JPH0749502A

JPH0749502A - 液晶表示素子

Info

Publication number: JPH0749502A
Application number: JP5194951A
Authority: JP
Inventors: Masayuki Yazaki; 正幸矢崎; Eiji Chino; 英治千野; Hidekazu Kobayashi; 英和小林; Hideto Iizaka; 英仁飯坂
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1993-08-05
Filing date: 1993-08-05
Publication date: 1995-02-21

Abstract

(57)【要約】【目的】液晶及び高分子粒子が配向分散した液晶表示
素子において、コントラストを向上させ、ペーパーホワ
イト調の表示により視認性を向上させる。【構成】画素電極及び該画素電極に電気信号を伝える
為の配線を有する少なくとも一方が透明な２枚の基板間
に、二色性色素を含有した液晶及び屈折率異方性を有し
た高分子が互いに配向分散し、挟持された液晶表示素子
において、該基板間を一定の間隔に保持する為の空隙保
持材が、光吸収性の絶縁体材料からなり、あるいは感光
性有機絶縁材料をパターニングして形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、情報機器端末、テレ
ビ、家電製品などの表示部を構成する液晶表示素子に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報機器の小型化、携帯化への需
要の高まりに従い、この分野でのディスプレイに要求さ
れる省電力性から、反射型液晶表示素子が不可欠であ
る。ＴＮ方式については、従来から腕時計、電卓等に広
く用いられており、大容量表示にはＳＴＮ方式が、ノー
トパソコン、ワープロ等に、反射型液晶表示装置として
使用されてきた。さらに、反射型液晶表示装置の上に、
タブレットなどの情報入力装置を組み合わせる用途も拡
大し、反射型液晶表示素子には、明るさ、視認性の良さ
が要求されている。最近では、このような分野で、偏光
板を使用しない、液晶と高分子を互いに分散させた高分
子分散液晶を用いた液晶表示素子が注目されている。

【０００３】この液晶表示素子の動作原理は、液晶と高
分子の屈折率の差を利用しており、電界印加により液晶
と高分子の屈折率が一致した場合には透過状態を示し、
電界除去により屈折率が相違した場合には散乱状態を示
すことによる。ＮＣＡＰ（ファーガソン等の発明：特公
昭５８−５０１６３１）、ＬＣＰＣ（旭硝子株式会社：
アメリカ特許４，８１８，０７０）、ＰＤＬＣ（ケント
州立大学：アメリカ特許４，６８５，７７１）、ＰＮＬ
Ｃ（大日本インキ化学株式会社：ヨーロッパ公開特許Ｅ
ＰＡ３１３，０５３）は、上記の動作原理によるもので
ある。一方、電界無印加時に透過し、電界印加時に散乱
する逆のモード（以下リバースタイプ）の高分子分散液
晶を用いた液晶表示素子（ケント州立大学：アメリカ特
許４，９９４，２０４、フィリップス：ヨーロッパ公開
特許ＥＰ０４５１９０５Ａ１）についても開示されてい
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
偏光板を使用したＴＮ方式、ＳＴＮ方式による液晶表示
素子では、光の利用効率が低いため、反射型とすると暗
く、タブレットなどの情報入力装置と組み合わせると非
常に暗い表示となり問題となっていた。また、ＴＮ方
式、ＳＴＮ方式では、裏側の基板裏面の偏光板越しに反
射板が配置されるため、表示のダブルイメージがあり、
細かな文字が見にくく、視認性が問題となっていた。一
方、ヨーロッパ公開特許ＥＰ０４８８１１６Ａ２の技術
によれば、液晶に二色性色素を含有させた場合、電界無
印加での光吸収と、電界印加での白濁した光散乱のスイ
ッチングが可能で、明るい反射型ディスプレイを製造す
ることが可能であった。さらに、光反射面を画素電極と
兼用した場合、表示のダブルイメージがない、明るい反
射型ディスプレイが可能であった。

