JPH0752395A - インクジェット記録ヘッドの製造方法 - Google Patents
インクジェット記録ヘッドの製造方法Info
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- JPH0752395A JPH0752395A JP5206394A JP20639493A JPH0752395A JP H0752395 A JPH0752395 A JP H0752395A JP 5206394 A JP5206394 A JP 5206394A JP 20639493 A JP20639493 A JP 20639493A JP H0752395 A JPH0752395 A JP H0752395A
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- Japan
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- nozzle plate
- ink
- jet recording
- ink jet
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- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 インクが吐出するノズルプレート表面に撥水
層が形成されているインクジェット記録ヘッドの製造に
おいて、重合性のモノマーまたはオリゴマーをセラミッ
クスに含浸させ、真空槽内で加熱し、該化合物を蒸発さ
せてノズルプレート表面に反応あるいは吸着させた後、
電子線を照射して重合および架橋させ、撥水層とする。 【効果】 インクジェット記録ヘッドのノズル表面のみ
に優れた特性の撥水処理が簡単な工程で施せ、高い印字
品質のインクジェット記録ヘッドを提供できた。また本
発明による表面処理は、その持続性に非常に優れている
ために、記録ヘッドの長寿命化が可能となった。
層が形成されているインクジェット記録ヘッドの製造に
おいて、重合性のモノマーまたはオリゴマーをセラミッ
クスに含浸させ、真空槽内で加熱し、該化合物を蒸発さ
せてノズルプレート表面に反応あるいは吸着させた後、
電子線を照射して重合および架橋させ、撥水層とする。 【効果】 インクジェット記録ヘッドのノズル表面のみ
に優れた特性の撥水処理が簡単な工程で施せ、高い印字
品質のインクジェット記録ヘッドを提供できた。また本
発明による表面処理は、その持続性に非常に優れている
ために、記録ヘッドの長寿命化が可能となった。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、インクジェット記録装
置に用いるインクジェット記録ヘッドの撥水処理に関わ
る。
置に用いるインクジェット記録ヘッドの撥水処理に関わ
る。
【０００２】
【従来の技術】インクジェット記録ヘッドにはガラス、
金属、樹脂等の材質が用いられている。しかしインクジ
ェット記録ヘッドにおいて、ノズル表面の撥水性が不十
分だとインクの液滴が付着するため、吐出するインク滴
の直進性が損なわれ、印字乱れ等のトラブルによって記
録不能となることがあった。
金属、樹脂等の材質が用いられている。しかしインクジ
ェット記録ヘッドにおいて、ノズル表面の撥水性が不十
分だとインクの液滴が付着するため、吐出するインク滴
の直進性が損なわれ、印字乱れ等のトラブルによって記
録不能となることがあった。
【０００３】そこでインクが吐出するノズルプレート表
面を、インクの付着をなくすために撥水処理することが
示され、静電粉体塗装（特開昭５７−１５７７６５）、
共析メッキ、プラズマ重合（特開昭６０−１８３１６
１）等によりノズル表面に含フッ素樹脂粒子を付着させ
て撥水化するという方法が提供されている。また、含フ
ッ素シリコンカップリング処理する方法（特開昭５６−
８９５６９）や、溶媒可溶性含フッ素樹脂を塗布して薄
膜を形成する方法（特開平３−１３２７３）も提供され
ている。
面を、インクの付着をなくすために撥水処理することが
示され、静電粉体塗装（特開昭５７−１５７７６５）、
