JPH0749296A - ガス放出速度測定装置 - Google Patents
ガス放出速度測定装置Info
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- JPH0749296A JPH0749296A JP21225093A JP21225093A JPH0749296A JP H0749296 A JPH0749296 A JP H0749296A JP 21225093 A JP21225093 A JP 21225093A JP 21225093 A JP21225093 A JP 21225093A JP H0749296 A JPH0749296 A JP H0749296A
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Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
[目的] 真空材料からのガス放出速度を正確に測定す
ること。 [構成] 主チェンバー22に真空バルブ39を介して
真空材料のサンプルを挿入するサンプルチェンバー33
を設ける。
ること。 [構成] 主チェンバー22に真空バルブ39を介して
真空材料のサンプルを挿入するサンプルチェンバー33
を設ける。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、コンダクタンス変調法
による真空材料のガス放出速度測定装置に関する。
による真空材料のガス放出速度測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】真空系においては到達圧力とともに、そ
の圧力に到達する時間が装置の設計やポンプの選択にあ
たって重要であるが、真空容器内を真空排気する場合、
圧力が低くなるにつれて装置の到達圧力と排気時間は、
真空容器内に発生するガスの量に左右されるようにな
る。そこで、より低い圧力の環境を達成するのに、真空
容器及びそれに取り付けられる計器等を形成する材料は
ガス放出量の少ない真空材料が求められており、材料か
らのガス放出速度が測定されている。その測定法のひと
つとしてコンダクタンス変調法によるガス放出速度測定
装置があげられる。
の圧力に到達する時間が装置の設計やポンプの選択にあ
たって重要であるが、真空容器内を真空排気する場合、
圧力が低くなるにつれて装置の到達圧力と排気時間は、
真空容器内に発生するガスの量に左右されるようにな
る。そこで、より低い圧力の環境を達成するのに、真空
容器及びそれに取り付けられる計器等を形成する材料は
ガス放出量の少ない真空材料が求められており、材料か
らのガス放出速度が測定されている。その測定法のひと
つとしてコンダクタンス変調法によるガス放出速度測定
装置があげられる。
【0003】従来のコンダクタンス変調法によるガス放
出速度測定装置1は図5にその構成が示されているよう
に、主チェンバー2にはコンダクタンス変調機構7を備
えた真空室Bが設けられ、真空室Bには粗引き真空排気
系としてターボ分子ポンプ3、3が真空バルブ4を介し
てタンデムに接続され、本引き真空排気系としてチタン
ゲッタ・ポンプ5が真空バルブ6を介して接続され、矢
印b方向に真空排気される。ロータリポンプ12は、タ
ーボ分子ポンプ3、3の運転時の補助ポンプとして、
又、チタンゲッタ・ポンプ5に対して作動圧力まで排気
する補助ポンプとして真空バルブ13、14を介して排
気系の下流側に接続されている。コンダクタンス変調機
構7は円形の開口部8と、その開口部8に同心的である
オリフィス用の円板9、及び、円板9をその面に垂直に
移動させる駆動軸10とで構成され、駆動軸10は、図
示しない外部の駆動機構により矢印aで示されるように
移動する。又、主チェンバー2には真空計11が取り付
けられており、コンダクタンス変調法を用いればこの1
個の真空計11の読みだけでガス放出速度を測定するこ
とができる。又、主チェンバー2自身をガス放出速度を
測定する試料としている。
出速度測定装置1は図5にその構成が示されているよう
に、主チェンバー2にはコンダクタンス変調機構7を備
えた真空室Bが設けられ、真空室Bには粗引き真空排気
系としてターボ分子ポンプ3、3が真空バルブ4を介し
てタンデムに接続され、本引き真空排気系としてチタン
ゲッタ・ポンプ5が真空バルブ6を介して接続され、矢