【０００５】しかしながら、この従来技術は、偏光板を
使用した従来の表示方法の問題点を解決できるものの、
液晶表示素子の表示部の基板間を一定に保持する為の空
隙保持材（スペーサー）を、光が透過するプラスチック
ボール、シリカ等で構成した場合、スペーサーから光漏
れが発生していた。このため、黒色の２色性色素を液晶
に添加した場合、黒の状態が浮き、コントラストが低下
する問題があった。このオフ状態での表示の浮きを防ぐ
ため、二色性色素の添加量を増大させた場合、耐光性が
悪化する、色素が析出する、また液晶の比抵抗値が下が
る等、信頼性を低下させる問題点があった。さらに、画
素電極を反射面とした場合、電圧を印加して白濁した散
乱状態としても、画素部のスペーサーからの散乱の影響
の少ない光により、反射面の影響を受けたメタリックな
色調となる問題点があった。

【０００６】本発明は、このような課題を解決するため
に行われたものであり、その目的とするところは、２枚
の基板を一定の間隔で保持するためのスペーサーからの
光漏れを防止することにより、オフ時の表示の浮きを抑
え、コントラスト比が高く、ペーパーホワイト調の反射
型液晶表示子を提供するところにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に本発明の液晶表示素子は、下記の構成から成る。

【０００８】（１）画素電極及び該画素電極に電気信号
を伝える為の配線を有し、少なくとも一方が透明な２枚
の基板間に、二色性色素を含有した液晶及び屈折率異方
性を有した高分子が互いに配向分散し、挟持された液晶
表示素子において、該基板間を一定の間隔に保持する為
の空隙保持材が、光吸収性の絶縁材料であることを特徴
とす。

【０００９】（２）上記液晶表示素子において、上記基
板間を一定の間隔に保持する為の空隙保持材が、感光性
有機絶縁材料をパターニングを施して形成されることを
特徴とする。

【００１０】（３）上記基板の一方の画素電極は反射性
の材料で形成されていることを特徴とする。

【００１１】（４）上記基板の少なくとも一方に、非線
形素子が形成されていることを特徴とする。

【００１２】（５）上記非線形素子が、２端子素子であ
ることを特徴とする。

【００１３】（６）上記非線形素子が、３端子素子であ
ることを特徴とする。

【００１４】

【実施例】

（実施例１）以下、本実施例では、空隙保持材に光吸収
処理を施したシリカボールを使用し、一方の基板に２端
子素子（ＭＩＭ素子）が形成された反射型液晶表示素子
による構成を示す。図１に、本実施例の液晶表示素子の
断面図を示した。裏側の基板１１０は、ＭＩＭ対向基板
とし、ガラス基板上にアルミニウムとマグネシウムの合
金をスパッタリングにより約２０００オングストローム
形成後、パターニングし、ストライプ状の反射電極１０
９とした。この基板上に配向膜１０８としてポリイミド
を形成し、ラビング処理を施した。基板１０１上には、
ＭＩＭ素子１０２、ＩＴＯ画素電極１０３、及び信号配
線が形成されており、表面には配向膜１０４としてポリ
イミドを形成した後、ラビング処理を施した。ラビング
角度は、上下基板間で９０゜とした。

【００１５】つづいて、空隙保持材１０７として、多孔
性シリカにカーボンを含浸させた光吸収性の黒シリカボ
ール（徳山曹達社製）を使用し、一方の基板に、１平方
ｍｍ当たり約１００個になるように散布した。さらに、
もう一方の基板に、基板を貼り合わせ固定するためのシ
ール剤を基板周囲に印刷し、両基板を貼り合わせ、固定
した。尚、基板間が約５μｍとなるように、シール剤中
にはグラスファイバーを混合し、グラスファイバー及び
シリカボールの径を選択した。また、基板１１０の裏面
には、画素電極間からの光漏れを防止するため、光吸収
層１１１として黒紙を密着させた。

【００１６】次に、この基板間に封入する、液晶及び高
分子前駆体混合物について説明する。液晶としてＴＬ−
２０２（メルク社製）とＢＬ−００７（メルク社製）を
７：３で混合して用い、これにカイラル成分としてＲ１
０１１（メルク社製）を、０．５重量％を混合した。さ
らに、二色性色素として、Ｍ３６１、ＳＩ５１２、Ｍ３
４（すべて三井東圧染料社製）を、それぞれ１．５重量
％、１．７５重量％、０．４３重量％で上記液晶に混合
した。高分子前駆体として、ビフェニルメタクリレート
を先の液晶混合物に対して８重量％用いた。以上を加熱
混合して、先に説明した空パネルに真空封入した。その
後、パネルを５０℃に保ちながら、１平方ｃｍ当たり３
ｍＷ（３５０ｎｍ）の紫外線を１０分間照射して、液晶
中から高分子を析出さ、本実施例の液晶表示素子を完成
させた。

