JPH0754189A - 電気メッキ装置 - Google Patents
電気メッキ装置Info
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- JPH0754189A JPH0754189A JP5200499A JP20049993A JPH0754189A JP H0754189 A JPH0754189 A JP H0754189A JP 5200499 A JP5200499 A JP 5200499A JP 20049993 A JP20049993 A JP 20049993A JP H0754189 A JPH0754189 A JP H0754189A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は被メッキ基板上のメッキ膜の組成の
変動を抑え磁気特性の優れた磁性膜を形成することので
きる電気メッキ装置の提供を提供する。 【構成】 メッキ槽１と、メッキ槽１内に装着される被
メッキ基板４を装着部で保持する基板ホルダー１１と、
装着部と同心円状に基板ホルダー１１内又はその周囲に
配設された補助電極１２と、基板ホルダー１１と対向し
てメッキ槽１内に装設された陽極５と、被メッキ基板４
上の近傍を往復運動する各一辺の平面部が被メッキ基板
４と略平行になるように上下に一対配設された三角柱状
の攪拌子と、被メッキ面と平行で、かつ攪拌子が往復運
動する方向と直交方向に磁界が印加できるメッキ槽１を
挟んで平行に配設された磁石１０と、攪拌子１３，１４
を両端で固定する一対の直立腕７と、を備え、攪拌子１
３，１４が２以上略平行に一対の直立腕７に配設されて
いる。
変動を抑え磁気特性の優れた磁性膜を形成することので
きる電気メッキ装置の提供を提供する。 【構成】 メッキ槽１と、メッキ槽１内に装着される被
メッキ基板４を装着部で保持する基板ホルダー１１と、
装着部と同心円状に基板ホルダー１１内又はその周囲に
配設された補助電極１２と、基板ホルダー１１と対向し
てメッキ槽１内に装設された陽極５と、被メッキ基板４
上の近傍を往復運動する各一辺の平面部が被メッキ基板
４と略平行になるように上下に一対配設された三角柱状
の攪拌子と、被メッキ面と平行で、かつ攪拌子が往復運
動する方向と直交方向に磁界が印加できるメッキ槽１を
挟んで平行に配設された磁石１０と、攪拌子１３，１４
を両端で固定する一対の直立腕７と、を備え、攪拌子１
３，１４が２以上略平行に一対の直立腕７に配設されて
いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は優れた磁気特性を具備す
る磁性薄膜を磁気ヘッドや記録ヘッド等に使用される被
メッキ基板に付与するのに好適な電気メッキ装置に関す
るものである。
る磁性薄膜を磁気ヘッドや記録ヘッド等に使用される被
メッキ基板に付与するのに好適な電気メッキ装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、高性能の磁性薄膜を得るために電
気メッキ方法が利用されている。
気メッキ方法が利用されている。
【０００３】電気メッキ装置としては特公昭５７−９６
３６号公報に提案されたものが実用化され広く使用され
つつある。
３６号公報に提案されたものが実用化され広く使用され
つつある。
【０００４】以下に従来の電気メッキ装置について説明
する。図８は従来の電気メッキ装置のメッキ槽の要部斜
視図である。１はメッキ液が注入されたガラス，合成樹
脂等の誘電体材料よりなるメッキ槽、２はメッキ槽１の
底面に取り付けられた陰極、３は陰極２の所定部に形成
された開孔部、４は開孔部３の外側にメッキ面側を押し