印b方向に真空排気される。ロータリポンプ12は、タ
ーボ分子ポンプ3、3の運転時の補助ポンプとして、
又、チタンゲッタ・ポンプ5に対して作動圧力まで排気
する補助ポンプとして真空バルブ13、14を介して排
気系の下流側に接続されている。コンダクタンス変調機
構7は円形の開口部8と、その開口部8に同心的である
オリフィス用の円板9、及び、円板9をその面に垂直に
移動させる駆動軸10とで構成され、駆動軸10は、図
示しない外部の駆動機構により矢印aで示されるように
移動する。又、主チェンバー2には真空計11が取り付
けられており、コンダクタンス変調法を用いればこの1
個の真空計11の読みだけでガス放出速度を測定するこ
とができる。又、主チェンバー2自身をガス放出速度を
測定する試料としている。
【0004】従来のコンダクタンス変調法を用いたガス
放出速度測定装置1は以上のように構成されるが、次に
この測定方法について説明すると、コンダクタンス変調
機構7では開口部8と円板9が作る環状のスリットのコ
ンダクタンスを一点鎖線で示される位置と実線で示され
る位置の2ケ所に設定し、図示しない外部からの駆動機
構でオリフィス用の円板9を移動させることによりコン
ダクタンスを変調させる。ここで、円板9の一点鎖線の
位置のコンダクタンスをCa、実線の位置のコンダクタ
ンスをCbとし、コンダクタンスCaの時の真空計11
の示される圧力をPa、コンダクタンスCbの時の真空
計11の示される圧力をPbとすると、試料である主チ
ェンバー2からのガス放出速度Qは、Q=(Pa−P
b)/(Ca-1−Cb-1)で与えられる。
放出速度測定装置1は以上のように構成されるが、次に
この測定方法について説明すると、コンダクタンス変調
機構7では開口部8と円板9が作る環状のスリットのコ
ンダクタンスを一点鎖線で示される位置と実線で示され
る位置の2ケ所に設定し、図示しない外部からの駆動機
構でオリフィス用の円板9を移動させることによりコン
ダクタンスを変調させる。ここで、円板9の一点鎖線の
位置のコンダクタンスをCa、実線の位置のコンダクタ
ンスをCbとし、コンダクタンスCaの時の真空計11
の示される圧力をPa、コンダクタンスCbの時の真空
計11の示される圧力をPbとすると、試料である主チ
ェンバー2からのガス放出速度Qは、Q=(Pa−P
b)/(Ca-1−Cb-1)で与えられる。
【0005】主チェンバー2の室内A及び真空室Bをタ
ーボ分子ポンプ3、3により粗引き後、チタンゲッタ・
ポンプ5により本引きを開始し、真空計11の脱ガス及
びベーキング等の主排気操作を行う。この間、周期的に
主チェンバー2の室内Aの圧力を真空計11により測定
し、上述したガス放出速度Qを計算して記録するように
している。
ーボ分子ポンプ3、3により粗引き後、チタンゲッタ・
ポンプ5により本引きを開始し、真空計11の脱ガス及
びベーキング等の主排気操作を行う。この間、周期的に
主チェンバー2の室内Aの圧力を真空計11により測定
し、上述したガス放出速度Qを計算して記録するように
している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このように、真空材料
のガス放出速度を求める場合、その試料の作製に関して
は、上述したように、主チェンバー自身を試料として製
作する場合と、測定する材料で板状や棒状の平易な形状
のサンプルを準備し、主チェンバーに挿入して測定する
方法とがあるが、前者は、主チェンバーと、真空計、バ
ルブ及びコンダクタンス変調機構等との接続フランジを
持たねばならず、製作が容易でない。後者は、準備した
サンプルを主チェンバー内に挿入するために毎回主チェ
ンバーを大気圧にリークし、それから測定をすることに
なり、リーク時の主チェンバーの内表面に吸着した水等
のガス成分が加熱時に放出され、測定データに誤差を与
えることになり、正しい測定が行われるのは困難であ
る。
のガス放出速度を求める場合、その試料の作製に関して
は、上述したように、主チェンバー自身を試料として製
作する場合と、測定する材料で板状や棒状の平易な形状
のサンプルを準備し、主チェンバーに挿入して測定する
方法とがあるが、前者は、主チェンバーと、真空計、バ
ルブ及びコンダクタンス変調機構等との接続フランジを
持たねばならず、製作が容易でない。後者は、準備した
サンプルを主チェンバー内に挿入するために毎回主チェ