共析メッキ、プラズマ重合（特開昭６０−１８３１６
１）等によりノズル表面に含フッ素樹脂粒子を付着させ
て撥水化するという方法が提供されている。また、含フ
ッ素シリコンカップリング処理する方法（特開昭５６−
８９５６９）や、溶媒可溶性含フッ素樹脂を塗布して薄
膜を形成する方法（特開平３−１３２７３）も提供され
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
湿式法による撥水処理では、撥水層がノズル穴をふさい
だり狭めたりする問題があった。吐出するインク滴の直
進性を考慮すると、ノズルプレート表面のみに撥水処理
が施され、ノズル穴内部には処理がされないことが望ま
しい。表面のみに撥水処理を施すためには、マスク形成
等の工程が必要となり、工程数が増える上、工程管理が
複雑である。一方乾式法により、ノズル表面に含フッ素
樹脂粒子を付着させて撥水化するという方法は撥水層の
密着性が弱く、また均質性も得られにくいという課題が
あった。
湿式法による撥水処理では、撥水層がノズル穴をふさい
だり狭めたりする問題があった。吐出するインク滴の直
進性を考慮すると、ノズルプレート表面のみに撥水処理
が施され、ノズル穴内部には処理がされないことが望ま
しい。表面のみに撥水処理を施すためには、マスク形成
等の工程が必要となり、工程数が増える上、工程管理が
複雑である。一方乾式法により、ノズル表面に含フッ素
樹脂粒子を付着させて撥水化するという方法は撥水層の
密着性が弱く、また均質性も得られにくいという課題が
あった。
【０００５】本発明は前記課題を解決するためのもので
あり、インクジェット記録ヘッドのノズルプレート表面
のみに優れた特性の撥水処理を簡単な工程で行い、しか
もその効果の持続性に優れ、長期間にわたって印字品質
の高いインクジェット記録ヘッドの製造方法の提供を目
的としている。
あり、インクジェット記録ヘッドのノズルプレート表面
のみに優れた特性の撥水処理を簡単な工程で行い、しか
もその効果の持続性に優れ、長期間にわたって印字品質
の高いインクジェット記録ヘッドの製造方法の提供を目
的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的は、インクが吐
出するノズルプレート表面に撥水層が形成されているイ
ンクジェット記録ヘッドの製造において、重合性のモノ
マーまたはオリゴマーをセラミックスに含浸させ、真空
槽内で加熱し、該化合物を蒸発させてノズルプレート表
面に反応あるいは吸着させた後、電子線を照射して重合
および架橋させ、撥水層とすることにより達成される。
出するノズルプレート表面に撥水層が形成されているイ
ンクジェット記録ヘッドの製造において、重合性のモノ
マーまたはオリゴマーをセラミックスに含浸させ、真空
槽内で加熱し、該化合物を蒸発させてノズルプレート表
面に反応あるいは吸着させた後、電子線を照射して重合
および架橋させ、撥水層とすることにより達成される。
【０００７】
【作用】本発明のノズルプレート表面の撥水処理方法
は、基本的に真空蒸着法によるため、大面積に均一な膜
質及び膜厚の膜を形成するのに有効な方法である。さら
に、セラミックスに含浸させる化合物の量を一定にして
おけば、常に一定の膜厚を得ることができる。また、蒸
着源から蒸発する分子の直進性が高いため、ノズルプレ
ート表面を蒸着源に対向させることで、マスクを設ける
ことなくノズルプレート表面のみに、撥水膜を容易に形
成することが可能である。ノズルの孔径は数十ミクロン
であり、蒸着する化合物は重合していないため、ノズル
穴を膜で塞ぐことはない。
は、基本的に真空蒸着法によるため、大面積に均一な膜
質及び膜厚の膜を形成するのに有効な方法である。さら
に、セラミックスに含浸させる化合物の量を一定にして
おけば、常に一定の膜厚を得ることができる。また、蒸
着源から蒸発する分子の直進性が高いため、ノズルプレ
ート表面を蒸着源に対向させることで、マスクを設ける
ことなくノズルプレート表面のみに、撥水膜を容易に形
成することが可能である。ノズルの孔径は数十ミクロン
であり、蒸着する化合物は重合していないため、ノズル
穴を膜で塞ぐことはない。
【０００８】均質な膜を得るには、蒸着物は単一成分が
好ましい。そのため、モノマーあるいはオリゴマーの他
に、蒸気圧の異なる重合開始剤等を添加することはでき
ない。重合性物質のみを蒸発させて、ノズルプレート表
面に反応あるいは吸着させた後、電子線を照射すれば重
合が進み高分子層が形成できる。電子線照射により、三
次元的に架橋したポリマーが形成するため、０．１μｍ
程度の膜厚でも膜強度の強い撥水層が得られる。撥水性
に優れた高分子としては、フッ素樹脂とシリコーン樹脂
が挙げられる。
好ましい。そのため、モノマーあるいはオリゴマーの他
に、蒸気圧の異なる重合開始剤等を添加することはでき
ない。重合性物質のみを蒸発させて、ノズルプレート表
面に反応あるいは吸着させた後、電子線を照射すれば重
合が進み高分子層が形成できる。電子線照射により、三
次元的に架橋したポリマーが形成するため、０．１μｍ
程度の膜厚でも膜強度の強い撥水層が得られる。撥水性
に優れた高分子としては、フッ素樹脂とシリコーン樹脂
が挙げられる。
【０００９】フルオロアルキル基を有するモノマーやオ
リゴマーは、重合したポリマーが電子線照射により崩壊
せず、架橋するものでなくてはならない。アクリル酸エ
ステルのエステル残基にフルオロアルキル基が置換され
ていたり、ビニル基にフルオロアルキル基の誘導体が導
入されているものが、その対象となる。また、ジアルキ
ルシロキサンまたはそのフルオロアルキル基の誘導体も
その対象となる。
リゴマーは、重合したポリマーが電子線照射により崩壊
せず、架橋するものでなくてはならない。アクリル酸エ
ステルのエステル残基にフルオロアルキル基が置換され
ていたり、ビニル基にフルオロアルキル基の誘導体が導
入されているものが、その対象となる。また、ジアルキ
ルシロキサンまたはそのフルオロアルキル基の誘導体も
その対象となる。
【００１０】
（実施例１）図１はインクジェット記録ヘッドの一例を
模式的に示した断面図である。１は圧力室であり、ＰＺ
Ｔ素子または発熱体等によってインク吐出のための圧力
を得る部分である。３はインク吐出ノズルである。４は
第一基板でありインク流路用のパターン溝が形成されて
いる。５は第二基板であり、両者の張り合わせによって
インク流路は形成される。２がノズルプレートである。
ノズルプレートには孔径数十μｍのノズルが、多数配置
されている。ノズルプレート表面の撥水処理方法を以下
に述べる。
模式的に示した断面図である。１は圧力室であり、ＰＺ
Ｔ素子または発熱体等によってインク吐出のための圧力
を得る部分である。３はインク吐出ノズルである。４は
第一基板でありインク流路用のパターン溝が形成されて
いる。５は第二基板であり、両者の張り合わせによって
インク流路は形成される。２がノズルプレートである。
ノズルプレートには孔径数十μｍのノズルが、多数配置
されている。ノズルプレート表面の撥水処理方法を以下
に述べる。
【００１１】多孔質アルミナのタブレットに、パーフル
オロオクチルアクリラートのオリゴマーを含浸させた。
このタブレットを予め抵抗加熱できる様に真空槽内にセ
ットしておき、被処理基板であるステンレス製のノズル
プレートをインクが吐出する面を蒸着源に向け、同真空
槽内にセットした。１０-5Ｔｏｒｒ以下まで排気し、酸
素プラズマに曝した後、予めセットされたセラミックス
製タブレットを電気抵抗で加熱し、パーフルオロオクチ
ルアクリラートのオリゴマーを３０秒間蒸発させノズル
プレート表面に反応あるいは吸着させた。形成された蒸
着層の厚さは約１０００Åであり、ノズル孔内には蒸着
物の存在は認められなかった。
オロオクチルアクリラートのオリゴマーを含浸させた。
このタブレットを予め抵抗加熱できる様に真空槽内にセ
ットしておき、被処理基板であるステンレス製のノズル
プレートをインクが吐出する面を蒸着源に向け、同真空
槽内にセットした。１０-5Ｔｏｒｒ以下まで排気し、酸
素プラズマに曝した後、予めセットされたセラミックス
製タブレットを電気抵抗で加熱し、パーフルオロオクチ
ルアクリラートのオリゴマーを３０秒間蒸発させノズル
プレート表面に反応あるいは吸着させた。形成された蒸
着層の厚さは約１０００Åであり、ノズル孔内には蒸着
物の存在は認められなかった。
【００１２】窒素雰囲気中、ノズルプレート表面に電子
線を１５０キロボルトの加速電圧で照射し、蒸着層を安
定なフッ素樹脂とした。赤外吸収スペクトル分析で、残
存二重結合は極微量であり、重合開始剤がなくとも、重
合が進んでいることが確認できた。また適度な硬度を有
し、フッ素系の溶媒にも溶解せず、三次元架橋が進んで
いることが示唆された。図２にノズルプレートの、ノズ
ル付近の拡大図を示した。ノズルの孔径は数十μｍであ
り、ノズルプレート表面のみに撥水層２１が形成されて
いる。水の接触角は１００度以上あり、非常に優れた撥
水性を示した。
線を１５０キロボルトの加速電圧で照射し、蒸着層を安
定なフッ素樹脂とした。赤外吸収スペクトル分析で、残
存二重結合は極微量であり、重合開始剤がなくとも、重
合が進んでいることが確認できた。また適度な硬度を有
し、フッ素系の溶媒にも溶解せず、三次元架橋が進んで
いることが示唆された。図２にノズルプレートの、ノズ
ル付近の拡大図を示した。ノズルの孔径は数十μｍであ
り、ノズルプレート表面のみに撥水層２１が形成されて
いる。水の接触角は１００度以上あり、非常に優れた撥
水性を示した。
【００１３】得られたノスルプレートを浸透性の高い染
料インクに浸漬し、７０℃で５日間保持した後もインク
との接触角は８０度以上あり、十分な撥水効果が得られ
ていることがわかった。このように作製したノズルプレ
ートを用いて製造したインクジェット記録ヘッドを、記
録装置に装着して印字試験を行なったところ、印字乱れ
等のトラブルは発生せず、高精細でコントラストの高い
印字が可能となった。インクを注入しながらシリコンゴ
ムによる擦り試験をしたところ、１００００回擦った後
にもインクとの接触角は８０度以上あり、撥水効果がほ
とんど劣化せず長期間にわたって印字品質の高いインク
ジェット記録ヘッドを達成できた。
料インクに浸漬し、７０℃で５日間保持した後もインク
との接触角は８０度以上あり、十分な撥水効果が得られ
ていることがわかった。このように作製したノズルプレ
ートを用いて製造したインクジェット記録ヘッドを、記
録装置に装着して印字試験を行なったところ、印字乱れ
等のトラブルは発生せず、高精細でコントラストの高い
印字が可能となった。インクを注入しながらシリコンゴ
ムによる擦り試験をしたところ、１００００回擦った後
にもインクとの接触角は８０度以上あり、撥水効果がほ
とんど劣化せず長期間にわたって印字品質の高いインク
ジェット記録ヘッドを達成できた。
【００１４】（実施例２）多孔質窒化ケイ素のタブレッ
トに、シス−（１，３，５，７−テトラヒドロキシ）−
１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサ
ンを含浸させた。このタブレットを予めランプ加熱でき
る様に真空槽内にセットしておき、被処理基板であるニ
ッケル製のノズルプレートをインクが吐出する面を蒸着
源に向け、同真空槽内にセットした。０．１Ｔｏｒｒ以
下まで排気し、予めセットされたセラミックス製タブレ
ットをランプの輻射熱で加熱し、シス−（１，３，５，
７−テトラヒドロキシ）−１，３，５，７−テトラフェ
ニルシクロテトラシロキサンを３０秒間蒸発させノズル
プレート表面に反応あるいは吸着させた。形成された蒸
着層の厚さは約５００Åであり、ノズル孔内には蒸着物
の存在は認められなかった。
トに、シス−（１，３，５，７−テトラヒドロキシ）−
１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサ
ンを含浸させた。このタブレットを予めランプ加熱でき
る様に真空槽内にセットしておき、被処理基板であるニ
ッケル製のノズルプレートをインクが吐出する面を蒸着
源に向け、同真空槽内にセットした。０．１Ｔｏｒｒ以
下まで排気し、予めセットされたセラミックス製タブレ
ットをランプの輻射熱で加熱し、シス−（１，３，５，
７−テトラヒドロキシ）−１，３，５，７−テトラフェ
ニルシクロテトラシロキサンを３０秒間蒸発させノズル
プレート表面に反応あるいは吸着させた。形成された蒸
着層の厚さは約５００Åであり、ノズル孔内には蒸着物
の存在は認められなかった。
【００１５】２５０℃で２時間加熱した後、窒素雰囲気
中、ノズルプレート表面に電子線を１００キロボルトの
加速電圧で照射し、蒸着層を安定なシリコーン素樹脂と
した。水の接触角は９０度以上あり、非常に優れた撥水
性を示した。
中、ノズルプレート表面に電子線を１００キロボルトの
加速電圧で照射し、蒸着層を安定なシリコーン素樹脂と
した。水の接触角は９０度以上あり、非常に優れた撥水
性を示した。
【００１６】得られたノスルプレートを界面活性剤及び
安定化剤を含んだ顔料インクに浸漬し、７０℃で５日間
保持した後もインクとの接触角は８０度以上あり、十分
な撥水効果が得られていることがわかった。このように
作製したノズルプレートを用いて製造したインクジェッ
ト記録ヘッドを、記録装置に装着して印字試験を行なっ
たところ、印字乱れ等のトラブルは発生せず、高精細で
コントラストの高い印字が可能となった。インクを注入
しながらネオプレンゴムによる擦り試験をしたところ、
１００００回擦った後にもインクとの接触角は８０度以
上あり、撥水効果がほとんど劣化せず長期間にわたって
印字品質の高いインクジェット記録ヘッドを達成でき
た。
安定化剤を含んだ顔料インクに浸漬し、７０℃で５日間
保持した後もインクとの接触角は８０度以上あり、十分
な撥水効果が得られていることがわかった。このように
作製したノズルプレートを用いて製造したインクジェッ
ト記録ヘッドを、記録装置に装着して印字試験を行なっ
たところ、印字乱れ等のトラブルは発生せず、高精細で
コントラストの高い印字が可能となった。インクを注入
しながらネオプレンゴムによる擦り試験をしたところ、
１００００回擦った後にもインクとの接触角は８０度以
上あり、撥水効果がほとんど劣化せず長期間にわたって
印字品質の高いインクジェット記録ヘッドを達成でき
た。
【００１７】（実施例３）ＳｉＯ2 ７０wt％、Ａｌ2Ｏ3
３０wt％を混合し、焼結し、多孔質のタブレットを形成
した。このタブレットに、ジトリフルオロメチルシロキ
サンのオリゴマーの末端にアミノ基が置換し、ジシラザ
ンとなっている化合物を含浸させた。このタブレットを
予め抵抗加熱できる様に真空槽内にセットしておき、被
処理基板であるステンレス製のノズルプレートをインク
が吐出する面を蒸着源に向け、同真空槽内にセットし
た。１０-4Ｔｏｒｒ以下まで排気し、予めセットされた
セラミックス製タブレットをランプの輻射熱で加熱し、
含浸させた化合物を１分間蒸発させノズルプレート表面
に反応あるいは吸着させた。形成された蒸着層の厚さは
約１５００Åであり、ノズル孔内には蒸着物の存在は認
められなかった。
３０wt％を混合し、焼結し、多孔質のタブレットを形成
した。このタブレットに、ジトリフルオロメチルシロキ
サンのオリゴマーの末端にアミノ基が置換し、ジシラザ
ンとなっている化合物を含浸させた。このタブレットを
予め抵抗加熱できる様に真空槽内にセットしておき、被
処理基板であるステンレス製のノズルプレートをインク
が吐出する面を蒸着源に向け、同真空槽内にセットし
た。１０-4Ｔｏｒｒ以下まで排気し、予めセットされた
セラミックス製タブレットをランプの輻射熱で加熱し、
含浸させた化合物を１分間蒸発させノズルプレート表面
に反応あるいは吸着させた。形成された蒸着層の厚さは
約１５００Åであり、ノズル孔内には蒸着物の存在は認
められなかった。
【００１８】窒素雰囲気中、ノズルプレート表面に電子
線を１００キロボルトの加速電圧で照射し、蒸着層を安
定なフッ化シリコーン樹脂とした。水の接触角は１００
度以上あり、非常に優れた撥水性を示した。
線を１００キロボルトの加速電圧で照射し、蒸着層を安
定なフッ化シリコーン樹脂とした。水の接触角は１００
度以上あり、非常に優れた撥水性を示した。
【００１９】得られたノスルプレートをカラー染料を含
んだインクに浸漬し、７０℃で５日間保持した後もイン
クとの接触角は７０度以上あり、十分な撥水効果が得ら
れていることがわかった。このように作製したノズルプ
レートを用いて製造したインクジェット記録ヘッドを、
記録装置に装着して印字試験を行なったところ、印字乱
れ等のトラブルは発生せず、高精細でコントラストの高
い印字が可能となった。インクを注入しながらネオプレ
ンゴムによる擦り試験をしたところ、１００００回擦っ
た後にもインクとの接触角は７０度以上あり、撥水効果
がほとんど劣化せず長期間にわたって印字品質の高いイ
ンクジェット記録ヘッドを達成できた。
んだインクに浸漬し、７０℃で５日間保持した後もイン
クとの接触角は７０度以上あり、十分な撥水効果が得ら
れていることがわかった。このように作製したノズルプ
レートを用いて製造したインクジェット記録ヘッドを、
記録装置に装着して印字試験を行なったところ、印字乱
れ等のトラブルは発生せず、高精細でコントラストの高
い印字が可能となった。インクを注入しながらネオプレ
ンゴムによる擦り試験をしたところ、１００００回擦っ
た後にもインクとの接触角は７０度以上あり、撥水効果
がほとんど劣化せず長期間にわたって印字品質の高いイ
ンクジェット記録ヘッドを達成できた。
【００２０】（実施例４）多孔質アルミナのタブレット
に、Ｎ，Ｎ−ジパーフルオロプロピルビニルアミンのオ
リゴマーの末端にメトキシシランが置換している化合物
を含浸させた。このタブレットを予めランプ加熱できる
様に真空槽内にセットしておき、被処理基板であるポリ
エーテルサルフォン製のノズルプレートをインクが吐出
する面を蒸着源に向け、同真空槽内にセットした。１０
-5Ｔｏｒｒ以下まで排気し、予めセットされたセラミッ
クス製タブレットをランプの輻射熱で加熱し、含浸させ
た化合物を３０秒間蒸発させノズルプレート表面に反応
あるいは吸着させた。形成された蒸着層の厚さは約２０
００Åであり、ノズル孔内には蒸着物の存在は認められ
なかった。
に、Ｎ，Ｎ−ジパーフルオロプロピルビニルアミンのオ
リゴマーの末端にメトキシシランが置換している化合物
を含浸させた。このタブレットを予めランプ加熱できる
様に真空槽内にセットしておき、被処理基板であるポリ
エーテルサルフォン製のノズルプレートをインクが吐出
する面を蒸着源に向け、同真空槽内にセットした。１０
-5Ｔｏｒｒ以下まで排気し、予めセットされたセラミッ
クス製タブレットをランプの輻射熱で加熱し、含浸させ
た化合物を３０秒間蒸発させノズルプレート表面に反応
あるいは吸着させた。形成された蒸着層の厚さは約２０
００Åであり、ノズル孔内には蒸着物の存在は認められ
なかった。
【００２１】窒素雰囲気中、ノズルプレート表面に電子
線を２００キロボルトの加速電圧で照射し、蒸着層を安
定なフッ素樹脂とした。水の接触角は１００度以上あ
り、非常に優れた撥水性を示した。
線を２００キロボルトの加速電圧で照射し、蒸着層を安
定なフッ素樹脂とした。水の接触角は１００度以上あ
り、非常に優れた撥水性を示した。
【００２２】得られたノスルプレートを浸透性の高い染
料インクに浸漬し、７０℃で５日間保持した後もインク
との接触角は８０度以上あり、十分な撥水効果が得られ
ていることがわかった。このように作製したノズルプレ
ートを用いて製造したインクジェット記録ヘッドを、記
録装置に装着して印字試験を行なったところ、印字乱れ
等のトラブルは発生せず、高精細でコントラストの高い
印字が可能となった。インクを注入しながらシリコンゴ
ムによる擦り試験をしたところ、１００００回擦った後
にもインクとの接触角は８０度以上あり、撥水効果がほ
とんど劣化せず長期間にわたって印字品質の高いインク
ジェット記録ヘッドを達成できた。
料インクに浸漬し、７０℃で５日間保持した後もインク
との接触角は８０度以上あり、十分な撥水効果が得られ
ていることがわかった。このように作製したノズルプレ
ートを用いて製造したインクジェット記録ヘッドを、記
録装置に装着して印字試験を行なったところ、印字乱れ
等のトラブルは発生せず、高精細でコントラストの高い
印字が可能となった。インクを注入しながらシリコンゴ
ムによる擦り試験をしたところ、１００００回擦った後
にもインクとの接触角は８０度以上あり、撥水効果がほ
とんど劣化せず長期間にわたって印字品質の高いインク
ジェット記録ヘッドを達成できた。
【００２３】（比較例１）実施例１と同様の蒸着法でノ
ズルプレート表面に、パーフルオロオクチルアクリレー
トのオリゴマーを約１０００Åの厚みで吸着させた。電
子線を照射することなく、インクを注入しながらシリコ
ンゴムによる擦り試験をしたところ、初期的には７０度
以上あったインクとの接触角は、５００回擦った後は４
０度以下に低下した。オイル状の撥水層がワイピングに
より、そのほとんどが除去されたことを示唆した。
ズルプレート表面に、パーフルオロオクチルアクリレー
トのオリゴマーを約１０００Åの厚みで吸着させた。電
子線を照射することなく、インクを注入しながらシリコ
ンゴムによる擦り試験をしたところ、初期的には７０度
以上あったインクとの接触角は、５００回擦った後は４
０度以下に低下した。オイル状の撥水層がワイピングに
より、そのほとんどが除去されたことを示唆した。
【００２４】（比較例２）実施例１と同様の材料である
パーフルオロオクチルアクリレートのオリゴマーを、ト
リフルオロメチルベンゼンに溶解させ、ディップ法でノ
ズルプレート全面に、約１０００Åの厚みで塗布した。
乾燥して溶媒を除去した後、ノズルプレート表面に電子
線を照射し、撥水層とした。このように作製したノズル
プレートを用いて製造したインクジェット記録ヘッド
を、記録装置に装着して印字試験を行なったところ、吐
出するインク滴の直進性が各ノズルで安定せず、高精細
の印字は不可能であった。
パーフルオロオクチルアクリレートのオリゴマーを、ト
リフルオロメチルベンゼンに溶解させ、ディップ法でノ
ズルプレート全面に、約１０００Åの厚みで塗布した。
乾燥して溶媒を除去した後、ノズルプレート表面に電子
線を照射し、撥水層とした。このように作製したノズル
プレートを用いて製造したインクジェット記録ヘッド
を、記録装置に装着して印字試験を行なったところ、吐
出するインク滴の直進性が各ノズルで安定せず、高精細
の印字は不可能であった。
【００２５】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、イン
クジェット記録ヘッドにおいてノズルプレート表面のみ
に優れた特性の撥水処理を施し、高い印字品質のインク
ジェット記録ヘッドを提供できた。また本発明による表
面処理は、その持続性に非常に優れているために、記録
ヘッドの長寿命化が可能となる。
クジェット記録ヘッドにおいてノズルプレート表面のみ
に優れた特性の撥水処理を施し、高い印字品質のインク
ジェット記録ヘッドを提供できた。また本発明による表
面処理は、その持続性に非常に優れているために、記録
ヘッドの長寿命化が可能となる。
【００２６】さらに本発明のインクジェット記録ヘッド
の製造方法は、極めて簡単な工程で撥水化処理ができる
ため、不良が発生しにくく、コストも大幅に下げられる
ものであり、その効果は大きい。
の製造方法は、極めて簡単な工程で撥水化処理ができる
ため、不良が発生しにくく、コストも大幅に下げられる
ものであり、その効果は大きい。
【図１】 実施例１におけるインクジェット記録ヘッド
の概略を、模式的に示した断面図である。
の概略を、模式的に示した断面図である。
【図２】 実施例１におけるノズルプレート表面の撥水
処理を、模式的に示した断面図である。
処理を、模式的に示した断面図である。
１ 圧力室 ２ ノズルプレート ３ インク吐出ノズル ４ 第一基板 ５ 第二基板 ２１ 撥水層
Claims (3)
- 【請求項１】 インクが吐出するノズルプレート表面に
撥水層が形成されているインクジェット記録ヘッドの製
造において、重合性のモノマーまたはオリゴマーをセラ
ミックスに含浸させ、真空槽内で加熱し、該化合物を蒸
発させてノズルプレート表面に反応あるいは吸着させた
後、電子線を照射して重合および架橋させ、撥水層とす
ることを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方
法。 - 【請求項２】 ノズルプレート表面に真空蒸着させる化
合物が、フルオロアルキル基を有するモノマーまたはオ