つけて密着された被メッキ基板、５は陰極２と対向して
配設された不活性Ｐｔ，固体Ｎｉ又は不活性Ｐｔシート
とＮｉワイヤメッシュの組合せ等よりなる陽極、６は駆
動時乱流の発生を最大限抑えるように三角柱状の各一辺
の平面部が基板ホルダーの上面と略平行に上下に並設さ
れた一対の攪拌子、７は一対の攪拌子６を両端で各々平
行に固定する直立腕、８は２本の直立腕７を固定する横
部材、９は横部材の中央部に一端が固定され他端がクラ
ンク軸（図示せず）を介して電動機の軸（図示せず）と
直結されたリンク材、１０は攪拌子６の運動方向と直交
する方向に磁界を印加するようにメッキ槽１の両側部に
配設された一対の磁石である。
する。図８は従来の電気メッキ装置のメッキ槽の要部斜
視図である。１はメッキ液が注入されたガラス，合成樹
脂等の誘電体材料よりなるメッキ槽、２はメッキ槽１の
底面に取り付けられた陰極、３は陰極２の所定部に形成
された開孔部、４は開孔部３の外側にメッキ面側を押し
つけて密着された被メッキ基板、５は陰極２と対向して
配設された不活性Ｐｔ，固体Ｎｉ又は不活性Ｐｔシート
とＮｉワイヤメッシュの組合せ等よりなる陽極、６は駆
動時乱流の発生を最大限抑えるように三角柱状の各一辺
の平面部が基板ホルダーの上面と略平行に上下に並設さ
れた一対の攪拌子、７は一対の攪拌子６を両端で各々平
行に固定する直立腕、８は２本の直立腕７を固定する横
部材、９は横部材の中央部に一端が固定され他端がクラ
ンク軸（図示せず）を介して電動機の軸（図示せず）と
直結されたリンク材、１０は攪拌子６の運動方向と直交
する方向に磁界を印加するようにメッキ槽１の両側部に
配設された一対の磁石である。
【０００５】以上のように構成されたメッキ装置につい
て、以下その動作を説明する。電気メッキ時には電動機
が回転し、クランク軸によりリンク材９が前後に往復運
動する。この往復運動は攪拌子６の往復運動となり、一
対の攪拌子６間の開口面を通過するメッキ液が陰極２近
傍で乱流の少ない層流となる。この層流により、被メッ
キ基板４上に一様なメッキ膜が得られる。また、メッキ
膜には磁石１０により一軸磁気異方性が付与される。
て、以下その動作を説明する。電気メッキ時には電動機
が回転し、クランク軸によりリンク材９が前後に往復運
動する。この往復運動は攪拌子６の往復運動となり、一
対の攪拌子６間の開口面を通過するメッキ液が陰極２近
傍で乱流の少ない層流となる。この層流により、被メッ
キ基板４上に一様なメッキ膜が得られる。また、メッキ
膜には磁石１０により一軸磁気異方性が付与される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の構成では、被メッキ基板４の表面近傍を攪拌子６が往
復運動するため、攪拌子６の位置により被メッキ基板４
上のメッキ効率が変化し、攪拌子６の位置で電気力線が
遮断状態となり、メッキ時の電流密度が変化するという
問題点を有していた。その結果、被メッキ基板４上での
電流密度の変化により、形成されたＦｅ−Ｎｉ合金等の
メッキ膜の組成が変動し、均一なメッキ膜を得難いとい
う問題点があった。
の構成では、被メッキ基板４の表面近傍を攪拌子６が往
復運動するため、攪拌子６の位置により被メッキ基板４
上のメッキ効率が変化し、攪拌子６の位置で電気力線が
遮断状態となり、メッキ時の電流密度が変化するという
問題点を有していた。その結果、被メッキ基板４上での
電流密度の変化により、形成されたＦｅ−Ｎｉ合金等の
メッキ膜の組成が変動し、均一なメッキ膜を得難いとい
う問題点があった。
【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、被メッキ基板上のメッキ膜の組成の変動を抑え磁気