ンバーを大気圧にリークし、それから測定をすることに
なり、リーク時の主チェンバーの内表面に吸着した水等
のガス成分が加熱時に放出され、測定データに誤差を与
えることになり、正しい測定が行われるのは困難であ
る。
【0007】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、真空
材料からのガス放出速度をより正確に測定することがで
きるガス放出速度測定装置を提供することを目的とす
る。
材料からのガス放出速度をより正確に測定することがで
きるガス放出速度測定装置を提供することを目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】以上の目的は、コンダク
タンス変調法を用いたガス放出速度測定装置において、
少なくとも真空計を取り付けた主チェンバーに真空バル
ブを介してサンプルチェンバーを接続し、該サンプルチ
ェンバー内に真空材料の試験材を挿入し、該試験材から
のガス放出速度を測定するようにしたガス放出速度測定
装置によって達成される。
タンス変調法を用いたガス放出速度測定装置において、
少なくとも真空計を取り付けた主チェンバーに真空バル
ブを介してサンプルチェンバーを接続し、該サンプルチ
ェンバー内に真空材料の試験材を挿入し、該試験材から
のガス放出速度を測定するようにしたガス放出速度測定
装置によって達成される。
【0009】
【作用】主チェンバーとそれに取り付けられる真空計は
真空保持され、サンプルチェンバーのみを大気圧にし
て、真空材料の試験材を挿入した後、再びサンプルチェ
ンバー内を排気し、主チェンバーとの間の真空バルブを
開け、加熱を行って真空材料の試験材からのガス放出速
度を測定するのでより正確な測定を行うことができる。
真空保持され、サンプルチェンバーのみを大気圧にし
て、真空材料の試験材を挿入した後、再びサンプルチェ
ンバー内を排気し、主チェンバーとの間の真空バルブを
開け、加熱を行って真空材料の試験材からのガス放出速
度を測定するのでより正確な測定を行うことができる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例によるガス放出速度測
定装置について図面を参照して説明する。
定装置について図面を参照して説明する。
【0011】図1は本実施例によるガス放出速度測定装
置を示しており、その全体は21で示される。このガス
放出速度測定装置21は、主チェンバー22及びサンプ
ルチェンバー33とから成り、主チェンバー22はステ
ンレス鋼SUS304製のパイプでなり、内径150m
m、長さ400mmのパイプに外径203mmのコンフ
ラットフランジを両側に取り付けており、このパイプの
側面には、真空計31、主チェンバー22内の残留気体
の分圧を測定する質量分析器32及びサンプルチェンバ
ー33への接続等のために6個の外径70mmのコンフ
ラットフランジが図示しないが短管を介して取り付けら
れている。
置を示しており、その全体は21で示される。このガス
放出速度測定装置21は、主チェンバー22及びサンプ
ルチェンバー33とから成り、主チェンバー22はステ
ンレス鋼SUS304製のパイプでなり、内径150m
m、長さ400mmのパイプに外径203mmのコンフ
ラットフランジを両側に取り付けており、このパイプの
側面には、真空計31、主チェンバー22内の残留気体
の分圧を測定する質量分析器32及びサンプルチェンバ
ー33への接続等のために6個の外径70mmのコンフ
ラットフランジが図示しないが短管を介して取り付けら
れている。
【0012】サンプルチェンバー33は主チェンバー2
2と同様にステンレス鋼SUS304製で、内径100
mm、長さ100mmのパイプの一端部を円板でふさ
ぎ、他端部は外径70mmのコンフラットフランジが取
り付けられている。又、主チェンバー22及びサンプル
チェンバー33は外径70mmのコンフラットフランジ
が適合する真空バルブ39で接続されている。サンプル
チェンバー33内にはガス放出速度を測定する真空材料
のサンプルが挿入される。尚、主チェンバー22及びサ
ンプルチェンバー33の内面は電解研磨を施している。
2と同様にステンレス鋼SUS304製で、内径100
mm、長さ100mmのパイプの一端部を円板でふさ
ぎ、他端部は外径70mmのコンフラットフランジが取
り付けられている。又、主チェンバー22及びサンプル