【００１７】基板間で、高分子１０５及び液晶１０６
は、互いに配向し、分散した構造をとり、電圧オフ時
で、二色性色素の吸収による黒表示が得られた。また、
電圧を十分に印加した場合は、液晶１０６が電界方向に
配向することにより、媒体内で屈折率の不連続点が発生
し、光散乱状態となった。この時、二色性色素の吸収が
非常に小さくなるため、白表示が得られた。

【００１８】こうして得られた液晶表示素子をＭＩＭ駆
動したところ、拡散照明下での輝度比によるをコントラ
スト比が１２であった。本実施例では、空隙保持材に光
吸収性材料を配置しない従来の液晶表示素子（コントラ
スト８）に比べて、大幅に視認性が向上した。また、電
界印加時に空隙保持材部からの非散乱光が激減するため
に、メタリックな印象が薄れ、ペーパーホワイト調の表
示が得られた。さらに、この液晶表示素子の表面に、ノ
ングレア処理と無反射コートを施すと、風景の写り込み
が減少して視認性が極めて向上した。

【００１９】本実施例では、２端子の非線形素子とし
て、ＭＩＭ素子以外に、ラテラル型ＭＩＭ素子、バック
トゥバック型ＭＩＭ素子、ＭＳＩ素子、ダイオードリン
グ素子、バリスタ素子などが使用可能である。また、３
端子の非線形素子も同様に使用でき、ポリシリコンＴＦ
Ｔ素子、アモルファスシリコンＴＦＴ素子、Ｃｄ−Ｓｅ
ＴＦＴ素子などが使用可能である。

【００２０】基板に使用される材料は、ソーダガラス、
石英、無アルカリガラス、シリコン単結晶、サファイア
基板、熱硬化型高分子、熱可塑性高分子などが好ましく
使用される。高分子材料は、基板間に挟持される液晶及
び高分子に悪影響を及ぼさなければ特に制限されること
はなく、ＰＥＴ、ポリエーテルスルホン、エポキシ硬化
樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアリルエーテル等が好まし
く使用される。

【００２１】反射電極は、Ａｌ−Ｍｇの混合物とした
が、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔなどの金属単
体、あるいはそれらの混合物が使用できる。特に、安定
性、反射率の点からＡｌ−Ｍｇの混合物が好ましく、Ｍ
ｇの添加量は、０．１〜１０重量％が望ましい。

【００２２】画素電極間からの光漏れを防止するための
光吸収層は、本実施例では基板裏面に、黒紙を密着させ
たが、光吸収性の材料を直接基板に塗布してもよい。さ
らに、基板電極側に、有機カラーレジストを塗布しパタ
ニーングにより、電極間に光吸収層を配置してもよい。
画素電極間の光吸収層の吸収波長は、可視光全域（黒）
が望ましく、また用いる２色性色素の吸収域と合わせて
も良い。また、光吸収層の変わりに、金属材料で遮光し
てもよい。

【００２３】配向膜は、ポリイミド膜としたが、他にＳ
ｉＯ斜方蒸着膜、ポリビニルアルコール等が使用でき
る。基板間に挟持される液晶及び高分子前駆体は、紫外
線照射時に配向していれば良く、配向膜を形成しない
で、基板表面をそのままラビングしてもよい。なお、ラ
ビング角度は、本実施例に限定されない。

【００２４】光吸収性の空隙保持材は、多孔性シリカに
カーボンを含浸させたものを使用したが、光吸収性は含
浸の他に、例えば染色で持たせてもよく、光吸収能、及
び絶縁性が高く、また径の均一性の高い材料であれば何
でもよい。また、基板面内に散布される個数は、本実施
例に限定されない。

【００２５】液晶は、通常の液晶表示素子に使用されて
いるものが好ましく使用できるが、散乱度を良好にする
ためには、液晶の複屈折率異方性△ｎが、０．１５以上
が望ましい。また、非線形素子で駆動するためには、液
晶単体の比抵抗値が１．０×１０⁹Ω・ｃｍ〜１．０×
１０¹⁰Ω・ｃｍ以上、さらに好ましくは、１×１０¹²Ω
・ｃｍ以上が、保持率を高く保ち表示品質を良好にする
ためには望ましい。