リゴマーであり、必要に応じ反応性置換基を導入した誘
導体であることを特徴とする請求項１記載のインクジェ
ット記録ヘッドの製造方法。 - 【請求項３】 ノズルプレート表面に真空蒸着させる化
合物が、シロキサン系のモノマーまたはオリゴマーであ
り、必要に応じ反応性置換基を導入した誘導体であるこ
とを特徴とする請求項１記載のインクジェット記録ヘッ
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5206394A JPH0752395A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5206394A JPH0752395A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0752395A true JPH0752395A (ja) | 1995-02-28 |
Family
ID=16522630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5206394A Pending JPH0752395A (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0752395A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006093293A1 (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-08 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | セラミック多層基板及びその製造方法 |
| JP2018199318A (ja) * | 2017-05-26 | 2018-12-20 | セイコーエプソン株式会社 | ノズルプレート、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、及び、ノズルプレートの製造方法 |
| US10399340B2 (en) | 2017-05-26 | 2019-09-03 | Seiko Epson Corporation | Nozzle plate, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and method of manufacturing nozzle plate |
-
1993
- 1993-08-20 JP JP5206394A patent/JPH0752395A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006093293A1 (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-08 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | セラミック多層基板及びその製造方法 |
| JPWO2006093293A1 (ja) * | 2005-03-04 | 2008-08-07 | 株式会社村田製作所 | セラミック多層基板及びその製造方法 |
| JP2018199318A (ja) * | 2017-05-26 | 2018-12-20 | セイコーエプソン株式会社 | ノズルプレート、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、及び、ノズルプレートの製造方法 |
| US10399340B2 (en) | 2017-05-26 | 2019-09-03 | Seiko Epson Corporation | Nozzle plate, liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and method of manufacturing nozzle plate |
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