた熱を反射してるつぼ１
の中の原料物質の方へ戻すものである。 熱電対３はるつぼ１の下底の温度をモニタするものであ
る。るつぼ１、ヒータ２の下方にベース９、ベース５が
ある。上ベース９と下ベース５の間はMoの支柱12によっ
て連結されている。 円筒状反射板４の最外周のものだけが下方へ伸びて上ベ
ース９、支柱12、下ベース５の周囲を囲んでいる。 上ベース９より上は従来の分子線セルと同じ構造であ
る。るつぼ１の鍔部は最外周の反射板の上端に形成した
爪を折り曲げることによって固定するか、又は別体の円
環状のキャップを差し込むことによって固定する。 ここで上下ベースを有する構造としているのは、ベース
の軸線と反射板の軸線との位置合わせを厳密に行うため
である。 下ベース５の外周には複数のピン８が突設されている。
これに対応して反射板４の最外周のものの下端には切り
込み溝11が切り込んである。これは下端から先ず上方へ
伸び次いで右斜め方向に伸びる切り込む溝となってい
る。切り込む溝は一部が斜めになっていなければならな
い。ピン８を切り込む溝11に螺込むことにより、ベース
５と反射板４とを結合できる。また反対に回すことによ
り、ベース５を外すことができる。しかし、自然にベー
ス５が外れるということはない。 ピン８、切り込み溝11は２つ以上、３、４、５、６、・
・・の任意の数で良い。 第１図の例ではベースの反射板に対する結合の深さが螺
込む角によって変わる。これが望ましくない場合は、切
り込み溝11の終端部を水平な溝にすれば良い。第５図に
これを示す。こうすればベースの結合深さは一定にな
る。 第２図は他の実施例を示す。これはベースと反射板の結
合部のみを示している。ベースの下端により直径の大き
い鍔部13を形成している。こうすると、ベース５を螺込
んだときに、鍔部13が反射板の下端に当たるので、ベー
スの結合深さがこれによって定まる。これは、ベースと
反射板の位置決めが水平面によってなされるので、より
精度の高いものとなる。
本考案は分子線セルの反射板とベースの結合を、ベース
に突設したピンと反射板の切り込む溝によって行ってい
る。結合分離の際に反射板の一部を折り曲げたり変形し
たりしない。このため繰り返し結合分離しても反射板の
一部が折損するということがない。また高熱状態になっ
てもピンと切り込み溝が焼き付くということがない。そ
のため取り外しは常に可能である。 このように、本考案の結合構造は耐久性に優れている。
また分解、組み立ても容易であり、メンテナンス性も良
好である。
に突設したピンと反射板の切り込む溝によって行ってい
る。結合分離の際に反射板の一部を折り曲げたり変形し
たりしない。このため繰り返し結合分離しても反射板の
一部が折損するということがない。また高熱状態になっ
てもピンと切り込み溝が焼き付くということがない。そ
のため取り外しは常に可能である。 このように、本考案の結合構造は耐久性に優れている。
また分解、組み立ても容易であり、メンテナンス性も良
好である。
第１図は本考案の実施例に係る分子線セルの一部縦断正
面図。 第２図は本考案の他の実施例に係る分子線セルのベー
ス、反射板の結合部のみの一部縦断正面図。 第３図は従来例に係る分子線セルの縦断面図。 第４図は他の従来例に係る分子線セルのベースと反射板
のみの縦断面図。 第５図は本考案の他の実施例を示す分子線セルのベース
近傍の正面図。 １……るつぼ ２……ヒータ ３……熱電対 ４……反射板 ５……ベース ６、７……爪 ８……ピン ９……下ベース 10……反射板 11……切り込み溝 12……支柱 13……鍔部 17……ネジ
面図。 第２図は本考案の他の実施例に係る分子線セルのベー
ス、反射板の結合部のみの一部縦断正面図。 第３図は従来例に係る分子線セルの縦断面図。 第４図は他の従来例に係る分子線セルのベースと反射板
のみの縦断面図。 第５図は本考案の他の実施例を示す分子線セルのベース
近傍の正面図。 １……るつぼ ２……ヒータ ３……熱電対 ４……反射板 ５……ベース ６、７……爪 ８……ピン ９……下ベース 10……反射板 11……切り込み溝 12……支柱 13……鍔部 17……ネジ
Claims (1)
- 【請求項１】原料物質を収容するるつぼと、るつぼの周
囲に設けられ原料物質を加熱するヒータと、ヒータの周
囲に設けられた同心円筒形の複数の薄板反射板と、るつ
ぼ及びヒータの下方に設けられる薄板円板状の複数の反
射板と、円筒状反射板と円板状反射板とを支持する円板
状ベースとよりなる分子線セルに於いて、円筒状反射板
の最外周のものの下端部に少なくとも一部に斜辺を含む
切り込み溝を設け、ベースの外周にはピンを設け、ベー
スのピンを反射板の切り込み溝に螺込むことによりベー
スに反射板を固定した事を特徴とする分子線セル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990050029U JPH0748670Y2 (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 分子線セル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990050029U JPH0748670Y2 (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 分子線セル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0413056U JPH0413056U (ja) | 1992-02-03 |
| JPH0748670Y2 true JPH0748670Y2 (ja) | 1995-11-08 |
Family
ID=31568228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990050029U Expired - Fee Related JPH0748670Y2 (ja) | 1990-05-14 | 1990-05-14 | 分子線セル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0748670Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5394872A (en) * | 1977-01-31 | 1978-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | Fixing supporter for molecule beam evaporation source cell |
| JPS61174195A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-05 | Nec Corp | 分子線結晶成長用分子線源 |
-
1990
- 1990-05-14 JP JP1990050029U patent/JPH0748670Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0413056U (ja) | 1992-02-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |