JPH0750273B2 - 液晶電気光学装置 - Google Patents

液晶電気光学装置

Info

Publication number
JPH0750273B2
JPH0750273B2 JP60147400A JP14740085A JPH0750273B2 JP H0750273 B2 JPH0750273 B2 JP H0750273B2 JP 60147400 A JP60147400 A JP 60147400A JP 14740085 A JP14740085 A JP 14740085A JP H0750273 B2 JPH0750273 B2 JP H0750273B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
optical device
thickness
conductive film
crystal electro
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60147400A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS628127A (ja
Inventor
譲 佐藤
稔 矢崎
和雄 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP60147400A priority Critical patent/JPH0750273B2/ja
Publication of JPS628127A publication Critical patent/JPS628127A/ja
Publication of JPH0750273B2 publication Critical patent/JPH0750273B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は液晶電気光学装置に関し、特にその製造方法に
関する。
〔発明の概要〕
本発明は液晶電気光学装置において、2枚の基板を重ね
合わせた時画素となる部分の液晶層厚が所望の厚さとな
る様に、ギヤツプ剤と電極を兼ねた適当な厚さの導電性
膜を少なくとも一方の基板上の画素部以外に設けたの
で、導電性膜の厚さを所望の液晶層厚とほぼ等しい厚さ
まで厚くすることができる。従つて、所望の液晶層厚が
薄い場合でも配線抵抗低減効果を最大限利用することが
でき、さらにギヤツプ剤散布の工程を省略することがで
きる。
〔従来技術〕
従来の液晶電気光学装置の構造は、ギヤツプ剤としてグ
ラスフアイバー、ビーズ、高分子フイルムなどを2枚の
基板間に挾んだものであつた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし前述の従来技術では液晶層の厚さはギヤツプ剤の
直径と配線抵抗低減のために設けた導電性膜の厚さの和
となる。例として所望の液晶層の厚さが5μmの場合、
たとえばギヤツプ剤の直径を2μm、導電性膜の厚さを
3μmとすればよく電導性膜の厚さを十分厚くして配線
抵抗を低くすることができる。
ところで、強誘電性スメクチツク液晶は液晶層厚を非常
に薄くすることによつて記憶効果、急峻なしきい特性、
高速応答というすぐれた特性を現わし、液晶電気光学装
置用の材料として高い可能性を持つている。これらの特
性が発現する液晶層厚は液晶材料に依存するが、良好な
特性を得るためには約1.5μm以下が望ましく、液晶層
厚が厚くなるにしたがつて、記憶効果およびしきい特性
の急峻性が低下する。また、強誘電性スメクチツク液晶
を用いた液晶電気光学装置のコントラスト比は式(1)
で表わされるクロスニコル間の透過光量Iから求めるこ
とができ、白色光を光源として用いる場合、△n=0.2
ならば液晶層厚dは1.4μm前後が最適となる。(現在
一般に使用されている強誘電性スメクチツク液晶の△n
の値は0.2前後である。) I=I0sin24θ・sin2(πdΔn/λ) (1) θ:液晶の分子軸と偏光子のなす角 △n:複屈折 d:液晶層厚 λ:入射光の波長 I0:入射光量 また、液晶電気光学装置のON,OFF状態をスイツチする周
期を短くするにしたがつて駆動電圧波形の周波数が高く
なり、配線抵抗と静電容量が高ければ駆動電圧波形が歪
んで駆動することができなくなる。そこで、所望の液晶
層の厚さが1μmの場合、従来の方法によつてギヤツプ
剤を使用すれば導電性膜の厚さは数1000Åとなり配線抵
抗を低減させる効果が小さくなる、という問題がある。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、所望の液晶層厚が非常に薄い場