チェンバー33は外径70mmのコンフラットフランジ
が適合する真空バルブ39で接続されている。サンプル
チェンバー33内にはガス放出速度を測定する真空材料
のサンプルが挿入される。尚、主チェンバー22及びサ
ンプルチェンバー33の内面は電解研磨を施している。
【0013】主チェンバー22には、コンダクタンス変
調機構27を備えた真空室Dが設けられており、コンダ
クタンス変調機構27は円形の開口部28と、その開口
部28に同心的であるオリフィス用の円板29、及び、
円板29をその面に垂直に移動させる駆動軸30とで構
成され、駆動軸30は、図示しない外部の駆動機構によ
り矢印cで示されるように移動する。
調機構27を備えた真空室Dが設けられており、コンダ
クタンス変調機構27は円形の開口部28と、その開口
部28に同心的であるオリフィス用の円板29、及び、
円板29をその面に垂直に移動させる駆動軸30とで構
成され、駆動軸30は、図示しない外部の駆動機構によ
り矢印cで示されるように移動する。
【0014】又、真空排気系としては、粗引き用の真空
ポンプ23及び本引き用の真空ポンプ24が取り付けら
れており、真空バルブ34、35、36、37、38を
介して真空室D又はサンプルチェンバー33の室内Eに
接続されている。
ポンプ23及び本引き用の真空ポンプ24が取り付けら
れており、真空バルブ34、35、36、37、38を
介して真空室D又はサンプルチェンバー33の室内Eに
接続されている。
【0015】本実施例によるガス放出速度測定装置は以
上のように構成されるが、次に本装置を用いたガス放出
速度の作用及び測定方法について説明する。尚、本実施
例ではサンプルチェンバー33内には真空材料のサンプ
ルとして保持用の洗浄されたSUS304製のワイヤに
て、互いに接触しないように直立させた80mm×10
0mm×2mmの5枚のチタン材26のガス放出速度の
測定を行っている。
上のように構成されるが、次に本装置を用いたガス放出
速度の作用及び測定方法について説明する。尚、本実施
例ではサンプルチェンバー33内には真空材料のサンプ
ルとして保持用の洗浄されたSUS304製のワイヤに
て、互いに接触しないように直立させた80mm×10
0mm×2mmの5枚のチタン材26のガス放出速度の
測定を行っている。
【0016】主チェンバー22の室内C及びコンダクタ
ンス変調機構27を備えた真空室Dは、通常は真空に保
たれているので、真空バルブ38、39を閉じた状態で
サンプルチェンバー33の室内Eを大気圧にする。大気
圧下のサンプルチェンバー33内に上述した5枚のチタ
ン材26をサンプルとして挿入した後、真空バルブ3
5、36、37、39を閉じた状態で真空バルブ34、
38を開け、粗引き用真空ポンプ23によりサンプルチ
ェンバー33の室内Eを10Paまで排気する。その
後、真空バルブ38を閉じて、真空バルブ35、37、
39を開け、本引き用真空ポンプ24により排気を行
い、圧力が0.01Pa以下になったら、図1の破線で
示されている加熱領域25全体を覆っている図示しない
オーブンにより加熱を開始する。
ンス変調機構27を備えた真空室Dは、通常は真空に保
たれているので、真空バルブ38、39を閉じた状態で
サンプルチェンバー33の室内Eを大気圧にする。大気
圧下のサンプルチェンバー33内に上述した5枚のチタ
ン材26をサンプルとして挿入した後、真空バルブ3
5、36、37、39を閉じた状態で真空バルブ34、
38を開け、粗引き用真空ポンプ23によりサンプルチ
ェンバー33の室内Eを10Paまで排気する。その
後、真空バルブ38を閉じて、真空バルブ35、37、
39を開け、本引き用真空ポンプ24により排気を行
い、圧力が0.01Pa以下になったら、図1の破線で
示されている加熱領域25全体を覆っている図示しない
オーブンにより加熱を開始する。
【0017】加熱領域25の加熱が開始されると、コン
ダクタンス変調機構27の円板29が図1の一点鎖線で
示される位置にある時の圧力を真空計31により測定
し、しかる後にコンダクタンス変調機構27の円板29
を一点鎖線の位置から実線の位置へ移動させ、圧力が安
定した後(本実施例では30秒以上後)、圧力を真空計
31により測定する。これを一定の時間間隔、例えば、
本実施例では15分間隔で繰り返すようにした。ここ
で、一点鎖線の円板29の位置のコンダクタンスをC
a’、そして実線の位置のコンダクタンスをCb’と
し、コンダクタンスCa’の時の真空計31の示す圧力
をPa’、コンダクタンスCb’の時の真空計31の示
す圧力をPb’とすると、従来技術で述べたのと同様に
本実施例でのガス放出速度Q’はQ’=(Pa’−P
b’)/(Ca’-1−Cb’-1)で与えられる。従っ
て、本実施例の測定では15分間隔のガス放出速度Q’
が得られる。図2には、5枚のチタン材26を挿入した
時の、図1で示される加熱領域25内を24時間加熱し
て測定したガス放出速度の変化が実線で示されている。
又、破線はサンプルチェンバー33内にサンプルのチタ
ン材26を挿入しないで、チタン材26を挿入した場合
と同じ手順で、24時間加熱してガス放出速度の変化を
測定したもので、測定系自体の放出するガス量が示され
ており、チタン材26のガス放出速度を測定する時のバ
ックグラウンドである。尚、一点鎖線はバックグラウン
ドの温度変化を示している。
ダクタンス変調機構27の円板29が図1の一点鎖線で
示される位置にある時の圧力を真空計31により測定
し、しかる後にコンダクタンス変調機構27の円板29
を一点鎖線の位置から実線の位置へ移動させ、圧力が安
定した後(本実施例では30秒以上後)、圧力を真空計
31により測定する。これを一定の時間間隔、例えば、
本実施例では15分間隔で繰り返すようにした。ここ
で、一点鎖線の円板29の位置のコンダクタンスをC
a’、そして実線の位置のコンダクタンスをCb’と
し、コンダクタンスCa’の時の真空計31の示す圧力
をPa’、コンダクタンスCb’の時の真空計31の示
す圧力をPb’とすると、従来技術で述べたのと同様に
本実施例でのガス放出速度Q’はQ’=(Pa’−P
b’)/(Ca’-1−Cb’-1)で与えられる。従っ
て、本実施例の測定では15分間隔のガス放出速度Q’
が得られる。図2には、5枚のチタン材26を挿入した
時の、図1で示される加熱領域25内を24時間加熱し
て測定したガス放出速度の変化が実線で示されている。
又、破線はサンプルチェンバー33内にサンプルのチタ
ン材26を挿入しないで、チタン材26を挿入した場合
と同じ手順で、24時間加熱してガス放出速度の変化を
測定したもので、測定系自体の放出するガス量が示され
ており、チタン材26のガス放出速度を測定する時のバ
ックグラウンドである。尚、一点鎖線はバックグラウン
ドの温度変化を示している。
【0018】以上のことから、サンプルチェンバー33
にサンプルであるチタン材26を挿入した場合の加熱温
度に対するガス放出速度の変化と、サンプルチェンバー
33内にはサンプルであるチタン材26を挿入しない場
合(バックグラウンド)の加熱温度に対するガス放出速
度の変化を測定することにより、前者から後者を差し引
くことによってサンプルであるチタン材26から放出さ
れるガス放出速度を測定することができる。
にサンプルであるチタン材26を挿入した場合の加熱温
度に対するガス放出速度の変化と、サンプルチェンバー
33内にはサンプルであるチタン材26を挿入しない場
合(バックグラウンド)の加熱温度に対するガス放出速
度の変化を測定することにより、前者から後者を差し引
くことによってサンプルであるチタン材26から放出さ
れるガス放出速度を測定することができる。
【0019】このように、サンプルであるチタン材26
の挿入時に主チェンバー22は真空を保持しており、サ
ンプルチェンバー33の室内Eのみを大気圧にすれば良
いので、主チェンバー22に取り付けられる真空計3
1、質量分析器32及びコンダクタンス変調機構27は
常に真空に保たれる。特に、真空計31、質量分析器3
2は、それら自身の構造が複雑であるので実質のガス吸
着表面積が大きく、又、コンダクタンス変調機構27の
オリフィス用の円板29は真空を保ちながら移動させる
部分に、図示しないが真空用ベローを使用しており、こ
れもガスが吸着し易いので正確な測定値を出すには十分
脱ガスされた後に常に真空である必要がある。本実施例
では主チェンバー22とは別にサンプルチェンバー33
を設けたことにより、真空系31、質量分析器32及び
真空用ベロー等を常に真空に保つことができる。
の挿入時に主チェンバー22は真空を保持しており、サ
ンプルチェンバー33の室内Eのみを大気圧にすれば良
いので、主チェンバー22に取り付けられる真空計3
1、質量分析器32及びコンダクタンス変調機構27は
常に真空に保たれる。特に、真空計31、質量分析器3