特性の優れた磁性膜を形成することのできる電気メッキ
装置を提供することを目的としている。
で、被メッキ基板上のメッキ膜の組成の変動を抑え磁気
特性の優れた磁性膜を形成することのできる電気メッキ
装置を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の電気メッキ装置は、メッキ槽と、前記メッキ
槽内に装着される被メッキ基板を装着部で保持する基板
ホルダーと、前記被メッキ基板の装着部と同心円状に前
記基板ホルダー内又は前記基板ホルダーの周囲に配設さ
れた補助電極と、前記基板ホルダーと対向して前記メッ
キ槽内に装設された陽極と、前記被メッキ基板の被メッ
キ面上の近傍を往復運動する各一辺の平面部が被メッキ
基板と略平行になるように上下に一対配設された三角柱
状の攪拌子と、前記被メッキ基板の被メッキ面と平行
で、かつ攪拌子が往復運動する方向と直交方向に磁界が
印加できる前記メッキ槽を挟んで平行に配設された磁石
と、前記攪拌子を両端で固定する一対の直立腕と、を備
えた電気メッキ装置であって、前記攪拌子が２以上略平
行に前記一対の直立腕に配設されている構成を有してい
る。
に本発明の電気メッキ装置は、メッキ槽と、前記メッキ
槽内に装着される被メッキ基板を装着部で保持する基板
ホルダーと、前記被メッキ基板の装着部と同心円状に前
記基板ホルダー内又は前記基板ホルダーの周囲に配設さ
れた補助電極と、前記基板ホルダーと対向して前記メッ
キ槽内に装設された陽極と、前記被メッキ基板の被メッ
キ面上の近傍を往復運動する各一辺の平面部が被メッキ
基板と略平行になるように上下に一対配設された三角柱
状の攪拌子と、前記被メッキ基板の被メッキ面と平行
で、かつ攪拌子が往復運動する方向と直交方向に磁界が
印加できる前記メッキ槽を挟んで平行に配設された磁石
と、前記攪拌子を両端で固定する一対の直立腕と、を備
えた電気メッキ装置であって、前記攪拌子が２以上略平
行に前記一対の直立腕に配設されている構成を有してい
る。
【０００９】
【作用】この構成によって、一対の第１攪拌子と第２攪
拌子が複数対あるので、従来に比べ被メッキ基板と平行
な一辺の幅を狭めても同等又はそれ以上の攪拌効果を有
しながら、一辺の幅が狭いので電気メッキ時の電流密度
の変化を抑制できる。電流密度の変化が抑制されるので
Ｆｅ−Ｎｉ等の合金メッキ膜の組成を均一化することが
できる。またメッキ膜の膜厚を均一化できる。
拌子が複数対あるので、従来に比べ被メッキ基板と平行
な一辺の幅を狭めても同等又はそれ以上の攪拌効果を有
しながら、一辺の幅が狭いので電気メッキ時の電流密度
の変化を抑制できる。電流密度の変化が抑制されるので
Ｆｅ−Ｎｉ等の合金メッキ膜の組成を均一化することが
できる。またメッキ膜の膜厚を均一化できる。
【００１０】
【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【００１１】図１は本発明の一実施例における電気メッ
キ装置の全体概略構成図であり、図２は電気メッキ装置
の攪拌子部の要部斜視図である。
キ装置の全体概略構成図であり、図２は電気メッキ装置
の攪拌子部の要部斜視図である。
【００１２】１はメッキ槽、４は被メッキ基板、５は陽
極、７は直立腕、８は横部材、９はリンク材、１０は磁
石であり、これらは図８の従来例と同様なものなので同
一の番号を付し説明を省略する。１１はメッキ槽１の底
部に配置された基板ホルダー、１２は被メッキ基板４の
装着部の周囲に同心円状に配設された補助電極、１３，
１４は各々直立腕７，７に両端を固定された三角柱状の
各一辺の平面部が基板ホルダー１１に装着された被メッ