合でも導電性膜による配線抵抗低減効果を最大限利用す
ることができ、ギヤツプ剤を散布する必要のない液晶電
気光学装置を提供するところにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の液晶電気光学装置は、対向する内面に電極を有
する一対の基板間に液晶を挟持してなる液晶電気光学装
置において、少なくとも前記一方の電極上の画素となら
ない部分に、該電極と電気的接続され且つ前記基板間の
ギャップを制御するスペーサーを兼ねた導電性膜を形成
したことを特徴とする。
〔実施例〕
第1図に第1の実施例を示す。第1図(a)は本発明を
1/2デユーテイ液晶プリンターヘツドに応用した場合の
液晶光シヤツター部の平面図であり、第1図(b)は第
1図(a)のAA′における断面図である。下側基板17上
には走査電極11および絶縁層(SiO2)14を設け、その上
にPI,ナイロン,PVA等の配向処理膜18を設け、一方向に
ラビング処理を施してある。上側基板16上には信号電極
12を設け、さらに画素13以外の部分に導電性膜15を設け
てある。20は偏光板である。第1図(a)において二重
の斜線を施した液晶導入部21の導電性膜の厚さは所望の
液晶層厚より薄くなつており、その部分を通つて液晶19
が画素13の部分へ入つていく。
透明電極、導電性膜としてそれぞれITOとニツケル(厚
さ0.95μm)を使用して第1図に示した構成の液晶プリ
ンターヘツドを作成した。la=180μm,lb=220μm,lc=
80μmである液晶材料としてMBRA−8を真空封入法によ
つて封入し、液晶の複屈折より求めた液晶層厚は1.01±
0.04μmであり、均一な液晶層厚の液晶プリンターヘツ
ドが得られた。
参考のために、第2図に従来技術による液晶プリンター
ヘツドの断面図を示す。ギヤツプ剤(ビーズ)22の直径
は小さいもので0.8μm程度のため、所望の液晶層厚が
1μmならば高導電性膜の厚さは0.2μm程度となる。
その厚さは第1の実施例における厚さの約1/5であり、
配線抵抗低減効果が薄れてしまう。
第3図に第2の実施例を示す。本実施例では下側基板17
上の走査電極11の上にも導電性膜15としてニツケル膜を
設けさらに絶縁のためにSiO214を設けてある。走査電極
上および信号電極上のニツケル膜の厚さl3,l4をいずれ
も1.5μmとし、SiO2,ナイロンの厚さをそれぞれ1000
Å,800Å,la=180μm,lb=220μm,lc=40μmとして、M
BRA−8を使用して液晶プリンターヘツドを作成した。
本実施例での液晶層厚は3.10±0.03μmとなつた。
第4図に第3の実施例を示す。ここではマトリクス型液
晶デイスプレイへの応用例を示す。導電性膜15はストラ
イプ状信号電極12の端に設けてあり、第4図(a)の2
重に斜線を施した円形の部分は第4図(b)に示すよう
に貝柱状になつている。導電性膜として銅を使用し、la
=430μm,lb=70μm,lc=30μm,l5=0.5μm,l6=70μm,
lc=30μm,l5=0.9μm,l6=0.6μmとし、MBRA−8を使
用して100×100マトリクス型液晶デイスプレイを作成し
た。液晶層厚は1.06±0.03μmとなつた。
本発明は液晶プリンターヘツド、マトリクス型液晶デイ
スプレイ以外の液晶電気光学装置へも応用することがで
き、液晶材料は強誘電性スメクチツク液晶に限定され
ず、液晶層厚も限定されない。
〔発明の効果〕
以上のような構成にすることによって、以下のような効
果が得られる。
少なくとも一方の電極上にそって導電性膜を形成した
ので、電極の配線抵抗が低減する。又、導電性膜により
基板間のギャップも制御することができる。
配線抵抗が低減できるため、電圧パルスの遅延が小さ
くなる。従って、高画質の表示が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は第1の実施例における液晶プリンターヘ
ツドの平面図、第1図(b)は第1図(a)のAA′にお
ける断面図、第2図は従来技術を示す断面図、第3図は
第2の実施例における液晶プリンターヘツドの断面図、
第4図(a)は第3の実施例における液晶デイスプレイ
の平面図、第4図(b)は第4図(a)のAA′における
断面図である。 11……走査電極 12……信号電極 13……画素 14……絶縁層 15……導電性膜 16……上側基板 17……下側基板 18……配向処理膜 19……液晶 20……偏光板 21……液晶導入部 22……ギヤツプ剤

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】対向する内面に電極を有する一対の基板間
    に液晶を挟持してなる液晶電気光学装置において、少な
    くとも前記一方の電極上の画素とならない部分に、該電
    極と電気的接続され且つ前記基板間のギャップを制御す
    るスペーサーを兼ねた導電性膜を形成したことを特徴と
    する液晶電気光学装置。
JP60147400A 1985-07-04 1985-07-04 液晶電気光学装置 Expired - Lifetime JPH0750273B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60147400A JPH0750273B2 (ja) 1985-07-04 1985-07-04 液晶電気光学装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60147400A JPH0750273B2 (ja) 1985-07-04 1985-07-04 液晶電気光学装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS628127A JPS628127A (ja) 1987-01-16
JPH0750273B2 true JPH0750273B2 (ja) 1995-05-31

Family

ID=15429428

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60147400A Expired - Lifetime JPH0750273B2 (ja) 1985-07-04 1985-07-04 液晶電気光学装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0750273B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2523486B2 (ja) * 1986-03-31 1996-08-07 松下電器産業株式会社 液晶表示パネル及びその製造法
JP2526273B2 (ja) * 1988-07-04 1996-08-21 スタンレー電気株式会社 液晶ディスプレイ装置
US5694188A (en) * 1994-09-17 1997-12-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Reflection type liquid crystal display device having comb-shaped wall electrode
US6465268B2 (en) 1997-05-22 2002-10-15 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing an electro-optical device
JP2012198544A (ja) * 2012-04-16 2012-10-18 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 表示装置
JP6927052B2 (ja) * 2018-01-10 2021-08-25 日本製鉄株式会社 金属帯の矯正方法及び金属帯の矯正装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56122012A (en) * 1980-03-03 1981-09-25 Keiji Iimura Tn-type liquid crystal cell
JPS5888722A (ja) * 1981-11-24 1983-05-26 Keiji Iimura 積層型電気光学セル

Also Published As

Publication number Publication date
JPS628127A (ja) 1987-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100356604B1 (ko) 액정표시장치
US5000545A (en) Liquid crystal device with metal electrode partially overlying transparent electrode
US5089905A (en) Color liquid crystal display system with spacer-adhesive and separate rigid spacers across display surface
US6310675B1 (en) Liquid crystal display
US5521731A (en) Reflective type liquid crystal display device and method of making the same whereby the switching MIM has its first electrode used for signal wiring and its second electrode used as pixel electrodes
JPH1048652A (ja) 液晶表示装置
JPH0836169A (ja) 液晶表示装置およびその製造方法
KR20010065169A (ko) 액정 표시장치
JP2953720B2 (ja) 液晶表示装置
JPS628127A (ja) 液晶電気光学装置
JP2683032B2 (ja) 液晶素子
JP2000035590A (ja) 液晶表示素子およびその製造方法
JPS60133493A (ja) マトリツクス型液晶表示装置
JP2519939B2 (ja) 液晶素子
JP3522845B2 (ja) 液晶表示パネル
JP2813222B2 (ja) 液晶表示素子
JPH06222351A (ja) 反射型液晶表示装置およびその製造方法
JP2815415B2 (ja) 強誘電性液晶パネルの製造方法
JP2766784B2 (ja) 強誘電性液晶表示素子
JP3274434B2 (ja) 液晶表示装置
JP2955617B2 (ja) 反射型液晶電気光学装置
JPH09185073A (ja) 液晶素子及びその製造方法
JPS62100739A (ja) 液晶表示装置
JPH09185051A (ja) 液晶素子
JPH01140126A (ja) 液晶表示装置