2は、それら自身の構造が複雑であるので実質のガス吸
着表面積が大きく、又、コンダクタンス変調機構27の
オリフィス用の円板29は真空を保ちながら移動させる
部分に、図示しないが真空用ベローを使用しており、こ
れもガスが吸着し易いので正確な測定値を出すには十分
脱ガスされた後に常に真空である必要がある。本実施例
では主チェンバー22とは別にサンプルチェンバー33
を設けたことにより、真空系31、質量分析器32及び
真空用ベロー等を常に真空に保つことができる。
【0020】又、図3は真空計の交換のためにサンプル
チェンバー33だけでなく主チェンバー22も大気圧に
解放した後、真空にして24時間加熱した場合のバック
グラウンドのガス放出速度の変化を示している。実線グ
ラフ51は主チェンバー22を大気圧に解放した直後、
真空にして第1回目の加熱温度に対するバックグラウン
ドのガス放出速度の変化を示しており、実線グラフ5
2、53は、第2回目、第3回目の加熱温度に対するバ
ックグラウンドのガス放出速度の変化を示している。従
って、3回以上、24時間の加熱サイクルを繰り返さな
いとガス放出速度は低い値に安定しない。即ち、長時間
の加熱脱ガスが必要である。尚、一点鎖線は加熱温度の
変化を示している。
チェンバー33だけでなく主チェンバー22も大気圧に
解放した後、真空にして24時間加熱した場合のバック
グラウンドのガス放出速度の変化を示している。実線グ
ラフ51は主チェンバー22を大気圧に解放した直後、
真空にして第1回目の加熱温度に対するバックグラウン
ドのガス放出速度の変化を示しており、実線グラフ5
2、53は、第2回目、第3回目の加熱温度に対するバ
ックグラウンドのガス放出速度の変化を示している。従
って、3回以上、24時間の加熱サイクルを繰り返さな
いとガス放出速度は低い値に安定しない。即ち、長時間
の加熱脱ガスが必要である。尚、一点鎖線は加熱温度の
変化を示している。
【0021】更に、続けて、真空バルブ39を閉じてサ
ンプルチェンバー33を主チェンバー22から遮断し、
主チェンバー22に取り付けられている真空計31、質
量分析器32及びコンダクタンス変調機構27を常に真
空に保つと、加熱温度に対するバックグラウンドのガス
放出速度の変化は同じレベルに安定する。図4の実線グ
ラフ54、55、56は24時間の加熱サイクルを繰り
返して、長時間、主チェンバー22の室内Cを真空保持
し、第24回目、第25回目、第26回目の加熱温度に
対するバックグラウンドのガス放出速度の変化を示して
いる。尚、一点鎖線は加熱温度の変化である。
ンプルチェンバー33を主チェンバー22から遮断し、
主チェンバー22に取り付けられている真空計31、質
量分析器32及びコンダクタンス変調機構27を常に真
空に保つと、加熱温度に対するバックグラウンドのガス
放出速度の変化は同じレベルに安定する。図4の実線グ
ラフ54、55、56は24時間の加熱サイクルを繰り
返して、長時間、主チェンバー22の室内Cを真空保持
し、第24回目、第25回目、第26回目の加熱温度に
対するバックグラウンドのガス放出速度の変化を示して
いる。尚、一点鎖線は加熱温度の変化である。
【0022】以上のことから、ガス放出速度の正確な測
定値を出すには、主チェンバー22が長時間、真空保持
されることが必要なので、本実施例では主チェンバー2
2とは別にサンプルチェンバー33を設けたことにより
主チェンバー内は真空を保持することができ、安定かつ
正確な測定を行うことができる。
定値を出すには、主チェンバー22が長時間、真空保持
されることが必要なので、本実施例では主チェンバー2
2とは別にサンプルチェンバー33を設けたことにより
主チェンバー内は真空を保持することができ、安定かつ
正確な測定を行うことができる。
【0023】以上、本発明の実施例について説明した
が、勿論、本発明はこれに限定されることなく本発明の
技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
が、勿論、本発明はこれに限定されることなく本発明の
技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。
【0024】本実施例では、サンプルとしてチタン材を
使用したが、真空材料として使用される材料であれば何
でもよく、それについての正確なガス放出速度の測定を
することができる。