キ基板４のメッキ面と略平行に上下に並設された一対の
攪拌子、１５は攪拌子１３，１４及び直立腕７で構成さ
れる攪拌部で、攪拌部１５は矢印ａで示す方向に往復運
動を行う。１６は被メッキ基板４に通電する通電部、１
７はメッキ液を貯槽するとともにメッキ液の濃度を調整
するメッキ液タンク、１８はメッキ液の循環流路、１９
はメッキ液タンク１７のメッキ液をメッキ槽１へ循環供
給する供給ポンプ、２０はメッキ液中の夾雑物等を濾過
する０．１〜１μｍの通過孔を有するフィルター、２１
はメッキ液をメッキ槽１へ供給する供給管、２２はメッ
キ槽１のメッキ液をメッキ液タンク１７へ返送する返流
管である。
極、７は直立腕、８は横部材、９はリンク材、１０は磁
石であり、これらは図８の従来例と同様なものなので同
一の番号を付し説明を省略する。１１はメッキ槽１の底
部に配置された基板ホルダー、１２は被メッキ基板４の
装着部の周囲に同心円状に配設された補助電極、１３，
１４は各々直立腕７，７に両端を固定された三角柱状の
各一辺の平面部が基板ホルダー１１に装着された被メッ
キ基板４のメッキ面と略平行に上下に並設された一対の
攪拌子、１５は攪拌子１３，１４及び直立腕７で構成さ
れる攪拌部で、攪拌部１５は矢印ａで示す方向に往復運
動を行う。１６は被メッキ基板４に通電する通電部、１
７はメッキ液を貯槽するとともにメッキ液の濃度を調整
するメッキ液タンク、１８はメッキ液の循環流路、１９
はメッキ液タンク１７のメッキ液をメッキ槽１へ循環供
給する供給ポンプ、２０はメッキ液中の夾雑物等を濾過
する０．１〜１μｍの通過孔を有するフィルター、２１
はメッキ液をメッキ槽１へ供給する供給管、２２はメッ
キ槽１のメッキ液をメッキ液タンク１７へ返送する返流
管である。
【００１３】図２において、攪拌部１５の一対の攪拌子
１３と攪拌子１４は各々、中実又は中空状の三角柱から
なり、各々の稜線が同一方向で平行になるように対向し
て配置されている。
１３と攪拌子１４は各々、中実又は中空状の三角柱から
なり、各々の稜線が同一方向で平行になるように対向し
て配置されている。
【００１４】以上のように構成された本実施例のメッキ
装置について、以下その動作を図面を参照しながら説明
する。図３は本発明の電気メッキ装置のメッキ部の模式
図である。
装置について、以下その動作を図面を参照しながら説明
する。図３は本発明の電気メッキ装置のメッキ部の模式
図である。
【００１５】被メッキ基板４のメッキ面側を陽極５側に
向けて基板ホルダー１１に固定する。電極は被メッキ基
板４のメッキ面側から導電ゴム（図示せず）を介して導
通をとり、陰極とする。陽極５と陰極となる被メッキ基
板４との間に電圧を印加して電解メッキする。尚、被メ
ッキ基板４と導電ゴム（図示せず）との導通をとるため
に、予め被メッキ基板４の表面にパーマロイ（Ｆｅ−Ｎ
ｉ合金）をスパッタ法あるいは蒸着法により付着してお
く必要がある。
向けて基板ホルダー１１に固定する。電極は被メッキ基
板４のメッキ面側から導電ゴム（図示せず）を介して導
通をとり、陰極とする。陽極５と陰極となる被メッキ基
板４との間に電圧を印加して電解メッキする。尚、被メ
ッキ基板４と導電ゴム（図示せず）との導通をとるため
に、予め被メッキ基板４の表面にパーマロイ（Ｆｅ−Ｎ
ｉ合金）をスパッタ法あるいは蒸着法により付着してお
く必要がある。
【００１６】次に、磁気特性に優れたパーマロイ（Ｆｅ
−Ｎｉ合金）にメッキ膜を得るための、好適なメッキ条
件を示す。
−Ｎｉ合金）にメッキ膜を得るための、好適なメッキ条
件を示す。
【００１７】（ｉ）メッキ液の調整 ＮｉＳＯ4 ・６Ｈ2 Ｏを２５０〜３５０ｇ／ｌ、ＮｉＣ
ｌ2 ・６Ｈ2 Ｏを４０〜６０ｇ／ｌ、Ｈ3 ＢＯ4 を２０
〜３０ｇ／ｌ、スルホベンズイミドナトリウムを０．５
〜２．０ｇ／ｌ、ＦｅＳＯ4 ・６Ｈ2 Ｏを１０〜２０ｇ
／ｌ、ラウリル硫酸ナトリウムを０．１〜０．５ｇ／ｌ
とし、ｐＨが２．２〜３．０となるように硫酸を追加す
る。
ｌ2 ・６Ｈ2 Ｏを４０〜６０ｇ／ｌ、Ｈ3 ＢＯ4 を２０
〜３０ｇ／ｌ、スルホベンズイミドナトリウムを０．５
〜２．０ｇ／ｌ、ＦｅＳＯ4 ・６Ｈ2 Ｏを１０〜２０ｇ
／ｌ、ラウリル硫酸ナトリウムを０．１〜０．５ｇ／ｌ
とし、ｐＨが２．２〜３．０となるように硫酸を追加す
る。
【００１８】メッキ条件はメッキ液の流量速度を７〜２
０ｌ／ｍｉｎ、メッキ電流密度を２〜２０ｍＡ／cm2 、
パドルスピードを３０〜４００ｍｍ／ｓｅｃ、メッキ液
の温度を２８〜４３℃となるのが好ましく、陽極５に
は、Ｔｉ，ＰｔあるいはＮｉ等を使用するのが好まし
い。
０ｌ／ｍｉｎ、メッキ電流密度を２〜２０ｍＡ／cm2 、
パドルスピードを３０〜４００ｍｍ／ｓｅｃ、メッキ液
の温度を２８〜４３℃となるのが好ましく、陽極５に
は、Ｔｉ，ＰｔあるいはＮｉ等を使用するのが好まし
い。
【００１９】攪拌部１５の攪拌子１３，１４が被メッキ
基板４上を左右に移動するごとに、メッキによって反応
した被メッキ基板４近傍のＯＨ- や、Ｆｅ2+（Ｏ
Ｈ）2 ，Ｈ+ Ｈ2 等を攪拌子１３，１４の下部攪拌子が
矢印ｂのようにかき上げ、新鮮なメッキ液を各上部攪拌
子が被メッキ基板４側へ矢印ｃのように供給する。ま
た、被メッキ基板４の周辺部に電気力線が集中しやす
く、Ｎｉ組成の変動や膜厚の変動を生じやすいが、被メ
ッキ基板４の周辺に補助電極１２を被メッキ基板４と同
心円状に配設し、陽極５と補助電極１２間に電圧を印加
し、被メッキ基板４内の基板周辺部に電気力線が集中す
るのを抑制し、Ｎｉ組成の変動や膜厚の変動も抑えるこ
とができる。
基板４上を左右に移動するごとに、メッキによって反応
した被メッキ基板４近傍のＯＨ- や、Ｆｅ2+（Ｏ
Ｈ）2 ，Ｈ+ Ｈ2 等を攪拌子１３，１４の下部攪拌子が
矢印ｂのようにかき上げ、新鮮なメッキ液を各上部攪拌
子が被メッキ基板４側へ矢印ｃのように供給する。ま
た、被メッキ基板４の周辺部に電気力線が集中しやす
く、Ｎｉ組成の変動や膜厚の変動を生じやすいが、被メ
ッキ基板４の周辺に補助電極１２を被メッキ基板４と同
心円状に配設し、陽極５と補助電極１２間に電圧を印加
し、被メッキ基板４内の基板周辺部に電気力線が集中す
るのを抑制し、Ｎｉ組成の変動や膜厚の変動も抑えるこ
とができる。
【００２０】これら攪拌子１３，１４を小型にし、かつ
複数並設することにより、被メッキ基板４近傍を移動す
る際、被メッキ基板４近傍の液は理想的な層流状態を形
成することができ金属イオンの濃度を均一にすることが
できる。
複数並設することにより、被メッキ基板４近傍を移動す
る際、被メッキ基板４近傍の液は理想的な層流状態を形
成することができ金属イオンの濃度を均一にすることが
できる。
【００２１】（実験例１）次に本実施例の電気メッキ装
置を用いメッキ効率を評価した。評価方法はパーマロイ
（Ｆｅ−Ｎｉ合金）のメッキ膜製造条件下で電流密度を
測定して行った。その結果を図４に示した。図４は本実
施例の電気メッキ装置におけるメッキ時の電流密度の経
時変化図である。
置を用いメッキ効率を評価した。評価方法はパーマロイ
（Ｆｅ−Ｎｉ合金）のメッキ膜製造条件下で電流密度を
測定して行った。その結果を図４に示した。図４は本実
施例の電気メッキ装置におけるメッキ時の電流密度の経
時変化図である。
【００２２】メッキ液の調整 ＮｉＳＯ4 ・６Ｈ2 Ｏを３２０ｇ／ｌ、ＮｉＣｌ2 ・６
Ｈ2 Ｏを５０ｇ／ｌ、Ｈ3 ＢＯ4 を３０ｇ／ｌ、スルホ
ベンズイミドナトリウムを１．５ｇ／ｌ、ＦｅＳＯ4 ・