【００２６】カイラル成分は、添加しなくてもよいが、
散乱度を良好にするために添加され、通常のＴＮ、ＳＴ
Ｎに使用されている材料が、そのまま好ましく使用でき
る。その添加量は、０．０１〜１０重量％であり、好ま
しくは０．１〜５重量％である。０．０１重量％以下で
は効果が小さく、１０重量％以上では駆動電圧が高くな
り、通常の非線形素子では駆動ができない。

【００２７】２色性色素としては、通常のＧＨ表示方式
に使用されているアゾ系、アントラキノン系、ナフトキ
ノン系、ペリレン系、キノフタロン系、アゾメチン系な
どが好ましく使用される。その中でも、耐光性の点から
アントラキノン系単独、あるいは必要に応じて他の色素
と混合したものが特に好ましい。これらの２色性色素
は、必要な色によって、混合され使用される。

【００２８】高分子前駆体は、重合後、屈折率異方性を
示し、液晶と配向分散するものであればなんでもよい
が、液晶表示素子製造の簡便性から紫外線硬化型モノマ
ーが望ましい。紫外線硬化型モノマーとしては、単官能
メタクリレート、２官能メタクリレートあるいは多官能
メタクリレートなどが好ましく使用される。散乱度を向
上するために、これらモノマーは最低１個のベンゼン環
をその分子構造中に含むことが望ましい。これらのモノ
マーには、カイラル性の成分を含むものでも良い。ま
た、これらのモノマーは単独あるいは他のモノマーと混
合した後、紫外線を照射し重合しても良い。

【００２９】本実施例では、ＭＩＭ基板の対向基板側に
反射電極を配置したが、ＭＩＭ素子基板側に反射電極を
配置しても同じ効果を有する。さらに、本発明の構成は
単純マトリクス方式においても、全く同様の効果を有す
る。（実施例２）以下、本実施例では、基板間を一定の間隔
に保持する空隙保持材が、感光性有機絶縁材料をパター
ニングにより形成され、一方の基板に非線形素子として
３端子素子（ポリシリコンＴＦＴ素子）が形成された反
射型液晶表示素子による構成を示す。図２には、本実施
例の液晶表示素子の断面図を示した。裏側の基板２１３
は、ＴＦＴ基板とし、石英基板上にＴＦＴ素子２１２及
び信号線が形成され、絶縁層２１１を介し、反射画素電
極２１０が形成されている。反射画素電極はアルミニウ
ムとマグネシウムの合金をスパッタリングにより約１０
００オングストローム形成され、コンタクトホールでＴ
ＦＴと接続している。対向基板２０１には、反射電極２
０８間からの光漏れを防止するため、クロムの遮光層
（ブラックストライプ）２０２が形成され、保護膜２０
３を介し、ＩＴＯ電極２０４が形成されている。

【００３０】つづいて、空隙保持材の作製方法を説明す
る。上記のＴＦＴ基板２１３上に、感光性ポリイミドＰ
Ｉ−４４０（宇部興産社製）を、スピンコーターにて、
１２００ｒｐｍで６０秒の条件にて塗布し、６５℃、６
０分の条件にてプレベークし、室温まで冷却した。次
に、１平方ｃｍ当たり１０００ｍＪの積算光量にて露光
した。フォトマスクは、空隙保持材部に相当するパター
ンは、１０μｍ×１５μｍのサイズで、１００画素に１
個の割合で、画素電極間に位置するようにパターンが施
されている。つづいて、現像、リンスした後、１６０
℃、５０分の条件にてポストベークし、最後に剥離し
た。得られた空隙保持材の膜厚は、５μｍ±０．１μｍ
であった。

【００３１】このようにして反射画素電極間に空隙保持
材２０８が形成されたＴＦＴ基板及び対向基板上に、配
向膜２０９、２０５としてポリイミドを形成し、ラビン
グ処理を施した。ラビング角度は、上下基板間で９０゜
とした。つづいて、一方の基板に、基板を貼り合わせ固
定するためのシール剤を基板周囲に印刷し、両基板を貼
り合わせ、固定した。尚、基板間が約５μｍとなるよう
に、シール剤中にはグラスファイバーを混合し、グラス
ファイバーの径を選択した。また、基板２１３の裏面に
は、画素電極間からの光漏れを防止するため、光吸収層
２１４として黒紙を密着させた。