使用したが、真空材料として使用される材料であれば何
でもよく、それについての正確なガス放出速度の測定を
することができる。
【0025】又、本実施例では真空内にある異なった気
体分圧を測定する質量分析器32を主チェンバー22に
取り付けたが、異なった気体分圧を測定する必要がなけ
れば省略してもよい。又、質量分析器32のイオン源を
作動させずに、バックグラウンドのガス放出速度を測定
すれば、上記実施例で質量分析器32のイオン源を作動
させ質量分析をしながら測定したガス放出速度から質量
分析器32を作動させずに測定した時のバックグラウン
ドのガス放出速度を差し引くことにより、質量分析器3
2自身から放出されるガス放出速度を求めることができ
る。
体分圧を測定する質量分析器32を主チェンバー22に
取り付けたが、異なった気体分圧を測定する必要がなけ
れば省略してもよい。又、質量分析器32のイオン源を
作動させずに、バックグラウンドのガス放出速度を測定
すれば、上記実施例で質量分析器32のイオン源を作動
させ質量分析をしながら測定したガス放出速度から質量
分析器32を作動させずに測定した時のバックグラウン
ドのガス放出速度を差し引くことにより、質量分析器3
2自身から放出されるガス放出速度を求めることができ
る。
【0026】又、本実施例では、加熱領域として図1の
破線で示される広い加熱領域25をとった。しかし、図
1のサンプルチェンバー33のみをテープヒータ又はマ
ントルヒータ等により、その周囲から均一に加熱を行
い、温度変化とともにガス放出速度を測定してもよい。
むろん、この場合にも、同一温度における、サンプルを
サンプルチェンバー33に入れた場合の測定値から、サ
ンプルを入れない場合の測定値を、差し引くことによ
り、サンプル自身からのガス放出速度が得られる。そし
て、サンプルを入れない場合のバックグラウンドのガス
放出速度に関しても安定な値を得ることができ、測定デ
ータの信頼性が得られる。
破線で示される広い加熱領域25をとった。しかし、図
1のサンプルチェンバー33のみをテープヒータ又はマ
ントルヒータ等により、その周囲から均一に加熱を行
い、温度変化とともにガス放出速度を測定してもよい。
むろん、この場合にも、同一温度における、サンプルを
サンプルチェンバー33に入れた場合の測定値から、サ
ンプルを入れない場合の測定値を、差し引くことによ
り、サンプル自身からのガス放出速度が得られる。そし
て、サンプルを入れない場合のバックグラウンドのガス
放出速度に関しても安定な値を得ることができ、測定デ
ータの信頼性が得られる。
【0027】サンプルチェンバー33のみを加熱する場
合、サンプル及び、サンプルチェンバー33自身からの
ガス放出分は冷たい主チェンバー22に吸着することが
ある。この吸着分がサンプルのガス放出分に比べて小さ
い場合はガス放出速度に関して、その誤差は小さいが、
吸着分が多い場合には、正確なガス放出速度が得られな
い場合がある。
合、サンプル及び、サンプルチェンバー33自身からの
ガス放出分は冷たい主チェンバー22に吸着することが
ある。この吸着分がサンプルのガス放出分に比べて小さ
い場合はガス放出速度に関して、その誤差は小さいが、
吸着分が多い場合には、正確なガス放出速度が得られな
い場合がある。
【0028】
【発明の効果】本発明のガス放出速度測定装置によれ
ば、主チェンバー自身及びそれに取り付けられる真空計
から放出される放出ガスを低減するための長時間の加熱
脱ガスを不要とし、測定時間を短縮することができる。
又、主チェンバー内は長時間、真空保持されているので
測定の繰り返し安定性若しくは測定値の再現性が得ら
れ、測定精度を向上させることができる。
ば、主チェンバー自身及びそれに取り付けられる真空計
から放出される放出ガスを低減するための長時間の加熱
脱ガスを不要とし、測定時間を短縮することができる。
又、主チェンバー内は長時間、真空保持されているので
測定の繰り返し安定性若しくは測定値の再現性が得ら
れ、測定精度を向上させることができる。
【図1】本発明の実施例によるガス放出速度測定装置の
概略図である。
概略図である。
【図2】サンプルチェンバーにサンプルを挿入した場合
と、挿入しない場合の加熱温度に対するガス放出速度の
変化を示す図である。
と、挿入しない場合の加熱温度に対するガス放出速度の
変化を示す図である。
【図3】主チェンバーを大気解放した直後の加熱温度に