６Ｈ2 Ｏを１５ｇ／ｌ、ラウリル硫酸ナトリウムを０．
２ｇ／ｌのメッキ液を調整した。
Ｈ2 Ｏを５０ｇ／ｌ、Ｈ3 ＢＯ4 を３０ｇ／ｌ、スルホ
ベンズイミドナトリウムを１．５ｇ／ｌ、ＦｅＳＯ4 ・
６Ｈ2 Ｏを１５ｇ／ｌ、ラウリル硫酸ナトリウムを０．
２ｇ／ｌのメッキ液を調整した。
【００２３】メッキ条件 メッキ液のｐＨを２．５〜２．６となるように調整しな
がら、パーマロイをスパッタリングした基板を用い、メ
ッキ液の流量速度を１２ｌ／ｍｉｎ、メッキ電流密度を
３．８ｍＡ／cm2 、攪拌子の往復スピードを６０ｍｍ／
ｓｅｃ、メッキ液の温度を３０〜３５℃とし、陽極５に
は、Ｎｉを使用して行った。
がら、パーマロイをスパッタリングした基板を用い、メ
ッキ液の流量速度を１２ｌ／ｍｉｎ、メッキ電流密度を
３．８ｍＡ／cm2 、攪拌子の往復スピードを６０ｍｍ／
ｓｅｃ、メッキ液の温度を３０〜３５℃とし、陽極５に
は、Ｎｉを使用して行った。
【００２４】（比較例）本実施例の電気メッキ装置の代
わりに従来の電気メッキ装置を用いた他は、実験例と同
一の条件でメッキ液を調整し、同一のメッキ条件でパー
マロイのメッキ膜製造条件下で電流密度を測定して行っ
た。その結果を図５に示した。
わりに従来の電気メッキ装置を用いた他は、実験例と同
一の条件でメッキ液を調整し、同一のメッキ条件でパー
マロイのメッキ膜製造条件下で電流密度を測定して行っ
た。その結果を図５に示した。
【００２５】図５は従来の電気メッキ装置におけるメッ
キ時の電流密度の経時変化図である。
キ時の電流密度の経時変化図である。
【００２６】この図４，図５から明らかなように、本実
施例によれば電流密度の変化が従来例に比べ３５％以上
抑制できることがわかった。
施例によれば電流密度の変化が従来例に比べ３５％以上
抑制できることがわかった。
【００２７】これを模式的に示すと次のようになる。図
６は本実験例の陽極５−基板間の電気力線の状態図であ
り、図７は比較例のメッキ装置での陽極５−基板間の電
気力線の状態図である。図６からも明らかなように、本
実験例では攪拌子１３，１４が従来の攪拌子に比べ、略
１／２に分割されて小型になっているので、電気力線が
攪拌子１３と攪拌子１４の間にも流れその結果、電流密
度の変動が抑制されていると言える。
６は本実験例の陽極５−基板間の電気力線の状態図であ
り、図７は比較例のメッキ装置での陽極５−基板間の電
気力線の状態図である。図６からも明らかなように、本
実験例では攪拌子１３，１４が従来の攪拌子に比べ、略
１／２に分割されて小型になっているので、電気力線が
攪拌子１３と攪拌子１４の間にも流れその結果、電流密
度の変動が抑制されていると言える。
【００２８】
【発明の効果】以上のように本発明は、対になった攪拌
子を複数用いるので、攪拌子の形状を小さくすることが
でき、電流密度の変動を抑制できる。形状の小さい攪拌
子を複数並設することにより、メッキ液の攪拌効率を著
しく向上させることができ、その結果、膜質が極めて優
れ、基板内のマクロな分布並びにミクロな分布も抑制し
た安定な磁性膜を付与できる電気メッキ装置を実現でき
るものである。
子を複数用いるので、攪拌子の形状を小さくすることが
でき、電流密度の変動を抑制できる。形状の小さい攪拌
子を複数並設することにより、メッキ液の攪拌効率を著
しく向上させることができ、その結果、膜質が極めて優
れ、基板内のマクロな分布並びにミクロな分布も抑制し
た安定な磁性膜を付与できる電気メッキ装置を実現でき
るものである。
【図１】本発明の一実施例における電気メッキ装置の全
体概略構成図
体概略構成図
【図２】本発明の一実施例における電気メッキ装置の攪
拌子部の要部斜視図