【００３２】この基板間に、実施例１と同様の液晶及び
高分子前駆体混合物を真空封入し、実施例１と同じ方法
で紫外線を照射し、高分子を析出させ、本実施例の液晶
表示素子を得た。

【００３３】こうして得られた液晶表示素子をＴＦＴ駆
動したところ、拡散照明下での輝度比によるをコントラ
スト比が１４であった。本実施例では、空隙保持材を画
素電極間に形成しないで、スペーサーを散布した従来の
液晶表示素子（コントラスト８）に比べて、大幅に視認
性が向上した。また、電界印加時に画素部の空隙保持材
部からの非散乱光が消滅するために、メタリックな印象
が薄れ、ペーパーホワイト調の表示が得られた。さら
に、この液晶表示素子の表面に、ノングレア処理と無反
射コートを施すと、風景の写り込みが減少して視認性が
極めて向上した。

【００３４】本実施例では、３端子の非線形素子とし
て、ポリシリコンＴＦＴ素子以外に、アモルファスシリ
コンＴＦＴ素子、Ｃｄ−ＳｅＴＦＴ素子などが使用可能
である。

【００３５】また、２端子の非線形素子も同様に使用可
能で、ＭＩＭ素子、ラテラル型ＭＩＭ素子、バックトゥ
バック型ＭＩＭ素子、ＭＳＩ素子、ダイオードリング素
子、バリスタ素子などが使用可能である。

【００３６】基板に使用される材料は、ソーダガラス、
石英、無アルカリガラス、シリコン単結晶、サファイア
基板、熱硬化型高分子、熱可塑性高分子などが好ましく
使用される。高分子材料は、基板間に挟持される液晶及
び高分子に悪影響を及ぼさなければ特に制限されること
はなく、ＰＥＴ、ポリエーテルスルホン、エポキシ硬化
樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアリルエーテル等が好まし
く使用される。

【００３７】反射電極は、Ａｌ−Ｍｇの混合物とした
が、Ａｌ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔなどの金属単
体、あるいはそれらの混合物が使用できる。特に、安定
性、反射率の点からＡｌ−Ｍｇの混合物が好ましく、Ｍ
ｇの添加量は、０．１〜１０重量％が望ましい。

【００３８】画素電極間からの光漏れを防止するための
光吸収層は、本実施例では基板裏面に、黒紙を密着させ
たが、光吸収性の材料を直接基板に塗布してもよい。さ
らに、基板電極側に、有機カラーレジストを塗布しパタ
ニーングにより、電極間に光吸収層を配置してもよい。
画素電極間の光吸収層の吸収波長は、可視光全域（黒）
が望ましく、また用いる２色性色素の吸収域と合わせて
も良い。また、光吸収層の変わりに、金属材料で遮光し
てもよい。ただし、シリコン単結晶基板から、ＴＦＴを
形成した場合、画素間からの光漏れを防止する手段を設
ける必要はない。

【００３９】配向膜は、ポリイミド膜としたが、他にＳ
ｉＯ斜方蒸着膜、ポリビニルアルコール等が使用でき
る。基板間に挟持される液晶及び高分子前駆体は、紫外
線照射時に配向していれば良く、配向膜を形成しない
で、基板表面をそのままラビングしてもよい。なお、ラ
ビング角度は、本実施例に限定されない。

【００４０】パターニングにより形成される空隙保持材
は、感光性有機絶縁材料が使用でき、パターニング性、
膜均一性、厚みの許容性などの製法上の簡便性から、感
光性ポリイミドが特に好ましく使用される。基板面内に
形成される空隙保持材の個数は、液晶表示素子のサイズ
で決まり、本実施例に限定されない。また、形成される
基板はどちらでもよい。

【００４１】液晶は、通常の液晶表示素子に使用されて
いるものが好ましく使用できるが、散乱度を良好にする
ためには、液晶の複屈折率異方性△ｎが、０．１５以上
が望ましい。また、非線形素子で駆動するためには、液
晶単体の比抵抗値が１．０×１０⁹Ω・ｃｍ〜１．０×
１０¹⁰Ω・ｃｍ以上、さらに好ましくは、１×１０¹²Ω
・ｃｍ以上が、保持率を高く保ち表示品質を良好にする
ためには望ましい。