対するガス放出速度のバックグラウンドの変化を示す図
である。
対するガス放出速度のバックグラウンドの変化を示す図
である。
【図4】主チェンバーを長時間真空保持した場合の加熱
温度に対するガス放出速度のバックグラウンドの変化を
示す図である。
温度に対するガス放出速度のバックグラウンドの変化を
示す図である。
【図5】従来のガス放出速度測定装置の概略図である。
22 主チェンバー 26 チタン材 33 サンプルチェンバー
Claims (1)
- 【請求項1】 コンダクタンス変調法を用いたガス放出
速度測定装置において、少なくとも真空計を取り付けた
主チェンバーに真空バルブを介してサンプルチェンバー
を接続し、該サンプルチェンバー内に真空材料の試験材
を挿入し、該試験材からのガス放出速度を測定するよう
にしたガス放出速度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21225093A JPH0749296A (ja) | 1993-08-04 | 1993-08-04 | ガス放出速度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21225093A JPH0749296A (ja) | 1993-08-04 | 1993-08-04 | ガス放出速度測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0749296A true JPH0749296A (ja) | 1995-02-21 |
Family
ID=16619463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21225093A Pending JPH0749296A (ja) | 1993-08-04 | 1993-08-04 | ガス放出速度測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0749296A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109404322A (zh) * | 2018-12-06 | 2019-03-01 | 北京东方计量测试研究所 | 一种宽量程高精度分子泵抽速测试系统及方法 |
| CN112304804A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-02-02 | 北京东方计量测试研究所 | 一种材料放气率测试系统及其测试方法 |
| CN112683726A (zh) * | 2020-12-01 | 2021-04-20 | 中国科学院近代物理研究所 | 一种材料出气率测试装置及方法 |
| CN115679288A (zh) * | 2022-11-08 | 2023-02-03 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 镀膜设备及其控制方法 |
-
1993
- 1993-08-04 JP JP21225093A patent/JPH0749296A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109404322A (zh) * | 2018-12-06 | 2019-03-01 | 北京东方计量测试研究所 | 一种宽量程高精度分子泵抽速测试系统及方法 |
| CN112304804A (zh) * | 2020-10-28 | 2021-02-02 | 北京东方计量测试研究所 | 一种材料放气率测试系统及其测试方法 |
| CN112304804B (zh) * | 2020-10-28 | 2024-03-22 | 北京东方计量测试研究所 | 一种材料放气率测试系统及其测试方法 |
| CN112683726A (zh) * | 2020-12-01 | 2021-04-20 | 中国科学院近代物理研究所 | 一种材料出气率测试装置及方法 |
| CN115679288A (zh) * | 2022-11-08 | 2023-02-03 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 镀膜设备及其控制方法 |
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