拌子部の要部斜視図
【図３】本発明の電気メッキ装置のメッキ部の模式図
【図４】本実施例の電気メッキ装置におけるメッキ時の
電流密度の経時変化図
電流密度の経時変化図
【図５】従来の電気メッキ装置におけるメッキ時の電流
密度の経時変化図
密度の経時変化図
【図６】本実験例の陽極−基板間の電気力線の状態図
【図７】比較例のメッキ装置での陽極−基板間の電気力
線の状態図
線の状態図
【図８】従来の電気メッキ装置のメッキ槽の要部斜視図
１ メッキ槽 ２ 陰極 ３ 開孔部 ４ 被メッキ基板 ５ 陽極 ６ 攪拌子 ７ 直立腕 ８ 横部材 ９ リンク材 １０ 磁石 １１ 基板ホルダー １２ 補助電極 １３，１４ 攪拌子 １５ 攪拌部 １６ 通電部 １７ メッキ液タンク １８ 循環流路 １９ 供給ポンプ ２０ フィルター ２１ 供給管 ２２ 返流管
Claims (1)
- 【請求項１】メッキ槽と、前記メッキ槽内に装着される
被メッキ基板を装着部で保持する基板ホルダーと、前記
被メッキ基板の装着部と同心円状に前記基板ホルダー内
又は前記基板ホルダーの周囲に配設された補助電極と、
前記基板ホルダーと対向して前記メッキ槽内に装設され
た陽極と、前記被メッキ基板の被メッキ面上の近傍を往
復運動する各一辺の平面部が被メッキ基板と略平行にな
るように上下に一対配設された三角柱状の攪拌子と、前
記被メッキ基板の被メッキ面と平行で、かつ攪拌子が往
復運動する方向と直交方向に磁界が印加できる前記メッ
キ槽を挟んで平行に配設された磁石と、前記攪拌子を両
端で固定する一対の直立腕と、を備えた電気メッキ装置
であって、前記攪拌子が２以上略平行に前記一対の直立
腕に配設されていることを特徴とする電気メッキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5200499A JPH0754189A (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | 電気メッキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5200499A JPH0754189A (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | 電気メッキ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0754189A true JPH0754189A (ja) | 1995-02-28 |
Family
ID=16425343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5200499A Pending JPH0754189A (ja) | 1993-08-12 | 1993-08-12 | 電気メッキ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0754189A (ja) |
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- 1993-08-12 JP JP5200499A patent/JPH0754189A/ja active Pending
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| A977 | Report on retrieval |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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