【００４２】カイラル成分は、添加しなくてもよいが、
散乱度を良好にするために添加され、通常のＴＮ、ＳＴ
Ｎに使用されている材料が、そのまま好ましく使用でき
る。その添加量は、０．０１〜１０重量％であり、好ま
しくは０．１〜５重量％である。０．０１重量％以下で
は効果が小さく、１０重量％以上では駆動電圧が高くな
り、通常の非線形素子では駆動ができない。

【００４３】２色性色素としては、通常のＧＨ表示方式
に使用されているアゾ系、アントラキノン系、ナフトキ
ノン系、ペリレン系、キノフタロン系、アゾメチン系な
どが好ましく使用される。その中でも、耐光性の点から
アントラキノン系単独、あるいは必要に応じて他の色素
と混合したものが特に好ましい。これらの２色性色素
は、必要な色によって、混合され使用される。

【００４４】高分子前駆体は、重合後、屈折率異方性を
示し、液晶と配向分散するものであればなんでもよい
が、液晶表示素子製造の簡便性から紫外線硬化型モノマ
ーが望ましい。紫外線硬化型モノマーとしては、単官能
メタクリレート、２官能メタクリレートあるいは多官能
メタクリレートなどが好ましく使用される。散乱度を向
上するために、これらモノマーは最低１個のベンゼン環
をその分子構造中に含むことが望ましい。これらのモノ
マーには、カイラル性の成分を含むものでも良い。ま
た、これらのモノマーは単独あるいは他のモノマーと混
合した後、紫外線を照射し重合しても良い。

【００４５】本実施例では、ＴＦＴ素子基板上にに反射
電極層を配置したが、基板開口率を上げられることか
ら、特に本実施例の構成が望ましい。さらに、本発明の
構成は単純マトリクス方式においても、全く同様の効果
を有する。

【００４６】

【発明の効果】以上説明したように本発明の液晶表示素
子の構成により、偏光板を不要とする明るく、ダブルイ
メージのない反射型の液晶表示素子が提供できた。特
に、従来問題となっていた表示画素部の空隙保持材から
の光漏れを、光吸収性の空隙保持材、あるいは画素電極
間に空隙保持材を配置するという簡易な方法で抑えるこ
とにより、コントラストを大幅に向上した液晶表示素子
を提供することができた。また、電界印加画素部からの
非散乱光が消滅するため、ペーパーホワイト調の表示が
可能となった。さらに、本発明により二色性色素の添加
量を低減できるため、耐光性及び信頼性に優れた液晶表
示素子を提供でき、また、アクティブマトリクス駆動に
より、視認性の優れた反射型大容量ディスプレイを提供
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明実施例１の液晶表示素子の断面図。

【図２】本発明実施例２の液晶表示素子の断面図。

【符号の説明】

１０１基板１０２ＭＩＭ素子１０３ＩＴＯ画素電極１０４配向膜１０５高分子１０６液晶１０７空隙保持材１０８配向膜１０９反射電極１１０基板１１１光吸収層２０１基板２０２ブラックストライプ２０３保護膜２０４ＩＴＯ電極２０５配向膜２０６高分子２０７液晶２０８空隙保持材２０９配向膜２１０反射電極２１１絶縁層２１２ＴＦＴ素子２１３基板２１４光吸収層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者飯坂英仁長野県諏訪市大和３丁目３番５号セイコーエプソン株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】画素電極及び該画素電極に電気信号を伝
える為の配線を有し、少なくとも一方が透明な２枚の基
板間に、二色性色素を含有した液晶及び屈折率異方性を
有した高分子が互いに配向分散し、挟持された液晶表示
素子において、該基板間を一定の間隔に保持する為の空
隙保持材が、光吸収性の絶縁材料であることを特徴とす
る液晶表示素子。
【請求項２】上記液晶表示素子において、上記基板間
を一定の間隔に保持する為の空隙保持材が、感光性有機
絶縁材料をパターニングを施して形成されることを特徴
とする液晶表示素子。
【請求項３】上記基板の一方の画素電極は反射性の材
料で形成されていることを特徴とする請求項１、又は２
記載の液晶表示素子。
【請求項４】上記基板の少なくとも一方に、非線形素
子が形成されていることを特徴とする請求項１、２又は
３記載の液晶表示素子。
【請求項５】上記非線形素子が、２端子素子であるこ
とを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の液晶表示
素子。
【請求項６】上記非線形素子が、３端子素子であるこ
とを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の液晶表示
素子。